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高容量专用刻蚀系统
仪器信息网高容量专用刻蚀系统专题为您提供2024年最新高容量专用刻蚀系统价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括高容量专用刻蚀系统参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的高容量专用刻蚀系统您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合高容量专用刻蚀系统相关的耗材配件、试剂标物，还有高容量专用刻蚀系统相关的最新资讯、资料，以及高容量专用刻蚀系统相关的解决方案。
高容量专用刻蚀系统相关的方案
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现，铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样，成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台，在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能，IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究
重庆某研究所在在氮化硅刻蚀工艺研究中采用 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE.针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损失的问题, 为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比, 采用 CF4, CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅, 通过调整气体流量比, 腔内压强及功率, 研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.
等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻（ALE）是一种技术允许每次精确除去一个原子层，是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
随着微纳制造技术的发展，软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS（聚二甲基硅氧烷）作为一种常用的软刻蚀材料，其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点，为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
上海伯东 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀
某半导体公司为了去除晶圆反应表面产生的反应产物, 进而提高反应效率, 同时提高晶圆的均匀度, 采用 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀.
使用GC-MS自动浸入式大容量吸附萃取技术分析增强伏特加酒的香气
这项研究显示了使用高容量HiSorb探针进行浸入式吸附萃取的优势，用气相色谱-质谱法（GC-MS）分析伏特加中的多种香气化合物。主要优势包括全自动的Centri多模式采样和浓缩系统，再收集（可在不同条件下重复分析单个样品）以及乙醇的选择性净化。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度
衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展，对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用，为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
岛津AXIS Supra具备全自动传样系统，样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪，单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析，低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析，20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析。
上海伯东 IBE离子束刻蚀（离子铣）基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中，刻蚀（Etch）是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分，以化学反应或物理作用的形式加以去除，完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀（Wet Etching）和干刻蚀（Dry Etching）。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺，即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后，将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种：PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器（MEMS）加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器，用于监测土壤的力学结构变化，一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工，Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层，在完成镀膜（溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam）用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题，刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子（光刻胶）材料被广泛的应用于工业处理，如电子器件和刻蚀。他们对光敏感，并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板
本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700，确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合，提高了实验效率和准确性。
上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀
深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主
上海伯东KRI离子源在半导体材料中的预清洗及刻蚀应用
