光束笔尖阵列光刻系统

所属类别： ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌：英国Power Photonic公司天空才是极限！-----革命性的“3D打印”光学加工技术！英国Power Photonics公司专业生产各种透镜阵列及微透镜阵列，包括各种一维透镜阵列和二位透镜阵列。Power Photonics公司有各种常用的标准微透镜阵列提供。 采用其独有的激光3D直写技术，PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的光学加工技术，可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。Power Photonic乐意接受任意定制化的要求，并致力于给客户提供最适合的微透镜阵列。 对于一维微透镜阵列，Power Photonics公司既可以提供柱面镜阵列，也可以提供非柱面透镜阵列，我们有各类标准的产品供客户选择，也可以根据客户的要求提供定制化的产品。 对于二位微透镜阵列，Power Photonics公司可以提供包括，球面镜阵列，非球面镜阵列，象散透镜阵列等，并且可以根据客户要求的排布方式排布透镜。我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。加工能力 各种焦距、周期、宽度、高度 任意镜片排布 非球面透镜、非柱面透镜可选非均匀排布，啁啾排布，随机排布 双面透镜阵列主要应用光束匀化光束整形光纤阵列耦合 激光加工高功率半导体激光器制造固体激光器泵浦标准产品指标

衍射光栅-相干光栅阵列图1。照片LightSmyth单片光栅阵列单片式单基片硅栅阵列（图1）提供独特的高分辨率连续获得超出所能获得的单个光栅的光带宽。这种光栅须不能有移动部件。单片光栅阵列是一致的单次数据采集与许多宽带应用，例如激光诱导击穿光谱，可以帮助系统元件数显著减少。每个阵列由的所有相干在单一基板上形成的多个主光栅。母光栅有连续且轻度重叠的有效光谱范围。此外，在基底的顶部和底部的辅助光栅产生直接的校准的输出区域用于使用一个单一参考波长，如氦氖激光器的波长的光输出。 图2。示意图说明操作的单片光栅阵列光谱仪与2D检测器设置在图2给出在一个简单的光谱仪装置的光栅阵列。一个二维检测器阵列被用来记录的光栅阵列的输出。图3示出了照射时由白色光源和一个共同传播的氦氖激光器的二维探测器阵列上看到的光栅阵列输出的示意图。每个附近的水平行包括四个主光栅中的一个的输出端，并对应于光谱范围表示。此外，还显示为红点是6个辅助光栅校准参考标记，当暴露在氦氖光。进一步详细描述了设备的运行和设计说明请点击http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。图3。阵列输出信号检测原理图校准/准直功能特性 顶部和底部的六个小光栅阵列（参见图1）提供了用于校准的光谱输出，以及协助系统对齐标记，这里的校准标记用于氦氖照明，见示意图4。校准标记提供了两个主要的功能：第一，它们表示在主光栅输出的校准部分的开始和结束点。因此，它们允许用户校准波长作为位置的函数的沿着各母光栅色散线 - 注意，校准点所表示的波长范围内是独立的光栅输入角度，使光栅阵列具备各种不同可能的样式。第二，辅助光栅辅助系统调整。当所述检测器表面被适当地定位在焦平面阵列后聚焦镜，两对对准标记设计为一致性和适当远场操作指示。中心两个标记阵列探测器表面使得水平正确的准直方式。更多单片光栅阵列技术细节请参考http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。单片硅平面阵列硅基底具有0.73毫米厚度。基板的高度和宽度公差是0.3毫米。光栅基片：单晶硅。光栅镀膜：铝（其它镀膜类型额外收费）。Primary GratingCalibration Markers 1Line/mmSizePart NumberPrice first 99 units 2,3Unit price 100+1381, 522 nm178812.5mm x12.5mmSAG-1212A-Al$96.00 ea.$25.00 ea.2509, 696 nm13413683, 935 nm9984929, 1271 nm7341The calibration markers listed are produced by a HeNe laser incident on the small calibration gratings. Use of a different calibration light source having a different wavelength will produce markers (see Fig. 4) coinciding with different values of the dispersed spectra of the four primary gratings. Using a common input angle for calibration light and signal, the calibration marks delineate spectral output ranges of the primary gratings that are independent of grating input angle.2 For orders with the total product value below $250.00, a handling charge of $75.00 will be added.3 Academic discounts are available for eligible institutions. To determine eligibility complete an account application procedure.

