单双盘手自动磨抛机

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

美国QMAXIS磨盘更换系统原装进口美国QMAXIS磨盘更换系统，包括铝盘、磁性盘、铁盘、特氟龙特盘、橡胶盘和砂纸卡箍，选择多样，组合灵活，可快速更换不同的研磨、抛光材料，省时、省力。订货信息：类型产品描述包装规格产品编号8in[203mm]10in[254mm]12in [305mm] Aluminum Platen 铝盘 工作铝盘，用于粘贴磁性 盘；不带背胶的砂纸用砂 纸卡箍直接固定在铝盘上1个/包GPA-08GPA-10GPA-12 MagDisc 磁性盘 带背胶，用于吸附铁盘、 特氟龙铁盘或橡胶盘， 也可以直接吸附带磁性背 衬的金刚石磨盘或抛光布1片/包GPM-08GPM-10GPM-12 MetDisc 铁盘 标准金属盘，用于粘贴带 背胶的金刚石磨盘、砂纸 或抛光布5片/包GPI-08GPI-10GPI-12 TefDisc 特氟龙铁盘 带特氟龙不粘涂层，易于 粘贴和移除带背胶的金刚 石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPT-08GPT-10GPT-12 RubberDisc 橡胶盘 磁性/带背胶，与磁性盘配 合使用，用于粘贴不带背 胶的砂纸。替代金属盘， 弥补金属盘盘面易变形、 盘边易出现凸凹或毛刺等 缺陷。防腐、耐用，更经 济5片/包GPR-08GPR-10GPR-12 PaperBand 砂纸卡箍 用于固定不带背胶的砂纸个GPB-08GPB-10GPB-12

多孔玻板吸收管，标准口塞气泡吸收瓶，多孔玻柱吸收管，大小包氏吸收瓶，撞击式气体采样瓶，二氧化硫吸收瓶，氮氧化物吸收瓶，标准口索氏提取器，KD浓缩器，砷化氢发生与吸收装置，水蒸气蒸馏装置，BOD培养瓶（双套磨口），COD回流装置，标准口蒸馏器，标准口氨氮蒸馏器，新型硫化物反应吹气吸收装置等一系列环保玻璃仪器！

订货信息： G2258A 1100/1200 系列双定量环自动进样器 说明 　 　 部件号 针头组件，双定量管自动进样器 G2258-68710 多孔板样品盘，2 个多孔板，10 个样品瓶（支持50 mm 盘），1100 G2258-60001 多孔板样品盘，2 个多孔板，10 个样品瓶（支持50 mm 的孔板） G2258-60011 双针座，双定量环自动进样器 G2258-87102 前针座管，不锈钢，0.5 mm 内径，10 cm 长 G2258-87316 后针座管，不锈钢，0.5 mm 内径，12 cm 长 G2258-87315 前座管，PTFE，内径为0.2 mm，长度为10 cm，5 &mu l G2258-87312 后座管，PTFE，内径为0.25 mm，长度为12 cm，6 &mu l G2258-87313 废液管，内径为0.8 mm，长度为15 cm G2258-87310 废液管，内径为0.8 mm，长度为10 cm G2258-87311 缓冲定量环扩展组件 G2258-60002 缓冲液回路管线组件，PTFE，内径为1.4 mm，外径为2.0 mm G2258-87300 吸液管组件，用于冲洗溶剂带过滤器和瓶盖 G2258-87307 管线组件，溶剂冲洗 G2258-87314 接头螺丝，不锈钢，10-32，4 mm，5/包 5065-9948 用于2 mm 管线的PEEK 垫圈和不锈钢环，5/包 5065-9950 两通，PEEK，用于1/8 英寸外径管线，1/4-28 内螺纹 0100-2410 10 通，双定量环进样阀 0101-1385 转子密封垫，Vespel，10 通阀 0101-2415 定子，DuraLife，10 通阀 0101-1390 适用于15 x 6 mL 样品瓶的样品瓶盘 5022-6539 用于盛放54 x 2 mL 样品瓶的样品瓶盘6/包 G2255-68700 滤芯接头，PTFE 用于1/8 英寸外径管线 G2258-23201 用于G2258A 双定量环ALS 的柱塞杆，5 mL G2258-60003 活塞杆导杆，PEEK，用于G2258A 自动进样器 G2258-23101 用于G2258A 双定量环自动进样器的柱塞杆密封垫 0905-1599 G2260A 1100/1200 系列制备型自动进样器 说明 　 　 部件号 制备自动进样器(G2260A) 附件箱 包括不锈钢连接毛细管、六角扳手、扳手、100/包，2 ml 螺纹口样品瓶和瓶盖、用于6 ml 样品瓶的盘、不锈钢两通和其他部件 G2260-68705 G2260A 进样器的MBB 进样阀 0101-1267 PEEK 转子密封垫和定子面 0101-1268 用于0101-1267 阀的定子头 0100-2195 针座，用于G2260A 自动进样器，内径为0.5 mm，20 &mu l G2260-87101 针头组件，用于G2260-87101 针座 G2260-87201 毛细管，进样阀到制备柱头，不锈钢，16 cm，0.5 mm G2258-87301 毛细管进样器到色谱柱，不锈钢，60 cm，0.5 mm G2260-87300 毛细液相泵到进样器，不锈钢，40 cm，0.5 mm G2260-87301 多个吸液环，用于G2260A，建议用进样体积高达5 ml 的样品 G2260-68711

