[align=center]GC[font=DengXian]进样方式[/font]--[font=DengXian]程序升温蒸发进样方式([/font]PTV[font=DengXian])[/font][/align]PTV[font=DengXian]进样方式结合了传统的分流[/font]/[font=DengXian]不分流进样技术,也增加了温控系统。它能实现热分流[/font]/[font=DengXian]不分流进样,冷分流[/font]/[font=DengXian]不分流进样,冷柱头进样,达到[/font]1000μl[font=DengXian]的大体积进样等多种进样方式。程序升温蒸发进样方式([/font]PTV[font=DengXian])克服了传统的热进样技术的缺点,例如热歧视效应,热分解。在冷进样模式中,样品在较低温度下导入色谱柱导入色谱柱。[/font]PTV[font=DengXian]减少了热分解反应的发生几率,对于热稳定性差的目标物是个不错的选择。[/font]PTV[font=DengXian]的大体积进样可以进行溶剂排除进样。大体积进样模式是在一定样品导入速度下将大体积的样品注入衬管,溶剂通过分流管排出,此时溶质被富集和捕集,然后关闭分流阀,加热样品衬管。[/font]
最近需要购买一台热蒸发真空镀膜机,请问哪些厂家的比较好用?另外,有谁知道日立公司在北京的代理的联系方式?
[color=#990000]摘要:目前各实验室有众多各种渠道购置和自行搭建的旋转蒸发仪,在蒸发仪真空度控制方面,国内客户普遍要求能替代价格较贵的国外真空控制系统、提高真空控制的程序化和自动化水平、改进真空控制的精度和稳定性、解决控制阀门的耐腐蚀性问题,甚至要求采用一个控制器对温度、真空度和旋转同时进行程序控制。本文针对用户提出的改进要求,提出了相应的解决方案,并介绍专门用于蒸发仪温度、真空度和旋转电机控制的相关产品。[/color][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align][size=18px][color=#990000]一、用户要求[/color][/size]旋转蒸发仪(旋转蒸发器)是实验室一种常用设备,通过蒸发仪中的电子控制,使烧瓶中的溶剂在合适的旋转速度、温度和真空度下快速蒸发。一般旋转蒸发器的工作真空度范围为 1~760毫米汞柱(绝对真空度),具体应用中会根据不同混合物要求来设定和控制真空度。作为一种简单的实验室常用设备,旋转蒸发仪即可以实验室自行搭建,市场上也有多种规格可供选择订购。针对目前有些用户实验室在用的旋转蒸发仪,用户提出以下几方面的明确要求:(1)有些实验室配备了进口旋转蒸发仪,但还需单独配备价格较高的真空控制器,希望能用国内产品进行替换。(2)国产和自行搭建的旋转蒸发仪,希望配备多功能高精度的真空控制器,以实现试验过程计算机控制的程序化和自动化,希望能存储多组控制过程设定曲线便于直接调用,希望能计算机设定试验程序和显示整个控制过程的变化。(3)目前国内外旋转蒸发仪真空控制过程,普遍都采用阀门通断或真空泵停启方式,控制精度和稳定性较差,希望采用开度可连续可调的高速数字阀门。(4)目前国内外旋转蒸发仪真空控制装置中的控制阀门,普遍缺乏抗腐蚀性,希望采用可耐腐蚀气体和液体的真空调节阀门。(5)对于一些自行搭建的旋转蒸发仪,希望能将温度控制、真空控制和旋转控制集成在一起,减小仪器及其操作的复杂程度,提高集成化和自动化水平。本文将针对上述要求,提出相应的解决方案,介绍了专门用于蒸发器的集成式温度、真空度和旋转控制器以及步进电机驱动的耐腐蚀数控针阀,可满足不同用户旋转蒸发器的试验需求。[size=18px][color=#990000]二、国产24位高精度多功能控制器[/color][/size]为实现旋转蒸发仪的温度、真空度和旋转的测试和程序控制,目前我们已经开发出VPC-2021系列24位高精度可编程PID通用控制器,如图1所示。此系列PID控制器功能十分强大,且性价比非常高。[align=center][color=#990000][img=蒸发器真空控制,650,338]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/02/202202081749460848_7428_3384_3.png!w650x338.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#990000]图1 国产VPC-2021系列高精度PID程序控制器[/color][/align]VPC-2021系列控制器主要性能指标如下:(1)精度:24位A/D,16位D/A。(2)最高采样速度:50ms。(3)多种输入参数:47种(热电偶、热电阻、直流电压)输入信号,可连接各种温度和真空度传感器进行测量、显示和控制。(4)多种输出形式:16BIT模拟信号 、2A (250V AC)继电器、22V/20mA固态继电器、3A/250VAC可控硅。(5)多通道:独立1通道或2通道输出。2通道可实现温度和真空度的同时测控,报警输出通道可用来控制旋转电机启停。(6)多功能:正向、反向、正反双向控制、加热/制冷控制。(7)PID程序控制:改进型PID算法,支持PV微分和微分先行控制。可存储20组分组PID,支持20条程序曲线(每条50段)。(8)通讯:两线制RS485,标准MODBUSRTU 通讯协议。(9)显示方式:数码馆和IPS TFT真彩液晶。(10)软件:通过软件计算机可实现对控制器的操作和数据采集存储。(11)外形尺寸:96×96×87mm(开孔尺寸92×92mm)。[size=18px][color=#990000]三、步进电机驱动耐腐蚀高速数控针阀[/color][/size]为实现真空度控制过程中的高精度调节,我们在针阀基础上采用数控步进电机开发了一系列不同流量的电子针阀,如图2所示。此系列数控针阀的磁滞远小于电磁阀,并具有1秒以内的高速响应,特别是采用了氟橡胶(FKM)密封技术,使阀门具有超强的耐腐蚀性,详细技术指标如图3所示。[align=center][color=#990000][/color][/align][align=center][color=#990000][img=蒸发器真空控制,450,385]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/02/202202081750301727_9546_3384_3.png!w599x513.