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电子束刻蚀系统
仪器信息网电子束刻蚀系统专题为您提供2024年最新电子束刻蚀系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括电子束刻蚀系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的电子束刻蚀系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合电子束刻蚀系统相关的耗材配件、试剂标物,还有电子束刻蚀系统相关的最新资讯、资料,以及电子束刻蚀系统相关的解决方案。
电子束刻蚀系统相关的方案
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现,铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样,成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台,在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能,IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
氦质谱检漏仪电子束光刻机检漏
上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件, 通信设备等多个领域的研发及生产. 经过伯东推荐采购氦质谱检漏仪 ASM 310 用于电子束光刻机腔体检漏.
电子束感生电流 EBIC 技术
电子束感生电流 (EBIC) 技术可通过测量样品或设备暴露于电子束时流动的电流,对半导体材料和设备的局部电气性能进行表征。电子束射到半导体上时,会形成电子空穴对。如果载流子(即上文所述的电子空穴对)扩散到带有内置电场的区域,则电子和空穴将分离,电流将流动。当电流流动到外电路时,EBIC 技术会测量该电流。在没有重组中心(自由电子和空穴湮没的位置)的材料中,收集到的电流将是均匀的,而且并不相关。然而,引发电子和空穴重组的样品区域减少了收集电流,造成 EBIC 图中形成对比,因此揭示了半导体样品中(少数)载流子的流动。
不同剂量电子束辐照即食小龙虾的品质分析
以江苏泰州本地养殖小龙虾为原料加工即食小龙虾,经复合材料真空透明包装,采用高能电子束灭菌,辐照剂量分别为0(对照组)、4、5、6、7 kGy。研究不同电子束辐照后即食小龙虾pH、色差、质构、氨基酸含量、含硫化合物的变化,以及扫描电镜下的微观结构和保温试验情况。
高精度真空度控制技术在新型低压电子束焊机中的应用
新型低压电子束焊接加工技术具有凹型阴极、自聚焦和低造价的突出特点,不再需要高真空系统,也无需磁透镜和磁线圈进行电子束的聚焦和偏转,可进行微零件焊接和低熔点材料表面微结构改性。但这种新型技术对氩气工作气压的要求较高,需要在7~12Pa的低真空范围实现高精度的调节和控制。本文针对此高精度控制提出了解决方案,即在电容真空计作为传感器的基础上,采用了电动针阀和超高精度压力控制器,控制精度可达±1%。
电子束辐照对川麦冬品质及抗氧化活性的影响
本研究以川产道地麦冬药材为研究对象,采用高能电子束辐照处理,综合评估不同剂量 0 (CK) 、2、4、6 kGy 电子束辐照对麦冬微生物含量、感官品质、理化品质、活性成分含量及抗氧化活性的影响, 以期为电子束辐照技术在麦冬加工贮藏中的应用提供理论支撑。
脉冲电子束产生的等离子体的时间分辨离子流量分析
在相邻电极的脉冲电子束产生的氩和氧的等离子体中,测量时间分辨离子的流量和能量分布。氩离子和氧离子的能量和流量的时间变化,是跟等离子体的电子温度和离子密度相关的。氧等离子体的延迟时间要比氩的短。这可以通过分析各种离子的损失机理来推断。
脉冲电子束产生的等离子体的时间分辨离子通量分析
在相邻电极的脉冲电子束产生的氩和氧的等离子体中,测量时间分辨离子的流量和能量分布。氩离子和氧离子的能量和流量的时间变化,是跟等离子体的电子温度和离子密度相关的。氧等离子体的延迟时间要比氩的短。这可以通过分析各种离子的损失机理来推断。
电子束福照对几种特色水果品质的影响及综合保藏技术研究
本研究利用电子束辐照保鲜和壳聚糖涂膜保鲜结合起来对凯特芒果进行品质的综合评价。 相对于单一的辐照保鲜, 涂膜辐照综合保鲜很大程度的提高了芒果的货架期。将一层薄膜覆盖在芒果表面, 再进行辐照处理更好地降低了辐照后与果实与空气中微生物的接触, 同时壳聚糖具有抑菌性, 因此将保鲜时效得以延长。 本研究所采用的辐照技术是电子加速器辐照, 相对于钴源辐照减少了消费人群对辐照食品安全性的担忧;而壳聚糖更是一种绿色的生物保鲜膜, 相对于化学保鲜剂壳聚糖涂膜更安全可靠。 涂膜辐照综合保鲜针对四川特产攀枝花凯特芒果进行研究, 降低了芒果的损失增加了经济效益。
