高分辨率辉光放电质谱

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现： 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率； 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成； 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

SYNAPT XS高分辨率质谱仪没有研究，就制定的决策，容易是盲目的在科研领域，研究进展缓慢和成本不断上升俨然已成为一项挑战。SYNAPT XS质谱仪具有极致灵活性，可提供更大的选择自由度，能够打破这些壁垒，支持任何应用的科学创新和技术成功。 • 创新技术作为基石，提供最优异的分析性能• SONAR和HDMSE提供一套独特的工具包，用于解析复杂混合物• 离子淌度功能大大增加了峰容量和分析选择性• CCS测量可提高化合物鉴定的准确性创新技术提供最优异的分析性能凭借沃特世高级质谱“SELECT SERIES”传承下来的技术基石，内置先进的创新技术，确保使用该平台的科学家处于质谱分析的最前沿，同时维持SYNAPT的易用性和成熟的客户端工作流程。StepWave XS重新设计的分段四极杆传输光学元件，提升棘手化合物的分析灵敏度，同时进一步提高分析稳定性。Extended ToF 针对最复杂的样品，提供兼容UPLC的质量分辨率、耐受各种基质的动态范围和定量分析结果，同时提供卓越的性能指标。更大的分析选择自由度为有效解决固有难题，分析人员对各种分析策略的需求不断增加，因此，SYNAPT XS将高性能与极致灵活性相结合。竞争对手的系统大多存在入口选项有限、扫描功能局限性或需要多个平台等问题。与之相比，只有沃特世能够提供全方位的高性能LC-MS解决方案，该方案经过专门设计，能够提供更大的分析选择自由度以支持科学研究。SONAR和HDMSE提供了一套独特的工具包，用于解析复杂混合物完整的分析策略需要结合适当的互补技术才能得到更全面的数据信息。借助SYNAPT XS上基于SONAR和IMS的非数据依赖型采集(DIA)操作模式，分析人员能够利用互补机制，以独一无二的方式解析复杂混合物。两种类型的采集均提高了分析峰容量，提供“清晰明了”的碎片数据，但它们基于不同的分子特性。这提供了一种真正独有的研究工具包，适用于深入解析复杂混合物。离子淌度和CCS测量传统质谱仪基于m/z分离组分。SYNAPT XS还支持在离子淌度实验中，使用分子大小、形状和电荷作为其碰撞截面(CCS)的函数，对分子进行分离。 除离子淌度能提供额外的分离维度、增加峰容量和分析选择性以外，CCS测量还可提供额外的分子标识。离子CCS的测量结果有助于确定离子名称或研究其结构。运用离子淌度技术，显著提高了科学家分析复杂混合物和复杂分子的范围和可信度。CID与ETD碎裂功能TriWave的双碰撞室结构可进行碰撞诱导解离(CID)和/或电子转移解离(ETD)碎裂，且分辨率高、质量测定准确，能够拓展MS/MS检测能力。 高解析度四极杆包括4 KDa、8 KDa或32 KDa质量数范围，适用于从小分子到大分子的MS/MS分析TAP碎裂时间校准平行(TAP)碎裂是T-Wave IMS设计所独有的采集模式。它使用户能够利用TriWave配置，允许将IMS前T-Wave和IMS后T-Wave作为两个单独的碰撞室运行。得到的CID-IMS-CID仪器操作有助于对组分进行超高可信度的结构表征。TAP碎裂与传统MSn或MS/MS技术相比，具备卓越的碎片离子覆盖率、灵敏度和准确性，在构建完整结构方面有着不容置疑的优势。

Thermo ScientificTM Ultra高分辨率同位素比质谱仪彻底改变了特殊位点的测定和分子耦合同位素比的分析方法。在气候研究、生物化学过程、法医学、石油和天然气勘探等方面，Ultra 质谱仪能够提供很多新的科学发现。Ultra 高分辨率IRMS，通过不断地技术创新，开启了同位素测量的新的发展潜力。● 高质量分辨率双聚焦扇形磁场质量分析器，采用可切换入射狭缝，可根据方法设定自动选择高、中和低的分辨率，在高分辨模式下，能将甲烷中质量数为17的13CH4+、12CH3D+ 、14NH3+、12CH5+和13CH4+有效分开。● 可变的接收器阵列，可根据应用安装多个法拉第杯和离子计数器。●轴向二次电子倍增器(SEM) 配备了我们专有的RPQ 阻滞透镜，可达到终极的丰度灵敏度，因而可以分析极小的信号。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最jia工具。ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：- 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率；- 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成；- 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

GDA Alpha采用最新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。 GDA Alpha装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨率和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA Alpha具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA Alpha也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA Alpha装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm，可适应多种类型的样品分析，方便快捷。应用 热处理-精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%辉光放电光谱仪主要应用领域 汽车制造及零部件 金属加工、制造 冶金 航空、航天 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等 电镀 光伏电池、锂电 科学研究激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析金属薄膜、热处理层。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%.外观尺寸675mmx390mmx950mm重量约95kg

