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高能直流磁控溅射仪

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高能直流磁控溅射仪相关的耗材

  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 热电赛默飞原子吸收光谱仪原装进口强度高能量长寿命编码/非编码空心阴极灯
    热电赛默飞原子吸收光谱仪原装进口强度高能量长寿命编码/非编码空心阴极灯热电赛默飞原子吸收光谱仪原装进口强度高能量长寿命编码/非编码空心阴极灯热电赛默飞原子吸收光谱仪原装进口强度高能量长寿命编码/非编码空心阴极灯北京龙天韬略科技有限公司代理销售美国赛默飞 热电ThermoFisher光谱耗材配件,色谱耗材、包括热电长寿命石墨管、美国热电涂层石墨管、热电标准石墨管、美国热电编码元素灯、美国热电非编码元素灯、多元素复合空心阴极灯、美国热电进样杯、美国热电雾化器、美国热电进样泵管、美国热电废液泵管、美国热电泵油、美国热电进样针、美国热电样品杯、美国热电矩管、美国热电中心管、ICP雾化器、美国热电蠕动泵、美国热电O型圈等美国赛默飞世尔 热电原子吸收光谱耗材全线产品。美国热电空心阴极灯采用了高标准精心制造。得益于美国热电经久的设计和制作经验。每一支灯具都经过严格的测试,确保可满足最严苛的要求。所有空心阴极灯都经过严格测试,以确保最大光输出、高强度、高稳定性和光谱纯度标准。精心的设计使得本空心阴极灯具有灵敏度高、光输出稳定、低噪音和长寿命等特点,可令您放心地获得您所需要的检测结果。美国热电空心阴极灯的使用维护注意事项: 1.使用时不得超过最大额定电流,否则会使阴极材料大量溅射、热蒸发或 阴极熔化,寿命缩短,甚至发生**性损坏 。 2.每隔3~4个月,应将不常用的灯,通电点燃2~3小时,以保证灯的性能,延长其寿命。 3.使用一段时间后灯会老化,导致发光不稳,光强减弱,噪声增加。在这种情况下可用激活器加以激活,或把灯的极性反接, 在规定的最大电流下点燃30分钟,多数灯的性能可以恢复。 4.取放或拆卸等时,应拿灯座,不要拿灯管。
  • 金靶溅射靶材Au
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 镍靶溅射靶材Ni
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:镍靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金钯合金靶Au/Pd溅射靶材
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金/钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 流式细胞仪滤光片
    流式细胞术是基于激光的,用于分析细胞或颗粒特征的技术。在流式细胞仪中,通常需要在激光器前边放置对应的窄带滤光片用来滤除激光的光谱噪音。在多激光系统中,需采用UltraFlat 系列二向色镜用于激光的合束,以保证反射后激光的光束质量不发生改变。在信号接收光路,检测器前边的发射片需要在激光谱线处具有至少OD6 的截止深度,从而更好的滤除激发噪音,提高信噪比。另外,发射片的中心波长和带宽需要仔细选择,以保证将相邻通道的串色降至最低。针对流式细胞仪,提供基于磁控溅射镀膜工艺的激光窄带滤光片,荧光带通滤光片和UltraFlat 系列超平二向色镜和超平反射镜,具有高透过率、高截止深度或高反射率以及高平整度的特点。技术指标镀膜工艺磁控溅射镀膜/ 硬镀膜透过率92% - 99% (Vis-NIR)截止深度激发和发射片:OD5 - 6反射率二向色镜 97%光谱陡度激发片/ 发射片: 1%二向色镜: 2%损伤阈值1.75J/cm2 @ 532 nm, 10 ns, 10 HZ平整度合束二向色镜:尺寸和厚度可加工不同规格金属外圈可选(2.3 mm, 3.5 mm 或5 mm)激光窄带滤光片典型谱图1. 入射光为平行光时,激光窄带滤光片可用于侧向散射光的接收;2. 若侧向散射光为非平行光,请联系我们讨论具体方案。 荧光带通滤光片和分光二向色镜在流式细胞术中,基于信噪比和串色的考虑,不同的染料组合对应不同的滤光片选型,请联系我们讨论具体的方案细节。以下是荧光带通滤光片和分光二向色镜的典型谱图。
  • UltraFlat 超平二向色镜
    二向色镜采用磁控溅射镀膜技术,具有高膜层致密度,优异的光谱特征和环境耐受性的特点。但磁控溅射镀膜会对基底产生较大的应力,导致基底具有一定程度的弯曲。在激光类的应用中,若二向色镜具有一定的曲率半径,反射后的激光会变成发散光或汇聚光,导致光束质量变差,从而影响实验的结果或仪器的性能。另外,在反射成像的光路中,二向色镜的平整度是决定反射光路图像质量的关键因素。具有专利的控制二向色镜平整度的工艺,能够消除膜层应力的影响,可根据不同应用的需求,提供不同平整度的二向色镜 (UltraFlat 系列 )。UltraFlat 系列基底厚度表面平整度 典型应用UF11 mm共聚焦,双光子,CARS/SRS,流式细胞等UF2 2 mmTIRF, PALM, STORMUF33 mmSTED, 结构光照明/= 5 mm定制化应用
  • Chroma 荧光/拉曼/激光/机器视觉 滤光片
