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氮化硅涂层沉积设备
仪器信息网氮化硅涂层沉积设备专题为您提供2024年最新氮化硅涂层沉积设备价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括氮化硅涂层沉积设备参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的氮化硅涂层沉积设备您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合氮化硅涂层沉积设备相关的耗材配件、试剂标物,还有氮化硅涂层沉积设备相关的最新资讯、资料,以及氮化硅涂层沉积设备相关的解决方案。
氮化硅涂层沉积设备相关的方案
Zeta电位法监控氮化硅表面二氧化硅氧化层的去除
在空气中保存并且接触水溶液后,PH值滴定实验测得氮化硅片的等电点(IEP)为PH4。与氧化硅片相比,IEP移向了更高的PH值。然而,如果用5%的HF酸处理几秒钟,IEP变为5.3,这说明HF有效出去了氮化硅表面的自生氧化层。如果在HF处理之前先用Piranha 溶液处理一下,氧化物层将会被处理的更彻底。
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
微波消解氮化硅
氮化硅是一种无机物,是一种重要的结构陶瓷材料,硬度大,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。选择一种氮化硅样品,通过实验寻找一种可将其完全溶解的微波消解前处理方法,有利于后续AAS、ICP、ICP-MS等检测设备对样品中多种无机元素含量进行快速准确测定。
微波消解氮化硅
氮化硅是一种无机物,是一种重要的结构陶瓷材料,硬度大,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。选择一种氮化硅样品,通过实验寻找一种可将其完全溶解的微波消解前处理方法,有利于后续AAS、ICP、ICP-MS等检测设备对样品中多种无机元素含量进行快速准确测定。
离子色谱法检测氮化硅粉体中氟离子,氯离子
氮化硅陶瓷广泛应用于风电行业、光伏行业、电动汽车电池用研磨块、卫星电池、医疗卫生行业、火箭推进器尾喷管、电子行业等领域。既然氮化硅陶瓷的性能如此优异,那么在进行制备时对于其中杂质含量的控制也十分重要。其中氟和氯是氮化硅的主要杂质,含量过多会对相关接触部件造成严重腐蚀,从而影响构件的机械强度和密封环的密封效果。本次以氮化硅为例,参考《氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法(征求意见稿)》中的检测方法,制定了相关的检测方案。
氮化硅---微波消解法
氮化硅是一种特殊的耐高温材料,以高纯氮化硅粉末材料制备的氮化硅精细陶瓷材料具备系列优异的性能,其作为先进结构材料在发动机、机械加工、微电子学等尖端领域具有良好的应用前景。
微波消解氮化硅
氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,高温时抗氧化以及抵抗冷热冲击,由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率。通过微波消解方法对氮化硅进行前处理,有利于后续对样品中痕量元素含量的快速准确测定。
微波消解氮化硅
氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,高温时抗氧化以及抵抗冷热冲击,由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率。通过微波消解方法对氮化硅进行前处理,有利于后续对样品中痕量元素含量的快速准确测定。
氮化硅陶瓷材料中阴离子的检测
氮化硅是一种重要的新型结构陶瓷材料,强度高,尤其是热压氮化硅,是世界上最坚硬的物质之一。氮化硅极耐高温,可以在1200℃高温下保持强度不下降,直到1900℃才会分解,且具有惊人的耐化学腐蚀性能,能耐几乎所有的无机酸和30%以下的烧碱溶液,同时又是一种高性能电绝缘材料。
解决方案|原子吸收法测定氮化硅材料中的铝、铁、钙含量
