产品简介:PERI-RIE是韩国ULtech公司生产的一款基于反应离子刻蚀(RIE)技术的干法刻蚀系统。RIE是一项应用于精密加工的刻蚀技术,相比湿法刻蚀具有不同的优势。 主要参数:应用金属及介电材料刻蚀刻蚀材料SiO2, Si3N4, Si, Al, GaN, HfO2, Al2O3,石墨烯,…基底尺寸最大12英寸产能1 wafer/次源注入类型双离子束供电射频功率最大值2Kw@13.56MHz(带射频匹配网络)极限压力 5.0E-3 Torr压力控制自动压力控制(节流阀,气压计)气体输送SF6, CHF3, CF4, C4F8, BCl3,Cl2O2, Ar, He,…真空泵干泵或旋转泵控制器PC控制(UPRO软件)选项TMP,前置样品传送腔体(Loadlock chamber)系统尺寸(宽*深*高)800mm × 880mm × 1200mm 应用案例:Si3N4,Si,SiO2 etching Process data(RIE)
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