    美国 Chroma滤光片Chroma专门从事高精度光学镀膜,致力于生产精确波谱控制,高信噪比,陡斜率的滤光片,波谱范围从紫外到近红外包括带通,多波段带通,长通,短通,陷波,二向色镜等。目前是Nikon, Zeiss, Leica和Olympus的主要供货商,同时也是许多其他生物类仪器,医疗仪器,药物研究,机器视觉,天文和激光类仪器厂家的供货商。滤光片分类1)激发滤光片 (Excitation Filter)2)发射滤光片 (EmissionFilter)3)二向色镜 (DichroicMirror)应用1、荧光应用Chroma磁控溅射镀膜滤光片具有高透过高阻挡,零漂移的特点。能够得到准确真实的图像。磁控溅射镀膜 VS 软镀膜Chroma FISH滤光片根据不同染料谱图进行优化,实现最佳的对比度这度,颜色区分和图像配准。2、激光应用Chroma用于TIRF的UltraFlat™ 向色镜(厚度≥2mm),结合Chroma专利产品TIRF滤块盒,能够保证产生理想的渐逝场,不会激发渐逝场外之外的荧光分子。Chroma的UltraFlat™ 二向色镜能够最小化激光经反射后产生的波前扭曲。3、拉曼应用 RET532/4x (EX) 、RT532rdc (BS)、RET537lp (EM)● 窄带激发片● 斜率更陡的二向色镜● 斜率更陡的长通发射滤光● 低波数Raman信号检测(110-170 cm~1) UV, 488 nm, 532 nm, 785 nm等激光。4、机器视觉● 磁控溅射镀膜● 高透过(≥95%)● 高阻当(OD6)● 陡斜率● 尺寸:2-200 mm 圆形,方形及不规则尺寸 ● 波谱范围 (200-3500mm)● 接受客户定制
  • 高能皮秒和飞秒超快反射镜
    高能皮秒和飞秒超快反射镜&bull 在 DWL 具有很高的激光诱导损伤阈值&bull 对 S 偏振和 P 偏振具有高反射率&bull 非常适用于高能超快激光应用&bull 还提供TECHSPEC® 高性能低 GDD 超快反射镜通用规格镀膜类型: Dielectric入射角 (°):45基底:Fused Silica (Corning 7980)产品介绍高能皮秒和飞秒超快反射镜具有业界领先的实测激光诱导损伤阈值 (LIDT),并且对 S 偏振和 P 偏振均具有高反射率。多层介质镀膜专为实现最小群延迟色散 (GDD)、高反射率和高激光损伤阈值而设计,因此这些反射镜非常适用于高能皮秒和飞秒超快脉冲的光束传输。注意: 如需定制波长、角度与尺寸,请联系我们。 订购信息波长范围 (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码241 - 271 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.104511-734241 - 271 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.104511-735320 - 370 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.104512-463320 - 370 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.10 4512-464320 - 370 50.80 +0.00/-0.109.52 ±0.1045 12-465500 - 530 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.204512-8341000 - 1100 25.40 +0.00/-0.0512.70 ±0.054515-961
  • 密封装置
    密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件,安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径:19.2mm
  • 不锈钢弯头
    产品简介:不锈钢弯头共2个接口,两接口为90°垂直且共面分布,主要用于连接真空腔室与相关配件。 产品型号 不锈钢弯头主要特点 1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、接口可根据用户要求改制。技术参数 接口:2个KF40 接口
  • 加热台
    产品简介:加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。
  • PVD高纯溅射靶材
    这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料,完全在德国生产,拥有世界一流的产品性能,非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9
  • Smart ARK 高能多次反射型 HATR 套件 | 0031-297