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性 高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-电镀 测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗OL/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1380mmx1440mmx890mm重量约580kg

GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力， 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。 采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。 激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率 -专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um -完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM) -Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节 真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析 -光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵-选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代 WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1250mmx1440mmx650mm重量约210kg

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度高，轻元素重元素均可。 GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性：· 高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。· 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。· 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。· 低至亚ppb级的定量数据。· 具有深度剖面同位素比值分析能力。· 最少的样品制备过程。

功能强大且灵活的仪器，用于日常质量控制GDA 150 HR和GDA 650 HR GDOES光谱仪是用于质量控制和研究的强大工具，旨在处理全天候工作，同时保持良好的可维护性。GDA 150 HR主要用于研究您的导电样品，在分析性能方面丝毫不逊于其兄弟GDA 650 HR。GDA 650 HR还可以分析非导电样品。GDA 150 HR辉光放电质谱仪GDA 150 HR是一款稳定的温度稳定的CCD光谱仪，用于生产区域的深度剖面和平均分析。例如，它针对中小型热处理和涂层公司的需求量身定制 为了在扩散过程之后测试表面， 为了研究电镀涂层工艺， 为了通过PVD或CVD分析硬涂层， 用于评估热镀锌和其他类型的镀锌， 用于导电材料的内容分析 或用于基材进货检验。GDA 150 HR适用于所有导电基体。甚至可以分析轻元素，如C，N和H（也可以选择O）。借助通用测量室，可以直接测量非平面表面，如管道或球体。仪器的简单操作和分析的短测量时间允许在生产过程中进行快速干预，以纠正任何错误 - 这是其他方法的重要优势。高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件的优势：通道选择灵活 - 可为未来应用扩展。

我们分析系统的高端产品系列GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品GDA 750 HR通过光电倍增管可检测多达79个可能的元素通道，GDA 750 HR辉光放电光谱仪是您的具有挑战性的应用的理想光谱仪。它提供了大的灵活性，佳的检测限和分析精度，即使是薄的层。可选的高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件扩展了GDA 750 HR的功能，能够将几乎无限数量的元素通道集成到您的分析工作中。GDA 750 HR的特点：GDA 750 HR配备了一个可以无碳氢化合物测量的涡旋泵。GDA 750 HR标准设备还包括一个高频辉光放电源。这也允许分析不导电的样品。使用等离子体干扰可以更容易地分析难以刺激的样品。GDA 750 HR的应用领域从热处理到镀锌到复杂的多层系统。由于PMT的快速数据采集，也可以检测到低于100nm的层测量深度达200微米具有快速数据采集的深度剖面，即使对于非导电层（如几纳米厚度的氧化物）也是如此所有金属和金属合金的含量分析分析非导电样品，如陶瓷，玻璃或漆涂层校准曲线的线性可以测量弯曲甚至形状异常的样品。

AstruM ES是一台双聚焦辉光放电质谱仪，一次扫描就可以测定从亚ppb到基体之间所有元素的含量。它被广泛地应用在高纯金属，半导体材料，航空航天材料的杂质检测。

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的辉光放电光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷采用RF光源可精确可靠的测量-电镀测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分精确测量化学元素含量高精度、高重复性检测快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究

GD-OES8000辉光放电光谱仪产品介绍：技术参数：功能方式：DC或RF；波长范围：120-800nm；光谱分辨率：18pm-25pm； 深度分辨率：1~2nm；溅射速率：＞1μm/min；深度剖析的范围：1nm~200μm；焦距：998.8mm元素通道：48探测器：光电倍增管PMT性能特点： 有着较低的检出限。 能够逐层检测样品表面。 十几个元素的含量通过一次监测就能够得到，能够给出较大的信息量。 只需几分钟就能够对一个样品，有着非常快的检测速度。 不需要对样品进行稀释，溶解等处理，能够直接对固体样品进行检测。 有非常广泛的检测范围。 光机电产品一体化整机设计。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。了解如何借助 Thermo Scientific&trade ELEMENT GD&trade PLUS GD-MS 为固体中高级高纯度材料的直接分析定义新的标准。通过最大限度减少校准和样品制备操作，可提高样品处理量并达到超低检测限，从而使 GD-MS 适合整块金属分析和深度剖析应用。陶瓷和其他几种非导电粉末使用二次电极法进行分析，从而提供相同水平的灵敏度和数据质量。这使得 GD-MS 成为痕量金属分析的可靠标准方法。存在于固体样品中的几乎所有元素都可进行常规检测和定量：许多元素的含量低于十亿分率 (ppb) 水平。µ s 脉冲式高流速辉光放电池采用脉冲放电模式的高灵敏度离子源广泛可调的溅射速率适用于快速进行整体分析和高级深度剖析应用使用二级电极进行氧化铝粉末分析双聚焦质谱仪高离子传输率和低背景使得信噪比可达亚 ppb 级检测限高质量分辨率可提供最高水平的选择性和准确度：是无可争议的分析结果的先决条件十二数量级的自动检测系统在一次分析中测定基体和超痕量元素，全自动检测器涵盖 12 数量级动态线性范围直接定量测定基体元素 IBR（离子束比率）高效率和简单易用的软件包所有参数均由计算机控制全自动调谐、分析和数据评估自动 LIMS 连接性远程控制和诊断Windows 7样品周转时间通常少于 10 分钟能够在一次分析中测定基体元素到超痕量元素深度剖析涵盖数百微米到一纳米的层厚度最小化基体效应，便于进行直接定量

