微波等离子体反应系统

绿色、环保、低成本、空气运行的元素分析技术 安捷伦4100 MP-AES拥有更安全、更经济、更高效的运行速度。更高的灵敏度、更低的检测限（亚ppb级）、全面超越火焰原子吸收光谱仪的分析效率。最具创新的是：安捷伦4100 MP-AES 采用了空气运行，无需再使用易燃及昂贵的气体，极大地降低了运行成本，提升了实验室的安全保障。产品特点最低的运行成本：安捷伦 4100 MP-AES 无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本高性能：电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器， 提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限简洁实用：专业的应用软件程序设计，即插即用的硬件设置，确保任何用户都能够快速安装操作，无需复杂的方法开发、校准或培训更高的实验室安全：除了无需使用易燃的氧化性气体外，4100 MP-AES使实验室无需引入多种复杂气体，无需人工搬运气体钢瓶可靠、耐用： 4100 MP-AES 运行稳定，适应性强。适用于危险气体采购价格昂贵、运输不便的边远地区，是采矿、食品及农业、化工、石化和制造等行业的理想选择

产品应用等离子体火炬（亦称等离子体发生器或等离子体加热系统）就是依据这一原理研制的专门设备。等离子体火炬通过电弧来产生高温气体，可在氧化、还原或惰性环境下工作，可以为气化、裂解、反应、熔融和冶炼等各种功能的工业炉提供热源。微波等离子体炬就是以微波为激发能量的开放式等离子体技术。产品特点1、微波激发开放式等离子体火炬产品平台，用于等离子状态下，气固液态材料的反应2、支持多种气氛条件的等离子体，3、支持混气和送样4、支持等离子体强度调节5、智能化控制系统，工艺可控技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率1000W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波等离子体激发腔设计：①中央聚焦强电磁场密度微波腔②内置微波调配系统（二）、功能系统1.等离子体系统：①开放式石英管等离子体反应系统②等离子体强度和主焰高度可调2.温度控制：①温度范围：1000℃，；②采用红外测温方式（700～1700℃），支持选配光学测温系统；3.气氛控制：①支持多种气氛条件的等离子体，②支持混气和流量控制，支持流动送样③支持选配尾气收集系统（三）、控制系统①采用PLC自动化控制：功率、强度、流量、时间可控②支持选配内腔视频系统，进行动态观察（四）、安全系统1.腔体多重联锁结构，开门断电，保护操作人员2.开口采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1500W2.设备供水：水冷系统3.外观尺寸：主体约：1400×1600×700mm（宽×高×深）4.设备重量：80kg5.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

仪器介绍：采用单模聚焦微波技术，微波从激励腔，经过专用微波装置隔离保护，通过波导传输，以单一模式进入微波反应腔，在微波反应腔内形成一个高功率密度的稳定微波场，可明显缩短反应时间、显著提高产率和纯度。仪器特点：1.该系统由微波功率源，环行器隔离保护装置，微波检波及驻波调节系统，单模谐振腔，终端调谐波导等波导系统组合而成。全部采用标准波导连接，可根据不同实验的需要自由拆卸和组合自己的反应系统，2.单模谐振腔可根据不同实验要求自由定制和更换，配终端调谐，单模聚焦可调。3.用于单模微波化学反应，单模微波合成反应，大幅提高微波反应的效率，也可用于微波等离子放电，微波UV实验等用途。系统也可用于连接多模谐振腔。技术参数：1.微波功率：0-1000W连续线性可调，采用先进的模糊算法，实时动态改变（稳定）腔体内的功率密度2.微波频率：2450MHz± 50MHz3.输入电源：220V，50HZ4.配单模谐振腔，用于进行单模微波条件下的各种反应5.全中文真彩触摸式人机界面，工业级微电脑作为中心控制处理器。6.全部采用标准波导连接，可根据不同实验的需要自由拆卸和组合自己的反应系统7.配置专用微波隔离装置进行隔离保护，可抗全反射，即使反应物料剂量接近于零，仪器也可正常工作。8.配置波导耦合器、晶体检波器和波导调配器，在线对系统驻波进行观察调配9.单模谐振腔配终端调谐波导，单模聚焦可调10.高精度红外温度传感器实时监测控制反应温度11.测温控温范围0-500℃，精度± 1℃12.磁控管温度保护等多重连锁保护装置13.微波泄漏优于国家安全标准，安全可靠