    Smart ARK 高能多次反射型 HATR 套件Thermo Scientific™ Smart ARK 是一款稳定、耐用的高能多次反射型 HATR。Smart ARK 是研究和分析测验实验室的理想选择。由于无需进行样品制备,Smart ARK 非常适合准确的定量、定性分析。其高性能源于高光学收集效率和独特的专利型晶体设计。多次反射晶体特别适合分析需要高灵敏度的低浓度样品。Smart ARK 可提供多种晶体和角度,具有加热和流通选项,功能非常广泛,可满足多种分析需求。描述专利型晶体设计使晶体板能够快速变换,无需重新进行光学校准可提供槽型晶体板和平板晶体板,以适应特定样品分析:槽型晶体板非常适合液体、糊状物和胶类物,平板晶体板非常适合固态膜晶体板涂有聚四氟乙烯,可以改善耐化学性,防止板表面褪色压力器件已经过优化,可以减少晶体因压力太大或不均而出现的破裂情况晶体设计可确保每次测量的可重现性和可靠性,在配备多台光谱仪的实验室之间转移分析方法时这一点尤为重要晶体板可以提供合适的角度和材料,产生 0.6 微米至 45 微米的有效光程晶体材料几乎适用于所有 pH 范围的样品规格晶体材料:硒化锌(标准)、锗(可选)、硫化锌(可选)、AMTIR(可选)入射角:45 度(标准)、30 度、40 度、50 度、55 度、60 和 70 度(可选,取决于材料)反射次数:12 (采用标准的 45 度入射角)光程:大约 12 微米样品容量(槽型):1.0 毫升加热选项:样品分析温度范围(环境温度至 100° C)流通选项:适用于自动液体分析热力选项样品可加热到的温度范围:环境温度至 100 °C,精确度为 ±1° C包括一套不导热手柄,安装于槽形采样板上隔热,可最大限度减少传输至样品仓的热辐射Smart ARK 可提供多种晶体和角度,具有加热和流通选项,功能非常广泛,可满足多种分析需求。推荐用途:液体固体半固体粉末定量和定性测量 订货信息:货号类型适用于0031-297Combination Plate KitNicolet Antaris0031-299Combination Plate KitNicolet Nexus0031-397Flat Plate KitNicolet Avatar0031-397TTrough Plate KitNicolet Avatar0031-399Flat Plate KitNicolet iS10 and Nicolet iS500031-399TTrough Plate KitNicolet iS10 and Nicolet iS5000313XXTSmart ARK Trough Plate KitNicolet FT-IR Spectrometers00313XXSmart ARK Flat Plate KitNicolet FT-IR Spectrometers0031-298Combination Plate KitNicolet X700 Series
  • 密封装置
    产品简介:密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件,安装孔径为19.2mm。 产品型号 密封装置主要特点 1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数 安装孔径:19.2mm
  • 四通阀
    四通阀包含3个接口、1个阀门,呈垂直且共面分布,其中2个KF40接口、1个KF25接口(可根据用户要求改制),主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。主要特点可用于高真空腔室。技术参数 1、接口:2个KF40、1个KF25 2、阀门:1个
  • Smart ARK 高能多次反射型 HATR 附件| 0031-602
    Smart ARK 高能多次反射型 HATRThermo Scientific Smart ARK 是一款稳定、耐用的高能多次反射型 HATR。Smart ARK 是研究和分析测验实验室的理想选择。 由于无需进行样品制备,Smart ARK 非常适合准确的定量、定性分析。 其高性能得益于获得专利的独特晶体设计和高光收集效率。 在分析需要高灵敏度的低浓度样品时,多次反射晶体的效果也非常好。 Smart ARK 适用于多种晶体和角度,具有加热和流通选项,功能非常广泛,可满足众多分析需求。描述采用获得专利的晶体设计,可快速转换晶体板,无需重新校准光束晶体板有槽形和平板形两种,可以满足特定样品分析需求: 槽形晶体板适用于液体、糊状物和胶类物,平板晶体板适用于固态膜晶体板涂有聚四氟乙烯,可以改善耐化学性,防止板表面褪色压力器件已经过优化,可以减少晶体因压力太大或不均而出现的破裂情况晶体设计可以确保各次测量的重现性和可靠性,在使用多个光谱仪的实验室间转换分析方法时,此特性非常重要晶体板可以提供合适的角度和材料,产生 0.6 微米至 45 微米的有效光程长度晶体材料几乎适用于所有 pH 范围的样品SpecificationsCrystal Material: 硒化锌(标准)、锗(可选)、硫化锌(可选)、AMTIR(可选)Angle of Incidence: 45 度(标准)、30 度、40 度、50 度、55 度、60 和 70 度(可选,取决于材料)Number of Reflections: 12 (带有标准的 45 度入射角)Pathlength: 大约 12 微米Sample Volume (trough): 1.0 毫米Heated Option: 样品分析温度范围(环境温度至 100° C)Flow-through Option: 适用于自动液体分析Thermal Option样品可加热到的温度范围:环境温度至 100° C,精确度:±1° C包括一套不导热手柄,安装于槽形采样板隔热型,将辐射到样品室的热量降至最低液体固体半固体粉末定量、定性测量订货信息:货号类型0031-602槽形板0031-603槽板0031-605槽板0031-612槽板0031-613槽板0031-615槽板0031-643槽板0031-645槽板0031-653槽板0031-702平板0031-703平板0031-705平板0031-713平板0031-714平板0031-715平板3007-098Volatile Cover/Powder Press0031-250压力设备?