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#990000]图2 国产NCNV系列数控针阀[/color][/align][align=center][color=#990000][/color][/align][align=center][img=蒸发器真空控制,690,452]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/02/202202081750469538_6188_3384_3.png!w690x452.jpg[/img][/align][align=center][color=#990000]图3 国产NCNV系列数控针阀技术指标[/color][/align]NCNV系列数控针阀配备了一个步进电机驱动电路模块,给数控针阀提供了所需电源和控制信号,並以将直流信号转换为双极步进电机的步进控制,同时也可提供 RS485 串口通讯的直接控制,其规格尺寸如图4所示。[align=center][color=#990000][img=蒸发器真空控制,690,219]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/02/202202081752076651_3769_3384_3.png!w690x219.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#990000]图4 NCNV系列数控针阀驱动模块及其尺寸[/color][/align]旋转蒸发仪在使用数控针阀时,可采用开环控制方式将针阀安装来真空泵前端,通过调节抽气流量来实现真空度的控制,但这种开环控制方式的稳定性差,难达到较高的纯度需求。为解决这一问题,可采用闭环控制方式,即在蒸发器上增加一路进气控制阀,通过调节进气流量和排气流量可实现真空度的精密控制。[align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align]
真空镀膜机(DMP450)中有一个辅助挡板,设计的初衷是为了改善镀膜均匀性,但在实际生产过程中,原机辅助挡板并不能最大改善膜厚均匀性。一个半球形工件盘,基片卡槽分三圈排列,相同蒸发功率,相同时间下,相邻两圈的基片膜厚有差异。从理论上来说,如何通过修正挡板改善膜厚一致性和均匀性?
随着电镜技术和应用快速发展,越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控
真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展,主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途,而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用;真空镀膜产品在以后必将形成主流,具有很大的市场空间。 然而,在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少,所以才会出现上马快,下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段,目前所有的真空镀膜厂家,都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性,造成镀膜产品质量不过关,以至于镀膜品质不够好;而且生产效率低,真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多,除了跟设备有关,还与操作人员的水平,技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认,决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性;镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用,因此,镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的,就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法,目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪,它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射,既延长了内容物的保质期,又提高了薄膜的亮度,从一定程度上代替了铝箔,也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜(VMPET)和CPP镀铝膜(VMCPP)。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,通常都是需要使用光密度法来检测。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10(入射光/透射光)或OD=log10(1/透光率)。通常镀铝膜的光密度值为1-3(即光线透过率为10%-0.1%),数值越大镀铝层越厚,美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言,需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪,在真空镀膜生产线上实行连续监测,才能保证真空镀膜产品的质量,同时提高真空镀膜设备的在线生产效率,减少生产成本。
[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=82462][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]的程序升温蒸发中大体积进样技术[/url]
镀有lumogen的ccd紫外响应,请问采用什么方式镀膜比较好,以及参数控制分别应该注意哪些?