法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150 SSDR150 微波等离子体化学气相沉积系统专门用于合成 CVD 金刚石薄膜，能够制备高纯单晶(需高纯气源）、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学级窗口。SSDR150 不断优化的微波及等离子体设计，是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统，能够完美地适用于高校科研和企业生产。 SSDR150 系统特点。 铝合金腔体+内置石英管反应室，支持长时间高功率下工作。工艺气压可达 350 mbar 或更高，可以高速率生长单晶。微波源为 2.45GHz、最大功率 6 kW，高耦合效率。标准配置 4 条气路，最多可增加至 7 条气路（掺杂气路）。2 英寸水冷样品台，高度电动可调、精度优于 10μm (可选)。双色红外高温计测试样品表面温度，范围 475-1475 °C。爱德华兹分子泵+ 干泵，最佳真空度≤ 3×10-7 mbar。高水平金刚石生长工艺培训及演示（内容根据应用而定）。全自动控制、半自动和手动可用，图形化操作界面（GUI）。多级用户设置和管理、远程诊断和维护、数据导出接口。多用途：高纯度单晶、厚单晶、大单晶、掺杂、光学窗口。设备维护少、安全、可靠、稳定、性价比高 应用领域。切削刀具、耐磨涂层、热沉材料、SAW。光学窗口、激光晶体、电化学电极、CNT。生物传感器、微机电系统、光电探测器。商用宝石、低压高温退火处理、量子计算 SSDR150 性能表现多晶金刚石:• 液氮温度下 PL 检测 无明显氮• 生长速率: 高达 10 μm/h, 取决于生长工艺 单晶金刚石: • 液氮温度下 PL 检测 无明显氮• EPR 测试氮浓度 : [Ns0] 1 ppb• 1332 cm-1 FWHM 金刚石拉曼谱线: 1.6 cm-1• 4000 – 10000 cm-1无红外波段吸收• 生长速率: 高达 20 μm/h, 取决于生长工艺条件

产品应用适用于新材料（包括薄膜，纤维，粉末以及高性能复合材料等）的制备，金属制品的表面强化和防腐蚀，纺织品的后整理，高聚物聚合及其表面改性，微电子器件及高功率电子器件和光电子器件的制造，纳米材料的制备和器件的开发，高效照明光源和紫外光源的开发，有毒有害气体的分解净化及其它三废处理等多个工业技术领域。产品特点1、采用井式高温管道式腔体结构，密封盖体可以自动升降，取放物料更方便2、密封盖体上设置4路气氛结构，2路喷雾接口，设置旋转电机，驱动内置托架和物料 3、设置防漏波监视口，（1）平常状态下LED灯观察内部物料情况（2）等离子激发状态，观察内部等离子体反应情况4、采用PLC程序控制模式，具有更智能的工艺控制模式。技术参数 产品类型微波等离子体炉型号 / 品名MKP-T4UA 微波等离子体炉微波参数功率 0～3200W / 2450MHz 无级可调微波腔体材质 / 密封不锈钢一体焊接成型，真空密封，极限真空-0.099MPa等离子腔体反应器卧式石英管结构，微波等离子产生区（Φ300×400mm）观察口单观察口气流控制系统全密封，采用真空结构，进出气口，6路气氛操控系统 温控～1700℃红外测温控制PLC智能控制，彩色触摸屏人机对话操作数据支持预制多个方案，多段记忆，数据导出；时间、温度曲线显示，即时监控安装尺寸宽*深*高1200×1000×1900mm，落地放置

产品应用适用于新材料（包括薄膜，纤维，粉末以及高性能复合材料等）的制备，金属制品的表面强化和防腐蚀，纺织品的后整理，高聚物聚合及其表面改性，微电子器件及高功率电子器件和光电子器件的制造，纳米材料的制备和器件的开发，高效照明光源和紫外光源的开发，有毒有害气体的分解净化及其它三废处理等多个工业技术领域。产品特点1、采用卧式高温管道式腔体结构，气路为左进右出，中间设置等离子观察口2、左侧设置2路混气气氛结构3、设置防漏波监视口，等离子激发状态，观察内部等离子体反应情况4、采用PLC程序控制模式，具有更智能的工艺控制模式。 技术参数产品类型微波等离子体炉型号 / 品名MKP-T2HA 微波等离子体炉微波参数功率0～1600W / 2450MHz 无级可调微波腔体材质 / 密封不锈钢一体焊接成型，真空密封，极限真空-0.099MPa等离子腔体反应器卧式石英管结构，微波等离子产生区（40×400mm）观察口单观察口气流控制系统全密封，采用真空结构，进出气口，2路气氛操控系统温控～1700℃红外测温控制PLC智能控制，彩色触摸屏人机对话操作数据支持预制多个方案，多段记忆，数据导出；时间、温度曲线显示，即时监控安装尺寸宽*深*高1500×800×800mm，台式放置