QuickGlow是经济实惠、易于使用、放电稳定的一款国产辉光放电仪，其常见的应用之一是用于TEM载网表面的亲水化处理，使得极性悬浮液在载网上更容易扩散，减少颗粒团聚，提高染色剂的附着效果，使样品的对比度更高，图像更清晰，便于分析。经过辉光放电处理的载网更容易捞起和贴合超薄切片样品，很好的提高了重金属染色的均匀性。QuickGlow辉光放电仪也可用于SEM成像分析的前处理，如提升粉末悬浮液在基底的分散效果、液体样品基底的亲水性处理等。同时它对大分子冷冻电镜成像有很好的辅助作用，可以改善冰层质量，提高图像分辨率，亲水性化处理后的表面有助于水分子均匀分布，从而形成均匀的薄冰层。辉光放电处理后的铜网适用于各种类型的样品，包括：生物大分子：如蛋白质、核酸、病毒颗粒等。纳米材料：如纳米颗粒、纳米线、二维材料等。无机样品：如薄膜、微粒等。性能特点易于操作，换样便捷；高效、一致的清洁效果；放电稳定，不损伤样品；处理时间快，从抽真空到辉光放电处理结束，整个过程只需几分钟。搭配25孔载网支架，可实现大批量处理，大大提高效率。 技术参数等离子电流：3-30mA高压电源：50W辉光放电头极性：负极样品台：Ø 63mm，其它规格可定制样品台高度：30-80mm可调处理时间：0-999s可调腔室尺寸：Ø 120 mm x 120mm 高工作真空：0.20 – 1.0mbar可调高压真空联锁：软件联锁系统显示：102mm 长 x 68mm 宽LCD显示设备尺寸：417mm长x 305mm宽 x 280mm 高设备重量：9.6kg电源要求：220V 50Hz效果展示辉光放电处理前辉光放电亲水处理后

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。 GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用多项技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s） 技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。仪器原理：辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴）样品表面，产生阴溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。更多指标参数请访问HORIBA官网

辉光放电仪主要用于透射电子显微镜（TEM）样品载网和支持膜的清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电荷而变得具有亲水性，样品水溶液因此很容易分散在其表面，便于样品在TEM下观察。同时可以通过辉光放电产生的离子流，对样品表面进行清洗，除去样品表面的有机物分子，灰尘颗粒等污染物，更加真实的在TEM下反映样品的表面形貌结构。主要功能：1、自动程序设定、手动模式选择2、直观的触摸屏显示与控制3、支持带正/负电表面的亲水性或憎水性处理4、换样时间短，真空抽速高 主要技术参数辉光电流0-30 mA高压功率30W样品台?75mm，25 x 75mm载玻片槽样品台高度1-25 mm工作时间0-900 sec.样品室尺寸?120 x 100mm H真空控制潘宁规,范围从大气到0.01 mbar工作真空度1.1 - 0.20 mbar参数设置3" 触摸屏设置操作模式自动/手动可选外观尺寸305 L x 292 D x 230mm H重量6.26 kg