上海伯东 IBE离子束刻蚀(离子铣)基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中,刻蚀(Etch)是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分,以化学反应或物理作用的形式加以去除,完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀(Wet Etching)和干刻蚀(Dry Etching)。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺,即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后,将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种:PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子(光刻胶)材料被广泛的应用于工业处理,如电子器件和刻蚀。他们对光敏感,并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展,软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为一种常用的软刻蚀材料,其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点,为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展,对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用,为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
扫描电子显微镜图像系统改造方法
扫描电子显微镜是观察物质微观表面形貌的主要工具,它主要由真空系统、电子光学系统、图像系统和控制系统组成。现代扫描电子显微镜图像显示系统和控制系统都已经实现PC控制下的数字化,同时增加了图像处理功能,能够容易的与通用软件相结合,方便编辑报告、论文和信息传送。对于早期模拟图像系统和专用计算机控制的数字图像系统的扫描电子显微镜可以通过外接计算机图像采集系统实现模拟图像数字化,或图像系统数字化。什么是模拟图像数字化?就是将获取的图像模拟信号经过模数转换器(ADC)变成数据输入到计算机中存储、显示和处理。根据这种原理制成的图像系统,就是我们常说的被动式图像系统。其优点:采集卡电路简单,价格便宜。缺点:安装、调试困难,因为它需要和扫描电子显微镜的扫描系统同步,所以要改变原扫描电子显微镜内部电路,稍不小心就会造成事故,给扫描电子显微镜带来硬伤。另外,由于不能和扫描电子显微镜扫描真正同步,采集到的图像变形,最为明显的是圆变为椭圆,同时不能实时处理,只有将采集到的图像存储以后进行处理,才可以输出。什么是图像系统数字化?用数字扫描系统替代模拟扫描系统,由此获取的图像信号数据,完全对应电子束扫描点上的样品信息,图像显示分辨率对应电子束在样品上扫描过的行和列的点数,图像扫描和图像显示全数字化。需要说明的是现代数字扫描电子显微镜自定义分辨率值为:1024×1024,这是一个最佳值(从采集速度和分辨率两方面考虑),这和被动式图像系统所谓的图像分辨率不是一个概念。我们称这样的系统为主动式图像系统,国外升级扫描电子显微镜也是采用此种方法。其优点:图像质量高,速度快,不会产生图像变形等问题,安装简单,因为所有扫描电子显微镜都预留有外部图像控制接口,当外部控制信号到来时,内部扫描部分自动被旁路,显示部分被消隐,不需要改变任何内部电路结构。缺点:采集卡电路复杂,成本高。 综述,以上介绍了两种扫描电子显微镜改造图像系统的方法,最主要的区别在于是“被动式图像系统”还是“主动式图像系统”上,其中主动式图像系统是近年来国际上普遍使用的,因为被动式图像系统是一种早期图像数字化过渡产品,所谓的图像分辨率实质上是模拟信号取样点数,并非数字图像分辨率,像质较差,而主动式图像系统标称的分辨率才真正是数字图像分辨率,可以有效提高图像质量。
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
岛津AXIS Supra具备全自动传样系统,样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪,单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析,低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析,20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。
纳米级尺寸电子束斑测量