低维材料在线商城可为客户订制不同参数的二氧化硅氧化片，质量优良；氧化层厚度、致密性、均匀性和电阻率晶向等参数均按照国标执行。热氧化物表面形成二氧化硅层。在氧化剂的存在下在升高的温度下，给过程称为热氧化。通常生长热氧化层的在水平管式炉中。温度范围控制在900到1200摄氏度，使用湿法或者干法的生长方法。热氧化物是一种生长的氧化物层。相对于CVD法沉积的氧化物层，它具有较高的均匀性和更高的介电强度。这是一个极好的作为绝缘体的介电层。大多数硅为基础的设备中，热氧化层都扮演着非常重要的角色，以安抚硅片表面。作为掺杂障碍和表面电介质。应用范围：1，刻蚀率测定2，金属打线测试3，金属晶圆4，电性绝缘层产品名称：4英寸二氧化硅抛光硅片 （SiO2）生长方式：直拉单晶（CZ） 热氧化工艺直径与公差：100±0.4mm掺杂类型：N型(掺磷、砷、锑) P型（掺硼）晶向：111\100电阻率：0.001-50(Ω?cm) 可按客户要求定制工艺数据：平整度TIR:3μm 、 翘曲度TTV: 10μm 、弯曲度BOW 10μm 、粗糙度0.5nm、颗粒度 10 (for size 0.3μm)现有规格：50nm 100nm 200nm 300nm 500nm 1000nm 2000nm用途介绍：用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体 类型1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸单面抛光片1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸双面抛光片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸二氧化硅片（SiO2）不可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸可定制切割片、研磨片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制区熔本征高阻不掺杂硅片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制单晶硅棒1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制注：本商城提供多系列多规格的硅片，标价仅为一种规格，如需多种规格请与客服联系。