微波等离子体刻蚀机VP-Q5等离子激发频率2.45GHz，真空腔体石英玻璃材料，腔体容积5升，中英文操作系统，触摸屏控制，频率2.45GHz有强的化学作用，适用于芯片微波刻蚀、晶圆去胶、半导体光刻胶去除、金属油污去除、半导体、塑料、PP、高分子等材料清洗，活化，蚀刻和改性。

微波等离子体去胶机VP-Q10等离子激发频率2.45GHz，真空腔体石英玻璃材料，腔体容积10升，中英文操作系统，触摸屏控制，频率2.45GHz有强的化学作用，适用于芯片去胶、晶圆去胶、半导体光刻胶去除、金属油污去除、半导体、塑料、PP、高分子等材料清洗，活化，蚀刻和改性。

PVA-TePla微波等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，去胶均匀。典型应用：去除光刻胶 Photo-resist stripping 去除残胶 Wafer descum晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaningsu-8灰化 Su-8 ashing氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.刻蚀钝化层 Etching of passivation layers逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes规格参数：2.45GHz风冷微波电源（0～600w可调），石英或陶瓷腔体，防腐蚀不锈钢MFC,多至6路气体，兼容8英寸及以下晶圆PC 工控机控制，运行数据自动存储；分级控制权限，防止操作图形化触控屏界面，运行状态图形化实时显示。自动/手动随意切换可选配法拉第桶可选配温控系统可选配压力控制系统外形尺寸：775×749×781 mm 认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001IoN Wave 10 等离子体去胶机是PVA TePla 在微波等离子体处理工艺中的新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适用、性能先进。IoN Wave 10 使用新的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。其工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。IoN Wave 10 占地面积小，安装维护简单。依靠微波等离子体技术，该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时，降低了产品暴露在静电中风险。

沃特塞恩DM-8000型微波等离子体CVD设备可提供最大70mm金刚石生产能力，实现高效率、无人化管理的稳定批量产出。 超洁净级的真空系统 全进口的集成化供气系统 样品台冷却系统采用Duel-Loop控制 自动化的工艺生长控制系统 在线视觉检测功能DM-8000型微波等离子体CVD设备-专业的培育钻石设备，工艺简单易学，生长迅速，提供技术支持。人造钻石就是这么简单。需要更详细的参数请联系沃特塞恩销售人员，我们会给你发送详细的规格书，也可为你解答各种疑问！

微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）, 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。 MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的 CYRANNUS 等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。应用领域● 大尺寸宝石单晶钻石● 高取向度金刚石晶体● 纳米结晶金刚石● 碳纳米管/类金刚石碳（DLC）● MPCVD同样适用于其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。MPCVD等离子化学气相沉积设备特点 1.CYRANNUS技术无需在样品腔内安装内部电，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期。2.CYRANNUS技术的腔外多电设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由CYRANNUS系统合成的金刚石，纯度均在VVS别以上。3.电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高。4.微波发生器稳定易控，能在从10 mbar到室压的高压强环境下维持等离子体，在气流、气压、气体成分、电压出现波动时，确保等离子体状态的稳定，保证单晶生长的过程不被上述干扰而中断，有利于获得大尺寸单晶金刚石。5.可以采用磁约束的方法，约束在等离子团在约定的空间内，微波结和磁路可以兼容。6.安全因素高。高压源和等离子体发生器互相隔离，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准。7.可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足从实验室小型设备到工业大型装置的不同需要。可以对直径达到300mm的衬底沉积金刚石薄膜。化学机理概要碳氢化合物：提供沉积材料氢气：生成sp3键氧：对石墨相/sp2键侵蚀惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体。适用合成材料：大尺寸宝石单晶钻石高取向度金刚石晶体纳米结晶金刚石碳纳米管/类金刚石碳（DLC）金刚石薄膜宝石钻石vvs1,~1 carrat, E grade设备选件多种等离子发生器选择： 频率：2.45 GHz, 915 MHz 功率：1-2 kW, 1-3 kW, 3-6 kW,1-6 kW，5-30 kW 等离子团直径：70 mm, 145 mm, 250 mm, 400 mm 工作其他范围：0-1000 mBar 其他应用：MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要。发表文章1. Use of optical spectroscopy methods to determine the solubility limit for nitrogen in diamond single crystals synthesized by chemical vapor deposition, Journal of Applied Spectroscopy, Vol. 82, No. 2, May, 2015 (Russian Original Vol. 82, No. 2, March–April, 2015).2. Large Area Deposition of Polycrystalline Diamond Coatings by Microwave Plasma CVD. Trans. Ind. Ceram. Soc., vol. 72, no. 4, pp. 225-232 (2013).用户单位中科院沈阳金属所吉林大学