简介质谱成像（Mass Spectrometry Imaging）是一种新型的表面原位分析技术，它揭示了样品真正表面或近表面的化学组成，其信息量远远超过了简单的化学成分分析，可以用于表征、鉴定待测样品表面的化学成分。较之其他成像技术，如显微镜成像，基于质谱的成像方法不局限于特异的一种或者几种分子，分析物可以以其最初的形态被检测，不需要对待测物进行标记，大大节省了标记所带来的技术和时间成本。目前主要有三种离子化技术用于质谱成像：基质辅助激光解吸电离（MALDI）质谱、电喷雾解吸电离（Desorption Electrospray Ionization）质谱和二次离子质谱（Secondary Ion Mass Spectrometry）技术，其中MALDI是应用最为广泛的离子化技术。MALDI通过引入基质分子，使分子与基质形成共结晶，当用一定强度的激光照射样品与基质形成的共结晶薄膜，基质从激光中吸收能量而使分子解吸/电离。MALDI是一种软电离技术，待测分子不易产生碎片，解决了非挥发性和热不稳定性生物大分子解吸离子化的问题，是分析难挥发的有机物质的重要手段之一。在1994年，德国吉森大学（Justus Liebig University Giessen）的Bernhard Spengler教授首次将MALDI MS与成像方法结合用于分析多肽，此后质谱成像技术便受到了广泛的关注，不断的在疾病诊断，病理组织特征，药物代谢和植物代谢等研究中发挥着越来越重要的角色。一、仪器设备概况德国TransMIT AP-SMALDI 10是由世界知名质谱学家Bernhard Spengler教授研制成功并商品化的常压基质辅助激光解吸电离离子源，是目前MALDI质谱成像中分辨率很高的离子源（分辨率高达到1微米），突破了MALDI质谱成像空间分辨有效成像像素限制在50微米的瓶颈。与其他MALDI产品相比，该离子源在提高空间分辨率的同时保证了质谱信号的灵敏度，是检测生物样品中微量以及痕量成分的重要保障。TransMIT AP-SMALDI 10可与超高分辨质谱Orbitrap（Thermo Fisher Scientific）兼容，可同时获得高空间分辨率和高质量准确度和分辨率的二维离子密度图，实现了真正意义上的高分辨质谱成像。TransMIT AP-SMALDI 10与同领域其他设备，其具体优势体现在以下几个方面：1. 常压到中压的操作环境，大大简化了样品制备的方法，节约了成本。传统的MALDI样品分析是在真空条件下进行，操作要求高，且随着分析时间的延长，会导致基质在真空条件下挥发损失，造成分子离子峰的信号衰减和成像误差；2. 小于5微米的高空间分辨率，能够可视化生物组织内化合物在细胞水平上的空间分布，并且可用于单细胞质谱成像分析；3. 采用激光束和离子流的同轴设计，大大提高了样品表面分子离子的产率；4. 采用激光器，即无害免控激光器，在使用过程中对人体无任何危险；5. 配有专用于高分辨质谱成像的数据分析软件；6. 可与Thermo Scientific Q Exactive系列质谱仪兼容，拆装灵活。二、仪器设备应用及性能说明高空间分辨率TransMIT AP-SMALDI 10离子源问世后，已经在生命科学领域展示了自己的优势，受到了国际专家和同行的一致认可，多项研究成果发表在Angewandte Chemie，The Plant Journal, Analytical Chemistry，Analytical and Bioanalytical Chemistry，Rapid Communications in Mass Spectrometry, International Journal of Mass Spectrometry等知名期刊上。在了解生物组织特征，病理组织特征，药物疗效及发现生物标志物等方面表现突出。现对TransMIT AP-SMALDI 10主要优势特色做简要综述：1、 高空间分辨率 高空间分辨率是准确判断生物组织内化学物质分布的前提条件。以大鼠脑组织中的磷脂分布为例，在100×100 μm2像素下，我们仅可以得到脑组织中磷脂的低分辨轮廓图。当分辨率提高到35 μm时，图像清晰度显著提高，可以准确识别脑组织切片中不同功能区内化合物的分布。再次聚焦TransMIT AP-SMALDI 10激光束到3 μm，则可以得到更加精细、无毛刺的磷脂二维离子密度图，这样可以清晰识别大鼠脑组织中微小部位中的代谢产物分布。3×3 μm2二维离子密度图中红、蓝、绿分别代表不同的化合物，红色代表背景离子，蓝色代表phosphatidylcholine（38:1），绿色代表phosphatidylcholine （38:1）。 2、高质量准确度和高质谱分辨率 TransMIT AP-SMALDI 10的另一个优势是其基于Orbitrap设计的一款离子源。Orbitrap无疑是近20年来高分辨质谱技术上最重要的突破，该质谱是目前体积最小的高分辨质谱仪。Orbitrap分辨率可高达140000 @ 200 Da，可同时进行定性和定量分析，尤其能够针对复杂基质中痕量组分的高灵敏度定量分析。集成了TransMIT AP-SMALDI 10的Orbitrap可以为研究者提供超高分辨的二维离子密度图，解决了质谱成像技术中原位鉴定化合物的难点，全面提高了鉴定分子离子的准确率和效率。可同时实现全扫描和MS/MS扫描，获得RMS 2ppm的高质量准确度的二维离子密度图。如图所示，基于Orbitrap的AP-MALDI质谱成像可以分辨质量差仅为0.1Da的两个化合物。如果使用低分辨质谱，将无法区分平均质量同为m/z 726的两个化合物，致使得到的二维离子密度图（图d）实际上是两种离子信号叠加的结果。由此可见，AP-MALDI-Orbitrap技术结合了高空间分辨率和高质谱分辨率，是一种具有优势的质谱成像技术。 3、单细胞质谱成像分析 目前单细胞分析大多依靠显微镜技术，因此需要标记细胞中的分析物，但是细胞中绝大多数分子没有荧光，这不利于细胞中未知分子的检测 其次常用的荧光探针具有一定的波长宽度，在有限光窗下只能检测3-4种分子。单细胞质谱分析因为具有无需标记、多组分同时分析、相对和jue对定量、适于代谢组学和蛋白组分析的特点而受到研究者的青睐。在此基础上单细胞质谱成像成为了近期新的研究热点，常用的单细胞质谱成像技术为二次离子质谱仪（SIMS），虽然SIMS的空间分辨率通常高于MALDI，但其质量检测范围较小，质荷比超过1000时灵敏度显著降低。TransMIT AP-SMALDI 10可以提供1-10 μm的高分辨率，同时弥补了SIMS质量检测范围窄和灵敏度低的缺点，成功应用于磷脂、多肽以及蛋白质等活性物质在单细胞中的空间分布研究。下图展示了首次采用TransMIT AP-SMALDI 10获得的单细胞中化学物质的二维离子密度图，使用 7 μm的激光束可以成功捕获单个HeLa细胞（图a）中荧光标记物（图b）和磷脂（图c和d）的二维空间分布信息。 综上所述，TransMIT AP-SMALDI 10是一款性能优异、实用价值高的质谱成像离子源。整合后的AP-MALDI-Orbitrap在成像空间分辨率、质量准确度及质谱采集时间等方面得到了全面提升，配合其自主研发的数据处理软件 MIRION，更加提高了图像处理的速度和质量。AP-MALDI-Orbitrap在质谱成像领域中具有许多独特优势，势必在多学科交叉领域研究中成为重要的研究工具。