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

超快非晶硅激光刻膜机配件是特别为太阳能产业光伏工业而设计的整套晶圆激光加工系统。可用于光伏电池激光加工,去除氮化硅膜氮化硅膜蚀刻,晶圆边缘隔离，有可以当作激光刻膜机,激光划片机使用。 提供如下四合一服务：SiNx/SiO2去除,去除二氧化硅,去除氮化硅 边缘隔离晶圆 背接触激光烧结和激光刻槽 激光打标 其中紫外飞秒激光用于SiNx/SiO2的选择性烧蚀或切除(氮化硅膜蚀刻),配备的紫外飞秒激光可以非常精密地剥蚀SiNx(去除氮化硅膜),同时在Si层的直接或热效应降低到最低，从而增加载流子寿命（少子寿命）,避免微裂纹。而配备的1064nm的纳秒激光工作非常稳定而快速，将用于晶片的快速激光边缘隔离，激光打标和激光烧结。 非晶硅激光刻膜机配备自动处理和扫描系统，支持5’’和6’’直径的硅晶片加工。同时配备机械视觉系统以随时调节激光束扫描,保持高度重复性和可靠性。配1级激光安装防护装置和灰尘消除系统，营造无尘加工环境，以保证飞秒激光的精密烧蚀和热效应影响的最小化。 非晶硅激光刻膜机配件特色 配备的激光器处理能力高达800个晶片/小时或350000px/s 加工量为425个晶片/小时,优化后可用于2.5MW/a产品的生产线 适用5' ’和6' ' 硅晶片 紫外飞秒激光和红外纳秒激光光源 机械视图系统可调节激光扫描场 精密激光光束定位 激光划线激光剥蚀激光熔化 为用户提供了无银敷金属技术生产太阳能电池 成功地装配到生产能力高达2.5MWp/a的生产线上。 使用飞秒激光对晶圆wafer的发射端进行介电层（SiNx)的选择性移除。SiNx厚度为50-90nm,覆盖发射端，必须精确移除而不伤害发射层。一种应用是消蚀SiNx层的同时，也产生bus bars和fingers开口，下一步,这些开口将被镍覆盖，这样就形成了高质量的前接触。它使用振镜扫描器控制激光束切割发射端，独具的机械视图功能能够探测晶圆位置。

多阵列杂交工作站配件具有高效的振荡系统和精确的温度控制系统，是微阵列玻片和多个子阵列（多阵列玻片）杂交成功的有力杂交工作站。多阵列杂交工作站HybMix S4可以杂交多达4个载玻片。微阵列玻片受到精确温度控制，与载玻片架直接接触，一起受到精确的温度调节控制。控制温度的范围从室温至105℃，温度精度高达+/- 0.1℃。这款多阵列杂交工作站集成了轨道振荡器，提供从300至900rmp的可调转速控制，有效提高杂交和结合反应成功率。多阵列杂交工作站采用国际一流的用户友好界面，操作方便 用户可以设置温度，杂交持续时间和振荡速度。温度，时间和振荡速度显示于仪器前方的宽屏显示屏上，用户可以在任何时间调整参数。多阵列杂交工作站优势Peltier温度控制技术精确控制温度精确温度调节集成了轨道振荡系统前部具有显示和控制面板用户友好的操作界面多阵列杂交工作站参数温度范围：室温到105摄氏度加热/制冷系统：温控Peltier技术，温度分辨率 0.1 °C振荡系统：轨道振荡器速度300-1500RPM可调用户界面：高级荧光显示屏VFD， 8个编程控制操作键尺寸(LxDxH)： 29.5 x 26.5 x 17.0 cm电力要求： 220 V, 50/60 Hz, 125 W重量：8.5kg

微阵列芯片扫描仪配件专业为扫描基因芯片，蛋白质芯片等微阵列芯片而设计，是功能强大的高分辨率荧光扫描仪。适合所有微阵列芯片，如DNA芯片，蛋白质芯片和细胞和组织，并适用于各类型的应用研究，如基因表达，基因分型，aCGH，芯片分析片内，微RNA检测的SNP，蛋白质组学和微阵列的方式。微阵列芯片扫描仪配件是完全开放的系统，兼容任何标准的显微镜载玻片25x75mm（玻璃基板，塑料，透明和不透明），可以扫描生物芯片，有3 1.mu.m/像素的分辨率，同时保持高图像质量。能够同时扫描两个检测通道3.5分钟（10.mu.m/像素，最大扫描区域），InnoScan900是市场上最快的扫描器，扫描速率可调节，达10到35行每秒。 微阵列芯片扫描仪配件共焦扫描仪配备有两个光电倍增管（PMT），非常敏感，整个工作范围（0至100％）线性完美，允许用户简单地改变PMT，调整2种颜色的荧光信号。使用这种独特的动态自动聚焦系统，提供的是不敏感的基板的变形，整个扫描表面上完美，均匀。微阵列芯片扫描仪有出色光度测定性能，特别是在灵敏度和信噪比方面。 微阵列芯片扫描仪有一系列可满足您的应用程序，四扫描器（710，710 U，900 U和900）。该Innoscan® 900和900AL系列（磁带自动加载机）是专为现在和未来的高密度微阵列发展。