真空镀膜机可以做Au-Pd、Au、Pt-Pd和Pt;离子溅射仪:环形电极,二极管放电模式。大概分别需要银子?!谢谢!
[b][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]的程序升温蒸发中大体积进样技术[/b]胡振元(中国科学院上海有机化学研究所 上海 200032)摘 要 PTV大体积进样是[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]中新近发展出来的一个辅助技术,对环境污染物分析生化物质分析及一般有机痕量分析很有应用价值。该文就其原理、基本技术和应用范围作了介绍,并列举了一些应用范例。关键词 PTV大体积进样 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url] 有机痕量分析 所谓PTV大体积进样是指利用可快速程序升温设计的进样器实施大体积进样,这是近年来应生化和环境样品的分析需要而发展出来的一项新技术,是有机痕量分析的新进展。如所周知,生化样品和环境样品的分析是复杂系统中的痕量分析课题。尽管近代色谱技术,由于其高效、快速和选择性好,并易于与质谱联机,形成融分离-定性-定量于一体的联机技术,已经得到广泛的应用,其中[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url],特别是毛细柱[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]最为广泛应用,但是毛细柱[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]的样品容量很小,仅能接受微升级(一般≤1μL)的进样量,无论是采用柱上进样方式(on-column injection)还是分流不分流方式(splitsplitless injection),稍大的进样量,都会严重影响定性或定量分析效果。为此,生化样品或环境样品在色谱分析前都需要有严格的样品前处理工作,包括待测物的富集和净化。样品前处理工作主要有液液萃取、固相萃取,索氏抽提和超临界提取等,大多数方法都是设法把待测物与基体和干扰物质分开,并最终把待测物集中到合适的有机溶剂中,经过浓缩,取少量浓缩液进行色谱分析。前处理步骤冗长,特别是其中的浓缩一步极易导致待测物损失和引入外来干扰,由于色谱进样量只能取浓缩样品的11000或更少,因此检测能力也大受限制。大体积进样就是设法把色谱进样量增加一百倍或更多(=100μL),既节省大量的人力物力和时间,又大大提高了检测能力和分析精度。Grob K于1980年在发展液相色谱——[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]的联机分析技术中研究了柱上进样方式的大体积进样,但柱上进样方式对复杂系统的样品不甚适用,因为样品中存在的非挥发性组分(基体)会损害色谱分析柱的效能。分流不分流进样方式可以接受比较“脏”的样品,其中程序升温蒸发(ProgrammedTemperatureVaporization)(PTV)设计是实现大体积进样的关键。利用可以快速程序升温的进样器设计,以~10℃/s的升温速度,从初温升到300℃,使样品中的绝大部分溶剂(99%)先气化排空,仅允许痕量的待测物转移并进入色谱分析系统。近年来,PTV大体积进样有不少新的发展,并已在实践中证明对复杂系统中痕量物质的分析起到了令人注目的积极的推动作用,不少成就值得我们借鉴和参考。[em01]
最近单位要买一台磁控溅射镀膜机,不知国内外哪些厂家的设备比较好,因为镀膜机的部件比较多,又要求真空,出点小问题难免,所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的,指点指点。
润滑脂蒸发度测定仪适用标准:sh/t0337 本仪器适用于测定润滑脂的蒸发度。使用时将盛有一定量的润滑脂的蒸发皿,置于专门的恒温器内,在规定的温度下保持1h,测定其损失的质量。功能特点1、一个加热钢饼φ80×10mm面上有一个插温度计的凹穴;2、六个钢制蒸发皿22×1×0.3×1mm上面刻有标记号码;3、弹簧顶针采用杠杆式,操作很轻便;4、电热板加热无明火;5、漆状物形成器底部有进气孔;6、耐高温钢化玻璃观察窗;7、微电脑温度控制器,数字显示,精度±1℃ pt100传感器;8、数显计时器,记录试验时间;技术参数1、适用标准:sh/t03372、计时方式:数显计时器3、加热方式:电热板加热4、整机功率:500kw5、控温方式:数显pid温控器