超高分辨率组织质谱成像系统-MIBIscope System多重离子束成像平台（MIBI）技术 1、颠覆性的超高分辨率组织质谱成像平台，提供可操作的信息多重离子束组织质谱成像仪器应用于高精度空间蛋白质组学，基于多重离子束成像(MIBI)技术，MIBIscope系统可以在单次扫描中可视化40+蛋白标记物，并提供组织样本微环境的相关信息. 2、高精度空间蛋白质组学的标准 3、强劲的性能，可重复的结果，操作方便• 遵循标准的病理工作流程• 光学和SED图像引导ROI选项• 有限的实用需求和利用率• 大于104动态范围• 操作简单 不需要特别的专业知识 4、技术参数：获取时间：低分辨率 (1 μm)：9-35分钟高分辨率 (500 nm)：17-68分钟超高分辨率(350 nm)：35-139分钟用的生物标志物通道：40ROI区域：400x400 – 800x800 μm2抗体检测下限：1 (113In) - 16 (166Er)动态范围：5 log文件类型：TIFF链接：

ELEMENT XR主要特点：线性范围宽：线性范围达12个数量级，不同模式自动切换校正；灵敏度高：可使用赛默飞最新的Jet接口技术，提供无与伦比的灵敏度；具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。ELEMENT 2主要特点：具备多元素分析能力多元素检测器具备处理瞬态信号（包括CE、HPLC、GC、FFF和激光烧蚀）的速度从超痕量到基质组分、从mg/L到亚pg/L浓度范围的覆盖周期表的无干扰测量与无机和有机固体以及几乎所有溶液基质兼容全自动的常规分析自动调节所有参数，包括透镜、气流和炬位，以获得可重复而可靠的系统设置全面、可定制的质量控制系统可靠耐用，可作为全年无休的生产控制工具，最大化样品通量具有灵活性和易用性的先进研究工具拥有权限进入方法开发的所有仪器参数具有高质量分辨率，可识别受干扰的同位素光谱： 生成明确的元素光谱无论是否存在干扰情况，也能获得高精度的同位素比检测热和冷等离子体状态高稳定性的同位素比