半导体材料（semiconductor material）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩcm～1GΩcm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料，是科学研究的重要材料。本文主要介绍上海伯东KRI离子源在半导体材料SiO2中的预清洗及刻蚀应用。
食品类巧克力的含水量检测应使用库仑法还是容量法水分仪
实验结果表明，AKF-2010V卡尔费休容量法水分测定仪在消耗1ml以上试剂即可使RSD小于1%，在使用20ml定量管的前提下测试同类样品，此指标已经超过部分进口同类产品。
可睦电子(KEM)：容量法卡氏水分测定仪测定石油产品中水分含量
容量法卡氏水分测定仪测定石油产品中水分含量使用日本京都电子公司(KEM)-容量法卡氏水分测定仪(MKA-610/MKA-520/MKS-500),测定石油产品中水分含量的应用资料。
容量法卡尔费休水分仪MKA-520测定糖果中水份含量En
应用日本京都电子公司(KEM) MKA-520容量法卡尔费休水分仪测定糖果中水份含量 的 应用资料实例。因为糖果，巧克力 有固体和液体的形态，所以要加配ADP-344-糖类专用滴定池加热装置
通过肽分析专用反相分析法评估HPLC、UHPLC和UPLC系 统的性能
以HPLC、UHPLC和UPLC系统为对象，通过评估分离度和容量比较了低扩散LC系统的性能改进。计算了各系统的柱外谱带展宽，UHPLC(Arc Bio系统)和UPLC(H-Class Bio系统)平台的计算结果与预期相同，远小于HPLC系统(Alliance)。利用肽分析专用反相梯度方法举证说明低扩散系统的作用，证明了三种不同LC平台间分离度和峰容量的提升。无论是复杂分析物的常规分析还是方法开发，都需要注意仪器平台之间的性能差异，这样才能够为生物分子的分析提供适合的解决方案。
NexION ICP-MS 系统专用Syngistix 单细胞应用软件模块
在评估细胞对药物、环境污染物、营养物质和/ 或纳米粒子的摄入行为时，检测单细胞中的金属元素可以为了解细胞机理提供一种全新有效的方法。传统的做法是溶解大量的细胞，假定细胞群中的每一个细胞包含等量的金属，从而量化细胞中的金属含量，或者利用光学或电子显微镜为细胞中的金属成分定性。这些方法不仅耗费时间，而且只能表征细胞群中的一小部分细胞。珀金埃尔默公司的技术人员将实际检测数据和数学模拟相结合，开发出了一套专利的单细胞进样系统和专用软件——Syngistix ™ 细胞应用软件模块。该应用软件模块是实验室分析细胞金属含量的理想工具，包括分析细胞的金属摄入行为（金属离子或纳米颗粒）以及测量细胞的内在金属含量。这款独特的应用模块可以区分同一种待测元素在细胞外部和细胞内部的含量，并对其进行量化。我们无需进行后续数据处理就可以在单次分析中测定下列信息：每个细胞中金属的含量、细胞群落中的金属含量分布、含金属或纳米颗粒的细胞浓度和每个细胞的纳米颗粒数量。配合NexION 系列ICP-MS 仪器，Syngistix 单细胞应用软件模块是世界上第一款单细胞ICP-MS 专用分析软件，在速度、功能、自动化和易用性等方面均首屈一指。
喜瓶者洗瓶机颗粒油性残留/容量瓶解决方案
喜瓶者洗瓶机颗粒油性残留/容量瓶解决方案样品现状：颗粒油性残留/容量瓶目的：为满足用户玻璃仪器残留物清洗使用玻璃器具清洗机清洗方案，确保清洗机可满足用户要求，进行的清洗测试。试洗机型：喜瓶者洗瓶机Aurora-F2系列：双层款，可同时清洗1、25ml容量瓶144个2、100ml容量瓶42个+进样小瓶238个3、培养皿168个4、移液管238个6、进样小瓶476个
颗粒计数器专用洁清洗剂的应用
颗粒计数器专用清洗剂：让仪器焕然一新在实验室中，颗粒计数器是不可或缺的重要仪器。然而，长时间使用后，仪器内部容易积累各种颗粒和污垢，影响测量的准确性和稳定性。此时，一款高效的颗粒计数器专用清洗剂就显得尤为重要。它不仅能彻底清洁仪器内部，还能保护仪器，延长使用寿命。使用时，只需按照说明将清洗剂倒入仪器，按照正常程序进行清洗即可。清洗后，仪器焕然一新，测量结果更准确。再也不用担心仪器污垢问题，让实验更高效、更准确。选择颗粒计数器专用清洗剂，让您的仪器始终保持最佳状态！
可睦电子(KEM)：电量法卡氏水份测定仪连接油类专用水份蒸发器测定润滑油的水份含量
电量法卡氏水份测定仪连接油类专用水份蒸发器测定润滑油的水份含量使用日本京都电子公司(KEM)-电量法卡氏水份测定仪(MKC-520)，连接油类专用水份蒸发器(ADP-513)，测定润滑油水份含量的应用资料。
便携式多参数水质检测仪是一种什么样的仪器？
XY-800s水质检测系统采用高强度防水手提安全箱一体化设计，360°旋转检测模块，双温区消解模块，微电脑智能系统，彩色液晶触摸屏，进口光源，进口检测传感器，内置高容量锂电池，仪器性能稳定、测量准确、测定范围广、功能强大、操作简单.
容量法卡氏水分测定仪测定石油产品中水分含量
容量法卡氏水分测定仪测定石油产品中水分含量使用日本京都电子公司(KEM)-容量法卡氏水分测定仪(MKA-610/MKA-520/MKS-500),测定石油产品中水分含量的应用资料。
NexION+HTS痕量级检测满足高通量需求
本文介绍了高通量系统(HTS)的设计初衷，这种高容量进样模块能与NexION® ICP-MS和Syngistix™ 软件无缝集成，在不影响检测限、检测准确性和可重复性的前提下，使样本间分析的速度加快五倍。
内置电池手持式不透光烟度计测柴油车不透光N和消光系数K
内置电池手持不透光烟度计，机身自带240WH高容量电池，至少可持续使用4小时；主机与平板通过无线wifi连接，微型打印机采用无线蓝牙通信，便于现场应用；操作简便，携带方便，适用于柴油发动机、柴油车及非道路移动工程机械等。
上海伯东 KRi 大面积射频离子源应用于 12英寸,8英寸 IBE 离子束蚀刻系统
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大面积射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 刻蚀均匀性（1 σ）达到
可睦电子(KEM)：卡尔费休容量法水分滴定仪测定涂料中水分含量
卡尔费休容量法水分滴定仪测定涂料中水分含量使用日本京都电子公司(KEM)-卡尔费休容量法水分滴定仪(MKA-520)，测定涂料中水分含量的应用资料。
喜瓶者洗瓶机猫客得力记号笔残留100ml容量瓶解决方案
喜瓶者洗瓶机猫客、得力记号笔残留/100ml容量瓶解决方案样品现状：猫客、得力记号笔残留目的：为满足用户玻璃仪器残留物清洗使用玻璃器具清洗机清洗方案，确保清洗机可满足用户要求，进行的清洗测试。试洗机型：喜瓶者洗瓶机Aurora-F2系列：双层款，可同时清洗1、25ml容量瓶144个2、100ml容量瓶42个+进样小瓶238个3、培养皿168个4、移液管238个6、进样小瓶476个
使用自动化的色谱柱和溶剂选择阀在一台液相色谱系统上切换七种应用
本应用简报介绍了 Agilent 1290 Infinity II 液相色谱仪在食品分析中使用不同方法（不同固定相和流动相）的七种不同应用的自动化操作。色谱柱的切换由所用方法控制。所有色谱柱均位于同一个 Agilent 1290 Infinity II 高容量柱温箱中。根据该方法，将 Agilent 1290 Infinity II 全能泵连接至两个外部溶剂选择阀，用于自动切换溶剂。
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