SUS304不锈钢风淋室 双人双吹 单人单吹由上海书培实验设备有限公司提供，材质304不锈钢，还有彩板，201不锈钢，单人单吹，双人双吹，单人双吹，注重产品细节，外表美观。产品参数介绍：喷嘴数量：18个（两侧各9个）电机功率：0.75KW×2台一级过滤：1220×320×15×2支 二级过滤：820×600×120×2支过滤效率对于粒径≥0.5μm尘埃为99.995%（钠焰法）控制系统：LCD语音控制屏，红外线自动感应吹风，双门电子互锁风速：25－30m/s电源：380V，50HZ，AC，3N材质采用SRS304不锈钢墨拉丝板×1.0mm厚度材质制作门：配备两扇单开手拉门，门的材质为304不锈钢，门宽800mm门框：采用45×75mm不锈钢方管制作，上半部带透明钢化玻璃窗，钢化下班厚度为5.0mm的可视净化透明斜边观察窗风机：功率0.75KW/台，风机风量为2200m3/h，风压为1050Pa，转速2900转/分门锁：配备智能电子互联锁，双门无法同时打开（A门打开，B门上锁，吹淋中A，B门都无法打开，紧急情况下按下“急停”按键，AB门自动解锁），采用高压合金锁头。拉手：采用豪华不锈钢拉手底部：铺设的底板及防腐方管无措采用304不锈钢×1.2mm厚度材质制作闭门器：采用自动闭门器，数量：2支，手拉开门，自动关门时间：吹淋时间0－99秒（可调）照明：数量1只，采用嵌入式LED节能净化灯，带延时功能安全性能：在断电的情况下，双门锁会自动开启，确保安全产品相关参数表格：名称规格（mm）型号材质单价（元）品牌不锈钢风淋室（双人双吹）外径：1400*1500*2100内径：800*1400*1950SP-FLS-1500201不锈钢14000书培304不锈钢17000书培彩钢8500书培不锈钢风淋室（单人单吹）外径：1200*1000*2100内径：800*900*1950SP-FLS-10002017500书培304不锈钢10000书培彩钢5000书培不锈钢风淋室（单人双吹）外径：1400*1000*2100 内径： 800*900*1950SP-FLS-10002019500书培304不锈钢12000书培彩钢6500书培可以根据需求加工定制

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber） 9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

火焰石墨炉原子吸收光谱仪配件集成了火焰原子吸收光谱仪和石墨炉原子吸收光谱仪双重功能，采用火焰和石墨炉一体化设计，适合测定各种材料中的定量和痕量元素含量。 火焰石墨炉原子吸收光谱仪配件特点 双光源，双原子化器,独特设计方便用于使用 平行火焰和石墨炉原子化器，没有机械移动转换部件，确保长时间稳定性 分时双光源不需要更换灯泡，降低仪器操作和调节难度和时间，提高工作效率。 可选择使用最短光程光路，减少光能损失 双磁场塞曼背景校正技术 采用恒定磁场，横向塞曼背景校正器件用于火焰和石墨炉分析，具有高级双原子化器和强大的背景校正能力 采用增强火焰连续磁场改善分析灵敏度 准双光束设计，以纠正基线漂移,减少预热时间，优化分析精度 石墨炉电源集成一体化设计，多重防护技术降低电磁干扰，缩短电源距离降低能量损失，结构紧凑而方便安装和移动。 火焰石墨炉原子吸收光谱仪配件特色高精度全自动化操作自动8x2转动灯塔，自动调节灯泡电流，优化光束位置自动波长扫描和峰值拾取自动改变光谱带宽自动在火焰和石墨炉之间转换，自动点燃和自动气流控制火焰石墨炉原子吸收光谱仪配件优势全新全自动无焰分析技术具有高可靠性全新设计的石墨炉和电源具有快速加热和超长稳定功能以及超高效率智能全自动采样器，自动生成工作曲线，自动追踪校正样品表面高度，长时间记忆样品探针位置优异的安全防护燃气泄漏，流量异常，气压不足,火焰熄灭时警报和自动安全保护功能监测气压和石墨炉冷却水磁场系统中冷却水监测和保护功能排水管密封和监测功能软件操作用户友好软件方便操作，界面友好软件快速设置，自动调节优化仪器参数安全监测，自动保护智能分析，标准样品检查 广泛用于测量如下样品中的金属元素：土壤，肥料，微量营养素，植物，农药，食品，水，生物物质，冶金，煤炭，电镀，石化，玻璃，水泥，钢铁等。 火焰石墨炉原子吸收光谱仪配件参数 光谱范围：190-900nm 波长精度：+/-0.5nm 光谱分辨率：优于0.3nm 基线稳定性： 0.005A/30分钟 光源：zcvcc 光谱带宽：0.1-2.5nm （8次自动选择） 光度值：0-2Abs 光源：空心阴极灯 Hollow cathode lamp 背景校正：氘灯 D2 lamp背景校正 燃烧炉：层流钛燃烧炉 燃料： C2H2 乙炔 氧化剂：空气/N2O 流量控制：具有控制系统带有流量计 单色仪： Czerny-Turner 1800线/mm 全息衍射光栅 探测器： 广角光电倍增管