SYNAPT XS高分辨率质谱仪没有研究，就制定的决策，容易是盲目的在科研领域，研究进展缓慢和成本不断上升俨然已成为一项挑战。SYNAPT XS质谱仪具有极致灵活性，可提供更大的选择自由度，能够打破这些壁垒，支持任何应用的科学创新和技术成功。 • 创新技术作为基石，提供最优异的分析性能• SONAR和HDMSE提供一套独特的工具包，用于解析复杂混合物• 离子淌度功能大大增加了峰容量和分析选择性• CCS测量可提高化合物鉴定的准确性创新技术提供最优异的分析性能凭借沃特世高级质谱“SELECT SERIES”传承下来的技术基石，内置先进的创新技术，确保使用该平台的科学家处于质谱分析的最前沿，同时维持SYNAPT的易用性和成熟的客户端工作流程。StepWave XS重新设计的分段四极杆传输光学元件，提升棘手化合物的分析灵敏度，同时进一步提高分析稳定性。Extended ToF 针对最复杂的样品，提供兼容UPLC的质量分辨率、耐受各种基质的动态范围和定量分析结果，同时提供卓越的性能指标。更大的分析选择自由度为有效解决固有难题，分析人员对各种分析策略的需求不断增加，因此，SYNAPT XS将高性能与极致灵活性相结合。竞争对手的系统大多存在入口选项有限、扫描功能局限性或需要多个平台等问题。与之相比，只有沃特世能够提供全方位的高性能LC-MS解决方案，该方案经过专门设计，能够提供更大的分析选择自由度以支持科学研究。SONAR和HDMSE提供了一套独特的工具包，用于解析复杂混合物完整的分析策略需要结合适当的互补技术才能得到更全面的数据信息。借助SYNAPT XS上基于SONAR和IMS的非数据依赖型采集(DIA)操作模式，分析人员能够利用互补机制，以独一无二的方式解析复杂混合物。两种类型的采集均提高了分析峰容量，提供“清晰明了”的碎片数据，但它们基于不同的分子特性。这提供了一种真正独有的研究工具包，适用于深入解析复杂混合物。离子淌度和CCS测量传统质谱仪基于m/z分离组分。SYNAPT XS还支持在离子淌度实验中，使用分子大小、形状和电荷作为其碰撞截面(CCS)的函数，对分子进行分离。 除离子淌度能提供额外的分离维度、增加峰容量和分析选择性以外，CCS测量还可提供额外的分子标识。离子CCS的测量结果有助于确定离子名称或研究其结构。运用离子淌度技术，显著提高了科学家分析复杂混合物和复杂分子的范围和可信度。CID与ETD碎裂功能TriWave的双碰撞室结构可进行碰撞诱导解离(CID)和/或电子转移解离(ETD)碎裂，且分辨率高、质量测定准确，能够拓展MS/MS检测能力。 高解析度四极杆包括4 KDa、8 KDa或32 KDa质量数范围，适用于从小分子到大分子的MS/MS分析TAP碎裂时间校准平行(TAP)碎裂是T-Wave IMS设计所独有的采集模式。它使用户能够利用TriWave配置，允许将IMS前T-Wave和IMS后T-Wave作为两个单独的碰撞室运行。得到的CID-IMS-CID仪器操作有助于对组分进行超高可信度的结构表征。TAP碎裂与传统MSn或MS/MS技术相比，具备卓越的碎片离子覆盖率、灵敏度和准确性，在构建完整结构方面有着不容置疑的优势。

GloQube® Plus是一种性价比高、结构紧凑同时易于使用的辉光放电仪，满足Cryo-TEM实验室样品制备需求。GloQube® Plus的主要应用是对TEM载网表面进行改性，以满足各种大分子冷冻电镜成像的要求，该系统将两个腔室集成在一个系统中，能够同时实现亲水和疏水处理。

仪器简介：GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校准曲线更小自吸收和材料再沉积原子线激发少和窄的发射线减少干扰无冶金记忆效应较少的校准标样低氩气消耗两次分析间的自动清扫均匀的溅射其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。以下为对一个硬盘表面100nm深度每种元素3次分析的结果，可以看到每种元素随深度的分布。 可选件射频光源统计软件包光源套件样品夹持器SMARTLINE远程诊断软件求耗材相关信息gds850参考卡(203-104-039)gds850样本文章：辉光放电-涂层分析的现代方式应用报告：QDP物理气相沉积法（102）应用报告：GDS镍及镍基合金（052）应用报告：GDS深度剖面分析（033）应用报告：镀锌钢（001）应用报告：抛光不锈钢上的薄氧化层（002）应用报告：铝合金基板上的商用硬盘（003）应用报告：玻璃基板上的40GB硬盘在（- 004）应用报告：氧化铝样品中的铬（- 005）应用报告：NIST 2135c（- 006）性能报告：GDS分析基体样品的分析前准备（031）性能报告：GDS ASTM E415真空法（030）性能报告：GDS校准（- 041）性能报告：GDS辉光放电光源（035）性能报告：GDS ASTM E1009（- 044）性能报告：铝膜QDP分析（028）性能报告：镀铝钢的涂层分析（040）性能报告：渗碳钢的QDP分析（036）性能报告：粘弹性钢夹层QDP分析（034）性能报告：磷酸铁涂层QDP分析（043）性能说明：镀锌钢QDP分析（027）性能说明： QDP分析电镀样品（024）性能说明：GDS850硬盘深度剖面-048