[size=14px][color=#ff0000]摘要:针对蒸发浓缩工艺中存在的溶剂损耗和真空调节阀门耐腐蚀性差的问题,本文提出了相应的解决方案,其中包括了真空度精密控制方法、真空度与温度同时配合控制方法以及采用强耐腐蚀性的电动阀门作为真空度调节阀。[/color][/size][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align][size=18px][color=#ff0000]一、问题的提出[/color][/size][size=14px]在溶剂萃取过程中一般会采用真空蒸发浓缩工艺,由于溶剂往往具有很好的挥发性,使得在真空抽取过程中溶剂容易产生损耗,有时可以达到5~8%的损耗。因此,为了解决蒸发浓缩工艺中溶剂的损耗,需要解决以下几方面的问题:[/size][size=14px](1)真空度的精确控制问题,如定点控制和程序控制,这是降低溶剂损耗的关键。[/size][size=14px](2)真空度和温度的同时控制问题,这是由于不同的真空度决定了溶液的沸点,通过真空度和温度的同时协调控制,可大幅度提高溶剂的出产率。[/size][size=14px](3)在蒸发浓缩工艺中,很多溶剂和溶液往往具有一定的腐蚀性,这就要求真空调节阀门具有很好的耐腐蚀性。[/size][size=14px]为解决蒸发浓缩工艺中降低溶剂损耗的要求,本文提出了真空度精密控制解决方案,其中包括了采用强耐腐蚀性的电动阀门作为真空度调节阀。[/size][size=18px][color=#ff0000]二、解决方案[/color][/size][size=14px]对于蒸发浓缩工艺中的真空度和温度的精密控制,其控制系统的整体结构如图1所示。[/size][align=center][size=14px][color=#ff0000][img=真空压力控制,690,388]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/04/202204211029267972_5007_3384_3.png!w690x388.jpg[/img][/color][/size][/align][size=14px][/size][align=center][color=#ff0000]图1 蒸发浓缩工艺的真空度和温度控制系统结构示意图[/color][/align][size=14px]真空度精密控制的基本原理是动态控制方法,即根据控制设定值和真空计测量值,分别调整真空容器的进气流量和排气流量,使这进出流量达到动态平衡。如果要进行自动化控制,则需采用PID控制算法和相应控制器。[/size][size=14px]如图1所示,本文提出的真空度精密控制解决方案就是采用了动态控制方法,采用电动针阀调节进气流量,采用电动球阀或电动针阀调节抽气流量,真空泵用作真空源,整个真空度的自动控制采用了PID控制器。[/size][size=14px]为了同时实现温度控制功能,本方案采用了双通道的PID控制器,一个通道用来控制真空度,另一个通道用来控制温度。此双通道PID控制器如图2所示。此PID控制具有24位A/D和16位D/A,具有47种(热电偶、热电阻、直流电压)输入信号形式,可连接各种真空度和温度传感器进行测量、显示和控制。2路独立测量控制通道,两线制RS485,标准MODBUSRTU 通讯协议。[/size][align=center][color=#ff0000][size=14px][img=真空压力控制,363,400]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/04/202204211030055351_2240_3384_3.png!w515x567.jpg[/img][/size][/color][/align][color=#ff0000][/color][align=center]图2 VPC2021系列双通道PID控制器[/align][align=left][size=14px]为实现真空度控制过程中的高精度调节,采用了数控步进电机进行精细调节的电子针阀,如图3所示。此系列数控针阀的磁滞远小于电磁阀,并具有1秒以内的高速响应,特别是采用了氟橡胶(FKM)密封技术,使阀具有超强的耐腐蚀性。与数控电子针阀配备有一个步进电机驱动电路模块,给数控针阀提供了所需电源(24VDC)和控制信号(0~10VDC),同时也可提供 RS485 串口通讯的直接控制。