单抛硅片（AFM、SEM电镜用硅片）常作为AFM和SEM基片，用在科学研究中，单抛硅片需要自己切割后作片基使用。也提供预切单抛硅片，详情电询。单抛硅片预切单抛硅片1"2"3"4"6"直径25 mm50 mm76 mm100 mm150 mm向性100100111100100TYPE PBoron - 1 primary flatBoron - 1 primary flatBoron - 1 primary flatBoron - 1 primary flatBoron - 1 primary flat电阻率1-30 Ohms1-30 Ohms1-30 Ohms1-30 Ohms1-30 Ohms厚度10-12 mill (254-304μm)9-13 mill (230-330μm)13.6-18.5 mill (345-470μm)18.7-22.6 mill (475-575μm)23.6-25.2 mill (600-690μm)TTV:20μm粗糙2nm2nm2nm2nm2nm产品选购：货号产品名称包装71893-04Silicon Wafer Type P, 1"1片71893-05Silicon Wafer Type P, 2"1片71893-06Silicon Wafer Type P, 3"1片71893-07Silicon Wafer Type P, 4"1片71893-08Silicon Wafer Type P, 6"1片

单级压力调节器： 用途：用于无腐蚀性或有腐蚀性高压气体及标准混合气体的精密调压，亦适用于对气体的纯度、质量要求很高的分析仪器及设备。 双级压力调节器： 用途：主要适用于输入压力需要精密控制和调整的分析仪器、置配气行业、环保仪器设备、电力工业、以及其它仪器和设备。还适用于无腐蚀性或有腐蚀性的纯气及标准混合气体，对钢瓶气体的高压气源进行精密调节后，送入仪器设备。 材质：铜、不锈钢。

预切单抛硅片常用于SEM和SPM中，硅片的一些参数如下，大硅片直径100mm，基片厚度525un：l Orientation: 100 l Resistance: 1-30 Ohmsl Type: P (Boron)l Wafer thickness: 18-21 mil (460-530μm)l Roughness: 2nm, polished on one side材料科学方面：当用FESEM研究纳米离子时，硅片具有玻璃盖玻片一样的光滑性能，而且具有高分辨率测试所需要的导电性。因为硅衬底有点导电，人们可以减少对金属涂层的需要（涂层有可能掩饰材料样本的特点）。生物学方面：非常理想的衬底来生长细胞，表面光滑，完全等同玻璃盖玻片。由于是硅材料，人们不用担心样本受到玻璃的腐蚀，还有硅的惰性，完全可以高压灭菌。产品选购：货号产品名称规格4136SC-ABSilicon Chip Substrates 5x5 mm x 525 um Thick269 Chips4137SC-ABSilicon Chip Substrates 5x7 mm x 525 um Thick186 Chips