现有的氮化硅中微量元素分析主要采用原子吸收光谱法和等离子体发射光谱法。对于氮化硅陶瓷粉末中铝、钙和镁测定,国家标准JY/T016-1996中使用的是波长色散型X射线荧光光谱法。样品前处理主要为高温碱熔或微波消解法。本文查阅文献建立微波消解原子吸收光谱法测定氮化硅粉中铝、铁、钙含量的方法,可供相关人员参考。
电泳沉积制备临床应用电极纳米涂层的机械稳定性
涂层的机械稳定性对于医疗批准和临床应用至关重要。在这里,电泳沉积(EPD)是一种多用途的涂层技术,先前已显示其可显著降低脑刺激铂电极的术后阻抗。然而,前人很少系统地研究所得涂层的机械稳定性。在这项工作中,对Pt基底上由激光生成的铂纳米颗粒(PtNP)的脉冲直流电泳沉积,进行3D神经电极检测,并使用琼脂糖凝胶、胶带和基于超声的应力测试检查体外机械稳定性。EPD生成的涂层在琼脂糖凝胶测试以及体内刺激实验代表模拟大脑环境中高度的稳定。通过循环伏安法,对NP改性表面的电化学稳定性测试,多次扫描可以提高涂层稳定性,这可以通过高侵入性胶带应力测试后更高的信号稳定性来证明。通过激光剥蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)分析大鼠神经刺激后的脑切片。测量显示,与未涂覆的对照相比,涂覆电极刺激区域附近的Pt水平更高。尽管植入电极附近的局部浓度升高,但发现的总铂质量低于系统毒理学相关浓度。大鼠脑内4周DBS后Pt的生物分布:a)用无涂层和PDC涂层电极刺激的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像;和b)注射Pt-NPs的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像。比例尺为2mm。在叠加图片中,红色信号表示磷的强度,绿色信号表示铂的浓度。
低气压线性控制技术在防止同步辐射光源和原位透射电镜氮化硅薄膜窗口破裂中的应用
氮化硅薄膜窗口广泛应用于同步辐射光源中的扫描透射软X射线显微镜和原位透射电镜,但氮化硅薄膜只有几百纳米的厚度,很容易因真空抽取初期的快速压差变化造成破裂。为此,本文提出了线性缓变压力控制解决方案,即控制安装有氮化硅薄膜窗口的真空腔内的气压,按照固定的速度进行缓慢减压,从而实现氮化硅薄膜窗口的防止。同时本解决方案对以往的高精度控制方案进行了简化,简化为只用一只皮拉尼真空计和只控制电动球阀。
浪声界FRINGE在氮化硅陶瓷材料领域中的应用
氮化硅陶瓷因具有耐高温、耐腐蚀、耐磨性能和独特的电性能,而被应用于航天军工、机械工程、通讯、电子、汽车、能源、化工生物等领域。
粉末工程的革命—粉末型原子层沉积(PALD)设备选型
原子层沉积技术(ALD)是一种自限制性的化学气相沉积手段,通过将目标反应拆解为若干个半反应,实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点,对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。
氮化硅陶瓷微观缺陷EPMA表征
本文利用岛津场发射型电子探针显微分析仪对某氮化硅陶瓷制品内部缺陷的微观形态及微区元素分布情况进行了表征,并对缺陷成因进行了探讨,测试结果可为产品失效分析、质量控制及工艺优化提供科学指导。
一文了解粉末专用的原子层沉积方案(粉末包覆、材料改性))
Forge Nano 利用粉末 / 颗粒原子层沉积(PALD)技术在粉末表面构筑涂层,所制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点。使用 PALD 方法可以制备金属单质,金属氧化物,氮化物,硫化物,磷酸盐,多元化合物以及有机聚合物等涂层。
解决方案|ICP-OES法测定氮化硅中铁元素含量
一般测定微量金属元素含量的方法有原子吸收法、电感耦合等离子体发射光谱法、电感耦合等离子体质谱法等。电感耦合等离子体发射光谱法因具有检测限低、精密度好、准确度高且可同时测定多个元素等优点,而得到分析工作者的青睐。本文利用ICP-7760HP型全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)建立氮化硅粉末材料中铁元素的含量的方法,可供相关分析人员参考。
硬质涂层的力学测量