[/size][/align][align=center][size=14px][img=真空压力控制,182,400]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/04/202204211031223529_3651_3384_3.png!w275x604.jpg[/img][/size][/align][size=14px][/size][align=center]图3 NCNV系列电动针阀[/align][align=left][size=14px]对于较大口径的抽气管路,本方案采用了微型电动球阀,如图4所示。此系列的电动球阀是一种小型电动阀门,阀门开度可根据控制信号(0~10VDC)的变化连续调节,最快开启闭合时间小于7秒,也可达到小于1秒的开启闭合时间,其执行器和阀体的一体化设计,减小了外形体积,价格低廉,常安装在密封容器和真空泵之间用于调节抽气速率。[/size][/align][align=center][size=14px][img=真空压力控制,300,387]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/04/202204211031028665_5415_3384_3.png!w521x673.jpg[/img][/size][/align][size=14px][/size][align=center]图4 LCV-DS系列电动球阀[/align][size=14px][/size][size=14px]总之,通过本文所述的解决方案,在蒸发浓缩工艺中的真空度控制精度可以达到1%,同时还可以进行相应的温度控制,真空调节阀具有超强的耐腐蚀能力,可有效降低溶剂的损耗。[/size][size=14px][/size][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size][size=14px][/size]
石墨炉的升温程序 石墨炉的加热程序分为干燥、灰化、原子化和净化(空烧残余)4个阶段,如下图所示。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/11/201511161241_573675_2352694_3.png 干燥是升温程序中低温除去溶剂的阶段,目的是除去溶剂,以避免溶剂对随后的灰化和原子化过程的影响。干燥时需优选干燥温度和干燥时间。干燥温度的高低取决于溶剂的性质,通常是在接近于溶剂沸点的温度下干燥,以避免溶剂爆沸引起试样“飞溅”与干燥速度过快,溶剂快速蒸发造成被测元素测“夹带”损失。当被测元素含量很低时,有时采用多次进样和干燥的方法来增大被测元素的总量,提高测定的相对灵敏度。干燥时间的长短取决于溶剂的性质和量,蒸发易挥发的有机溶剂比水溶液样品所需的干燥时间短,若进样量大,则需要较长的干燥时间。 灰化,亦称热解,是升温程序中热解和驱除试样基本的阶段,目的是尽可能将试样基体除尽,同时又不损失被测元素,以减少甚至完全排除基体的影响。灰化的有效性取决于灰化温度和灰化时间的选择,灰化温度的高低取决于基体的性质,从除去基体的角度考虑,在不损失被测元素的前提下,尽量选用较高的灰化温度,通常是根据吸光度随灰化温度的变化曲线来优选灰化温度,通常选择达到最大吸收信号的最高温度作为灰化温度。当被测元素是易挥发元素,或者是基体与被测元素挥发性质相差不大时,可在试样中加入化学改进剂使基体转化为更易挥发的化学形态或将待测元素转化为更加稳定的化学形态,以达到除尽基体而又不损失被测元素的目的。灰化时间的长短依基体性质和量而不同,水溶液样品所需的灰化时间短,甚至可以再升温程序中免去灰化阶段,对于生物样品、有机样品及其他基体复杂的样品,则需要使用较长的灰化时间。基体量大则需较长的灰化时间。合适的灰化时间需根据吸光度随灰化时间测变化曲线来确定。 原子化是升温程序中将被测元素转化为自由原子的阶段,是整个原子吸收光谱分析升温程序中最关键的环节,直接影响原子化效率和测定灵敏度。原子化温度取决于被测元素的性质。选取原子化温度的原则是,在保证获得最大原子吸收信号或能满足测定要求的前提下,使用较低的原子化温度,过高的原子化温度会缩短石墨炉的使用寿命。原子化时间的长短取决于试样的性质、试样量和原子化温度。最佳的原子化温度和原子化时间根据吸光度随原子化温度或原子化时间的变化曲线来确定。 一般地说,干燥和灰化阶段宜用斜坡升温模式,原子化阶段宜用快速升温模式。快速升温能改善峰形,提高灵敏度,而且可以允许使用较低的原子化温度。在原子化阶 段通常停止通保护气。 净化是除去原子化阶段后残留在石墨炉内的试样。残留物引起明显的记忆效应,干扰随后的测定。特别是在测定高温元素时,一般都需设置净化阶段。净化温度通常高于原子化温度100-200℃,净化温度太高和时间太长,会缩短石墨管使用寿命。