所属类别： ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌：英国Power Photonic公司 天空才是极限！-----革命性的“3D打印”光学加工技术！英国Power Photonic 公司专业生产各种光纤耦合用微透镜阵列，通过采用其独有的激光3D直写技术，PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的革命性的光学加工技术，可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。我们标准的一维透镜阵列排布周期是250um，同时也可以提供任意客户指定的排布周期。对于二位微透镜阵列，我们可以提供各种球面镜阵列，非球面镜阵列，象散镜阵列，柱面镜阵列，非柱面镜阵列等。.我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。主要特点大尺寸、大数量的透镜阵列 一维阵列、二位阵列极高的一致性球面镜阵列，非球面镜阵列，象散镜阵列，柱面镜阵列，非柱面镜阵列 UV融石英基底主要应用 光纤耦合镜阵列 WSS系统 R/OADM系统 光互连 高性能光通讯主要特点 根据客户应用要求定制相应透镜阵列，不需要再因为要配合标准产品牺牲系统性能 优化透镜面型达到最佳效果 低散射及串扰定制化程序因为采用PowerPhotonic独特的“3D打印”光学加工技术，我们的标准产品可以非常容易的进行参数修改于调整以配合客户的使用要求。请和我们联系以获得更多信息。标准产品指标

光束分离器： 将单个激光束分割成几个光束的衍射光学元件，每个光束具有原始光束的特征（除了功率和传播角度）。根据元件上的衍射图案，光束分离器可以产生1维光束阵列（1xN）或2维光束矩阵（MxN）。 HOLO / OR除了标准光束分离器之外还提供了斑点数量及其位置选择的可能性。

微阵列清洗干燥工作站配件全自动清洗和干燥微阵列和荧光原位杂交FISH玻片，是分子杂交领域的理想自动清洗干燥仪器。微阵列清洗干燥工作站配件可以处理市面上任何商用或定制的微阵列和玻片或芯片，用于任何类型的微阵列实验，如基因表达，微阵列比较基因组杂交 CGH array，ChIP-on-chip, miRNA，大大提高了杂交的微阵列的的质量，具有更高信号强度，更低的背景噪音和更为均匀干净的玻片，直接可用于扫描使用。从而避免这些步骤常出现的负面影响。 微阵列清洗干燥工作站配件将芯片放置在仪器的载玻片架上（最多可放20个芯片)。最多可以使用5个温度控制的清洗器采用理想的预定程序清洗，通车清洗器被覆盖起来，以便更好的进行温度控制，WALY 机械臂将载玻片架在不同的洗涤器间转移，严格控制清洗时间和温度参数。通过一个可调的垂直搅拌器改善清洗功效 在经过最后一个清洗器后，机器臂自动将玻片转移到其离心机进行有效地干燥。玻片准备好进行扫描。 或者，可在一个稳定的溶液中完成干燥：仪器控制玻片在稳定溶液中的移动速度。 自动清洗干燥工作站具有多功能控制显示屏，能够加载并启动预先编程的清洗程序。清洗干燥站提供直观的图形用户界面，方便有效的操作程序管理，并可以为用户定制优化的操作程序。 微阵列清洗干燥工作站配件大大提高微阵列和FISH的清洗质量和实验的可重复性精度和可靠性，帮助用户节省宝贵的时间和成本，提高微阵列实验的成功几率。