  • 四通阀
    产品简介:四通阀包含3个接口、1个阀门,呈垂直且共面分布,其中2个KF40接口、1个KF25接口(可根据用户要求改制),主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。 产品型号 四通阀主要特点 可用于高真空腔室。技术参数 1、接口:2个KF40、1个KF25 2、阀门:1个
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
  • 不锈钢弯头
    不锈钢弯头共2个接口,两接口为90°垂直且共面分布,主要用于连接真空腔室与相关配件。主要特点1、可用于高真空腔室,如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、接口可根据用户要求改制。技术参数接口:2个KF40 接口
  • 高能量脉冲Nd:YAG激光器
    LPY600/700 系列 高能量脉冲Nd:YAG激光器特点:能量可达2J重复频率可达200Hz双折射补偿的双棒结构坚固的工业设计光束均匀性高应用:染料激光器泵浦OPO泵浦光谱学LIBSLIDARPIVLPY系列脉冲激光器可是应用于几乎任何需要高能量高规格Nd:YAG激光器的工业和研究领域。基于完全自承重殷钢轨道,LPY系列具有优异的机械性能和热稳定性。激光头的模块化设计接受各种谐振腔配置,单棒振荡器、全双折射双棒振荡器、双棒放大器。稳腔、稳定的望远镜腔或非稳高斯谐振腔可选,允许客户定制满足要求的系统。注入种子激光可以作为选件添加到任意LPY系列激光器中。配置SLM种子激光和适当的电子控制可以实现输出线宽为0.075px-1的高斯耦合谐振腔和线宽为0.04px-1真正的TEM00谐振腔。通过Litron的超稳压电驱动后腔镜锁定,可实现长期稳定的高能量SLM输出。所有选件如倍频发生器,衰减器等可用。LPY600激光器是振荡器或振荡器放大器系统,振荡器和放大器都是单棒结构。这些主要用于低重频(最高30Hz)和中等功率输出。LPY700激光器是振荡器或振荡器放大器系统,振荡器和放大器是双折射补偿的双棒结构。这种方式可以得到非常高的光束均匀性。这使LPY700系列在重复频率高达200Hz时,在高光束均匀的情况下,具有高输出能量。所有的LPY激光器都可以配置一个可选的注入种子激光实现SLM输出。(1)Higher conversion efficiency into 3rd harmonic available using Type 1 douber(2) Full angle for 90% of the output energy.(3) Full angle.(4) Typical lifetime.(5) Jitter is measured with respect to the Q-switch trigger input?
  • 45° AOI 超快啁啾反射镜
    45° AOI 超快啁啾反射镜&bull 具有高反射率和负群延迟色散 (GDD)&bull 非常适用于在 45° AOI 时进行散射补偿和光束压缩&bull 专为飞秒激光(包括 Ti:sapphire)而设计通用规格典型应用:Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast LasersWedge (arcmin):10有效孔径 (%):80后表面:Commercial PolishDWL时的反射 (%) :99.8涂层规格:Ravg 99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)GDD Specification:-70fs2 @ 725 - 1000nm (P-Polarization)波长范围 (nm):725 - 1000Irregularity (P-V) @ 632.8nm:λ/10镀膜类型:Dielectric涂层:Ultrafast Chirped (725-1000nm)设计波长 DWL (nm):800厚度 (mm):6.35 ±0.2入射角 (°):45基底:Fused Silica (Corning 7980)Damage Threshold, By Design:0.2 J/cm2 @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter产品介绍45° AOI 超快啁啾反射镜专为在光束传播过程中以 45° 入射角对超快光束进行压缩或散射补偿而设计。这些超快反射镜采用已进行优化的多层磁控溅射镀膜,可在 725 到 1000nm 波长范围内提供负群延迟色散 (GDD) 和高反射率。此外,它们采用的激光等级基片具有很高的表面质量,可最大限度减少光散射,同时具有很低的不规则度,因此反射的超快脉冲可以保持其光学功率和强度。45° AOI 超快啁啾反射镜非常适用于在光束传输过程中对飞秒激光(例如 Ti:sapphire)的超快脉冲进行脉冲压缩和散射补偿。若您的应用需要具有自定义角度、尺寸或设计波长的超快啁啾反射镜,请与我们联系。订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码725 - 1000 800 12.70 +0.00/-0.106.35 ±0.24512-420725 - 1000 800 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.24512-421
  • 贵金属溅射靶材(金靶铂金靶)
    金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材,有金靶、铂靶(白金)、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器,Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm,厚度在0.05-6mm之间的厚度靶材,需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材(4-304.8mm之间)。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号( AP60/40)直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0
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