设备介绍：微波等离子清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。设备特点：微波等离子清洗机技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。微波等离子清洗机还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染设备应用：微波等离子清洗系统广泛应用于晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、引线框架、IGBT模块、带治具的MEMS传感器、射频器件等领域的表面处理

产品应用微波超高压反应器是指体系承受压力10MPa的高温反应系统，在业界内也称为“超级微波”，超级微波的设计，突破了传统微波压力反应器（以微波消解仪和微波水热合成仪为代表）的两个技术瓶颈，即非金属压力体系条件下的高温度（300?C)和高压力（10MPa），对于化学反应过程和前处理消解溶样过程都具有现实的意义，例如与传统微波消解仪相比，超级微波的设计核心在于预加压消解腔体。将所有的消解管防止在腔体中进行加热。依靠整个腔体的密闭作用，而不是每个反应管单独密闭。因此与传统微波每个反应管需要管套耐压不同，它的每一个反应管的内外压平衡。因此不像普通微波一样对管子材料要求很高。只需要普通的玻璃或特氟龙反应管即可，可以实现非一致性物料的一致性处理。产品特点1、密闭式超级微波高温高压化学反应平台2、支持300℃ / 10MPa 以内密闭反应体系，支持自生压力和预加压力3、支持500ml～1000ml多规格密闭高压合空间4、支持多通路10ml～100ml平行反应管（罐）5、支持电磁搅拌，支持水冷散热系统6、智能化控制系统，温度、功率、压力、速度闭环可控7、实验数据曲线显示且可以导出数据8、可拓展产品：（1） 300℃高温反应工艺；（2） 10MPa高压反应工艺；技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率500W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波反应腔设计：②内表面涂覆多层特氟龙防腐涂层，适合酸碱腐蚀及高温的环境下使用，且易于擦拭清理3.单模内腔尺寸：约1L，适合容量的密闭压力合成容器的工艺装配（二）、功能系统1.反应系统：②18位10ml玻璃反应管，支持平行合成反应工艺2.温度控制：②采用光纤或热电偶测温方式3.压力控制：②采用接触式测压方式③系统设置自动增压和泄压管路4.匀料控制：磁力搅拌模式5.磁力搅拌：采用特氟龙包裹转子，磁力驱动，速度可调6.过程监控：②内部设置快速风机强排系统，排除异常出现的气体（三）、控制系统1.采用PLC编程控制：一体化控制终端，温度、压力、功率均智能可控2.触摸屏采用分体控制，人机对话环境良好，即时显示时间、温度、功率曲线3.多套程序记忆功能，可对程序和数据进行存储、修改、调用、删除等系统操作（四）、安全系统1.反应腔全机械密封，采用仪表和视频监控和报警系统，保护操作人员2.反应腔开口设置金属顶盖结构，顶盖多重联锁结构，开盖断电，保护操作人员3.控制系统与设备分体控制，减少工艺过程中不必要设备接触4.反应腔开口采用微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1300W2.外观尺寸：主体约：731×575×400mm（宽×高×深）3.设备重量：75kg4.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。真空室结构:1个中央传输室：蝶形结构；3个沉积室：方形结构； 1个进样室：方形结构真空室尺寸:中央传输室：Φ1000×280mm ； 沉积室：260×260×280mm ；进样室：300×300×300mm限真空度:中央传输室：6.67E-4 Pa；沉积室：6.67E-6 Pa ；进样室：6.67 Pa沉积源:设计待定样品尺寸，温度:114X114X3mm， 加热温度350度，机械手传递样品占地面积（长x宽x高）:约13米x9米x2.3米（设计待定）电控描述:全自动控制工艺:在80X80mm范围内硅膜的厚度均匀性优于±5%特色参数:共有8路工作气体