一、项目背景 丹麦阿拉乳业生产加工基地,主要生产巴氏杀菌奶。为了保证乳制品的质量,生产工艺要求乳制品在经过巴氏杀菌后要快速冷却。工厂采用制冷剂压缩机生产冷冻水,用冷冻水为经过巴氏杀菌的奶制品进行降温,冷冻水连续不断的循环使用。运行一段时间工厂发现换热器降温效率严重下降,大大增加了压缩机的功耗。经分析证实这是由换热器及冷冻水系统管道表面产生的生物膜(也称菌膜)所致。换热器中生物膜的产生使热阻增加,换热效率下降。工厂先后采用了多种方法杀灭冷冻水中的细菌,但是却无法从根本上清除生物膜。生物膜是滋生细菌的温床,普通的消毒剂只能杀菌无法消灭生物膜,所以以前我们的做法是治标不治本。研究表明,换热器中如果有0.5mm厚的生物膜,就会使压缩机的功耗增加20%,如果有1mm的生物膜,就会使压缩机的功耗增加55%,这将使得工厂的电费大大增加。 另外,制冷剂压缩机系统采用蒸发冷为高温高压的制冷剂降温,也就是用水直接喷洒到制冷压缩机循环系统的冷凝器上,以便带走高温高压制冷剂的热量。蒸发冷中的水也是连续循环使用,并不断补充新鲜的水。每过一段时间,冷凝器及蒸发冷填料的表面就会有生物粘泥(生物膜)和结垢产生,导致热阻增加,并严重腐蚀管道。为了带走冷凝器中制冷剂的热量,必须加大蒸发冷循环水的循环量,并增加新鲜水的补充量,这在很大程度上增加了蒸发冷循环泵的功耗和蒸发冷的水耗。二、项目方案 在设备间内安装一台丹麦DCW T25系列250L/H的清洁消毒杀菌机组,系统本身配有盐水罐、缓冲罐和一台ORP(REDOX)传感器控制的计量泵。机组通过电解0.5%的稀盐水生产出NEUTHOX消毒溶液自动进入缓冲罐暂存,并可根据缓冲罐的液位高低,由液位传感器自动控制机组的启停,完全自动化运行,不需要任何的人工操作。机组配备的计量泵根据ORP传感器反馈的信号,自动调节NEUTHOX消毒溶液给冷冻水的投加量,将循环冷冻水系统的ORP保持在一个恒定的值,确保冷冻循环水系统不会有生物膜产生。 另外单独配备一台计量泵和一套ORP传感器,计量泵根据ORP传感器反馈的信号,将NEUTHOX消毒溶液定量注入到蒸发冷循环水中,并自动调节NEUTHOX消毒溶液向蒸发冷循环水的投加量,将蒸发冷循环水系统的ORP保持在一个恒定的值,确保蒸发冷循环水系统不会有生物膜产生。http://www.dcwchina.com/images/14.png工艺流程示意图http://www.dcwchina.com/images/alry1.jpg机组安装现场图三、运行结果 根据跟踪检测结果,在安装了丹麦DCW机组以后的一周内,冷冻水系统的生物膜完全消失,两周以后,蒸发冷系统中冷凝器和填料表面的生物粘泥几乎完全消失,结垢也基本被清除。这让工厂压缩机和蒸发冷循环泵的运行功率降低了20%左右,为工厂节约了大量的电费。四、技术原理和优势1、丹麦DCW机组生产的NEUTHOX消毒溶液不仅能够杀灭各种细菌、病毒,彻底消除生物膜,防止细菌滋生,还能够去除系统设备上生成的水垢,减少清洗杀菌机的清洗和更换喷淋水的次数,节约水资源,降低企业运营成本,提高生产效率。2、低剂量的NEUTHOX消毒溶液就能达到完全杀灭细菌、病毒的目的,水体中完全不会产生任何让人感觉不适的异味。3、生产原料只是盐和电,不需要运输、处理、存储氯气或次氯酸钠等危险化学品。4、NEUTHOX消毒溶液对管道的腐蚀几乎为零(德国实验报告证实),由于管道及换热器表面的生物膜被清除,消除了细菌生物膜对设备造成的腐蚀,延长了设备的使用寿命。5、DCW设备的高度集成化,减少安装面积和对现场安装条件的要求,安装简单(只需一天)。6、高度的自动化与智能化,操作非常简单,日常运行无需人员值守,节约人力成本,高精度的消毒液投加控制系统,精确、高效、安全、环保。
我们公司是做尼龙和塑胶拉链的,最近总是接到客户投诉,说产品在经过真空镀膜后进行水洗测试,表面镀层会脱落的投诉。公司购买了真空镀膜设备,我们按设备供应商提供的工艺流程和试剂做了真空镀膜并进行了水洗测试,存在镀层会脱落的问题。以下是流程:产品表面清洁-去静电-喷底漆-烘烤底漆-真空镀膜-喷面漆-烘烤面漆(120°1m)-出成品。.在此,希望能得到各位老师的帮助:希望各位老师提供一个较成熟的流程,和各工序的参数如果设置?使用什么试剂会更好?希望各位老师解释一下真空镀膜后进行水洗测试,表面镀层会脱落的原因?是否因为没打好底的问题?望各位老师不吝赐教!谢谢!