类金刚石涂层(DLC)是目前改善许多零部件机械摩擦和摩擦学性能最常用的涂层之一[1,2]。类金刚石碳项包括不同类型的涂层或薄膜,其结构由非晶碳形成。数据链路控制器的主要类型有• 无氢类金刚石(通常称为 a-C),• 四面体非晶碳(ta-C),• 氢化四面体非晶碳(ta-C:H)。作为 DLC 涂层的一部分,还包括含有少量掺杂剂(如金属)的非晶碳膜。DLC 涂层通常采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)的方法沉积,有时采用等离子体增强(PECVD)的方法沉积。DLC 薄膜的典型厚度在几个微米的范围内,尽管有些 DLC 薄膜可以薄到几十纳米。本应用报告总结了使用压痕、划痕、摩擦学和涂层厚度测量来完整表征 DLC 涂层的机械性能、附着力和厚度。
粉末原子层沉积的应用
粉末技术经过多年的发展,已经形成多样化的制备及加工技术。其中,表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段,长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同,粉末原子层沉积技术PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术,并保持良好的共形性。
热喷涂层划痕试验应用报告
热喷涂技术是利用热源将喷涂材料加热,以一定的速 度喷射沉积到基体表面形成涂层的方法。 与其他沉积技术相比,热喷涂技术可以在高沉积速率 下覆盖大面积并且提供更厚的涂层。 热喷涂层广泛应用于航空航天、汽车、海洋、重型机 械等多个领域,主要性能包括耐磨性、低摩擦、耐腐 蚀、改变导热系数和电导率等。 测试问题 熔化的材料液滴喷涂到基体表面,产生大量“饼 状"片层,在表面形成高度不均匀的涂层。 片层的大小以及不同的孔隙程度常被用来表征热喷涂 层。使用热喷涂技术形成的涂层具有独特的微观结 构,呈现出不同于基体材料的特性。 不同类型的热喷涂工艺(火焰、电弧、等离子体、高 速氧燃料和爆炸喷涂)会产生的不同结构,增加了材 料问题的复杂性。 涂层的耐用性和功能性在很大程度上取决于涂层内聚 力强度和涂层与基体的结合力强度。因此,在实际工 件上形成涂层并研究沉积技术、喷涂参数(如速度) 和基体表面制备是非常必要的。结论 划痕测试技术可以用来表征热喷涂层的内聚力和结合 力强度。通过试验就可以更深入地了解热喷涂层的强 度。 对涂层失效模式的研究和量化可以为研究人员改进涂 层生产工艺提供一些建议,如调整TS4的基体表面工 艺,TS1、TS2和TS3的喷涂技术参数等,来增加热涂 层的结合力和内聚力强度。 Retc Instruments致力于开发相关的测试手段来表征 热喷涂层。多功能摩擦试验机MFT5000也可对热喷涂 层进行摩擦磨损测试。划痕与摩擦学测试(磨损/摩擦 系数)结合的测试手段可以帮助研究人员对涂层及其 抗机械损伤能力有更完整的了解。关键词 • 热喷涂层 • ISO 27307 • 结合力/内聚力评估 • 截面划痕测试 • 结合力 • 机械测试
热喷涂层金相制备
热喷涂涂层金相热喷涂涂层的应用是为了改善基体材料的抗氧化、抗腐蚀、抗表面磨损和抗烧蚀能力。有涂层金属部件的准确表征要求对其显微组织进行金相检验。涂层的厚度范围从0.002至0.060英寸 (0.005至 1.5mm) 并用不同的喷涂技术和参数沉积到基底上。必须用金相制备技术准确地确定显微组织特性。由于一些涂层的脆性本质和孔隙的存在并在涂层构成了很不相同的硬度,在金相制备中总是有可能无法显示出真实的显微组织或引入假象,从而对涂层特性作出错误的诠释。
DLC/PVD/CVD等硬质涂层的硬度等机械性能测试
特殊的涂层工艺,如 DLC(类金刚石碳膜)PVD (物理气相沉积) 或 CVD (化学气相沉积) 对测量技术提出了挑战。极薄的涂层对测量提出了更高的要求,使得传统的显微硬度计无法对如此薄的涂层/薄膜的机械性能做出正确的测量。菲希尔(FISCHER)采用仪器化压入测试方法的自动化纳米压痕仪,可以对该类涂层的性能做出快速、准确的测量,十分适用于研发、质量控制、来料检验和过程控制等领域。
北京英格海德:CrN/AlN多涂层的高温氧化
实验报告的是通过二次离子质谱仪(SIMS)对CrN/AlN高温氧化物多涂层进行的深度剖析.涂层是通过一个封闭非平衡的磁电管沉积成的.氧化是在900度下进行2小时,在1100度下进行4小时.