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的材料制备技术，广泛应用于物理学、化学、材料科学等多个领域。该系统通过在高真空环境下利用射频、微波等能量源将反应气体激发成等离子体状态，进而在基片表面发生化学反应，沉积出所需的薄膜材料。这种技术具有沉积温度低、沉积速率快、薄膜质量高等优点，能够制备出多种功能性薄膜，如氧化硅、氮化硅、碳化硅、多晶硅等。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层等关键薄膜，提高器件的可靠性和性能。光伏产业：在太阳能电池制造中，PECVD系统被广泛应用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜、减反射膜等，以提高光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示器件的制造中，PECVD系统用于制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等关键薄膜。微电子与纳米技术：在微纳电子器件、纳米传感器等领域，PECVD系统能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如抗腐蚀层、绝缘层等。3. 设备特点 1 高真空环境：PECVD系统通常配备有高真空泵组，以确保反应室内的真空度达到较高水平，从而减少杂质对薄膜质量的影响。 2 等离子体增强：通过射频或微波等能量源将反应气体激发成等离子体，使气体分子高度活化，降低反应温度，提高沉积速率和薄膜质量。 3 精确控制：系统配备有精密的控制系统，可以对反应气体的流量、压力、温度以及射频功率等参数进行精确控制，从而实现对薄膜厚度、成分和结构的精确调控。 4 多功能性：PECVD系统具有广泛的应用范围，可以制备出多种不同成分和结构的薄膜材料，满足不同领域的需求。4 设备参数真空室结构:方形侧开门真空室尺寸:设计待定限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:设计待定 样品尺寸，温度:设计待定占地面积（长x宽x高）:约6米×3米x2米（设计待定）电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

1. 产品概述Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统。2. 设备用途/原理Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统，填孔能力以及高沉积速率，温度场和 ICP 电磁场设计保证了低温高致密的膜质表现，优化机台结构，缩小占地面积，友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸，适用材料氧化硅。适用工艺浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层。适用域 新兴应用、集成电路。等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。

微波UV反应系统（定制） 微波功率：1500W 微波频率：2450MHz± 50MHz

多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：&le ± 1℃；；实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：室温-500℃，控温精度：&le ± 1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；（图）：多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌

多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：&le ± 1℃；；实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：室温-500℃，控温精度：&le ± 1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；（图）：多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌

多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：&le ± 1℃；；实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：室温-500℃，控温精度：&le ± 1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；（图）：多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌

MPCVD 法是在微波能量的作用下，将沉积气体激发成等离子体状态，在由微波产生的电磁场的 作用下，腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡，促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的 相互碰撞，从而有效地提高反应气体的离化程度，达到辉光发电，产生更高密度的等离子体。德国 iplas 公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS），可在反应腔中实现极高的 SP3 键转 化率，使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团，从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积 质量得到改善，这正是获取优质金刚石的技术基础。德国 iplas 推出的微波等离子化学气相沉积系统（MPCVD），其真空室的形式为金属腔-石英管一体式，压力操作范围从 10mbar 到室压范围，可制 备大尺寸、优质金刚石（工艺参数得当可制备出首饰级钻石）和高均匀性的金刚石厚膜。1.CYRANNUS 技术采用多天线激发技术，开创性解决了高气压下等离子体团不稳定、闪烁的问题。可以在更高的功率（100kw）,更高的气压（室压）下仍然保持稳定的等离子体团，因此为高速 生长优质金刚石膜提供了可能。2. CYRANNUS 多天线耦合技术配合 Iplas 专利的 E-H 调节器，可对前向和反射微波功率进行调节 和测量。反射功率可以控制在 5%以下。3. CYRANNUS 多天线耦合技术的高能量密度保证了极高的 SP3 键的转换率，相较于传统等离子技 术 CVD 系统，可以获得更高品质的金刚石。4. CYRANNUS 多天线耦合技术将激发的等离子体团集中在腔体中，远离石英管，所以对石英管的加热效应有限，风冷+水冷的冷却措施可以防止反应壁过热的问题。