Multichannel systems 电生理学系统及耗材/多通道微电极阵列 Multi Channel Systems MCS GmbH 成立于 1996 年，总部位于德国西南部罗伊特林根的科技园。MCS 成为 Harvard Bioscience， Inc. 的一个部门。Multi Channel Systems 专注于为大学和制药行业的研究小组开发电生理学领域的精密科学测量仪器和设备。我们为体外和体内微电极阵列的细胞外记录以及电刺激提供解决方案。此外，我们还提供用于自动RNA注射和非洲爪蟾卵母细胞的自动双电极电压钳记录的设备。由于其模块化原理，我们的产品可以根据您的特定实验需求进行扩展和调整。我们的产品还因其尺寸而适合您的实验室。1、 微电极阵列带60个电极的MEA, 带120个电极的MEA， 256个电极的MEA, 用于多孔膜电极系统的多孔板，用于CMOSMEA 5000系统的CMOS-MEA，2、配件MCS 提供广泛的配件，使您系统更加高效和方便使用。配件都非常适合与其他 MCS 产品一起使用，但也很容易适应定制系统。包括Roboo cyte 配件，HiClamp 配件，USB-MEA 系统配件，USB-MEA256 系统配件，MEA2100-Mimi-system 附件，MEA 2100 系统附件，Multiwell-MEA 系统附件

产品特点：安捷伦微阵列解决方案采用SureScan 高分辨技术的安捷伦DNA 微阵列扫描仪工作流程解决方案* 基因表达谱 — 支持多种模式生物，在全基因组水平上研究基因转录* 比较基因组杂交 — 支持从多种样品类型及 FFPE 组织中进行高分辨率的全基因组水平的DNA 拷贝数变化的分析* 小 RNA — 提供最完善的实验室操作流程和及时更新的微阵列设计方案，分析小 RNA 表达谱并研究其在基因调节中的作用* 染色质免疫沉淀法 — 探讨蛋白质 — DNA 相互作用在转录、复制、修饰和修复过程中的作用* DNA 甲基化 — 提供高分辨率的全基因组甲基化谱，进一步了解哺乳动物 DNA 甲基化和基因调节的机理* 靶向序列捕获 — 结合下一代测序技术，关注感兴趣的关键基因组区域，解决费用问题，实现对基因多样性更加深入的研究订购信息：采用 SureScan 高分辨技术的安捷伦 DNA 微阵列扫描仪产品描述部件号高分辨率微阵列扫描仪系统G2565CA扫描仪升级，从 G2565BA 到 G2565CAG2539A 附件杂交炉旋转架G2530-60029杂交芯片夹（不锈钢）G2534A芯片固定夹, 1 阵列/片5 片/包*G2534-60003 芯片固定夹 , 2 阵列/片5 片/包*G2534-60002 芯片固定夹, 4 阵列/片5 片/包*G2534-60011 芯片固定夹, 8 阵列/片5 片/包*G2534-60014 *提供大包装的同样产品

产品名称：光电二极管阵列检测器灯仪器厂商：PerkinElmer/美国 珀金埃尔默价格：面议库存：是Flexar系列/200/200s系列视差检测器灯的偏转式设计允许在保证化合物检测灵敏度的同时，获得低噪声和低漂移性能。部件零件编号Flexar系列/200EP系列氘灯N2925030钨灯N2922011200系列氘灯(第2相)N2922046钨灯N2922011LC-135C/235检测器灯N2351285

光电二极管阵列检测器灯Flexar系列/200/200 EP系列光电二极管阵列检测器可提供真正的紫外/可见光检测以及高分辨率质谱数据。卓越的信噪比特征使其特别适合低体积或低浓度样品。光电二极管阵列检测器灯订货信息：组件部件编号Flexar/200 EP系列氘灯N2925030钨灯N2922011200系列氘灯（第2相）N2922046钨灯N2922011LC-135C/235检测器灯N2351285

便携式导电笔，可精确画出高导电的银轨迹、跨接线和隔离线。室温下数分钟内即可干燥，笔尖应用方便，可在低温下焊接，有标准和细笔尖两种可选。可应用于电路板修复。

便携式导电笔，可精确画出高导电的银轨迹、跨接线和隔离线。室温下数分钟内即可干燥，笔尖应用方便，可在低温下焊接，有标准和细笔尖两种可选。可应用于电路板修复。

高通量微阵列清洗器配件专业为玻片清洗，微阵列芯片清洗而设计，拥有耐用的载玻片架，可容纳1-25个25×76毫米规格的玻璃玻片微阵列，可浸入到500ml的缓冲溶液槽。高通量微阵列清洗器配件特色该缓冲溶液槽配备有磁力搅拌棒和盖子，可以防止缓冲物蒸发。高通量微阵列芯片清洗器大大了微阵列芯片干燥前的清洗效率和效果。含独立的缓冲液加快微阵列芯片的处理和清洗速度。是提高基因学，生物医学，制药和农业研究的质量和速度的理想的工具高通量微阵列清洗器配件规格?容量：1?25个微阵列基片?体积：每个清洗步骤400毫升缓冲液。?缓冲液温度：4至50℃?材质：亚克力箱使温和溶剂稳定，如乙醇

蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器，是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器，在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程，采用了先进的线性伺服电机技术，在X，Y方向实现高达500nm的分辨率，在Z轴方向实现250nm分辨率，并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统，具有方便用户操作的软件，可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备，除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板，位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料：DNA，蛋白质，抗体，小分子，肽核酸（PNA），碳水化合物，以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效，经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号：纳米打印机LM60有384个微孔，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片；纳米打印机LM210有384个微孔，最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。 General Specifications Dimensions (L x P x H, cm) LM60 (110 x 85 x 56 cm) LM120 (164 x 85 x 56 cm) Weight LM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg) Positional resolution (X,Y-Axis) 500 nanometers Printing speed 48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technology Printing technology Arrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheads Number of pins Configurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or 1 to 192 at 2.25mm Spot diameter 65 microns or larger to meet all applications Minimum spot spacing 50 microns Pre-printing User definable Wash/dry station Ultrasonic with 2 wash positions and a dry station Number of microplates Three standard 384-well sample microplates, customizable on the worktable Microplates to be printed into : - 15 96-wells microplates (LM60) - 45 96-wells microplates (LM120) Number of slides 60 glass slide substrates (LM60) 120 glass slide substrates (LM120) Microplate cooling Cool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applications Environment control Fully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity control NanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracy The X, Y - axis positional resolution is 500 nm. The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission. NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology. NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed. Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology. The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set : Z Profile: High speed Z Extend: Printing speed Z Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved andmaintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation andmicrobial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.

安捷伦为液相色谱系统提供了全面的高质量 DAD 流动池，实现了针对全部应用的最佳性能。 每个流通池的特殊维修工具包包括用于在全部二极管阵列检测器中获得最高性能的所有相关备件。 设计用于实现最佳色谱性能。 可实现最低仪器停机时间和最佳总体使用维护成本的高质量产品。 OEM 产品严格遵守安捷伦技术指标，以用于认证环境。

安捷伦为液相色谱系统提供了全面的高质量 DAD 流动池，实现了针对全部应用的最佳性能。 每个流通池的特殊维修工具包包括用于在全部二极管阵列检测器中获得最高性能的所有相关备件。 设计用于实现最佳色谱性能。 可实现最低仪器停机时间和最佳总体使用维护成本的高质量产品。 OEM 产品严格遵守安捷伦技术指标，以用于认证环境。