德国赫施曼 AS级单标、双褐标 移液管/吸管材质：钠钙玻璃，褐标永不退色，带批次证书，双刻度，“EX”校准，符合DIN EN ISO 648。

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。 产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品特点：Silcosteel 调节器（双级和单级）Silcosteel Regulators (Dual Stage & Single Stage)应用程序:● CEM连续排放监测。● 环境堆栈和气体排放标准。● 低级硫和汞分析。● 反应性或腐蚀性气体。● 离岸平台系统。● 腐蚀性和盐水暴露。Silcosteel 表面处理可采用单级和双级调节器。该专利钝化工艺为硫和汞的校准标准提供了良好的惰性，并改善了裸露316L不锈钢或其他更昂贵合金的耐腐蚀性。出口压力：0至150 psig 出口规格：30“，0至200 psig 入口压力表：0至4,000 psig 出口组件：隔膜阀，1/4“ 管接头订货信息：Silcosteel Regulators (Dual Stage & Single Stage)FittingsUnits21360-5Dual-Stage Regulator Catalog #Product Name CGA 320 (CO2)ea.21361-3Single-Stage Regulator CGA 320 (CO2)ea.21360-2Dual-Stage Regulator CGA 330 (H2S and other reduced sulfurs)ea.21361-5Single-Stage RegulatorCGA 330 (H2S and other reduced sulfurs)ea.21360-7 Dual-Stage RegulatorCGA 350 (H2, P5)ea. 21361-6Single-Stage RegulatorCGA 350 (H2, P5) ea.21360-8Dual-Stage RegulatorCGA 510 (multiple)ea. 21361-7Single-Stage RegulatorCGA 510 (multiple)ea. 21361-11Single-Stage RegulatorCGA 660 (NO, NO2, SO2)ea.

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

气瓶柜 单瓶 双瓶气瓶柜 实验室钢瓶柜由上海书培实验设备有限公司生产提供，产品产品采用1.0mm厚宝钢优质冷轧钢板，经酸洗磷化处理，表面通过环氧树脂静电喷涂，达到防酸碱及防锈之效果，产品规格齐全，价廉物美，欢迎客户来电咨询选购。气瓶柜 实验室钢瓶柜 双瓶气瓶柜产品规格表格：产品名称产品尺寸（cm）产品单价单瓶气瓶柜450*450*18001550元双瓶气瓶柜750*450*18002300元三瓶气瓶柜900*450*18002700元加配锁常规100元加配气瓶固定板 常规300元加配排气扇常规200元加配可燃气体报警器常规1000元气瓶柜 实验室钢瓶柜 双瓶气瓶柜产品介绍：气瓶柜用于提高局部的排气通风，保护钢瓶（气瓶）不受柜子外面火灾以及保护周围物免受内部火灾的金属容器。 气瓶柜内部有吹洗系统，报警器和排气孔，通常有一瓶位、二瓶位和三瓶位。 气瓶柜 实验室钢瓶柜 双瓶气瓶柜产品参数介绍：一：报警音量：≥80dB 响应时间≤30s二：电源：AC220V、50HZ 恢复正常工作时间：≤30s三：采用微电脑定时开关，高敏探头检测漏气自动报警。四：工作功率：40W（排风状态时） 警报方式：声、光报警五：用1.0mm优质优质冷扎钢板，表面均需经过严格的酸洗、磷化处理后，再进行环氧树脂静电喷涂耐腐蚀处理，耐潮耐热。 产品优点：一：采用全门钢制铰链保证顺滑开启的同时以增加牢固性能。 二：采用紧固带固定钢瓶，避免发生钢链条碰撞瓶身等危害，稳定性能优越。三：采用两点联动门锁控制，增加柜门的耐冲击性。启闭180度柜门，可配单锁双钥匙气瓶柜 实验室钢瓶柜 双瓶气瓶柜产品结构介绍：一：踏板：柜体底部设有可调节踏板，方便气瓶装卸。二：PASS孔：柜体顶部设有PASS孔，保证柜内气体流动。三：固定紧固带：内部采用固定式紧固带，防止气瓶倾倒。四：门板：采用可脱卸铰链，正面带视窗，视窗为有机玻璃。五：报警器：可选择选用专用报警装置。报警装置可识别：可燃式气体如甲烷、乙炔、煤气等。六：柜体：采用1.0mm厚宝钢优质冷轧钢板，经酸洗磷化处理，表面通过环氧树脂静电喷涂，达到防酸碱及防锈之效果。七：声光报警系统：当柜内传感器检测到气体泄漏时，会自动触发红灯闪烁和报警轰鸣声，同时自动排风。八：24小时排风系统：顶部风机会24小时工作，随时会将气体通过排风管排出室外，保证工作区域的人身安全。产品注意事项：一：安装本柜前选择远离火源，通风良好的地方。将柜体靠墙放置，并调整地脚，使柜体水平。二：气瓶安装:将同类气瓶装入固定架上，检查无误后，将固定带琐紧。（以气瓶不摇动为微型气泵 益）并将相应的气压表牢固的接在气瓶上，将气线从气线孔引出。当气路检查无误后，打开气阀，调整到相应的压力值。