GVC-100辉光放电仪主要用于铜网的亲水性处理。创 新 点：全自主研发，自主知识产权，操作便利，重复性好应用领域：透射电镜 生物样品制备生物样品在进行TEM观测时，需要将制备好的样品放置于铜网上后放入TEM内进行观测，因此，需要铜网具备良好的亲水性。铜网往往是没有亲水性的，所以需要利用该仪器对铜网进行处理，改变表面特性，实现良好的亲水性。该设备也可以用于TEM样品杆的清洗等。技术参数：放电电流0-30mA 连续可调电源功率Max. 50W处理平台Φ75mm预处理时间1-999 秒处理时间1-9999 秒样品室Φ130×130mm进气接口2 个φ4 快拧接口真空测量皮拉尼真空规极限真空度1Pa工作真空20-100Pa人机界面5 英寸彩色触摸式液晶屏外观尺寸424×271×255mm软件保护真空保护、过流保护等

PELCO easiGlow™ 91000辉光放电清洁系统是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM栅网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM栅网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow™ 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括： 真空设定精确、方便 处理周期短 结果重现好 自动程序控制与手动模式可选 采用触摸屏，显示与控制直观方便 支持带正/负电、亲水性/憎水性模式 结构紧凑，价格合理 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。 对于经常进行亲水性和憎水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统（图2）以避免在样品室内引起交叉污染。 技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小?120 x 100mm 高进气孔2 个?6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高 重量11 kg 真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

二手赛默飞DFS高分辨率磁式气质联用仪重量型质谱仪仪器介绍：用 Thermo DFS高分辨率 GC/MS 系统为二恶英分析和持久性有机污染物 (POP) 分析实现卓越的灵敏度。 DFS 双聚焦系统是专为目标化合物分析设计的性能zei高的质谱仪。 TCDD 20fg上样，将带来出色的信噪比（大于 200:1）。 作为在开发扇形磁场 MS 方面拥有 50 年经验的产品，DFS 系统拥有您所需的全部性能。赛默飞DFS高分辨率磁式气质联用仪是业内唯一一台可以配备两台气相色谱仪的双聚焦磁式质谱仪。两个气相色谱仪同时安装在同一个离子源上，分离则是在两个气相色谱装置中独立进行。这个系统被设计为无人值守。全新TriPlus 自动进样器提供了zui高的样品容量和zui灵活的进样方式。针对大量样品具有无与伦比的灵活性和工作效率。 二手赛默飞DFS高分辨率磁式气质联用仪重量型质谱仪主要特点：● 放射状的叠片磁体；● 基于场校准，也就是说质量校正不受扫描速度、离子极性和离子化方式的影响；● 高性能的环形ESA静电场；● 检测器系统通过转换倍增器电极和长寿命的二级电子倍增器能够高效检测离子；● 气动阀锁定真空功能，更换离子盒无需放真空；● 双Trace 1310配一个TriPlus RSH自动进样器，在一个进样序列里可以使用不同极性的气相色谱柱。样品可以自动从一个进样瓶取出进样到两个不同的气相色谱中；● 可移动离子盒， 易于离子源维护。 DFS具有： 高灵敏度 高信噪比 高质量测量精度 低检出限 低定量限 高选择性zui高的样品分析能力 完全自动化控制 节能，低噪音，安装时间短，可以迅速开始工作 二手赛默飞DFS高分辨率磁式气质联用仪重量型质谱仪 创新技术：1.新型分析器 DFS拥有di一款真正实现了无图像失真的新型分析器。通过一个极高精密度环形静电场分析器和一个精心改进的磁分析器，使它能完美地实现双聚焦。从而直接地提高了它的稳定性和重现性。创新性的分析器设计给常规的化合物分析提供了高灵敏度，低达法克水平。● 调谐高灵敏度时不影响已经设置好的分辨率● 全自动的离子源调谐● 自动设置质量分辨● 不需调整其它的离子光学器件● 质量校正完全独立于离子● 一次全质量校正适用于所有操作模式2.zui先进的电子技术DFS拥有全新的zui先进的电子技术。在所有电板上都安装有专用的微控制器，通过一个内连接主线，使电脑高效快速的控制和读取所有重要参数和电压值。磁场控制器快速而稳定，由于使用“power-on－demand”（根据需求供电）技术提供电源，所以非常节电。 二手赛默飞DFS高分辨率磁式气质联用仪重量型质谱仪 仪器应用：DFS在要求一万以上分辨率的二恶英分析和兴奋剂分析中成为灵敏度zui高的质谱，也在环保、农药残留如农药、二恶英、呋喃和多溴联苯类PBDE物质的分析，以及新药开发和研究，石油化工、化学成分分析等多种分析领域，成为强有力的GC/MS分析手段。