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

DropSens 丝网印刷电极 丝网印刷电极阵列介绍 一、DropSens 公司介绍DropSens是一家创新型技术型公司，专门从事电化学研究仪器的设计和制造，总部位于西班牙奥维耶多。 瑞士万通DropSens基于厚膜混合技术开发丝网印刷电极，旨在为研究人员提供开发各种性质的电化学传感器的强大工具：化学传感器、酶传感器、免疫传感器和基因传感器等。这些传感器旨在临床分析、环境和食品控制领域的重要应用。与传统电极相比，丝网印刷电极具有许多优点：它们适用于微量和分散式检测（即时检测）等。 以电化学仪器的小型化为目标，我们专注于便携式恒电位仪的设计和开发它提供主要的电化学技术，同时保持大型仪器的精度，并提供易于使用的计算机界面。 二、丝网印刷电极及阵列介绍 DropSens基于碳、金、铂、银或碳纳米管的丝网印刷电极。适合环境、临床或农业食品领域的电化学分析丝网印刷电极是低成本的一次性设备，专门设计用于处理微量样品。非常适合质量控制或研究目的，也适用于电化学教学。丝网印刷电极的尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米。个性化的SPE可以按照客户对材料和图案的规格进行制造。具体产品包括：未修饰的丝网印刷电极，改性碳丝网印刷电极，丝网印刷电极阵列，定制化丝网印刷电极1. 丝网印刷碳电极：型号：DRP-C110，DRP-11L 和 DRP-C11L 2. 带集成温度传感器的丝网印刷电极这些一次性电极包括基板背面的负温度系数 （NTC） 热敏电阻。一旦预先校准，这些电极就非常适合检测被测系统的温度。基板尺寸：L33 x W10 mm陶瓷基板厚度：500 μm型号：C110-NTC 系列 3. 带微孔的丝网印刷碳电极这些一次性丝网印刷碳电极 （SPCE） 由一个工作电极组成，该电极具有 19 个六边形分布的球形微孔，它们允许光通过并且不会被紫外线区域吸收，这些电极可用于检测或光谱电化学应用等。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）型号：MH-110 型4. 丝网印刷碳电极工作电极（直径4mm）由碳制成，对电极由铂制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 的容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：1505. 丝网印刷金电极：用高温 （AT） 和低温 （BT） 固化油墨丝网印刷的电极，根据应用的不同，这些油墨可能具有不同的特性。工作电极有两种尺寸：4 mm 或 1.6 mm 直径。加上解决方案工作的特定设计。工作电极（直径 4 或 1.6 毫米）和对电极由金制成，而参比电极和电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 体积（参考文献 220AT、220BT、C223AT、C223BT）或将它们引入溶液中（参考文献C220AT、C220BT）。AT型号：用高温固化油墨丝网印刷的电极。BT型号：用低温固化油墨丝网印刷的电极。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）型号：220BT系列，C220AT型，C220BT系列，C223AT型，C223BT型6、丝网印刷金电极（辅助：Pt 参考：Ag）工作（直径4mm）电极由金制成，对电极由铂制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。非常适合处理 50 μL 容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：250， 250BT7、丝网印刷银电极 （Aux.： C Ref.： Ag）工作电极（直径 1.6 mm 或 4 mm）由银制成，对电极由碳制成 参比电极和电触点由银制成。用于电化学测量或原位EC-SERS。非常适合处理 50 μL 的容积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。型号：C013，0108、丝网印刷铂电极工作电极（直径 4 毫米）和铂制成的对电极。非常适合使用 50 μL 体积（参考 DRP-550）或将它们引入溶液（参考 DRP-C550）。也可提供低温固化油墨（型号 550BT）。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）9、丝网印刷氧化钌电极 （Aux.： C Ref.： Ag）工作电极（直径 4 毫米）由氧化钌制成，对电极由碳制成，参比电极由银制成，电触点由银制成。它非常适合处理 50 μL 的体积。尺寸：3.4 x 1.0 x 0.05 厘米（长 x 宽 x 高）。10、光学透明ITO丝网印刷电极这些一次性ITO电极（参考。ITO10）在塑料基板中制成，基于ITO工作电极，带有碳对电极和银参比电极。专为光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175毫米11、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。12、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。13、光学透明PEDOT丝网印刷电极这些一次性PEDOT电极（参考。P10）在塑料基板中制成，基于带有碳对电极和银参比电极的PEDOT工作电极。专为电化学发光或光谱电化学应用而设计。尺寸：33 x 10 x 0.175 毫米（长 x 宽 x 高）。14、用于生物燃料电池的丝网印刷电极DropSens推出具有适当配置的丝网印刷电极，以开发自供电的电致变色生物传感器，该传感器有可能成为用于分析物检测的“无仪器”传感设备。尺寸： 3.3 x 1.0 x 0.0175 cm （长 x 宽 x 高）15、柔性塑料基板上的金电极 在柔性塑料基板上制成的金电极，工作电极为 4 mm。它们允许处理少量样品，适用于分散式分析，以开发特定的（生物）传感器和其他电化学研究16、柔性白色塑料基板上的钯电极这些电极参考在柔性塑料基板上制造，并具有基于薄膜的工作电极。PW-PD10 非常适合用于分散式检测或开发特定的电分析应用。- 塑料柔性基板：L33 x W10 mm- 塑料基板厚度：500 μm17、柔性白色塑料基板上的钯电极这些电极参考在柔性塑料基板上制造，并具有基于薄膜的工作电极。PW-PD10 非常适合用于分散式检测或开发特定的电分析应用。- 塑料柔性基板：L33 x W10 mm- 塑料基板厚度：500 μm18、8X 丝网印刷碳电极丝网印刷电化学阵列由八个带有碳基工作电极的 3 电极电化学电池组成。专为开发多个同时分析而设计。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：3.4 x 7.9 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。19、 8X 丝网印刷金电极由八个 3 电极电化学电池和高温金基工作电极形成的丝网印刷电化学阵列。专为开发多个同时分析而设计。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的碳、铂或银。尺寸：3.4 x 7.9 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。4W丝网印刷碳电极丝网印刷电极由四个碳工作电极组成，共用辅助电极和参比电极。这些电极旨在同时检测四个信号，允许（差分）测量溶液中多达四种分析物。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：3.8 x 2 x 0.1 厘米（长 x 宽 x 高）。8W丝网印刷碳电极丝网印刷电极由8个碳工作电极组成，共用辅助电极和参比电极。这些电极旨在同时检测八个信号，允许（差分）测量溶液中多达八种分析物。该系统可以使用其他工作电极材料（如金、铂或银）进行定制。尺寸：5 x 2.7 x 0.1 cm （长 x 宽 x 高）.96X 丝网印刷碳电极 DropSens 推出电化学 ELISA 板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有碳基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）。96X 丝网印刷金电极DropSens 推出电化学 ELISA 板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有金基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）96X 丝网印刷铂电极DropSens推出电化学ELISA板。这是一种新型丝网印刷电化学阵列，由96个带有铂基工作电极的三电极电化学电池组成。该电化学阵列固定在具有 96 孔的标准微量滴定 ELISA 板的底部。该系统可以使用其他工作电极材料进行定制，例如用纳米材料改性的银或碳。尺寸：7.4 x 11 x 0.5 厘米（长 x 宽 x 高）。改性碳电极：这些改性赋予了碳电极不同的特性，使其适用于不同的应用。修改应用于工作电极。对电极由碳制成，参比电极由银制成。 丝网印刷碳电极用电化学介质和纳米材料等进行改性。改性电极包括：链霉亲和素改性丝网印刷电极，ExtrAvidin改性丝网印刷电极，聚苯胺改性电极，钯改性SPE， 菲咯啉改性的丝网印刷碳电极，金颗粒改性SPE, 钙离子改性SPE, 铜离子改性SPE，氢离子改性SPE，钾离子改性SPE，钠离子改性SPE，铵离子改性SPE，赖氨酸改性SPE，氧化铋改性SPE， 氧化镍改性SPE，石墨烯改性SPE，碳纳米管改性SPE，介孔碳改性SPE，铁氰化铁改性SPE，酞菁铜（II）改性碳SPE，酞菁铁（II）改性碳SPE，银纳米颗粒改性丝网印刷碳电极， 用蒽醌改性SPE，丝网印刷普鲁士蓝/碳电极，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极/L-乳酸氧化酶，丝网印刷亚铁氰化物/碳电极/葡萄糖氧化酶，用于尿酸检测的丝网印刷电极，三、电化学工作站/恒电位仪便携式多恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 8000 便携式多恒电位仪 STAT 8000P 便携式多恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 4000 便携式多恒电位仪 STAT 4000P 便携式双恒电位仪/恒电流仪/EIS STAT-I 400便携式恒电位仪/恒电流仪/EIS STAT-I 400S便携式双恒电位仪 / 恒电流仪 STAT 400便携式双恒电位仪/恒电流仪 STAT400-OI便携式双恒电位仪 STAT 300便携式双恒电位仪 STAT 200独立式电化学读码器 DROPSTAT PLUS便携式电化学读卡器 DROPSTAT用于ORP测量的便携式套件