现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，特点：咨询热线，15300030867,010-82752485-815，张经理欢迎您的来电咨询！1．非接触式检测，极为灵敏，精确，无污染2．模块化设计、玻璃样品桶可随意拆卸，极易清洗3．内置空压机，多种模式产生泡沫4．良好的重现性和稳定性5．最少仅需20ml溶液现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，技术参数：气流流速：0.2~1.0L/min最小样品体积：20ml最大测量高度：200ml光源类型：连续LED光源最大速度：20照片/秒检测器类型：高灵敏度带状检测器高度分辨率：0.125mm现货供应销售德国克吕士/Kruss-DFA100动态泡沫分析仪DFA100，办事处，现货销售，软件功能：1 成泡能力表征 最大泡沫体积（ml）在鼓泡程序结束时的泡沫体积泡沫容量：C=V(foam)/V（gas）（%）泡沫体积和使用的空气体积之间的关系比容：S=V(foam)/(V(liq,0)-V(liq,i))（%）泡沫体积和泡沫中液体总量的关系密度：D=1/S(%)2 泡沫稳定性表征不同时间的泡沫体积和液体体积（ml(t))泡沫体积：半衰期，NIBEM(s)时间:R5,R10,Ross-Miles(mm ml)液体体积：头保留值（HRV）(s)Bikerman指数：稳定泡沫体积/气流流速（s）*Lunkenheimer：t（dev），t（tr）（s）（专利方法）浊点检测功能：有电压：220-240V,30W体积：245x275x460(WxDxH)

泡沫杜瓦瓶可以用来替代较重的样品容器或常用的塑料运输箱。有一个突出的把手便于操作。这种特殊的泡沫材料具有化学惰性和机械耐久性，可以直接暴露在液氮中，不会泄漏或降解。专利设计使泡沫杜瓦片比传统的低调玻璃杜瓦瓶更容易处理和安全使用。同时泡沫容器由于其较低的热质量，在填充时会减少液体氮的沸腾，泡沫表面也凝结较少的霜，因而减少液氮的消耗。产品编号描述单位81760-500小（500ml）个81760-800中等（800ml）个81760-1400泡大（1400ml）个81760-1800高（1800ml）个81760-130迷你（130ml）个

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海光原子吸收129位自动进样器进样盘样品盘 质量保证 性价比高海光原子吸收129位自动进样器进样盘样品盘 质量保证 性价比高

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

用于自动进样器的双铂板电极订货号: 6.0323.100带标准磨口 14/15 和两块铂板 (0.15 x 8 x 8 mm) 的玻璃鞘电极，两块铂板经极化，用于氧化还原滴定（双伏安滴定法）。该电极特别适用于自动测定：● 维生素 C● 葡萄酒中的亚硫酸 (SO2)技术参数上部杆径（mm）12下部杆径（mm）8指示电极形式Sheet指示电极类型Pt指示电极类型（参考）-最小浸没深度（mm）10测量单位mV测量范围–2000 ... 2000电极插头Metrohm plug-in head G电极杆材料Glass短时温度范围（°C）–20 ... 70磨口套管标准磨口 14/15长时温度范围（°C）–20 ... 70