阿米精控科技(山东)有限公司专注于纳米运动控制及超精密机电系统领域的创新设计及产品研发,是一家集研发设计、制造、销售于一体,拥有全自主知识产权的微纳测控及超精密自动化“系统级硬科技”公司。阿米精控纳米运动平台基于微纳柔性机构和压电执行器实现超高分辨力纳米运动,内置光栅/电容微位移传感器,通过高性能纳米伺服系统实现闭环控制,具有亚纳米级运动分辨率、纳米级运动精度和高速、高动态轨迹扫描功能。
日立高新场发射电子显微镜SU8220系列对高岭土的观察
高岭土是一种化学结构为Al2Si2O5(OH)4 的矿物质粘土及岩石,它富含在高岭石中,即我们已知的高岭土或者陶土,并且被用作铜版纸的涂层颜料。由于它的品质取决于颗粒的大小或者分布,因此用SEM观察是很重要的,但因样品容易受到电子束损伤而较难达到高放大倍率。 日立高新技术公司使用场发射扫描电子显微镜SU8220分别采用100V和500V的着陆电压对高岭土的同样的观测部位进行了拍摄。结果表明着陆电压为100V时,可以很清晰的观察到层状结构;着陆电压为500V时,没有出现太多的层状结构,而是出现了斑状点。 从结果来讲,这种样品非常容易受到电子束损伤,而SU8220却可以用极低的电压得到很高的分辨率,因此使用SU8220是非常理想的。
电子显微镜技术
目前,电子显微镜技术(electron microscopy)已成为研究机体微细结构的重要手段。常用的有透射电镜 (transmission electron microscope,TEM)和扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)。与光镜相比电镜用电子束代替了可见光,用电磁透镜代替了光学透镜并使用荧光屏将肉眼不可见电子束成像。
汽车尾气催化剂中活性贵金属和稀土元素的岛津电子探针表征
岛津公司作为综合性的仪器生产商,具有较为完整的产品链,可以为催化材料的结构表征以及催化性能测试提供综合的解决方案。XPS以光电效应为基础,致力于材料表面和界面的元素状态分析,可以给出元素成分的半定量信息并通过化学位移给出元素化学状态信息,采用多模式氩离子刻蚀技术可以对催化剂表面进行清洁处理,且可以提供沿深度的二维元素分布信息;扫描探针显微镜(SPM)可以查看纳米尺度上的催化剂样品形貌以及片层材料厚度,在碳纳米管、石墨烯等材料中应用广泛;电子探针显微分析仪(EPMA)以聚焦电子束为探针,可以提供纳米尺度上的催化剂形貌像和微米尺度上相关元素分布信息,和SEM-EDS相比,EPMA 具有更高的分辨率的元素信息,在催化材料的开发领域尤其是汽车尾气催化剂研究方面有着重要的作用;其他如ICP、XRF、EDX可用于催化剂材料组分的检测、色谱—质谱技术可用于催化反应原料及产物的检测、FTIR用于表面有机基团的检测、DSC可用于催化剂表面积碳行为等研究。此外,岛津公司可以根据您的分析需求提供定制化的系统气相产品,针对二氧化碳光、电、热催化还原系统,可实现H2、O2、N2、CH4、CO等气体以及水中甲酸、甲醛、甲醇、乙醇、丙酮等液体的分析;针对费托合成、合成气转化、甲烷转化等催化反应,可实现无人值守采样取样进样分析,高沸点样品的在线分析。
飞纳电镜操作过程自动化:背散射电子和二次电子混合像
当电子束与样品相互作用时,会产生背散射电子(BSE)和二次电子(SE)。通过检发射信号可获得样品表面的成分衬度像(背散射电子)和表面形态像(二次电子)。背散射电子和二次电子是如何形成的,为什么它们携带特定的样品信息?此外,能否在一幅图像中同时获得成分和形态信息?
背散射电子的应用——通道衬度成像
扫描电镜成像主要是利用样品表面的微区特征,如形貌、原子序数、晶体结构或位向等差异,在电子束作用下产生不同强度的物理信号,使荧光屏上不同的区域呈现出不同的亮度,从而获得具有一定衬度的图像。
微电子行业应用文集
自1958年第一块集成电路诞生以来,以集成电路为核心的微电子技术被认为是信息社会发展的驱动器。为发展中国微电子产业,国家先后出台了多项政策和规划。微电子制造工艺狭义上是指在半导体硅片(晶圆)上制造出集成电路或分立器件的芯片结构等数十种加工工艺。这些工艺包括化学机械抛光、清洗、氧化、光刻、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属化等,而微电子芯片的制造正是重复多次前述的工艺才能完成。
台式X射线CT系统XSeeker 8000介绍
本文介绍了台式X射线CT系统XSeeker 8000虽然体积小,但可以从金属制品到树脂制品、电子产品等各种产品的内部结构进行三维无损观察和分析。另外,设定项目也少,拍摄简单,即使是新手也可以轻松使用。
扫描电镜分析样品表面的深度是多少
最近,有飞纳电镜用户询问关于电子束分析样品时可以穿透样品的深度的问题,这里小编将为大家详细介绍一下。扫描电镜是利用聚焦电子束进行微区样品表面形貌和成分分析,电子从发射源(灯丝)经光路系统最终到达样品表面,电子束直径可到 10 nm 以下,场发射电镜的聚集电子束直径会更小。聚焦电子束到达样品表面会激发出多种物理信号,包括二次电子(SE),背散射电子(BSE),俄歇电子(AE)、特征 X 射线(X-ray)、透射电子(TE)等。
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