XO-SM系列超声波微波协同反应系统是由本公司与南京航空航天大学历经多年合作开发的新型专利产品，国家发明专利号：ZL201320424003.9,在化工制备与检测领域内，首次将超声与微波技术无干扰结合，实现了超声波与微波的协同处理。基于此项技术，XO-SM系列产品具有超声波和微波功率独立可调、定时定温全程视窗控制等功能。适用于快速、高效、靶向合成指定化工单体及目标混合物，适用领域涉及中草药物有效成分的萃取，有机无机化合物、药物中间体以及纳米材料的合成，能源燃料及其新能源产品的开发，处理过程具有化学选择性高、萃取效率高、有效成分损失率低、产物结晶度高等特点，并且在无机高分子聚合以及金属纳米材料制备过程中，实现了均匀化定径合成，而且可以有效克服有机物参与下的副反应及其链反应等非目标反应等。 南京先欧仪器制造有限公司【XO系列新款超声波微波协同反应系统】超声波微波组合反应系统包括超声波装置，微波装置，循环冷水机（选配）、升降装置、冷凝回流装置、可视化操作界面、光纤测温附件、程序控制制冷或超导降温装置等。超声波装置包括超声探头、超声波换能器、超声波电源、超声温度控制显示器、超声时间控制显示器、超声功率控制显示器；微波装置包括磁控管、波导、微波温度控制显示器、微波时间控制显示器、微波功率控制显示器；循环冷水机装置包括温度控制显示器（最低工作温度（-80℃）、时间显示控制器，循环泵；冷凝装置包括回流式冷凝器、三角瓶、玻璃导管、密封塞及循环保温材料；可视化操作界面包括可视化操控系统以及实时反应监测系统；光纤测温附件包括国外最先进的光纤测温设备以及铂金电阻传感器件；制冷及超导降温装置包括程序控制制冷与超导快速降温体系。产品特点超声波微波协同反应系统主要特点介绍系统特点： ●南京先欧XO-SM系列超声波微波协同反应系统，具有微波、超声波、微波超声波单独控制和协同功能。系统同时实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。 ●采用国外最先进脉冲式微波发生系统，性能稳定；微波功率可微调；微波频率：2450MHz； ●超声功率可微调；超声频率：25KHz，超声频率范围可选择15-40KHz，超声探头可选择介入或非介入样品，通过空化效应或者空气传输，作用于样品功能。 ●超声波换能器具有自动升降功能，可根据实验要求精确控制浸入液面，垂直升浸入液面精确度：±0.1mm.●配有紫外光催化装置，波长：253.7nm，功率200W。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●反应容器可选配带有独特设计的通冷水装置功能：可控制温度：-40-500℃，世界首创； 可有效控制因微波发射生产的高温，使微波的使用率达到100%，使反应物质在设定的反应条件下得到最大限度的微波作用，保证反应产物的均一性和高产率； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示，实时显示样品工作状态； ●可选配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：≤±1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作， 在0-9999s可调； ●微波、超声可同时进行编程式程序控温、定时、功率可调； ●各种超声探头直径：Φ2、Φ3，Φ10，Φ15，Φ18，Φ25，Φ30，Φ35适合不同口径的反应容器； ●配不同速度的磁力搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，；整机微波反应器泄漏符合国际标准，并通过省计量科学院电磁辐射安全认证。并通过欧盟电气安全CE认证，配有证书。 选型表：型 号超声功率超声频率微波功率微波频率(MHZ)处理量（ml）超声探头直径（随机）XO-SM500~900W25KHZ0~700W24500.5~500Φ6XO-SM1000~1000W25KHZ0~1000W245050~800Φ10XO-SM2000~1200W25KHZ0~1200W2450100~1500Φ20XO-SM3000~1800W25KHZ0~1800W2450300~3000Φ30XO-SM4000~2500W25KHZ0~3000W2450400~4000Φ40XO-SM5000~3500W25KHZ0~5000W24501~12LΦ30（双通道超声波） 清华大学化学工程系、国防科技大学航天与材料工程学院、中国科学院上海硅酸盐研究所、华中科技大学材料科学与工程学院、中国药科大学天然活性物质与功能国家重点实验室、江南大学食品学院、河南工业大学食品学院、河南轻工业学院材料科学与工程学院、山东省农业科学院、陕西师范大学天然药物化学教育部重点实验室、同济大学环境科学与工程学院、华东理工大学材料科学与工程学院、南京大学材料科学与工程系、南京理工大学化工学院、南京工业大学材料科学与工程学院、中国林业科学院昆明昆虫植物研究所、南京理工大学化工学院、江苏省建筑科学研究院、南京航天航空大学纳米材料研究中心等有关单位已采用改设备，并有文章发表,如：1、Xiaoguo Liu, Kaili Lin, Chengtie Wu, Yueyue Wang, Zhaoyong Zou and Jiang Chang, Multilevel Hierarchically Ordered Artificial Biomineral, Small, DOI: 10.1002/smll.201301633. SCI影响因子=7.823(中科院上海硅酸盐研究所）2、Daming Fan, Wenrui Ma, Liyun Wang, Jianlian Huang, Jianxin Zhao ,Hao Zhang, Wei Chen*. Determination of structural changes in microwaved rice starch using Fourier transform infrared and Raman spectroscopy. STARCH-STARKE, 2012, 64(8): 598-606，SCI,IF=1.243江南大学食品学院3、Xiao-Lan Cheng, Jin-Yi Wan, Ping Li，Lian-Wen Qi. Ultrasonic/microwave assisted extraction and diagnostic ion ?ltering strategy by liquid chromatography–quadrupole time-of-?ight mass spectrometry for rapid characterization of ?avonoids in Spatholobus suberectus. Journal of Chromatography A, 1218 (2011) :5774– 5786. (SCI, IF = 4.356) （中国药科大学天然药物活性组分与药效国家重点实验室）4、Microwave-assisted growth of In 2 O 3 nanoparticles on WO 3 nanoplates to improve H2S-sensing performance .Journal of Materials Chemistry A.2014, 2, 18867–18874 | 18867 (SCI,IF影响因子=6.626) （郑州大学材料科学与工程学院）