APD阵列 筱晓光子供应APD阵列，包括线性APD阵列和矩阵APD阵列。该系列APD雪崩二极管阵列主要用于：激光雷达、激光测距。我们同时供应APD雪崩二极管和APD雪崩二极管模块。ChipPackageDescription8AA0.4-9SOJ22GLAPD Array 8 Elements, QE80% at 760-910nm with NTC16AA0.13-9SOJ22GLAPD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm with NTC16AA0.13-9DIL18APD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm16AA0.4-9SOJ22GLAPD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm25AA0.04-9BGAAPD Array 25 (5x5) elements, QE80% at 760-910nm with PTC25AA0.16-9BGAAPD Array 25 (5x5) elements, QE80% at 760-910nm with PTC64AA0.04-9BGAAPD Array 64 (8x8) elements, QE80% at 760-910nm with PTCQA4000-9TO8SiQuadrant Avalanche Photodiode, QE80% at 760-910nm

安捷伦为液相色谱系统提供了全面的高质量 DAD 流动池，实现了针对全部应用的最佳性能。 每个流通池的特殊维修工具包包括用于在全部二极管阵列检测器中获得最高性能的所有相关备件。 设计用于实现最佳色谱性能。 可实现最低仪器停机时间和最佳总体使用维护成本的高质量产品。 OEM 产品严格遵守安捷伦技术指标，以用于认证环境。