用真空镀膜防止光学仪器生雾:[font=&]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料:[/font][font=&]化学稳定性高;[/font][font=&]且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性;[/font][font=&]与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。[/font][font=&]不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]
想在K9玻璃和熔融石英上镀金膜,样品在镀膜之前应该怎样清洗保证表面无污染物和镀膜粘附性好呢。
[font=微软雅黑]用真空镀膜方法[/font][font=微软雅黑]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料,化学稳定性高,且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性,与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]
哪位大神能推荐一些比较好的国产镀膜仪啊??急求·~~
曾经遇到这样一件事情,一个镀膜的硅片(好像是硅片,记不太清了),放在红外上测试其峰位,比如说是在900波数,再过一个月在测试时发现同一个峰位发生了移动,大约在1000波数,记得当时去学校找一位教授,教授说这个很正常,原因是比如基体等,有没有版友是做镀膜相关的?给详细的解释解释。谢谢
不同的扫描电镜对镀膜仪器的要求是不是有选择?选择镀的导电膜材料是不是也有所区别?求教!!!
最近刚接触日本电子的JEE-420真空镀膜仪,请问大神们有没有这款的操作规程啊啥的东西可以给发一份?
唉,最近总有人拿镀膜的玻璃来给我拍SEM,我的是W灯丝的。玻璃上镀的是大约30-40nm的ZnO或TiO2,要求看ZnO的孔径生长情况。我是新手,费老大力在镀膜正面放大到10万倍下拍摄,能看出有一些排布均匀的黑点(可能就是他们要的孔),但黑点的边界模糊,不清楚,想问高手怎么能调节清楚?另外,他要求看这个镀膜的侧面,一直放大到10万倍,总看不到所谓的孔的截面,而且图片也不清楚,怎么调节呢?加速电压:20kv,15kv都有试过 调焦,像散,明亮度,对比度以及束斑都有调节,甚至电子枪的对中也一直调来着,尤其在5万倍以上总是不太清楚。愁死了。看的是SEI象。玻璃已镀金膜。谢谢!