结合创新型的光学器件设计，SR-750配合Andor公司的各型高性能光谱专用CCD/ICCD，可以非常方便进行空间多点光谱的同时采集与测量。SR-750可以配用多种附件，拓展应用领域，在透射/反射/吸收光谱、Raman光谱、荧光光谱、激光诱导解离光谱等实验中，提供最佳的系统解决方案。主要特点：l 分辨率最高可达0.02nml 多路光谱优化光路，低串扰，高密度多路光谱探测l 针对每台谱仪记录三光栅塔轮信息，便于以后光栅升级l 双探测器出口选项，可安装不同类型探测器满足不同实验需求l 多样化的附件选择l 支持单点探测器，波长最大可达12um l 光学元件镀银选项，保证红外探测器更好的性能超高分辨率光谱仪技术参数指标：型号SR750焦距长度500mm通光孔径（F/#）F/9.7焦平面尺寸28mm×14mm波长精度0.03nm光谱分辨率0.02nm@2400l/mm, 300nm 0.04nm@1200l/mm,500nm 波长重复精度10pm杂光抑制比2.6×10-5光栅尺寸68mm×68mm超高分辨率光谱仪配置选项：SR-750-A1个狭缝输入口，1个CCD输出口SR-750-A-SIL1个狭缝输入口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-B1 1个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口SR-750-B1-SIL1个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-B2 1个狭缝输入口，2个CCD输出口SR-750-B2-SIL1个狭缝输入口，2个CCD输出口，镀银选项SR-750-C2个狭缝输入口，1个CCD输出口SR-750-C-SIL2个狭缝输入口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-D12个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口SR-750-D1-SIL2个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-D22个狭缝输入口，2个CCD输出口SR-5750-D2-SIL2个狭缝输入口，2个CCD输出口，镀银选项

ATP3330和ATP5330P是奥谱天成新开发的一款超薄、制冷型、超高分辨率微型光谱仪，ATP3330和ATP5330P是基于奥谱天成自主研发的M型光路结构，具有非凡的超高分辨率；同时，它采用制冷的2048或4096像素线阵探测器，达到了极致的超高分辨率，最高分辨率可达0.05nm，适用于各种高分辨率应用场合，同时具备高可靠性、超高速、低成本、高性价比等特性，可适应在线测试等各种环境用途的微型光谱仪。ATP3330为非制冷的，ATP5330P则采用TEC电制冷，制冷温度-5°C，大大降低了光谱仪的暗电流和噪声，提高了光谱仪的动态范围和信噪比，同时提高了光谱仪的环境适应性。ATP5330P则采用制冷背照式CCD，信噪比更优。ATP3330和ATP5330P可接收SMA905光纤输入光或者自由空间光，通过USB2.0或者UART端口，输出测量所得的光谱数据。ATP3330只需要一个5V直流电源供电或直接从USB接口取电，非常便于集成使用。ATP5330P则需要额外的5V电源。特征M型光路，更高分辨率；光谱范围:200-1100nm；光谱分辨率:0.05~3nm；光路结构:非交叉C-T；检测器：2048或4096像素；探测器制冷温度：-5°C积分时间:0.1ms~256s；供电电源:直流5V供电；ADC位深：16位；数据输出接口：USBType-C；20针扩展接口； 应用领域LIBS、等离子体发光检测；拉曼光谱检测；波长监测，激光、LED等发光体水质分析仪LED分选机、颜色检测；光谱分析、辐射分光分析、分光光度分析反射、透射光谱检测

SR750 超高分辨率光谱仪结合创新型的光学器件设计，SR-750 配合Andor 公司的各型高性能光谱专用CCD/ICCD，可以非常方便进行空间多点光谱的同时采集与测量。SR-750 可以配用多种附件，拓展应用领域，在透射/ 反射/ 吸收光谱、Raman 光谱、荧光光谱、激光诱导解离光谱等实验中，提供最佳的系统解决方案。SR750 超高分辨率光谱仪主要特点：? 分辨率最高可达0.02nm? 多路光谱优化光路，低串扰，高密度多路光谱探测? 针对每台谱仪记录三光栅塔轮信息，便于以后光栅升级? 双探测器出口选项，可安装不同类型探测器满足不同实验需求? 多样化的附件选择? 支持单点探测器，波长最大可达12μm? 光学元件镀银选项，保证红外探测器更好的性能SR750 超高分辨率光谱仪技术参数指标：SR750 超高分辨率光谱仪配置选项：附件选项：光纤、法兰、动态狭缝、快门、光栅、可调底脚

产品概述ER2000是一款高分辨率的微型光纤光谱仪。该系列光谱仪采用长焦C-T交叉光路，具有高分辨率、高采集速度的特点。该系列光谱仪非常适合于高分辨率要求的场合，如等离子体检测、激光波长分析、LED荧光粉色度分析、气体成分分析等。产品说明高分辨率----采用对称式交叉C-T光路设计，100毫米长焦成像设计和高线数平面全息光栅，可提供高达0.1nm的分辨率；轻便----尺寸更小、更薄，方便集成到设备中；快速开发----提供软件开发工具，封装所有功能，一处添加，多处调用；支持定制----波长范围从190nm到1100nm可选，狭缝从5um到250um可选；