原理简介简洁型激光稳定系统可用于抵消或纠正由振动、冲击震动、热量漂移，或其他对激光方位有不良影响的因素引起的变化。该系统可应用于所有激光设备和激光系统中。如果激光系统中有您不期望的波动或移位，而您的激光应用需要有很高的精确性和稳定性，那么激光稳定系统可帮助您来达到这一目的。 激光方位是由探测器来确定的。探测器可以是一个四象限光电二极管（4- QD） 或 一个PSD。该稳定系统只需利用用户设备中已有的高反光镜后的一小部分微弱的透射光就足以来稳固激光。 图 1 激光稳定原理 系统中的一个闭循环控制器不断探测激光光线的实际方位与应有方位的偏差，同时借助于一个快速传动装置使一个转向镜把激光光线稳定在所需位置上。 两个不同型号的系统可提供用户使用。“双轴控制系统”包括一个探测器和一个转向镜，其中转向镜可 在两个不同方向轴上转动。这样，激光的位置就可通过转向镜的转动被确定在由探测器设定的位置上。但这种情况下，激光的方向还会有偏移的可能。因为即使激光最后射到探测器上的位置虽然一致，但 该光线射到转向镜上的点位还是可以不同，所以这个系统只能定位但不能定向。相比之下“四轴控制 系统”包含两个探测器和两个转向镜。此系统中两个探测器把激光固定在两个不同的预先确定的位置 上。由此激光的位置和方向都被稳固住了。独立系统，可轻松安装到激光束路径。它的特点是简单的处理和集成。紧凑型系统可实现可靠且非常精确的光束位置和方向稳定性，并可补偿干扰。压电驱动反射镜可以放置在装置现有反射镜的位置。 我们提供用于实时稳定、对准、定位和调整激光束的系统。我们的系统极其精确、快速且非常稳定。不需要用户交互。它们配备有用的操作和安全功能，可快速集成到不同的激光器设置中。使用我们的光束稳定系统，激光始终稳定在所需的目标位置和光束方向。请不要犹豫与我们联系。我们期待在选择、规划和整合方面为您提供帮助。 技术参数典型应用非常精确、快速和可靠的光束对准主动光束位置和光束方向控制激光束指向补偿精确的运动和振动控制自动调整激光束将激光束快速传送到不断变化的应用OEM 解决方案：例如激光材料加工中的在线精度控制 特征有源闭环控制模拟系统内核以最低的相移实现最高的控制性能无需数字化步骤的最高分辨率无需用户交互，无需计算机提供 USB 接口（以太网、RS-232）和软件连续和脉冲激光器的精确定位也适用于超短脉冲激光器（ps、fs） 提供 OEM 版本优异的性价比

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

用于沃特世 HPLC 系统的 安捷伦灯经过精心设计和制造，可兼容多种检测器，包括多波长检测器 (MWD) 和光电二极管阵列检测器 (PDA)。所有灯都符合最严格的性能指标，在其使用寿命期间都具有一致性的质量和高重现性。测试设备按照 NIST（美国国家标准技术研究院）或 PTB（德国柏林的联邦物理技术研究院）规定的光学标准进行定期校正。 高输出稳定性和高强度扩展了检测功能，提升痕量定量的质量 保证 2000 小时的使用寿命

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

这款欧洲设计的大面积闪烁探测器阵列是一种高性能闪烁体列阵探测器。这款闪烁探测器阵列可采用YAP:Ce, YAG:Ce, LuAG:Ce, BGO等闪烁体材料，获得最佳效率，可广泛用于大面积中子探测，中能(10-100MeV/u)重离子核反应前角度测量等应用。这款进口的闪烁探测器阵具有全球最佳的紧凑设计，像素之间距离可控制到小于0.05mm， 最大像素可达到0.3mm x 0.3mm, Detection matrices and bars can be used for position sensitive detection. YAP:Ce, YAG:Ce, LuAG:Ce, BGO, CRY19 and others are the scintillation materials used for this purpose. The size of detection elements ranges from several tenths of mm up to several mm depending on the scintillation material and on the design of the array. Our special production technology enables very compact designs with distance between pixels of less then 0.050 mm. The minimum pixel size is 0.3 mm x 0.3 mm我们根据用于的要求进行特别设计，请联系我们：

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

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