新手求助:我是在布上镀膜(厚度估计不超过100nm),能够用XRD扫吗?对基材有要求么?我在载玻片上镀膜(几十纳米)时,出来的XRD很奇怪的,没有尖峰,只有一个大的宽峰,是基材的问题还是膜太薄了 谢啦
防止光学仪器生雾的办法2-用真空镀膜方法:镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料:化学稳定性高;且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性;与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。
如果在镀膜时所用的设备是直流溅射仪或磁控溅射仪而非离子束溅射仪,在放大倍率为几万倍下观察,就会看到镀膜结构。绝大多数用户所使用的离子溅射仪都属于前两种。下面的照片是我对三个文献有关内容的综合。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/01/201301262045_422846_1609375_3.jpg
生物实验室、无菌间、重症监护病房装修会大量采用12MM厚钢化玻璃,未经特殊处理的钢化玻璃表面富含羟基,易于吸附水汽和有机物,成为微生物落脚生根繁殖的温床,这给保持无菌环境带来了不利影响。现有厂家专门生产的药物释放型抗菌玻璃,在机械强度、成本、制造工艺上无法代替建筑用厚钢化玻璃,因此对现有建筑用钢化玻璃进行表面特殊处理,使之获得一定程度的长效抗菌抑菌特性,是现有经济条件下的唯一选择。 ****Hanxion HK-2型玻璃抗菌抑菌玻璃镀膜液,能够在玻璃表面形成一层化学镀膜层,它是由特殊分子结构的有机聚合物organic polymer形成的网状结构,和玻璃表面的硅羟基silanophilic interaction牢固键接,在微观尺度上形成一种特殊的空间结构,这种结构对微生物具有强烈的致死作用,细菌、霉菌无法在这样的微观环境下生长、繁殖。经过镀膜液处理过后的玻璃,具有长时间稳定的抑菌、抗菌、防霉的性能,可以降低生物、医疗环境中各类玻璃表面上粘附的细菌、霉菌密度,更好的保持医用环境的洁净,降低清洁成本。可以有效抑制细菌的繁殖、生长,有效杀死与镀膜层直接接触的细菌、霉菌镀膜层厚度大约在十几个到几十个纳米之间,具有良好的光学性能,完全不影响玻璃的光线通透。和玻璃表面硅羟基发生化学键接,具有极佳的耐磨性,牢固度。能耐受各种洗涤剂、有机溶剂、强酸、弱碱的腐蚀;耐受正常的手指皮肤、纸巾、织物的反复擦拭而不脱落,可以长时间发挥抑菌、抗菌功能。可以使玻璃获得很强的疏水特性,保持玻璃干燥,无水汽吸附镀膜层完全不含有重金属银、铅、汞、镉、砷这几种成分,也不含有任何氟化物fluoride,不向外界释放抗生素物质和其它物质,完全无毒,具有极好的生物安全性。化学镀膜工艺简单,无需昂贵真空镀膜机,可以批量化规模化生产。适用于各类玻璃
PLC程序控制器目前已广泛应用于各个领域之中,其中在[b]快温变试验箱[/b]中的的应用也是比较普遍。因其内部是由大量的电子元器件组成,很容易受到周围一些电气元件的干扰、强磁场电场以及振动幅度大等因素影响到PLC控制器的正常工作,这点往往被许多人忽略。即使程序编制再好,安装环节不注重,日后调试、运行会带来很多的故障。疲于奔命地维护。[align=center][img=,469,469]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105311519164835_6525_1037_3.jpg!w469x469.jpg[/img][/align] 以下是快温变试验箱PLC程序控制器安装时注意事项: 1、PLC安装环境 环境温度在0~55度,过高过低会导致内部电了元器件运行不稳定。必要时可采取降温或升温措施进行调节。 不能安装在振动频率50Hz、幅度为0.5mm以上,因振动幅度过大容易造成内部电路板的电子元器件脱焊以及脱落现象出现。 在电器箱内外应尽可能远离强磁场电场(如控制变压器、大容量的交直接触器、大容量的电容器等)电气元器件,还有易产生高次谐波(如变频器、伺服驱动器、逆变器、可控硅等)控制器件。 避免安装在金属粉尘多、腐蚀、可燃气体、潮湿等场所。 2、电源 要正确接入PLC电源,有交直之分。建议可使用隔离变压器提供给快温变试验箱PLC程序控制器电源。 3、接线布线及走向 接线时应使用冷压片压接后再接入PLC的输入输出端子上,并保证紧固牢靠。 当输入为直流信号时,如周围干扰源又多,应考虑带有屏蔽的电缆或采用双绞线为宜,在线的走向尽量不要与动力线平行且不能放置在同一线槽、线管内,以防造成干扰。 4、接地 有效地接地可以避免浪涌信号的冲击干扰,其接地电阻不应大于100欧,电气箱中如有接地铜排,应直接接到接地排上,不可与其他控制器(如变频器)的接地连接后再接入接地排上。
旋转蒸发仪蒸发过滤的菌液时产生大量的泡沫,达不到想要的结果,问厂家,说是气密性太好,所以把气压搞低了,但是经过两个小时后,蒸发效果几乎为零,这个应该怎么弄呢