粉末原子层沉积(PALD)技术与吸入式疫苗开发
有效的包衣涂层可以防止疫苗的活性成分受到环境因素影响,同时实现缓释功能,延长疫苗 的有效时间。制备涂层的方法有很多,但粉末原子层沉积技术(简称 PALD)作为一种精准 可控的纳米包覆技术,近年来被广泛用于新能源,催化,金属粉末的界面改性应用中,但鲜 有应用于药物粉末的研究。
且谈石墨负极沥青包覆的替代技术 —— 原子层沉积
Forge Nano 以其专有的原子层沉积技术实现基底表面可控的涂层材料原位生长。而如何对大规模的粉末材料进行 ALD 包覆,则是行业内的难题。Forge Nano 通过多年的技术积累,是目前掌握解决方案的企业。
优化基于杂化硅体系的防涂鸦涂层
空气污染或人为破坏如涂鸦会损害纪念碑等建筑结构。有一种解决办法就是利用包含交联剂聚硅氧烷和聚四氟乙烯乳的液形成无溶剂膜。通过形态、接触角、表面自由能等参数可以优化其比率寻找最佳保护涂层。
上海伯东 Europlasma 无卤素涂层设备实现助听器 IP68 等级防水
2021年 Europlasma 获得了丹麦知名助听器公司的追加订单, 提高了其在医疗设备纳米防水涂层 Hydrophobic nanocoating 市场的主导地位. Europlasma Nanofics@ 纳米涂层技术凭借其纳米涂层的灵活性, 高通量和可靠性正成为全球助听器市场的优质选择, 纳米涂层防护等级最高可达 IP68.
划痕试验研究硬质涂层结合力和内聚力强度应用报告
导言 硬质涂层与基体材料成分不同,通常用于硬化基材、 防腐蚀、减磨和防止与血液接触的材料发生凝血现 象等。这些涂层可以是氮化物(氮化钛,TiN),碳化 物(碳化钨,WC)或其他材料(类金刚石涂层,DLC)。 根据不同的应用,可选择不同的涂层制备工艺。测试问题 考虑到硬质涂层的性能,需对其内聚力强度和与基体 的结合强度进行表征。例如,一旦涂层表面出现裂 纹,涂层的耐腐蚀性能就会明显下降。医疗器械对 耐磨涂层与植入物的结合强度要求特别高,需要保 证涂层 “碎片"不会发生剥离而进入血液,威胁患 者的健康。 因为结合力不是材料固有性质,而是涂层/基体材料 系统对外加应力的反馈,所以很难得到量化表征。 划痕试验通过在样品表面产生应力,使涂层出现裂 纹或从基体分离,来研究涂层的内聚力和结合力强 度,为研究人员和工程师提供了便利。测试方法 在涂层待测区域上方,通过拖动已知形状的金刚石划 痕头来产生划痕(图1)。当划痕头沿样品表面移动 时,施加在顶端上的法向载荷线性增加,导致接触应 力增加,使接触条件更加恶劣。结论 划痕测试技术是一种有价值的区分涂层特性的工具。 划痕试验中产生的应力为涂层内聚力强度和涂层与基 体结合力强度提供了有意义的信息。三维图像(共聚 焦和亮场图像)与传感器信号的结合是先进的分析 涂层/基体性能的手段。
涂层光学晶片的自动分光光度空间分析
前言频繁且经济有效的光谱表征对于开发具有竞争力的光学薄膜涂层非常重要。完全自动化且无人值守的光谱测量有助于降低每次分析的成本、提高分析效率,还有助于扩展质保程序。在生产过程中,满负荷运转的沉积室中常会涂覆大面积、通常呈圆形的衬底晶片。高效的光学表征工具必须能够在晶片被切割之前从用户指定的晶片表面的特征点获得准确且有意义的信息。
上海伯东 Europlasma 疏水疏油涂层实现 TWS 蓝牙耳机 IPX8 级防水
上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子真空镀膜系统 PECVD, 利用低压等离子体沉积超薄纳米涂层, 实现产品的防水, 防腐蚀等功能, 现已广泛应用于 TWS 耳机行业, 例如 Apple, JBL, SONOS, Jaybird (Logitech) 等, 实现 IPX0 - IPX8 级的全方面防护.
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