优于一级ATI提供了最高质量，行业标准的油基试剂使用与油基气溶胶发生器。我们的试剂用于高效空气过滤器的现场泄漏检测和生产质量控制效率检测。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4产品适用于政府，核设施，和FDA规定的测试应用。PAO-4 试剂美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4，四厘沲PAO(化学文摘系统ID 68037-01-4)。该试剂提供了美国食品和药物管理局批准的替代DOP在FDA监管的过滤器泄漏检测应用。PAO得到了美国陆军军医总局的批准，并被美国军方用作过滤器和口罩测试过程中DOP的替代品。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4可在1加仑和5加仑容器。可根据要求提供更大的容量。产品规格沸点 : 316℃(600℉)比重 : 0.819 @ 15.5摄氏度(60华氏度)在20°C时，蒸气压0.013 kPa (0.1 mm Hg)蒸汽密度 : N/A溶水性 : 不溶于水外观/气味 : 无色、无味液体凝固点 : N/ApH在5%时 : N/A闪点 : 222摄氏度(432华氏度)使用方法 : 克利夫兰开杯空气中可燃性限值 : N/A - UEL: N/A | LEL: N/A自动点火温度 : 343 ̊C (649 ̊F)粘度 : 40℃时18 cSt / 100℃时4 cSt

聚四氟乙烯气泡吸收瓶固定污染源氟化氢测定产品介绍： 聚四氟乙烯吸收瓶是采用特氟龙材质PTFE（聚四氟乙烯）塑料制成，主要是替代玻璃吸收瓶，避免氟化氢和氢氟酸的腐蚀，利用溶液吸收法采集大气中污染物，采集大气中的某种污染成分，在吸收瓶中装入氟化氢或者氢氟酸溶液，气体通过吸收液时，待测污染物被吸收，经分析测定可确定大气中该污染物的浓度。吸收瓶的主要的性能指标是在充装一定量的吸收液条件下，它的适宜的采样流量、吸收效率和阻力降。常用的吸收瓶有多孔玻板吸收、气泡吸收、冲击式吸收等不同的结构形式。固废氟化氢测定方法原理：是采用加热的采样管采集废弃样品，在经过滤膜中的滤膜滤除颗粒物，气态氟化氢和气化后的氟化氢液滴被碱性洗手液吸收后生成氟离子，试样注入离子色谱仪进行分离检测，根据保留时间定性，峰面积或峰高定量。产品特点：一：产品规格：75ml 颜色为纯白色二：防污染：金属元素值低。三：机械性质较软，具有很低的表面能。四：耐高低温性：可使用温度-200℃～＋250℃。五：不粘性：是一种表面能很小的固体材料。 六：耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象。 主要用途：产品主要用于固定污染废气氟化氢的测定相关配套产品有：恒温加热采样管（聚四氟乙烯或钛合金材质）、烟气采样器、烟尘采样器、吸收瓶（聚四氟乙烯材质或聚乙烯材质）、连接管（聚四氟乙烯材质）、滤膜夹（与滤膜配套）、冷却装置、离子色谱仪、一次性水系针筒式过滤器0.45um、注射器10ml、 南京滨正红仪器有限公司

泡沫低温液氮瓶Form Cyro Dewars 保存液氮和低温材料的首选容器，安全、耐用、优秀的绝缘性能，与不锈钢和玻璃杜瓦瓶比较，价格也极具优势。使用高级闭孔泡沫制造，所以绝缘性、化学惰性、机械强度都非常好，根本不必担心泄漏和快速老化失效。本产品带有标配的盖子。订购信息：货号产品描述规格62098-01Foam Cryo Dewar Mini w/lid，130-175 ml迷你泡沫低温液氮瓶个62098-02Foam Cryo Dewar Small w/lid，500ml（小）个62098-03Foam Cryo Dewar Standard w/lid，800ml（标准）个62098-04Foam Cryo Dewar Large w/lid，1400ml（大）个62098-05Foam Cryo Dewar Tall w/lid，1800ml（超大）个价格仅供参考，详情请致电商家

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！