产品特点 WB4545采用高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理，微波等离子高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。等离子体表面改性有机物表面等离子体清洁邦定强度增强 等离子体刻蚀应用等离子体灰化应用增强或减弱浸润性去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用焊接前进行表面清洁、去除焊剂、引线键合之前的表面准备消除表面污染、表面消毒相关应用防止包封分层提高焊线质量增加键合强度光刻胶剥离或灰化清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架提高可靠性，尤其是多接口的高级封装产生亲水或疏水表面产品优势：先进微波技术 ，清洗干净彻底，无残留成份，无需干燥处理无电极等离子发生器和高密度自由基使料盒内部清洗处理达到高度一致性定制等离子反应器气体输入和泵速的控制离子密度高，一致性好在线兼容优化加工条件 低运营成本无废水，符合环保要求低能耗 技术参数 ◆ 外形尺寸(不包括报警灯) 1000(W)×800(D)×1750(H)mm ◆ 仓体结构(铝，约125升) 450(W)×450(D)×450(H)mm ◆ 旋转平台 Φ 350mm ，转速可调节◆ 等离子发生器(美国) 频率2.45GHZ,功率0-1200W连续调节,可连续长时间工作◆ 控制系统 触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式 ◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制) 英国爱德华爪式干泵 GV100 美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器 台湾气动真空角阀、充气阀、DN63不锈钢真空波纹管◆ 充气系统 美国MKS高精度电子质量流量计(2路气体配制) 美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀 日本SMC及CKD高真空气阀组件

1. 产品概述：高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积（PECVD）系统是一种先进的薄膜制备设备，它结合了化学气相沉积（CVD）与等离子体技术的优势。该系统在高真空环境下，通过射频、微波等手段激发气体形成等离子体，使气体分子高度活化并促进其在衬底表面发生化学反应，从而沉积出高质量的薄膜。PECVD系统广泛应用于半导体、光伏、平板显示、储能材料等领域，用于制备多种功能薄膜。2 设备用途/原理：半导体工业：用于制备集成电路中的钝化层、介电层、栅极绝缘层等，提高器件性能。光伏产业：制备太阳能电池板中的透明导电膜（TCO）、减反射膜等，提升光电转换效率。平板显示：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）显示屏中制备薄膜晶体管（TFT）的栅极绝缘层、钝化层等。储能材料：制备锂离子电池、超级电容器等储能器件中的电极材料，提高能量密度和循环稳定性。3. 设备特点1 高真空环境：确保沉积过程的纯净度和薄膜质量，减少杂质污染。2 等离子体增强：提高气体分子的活化能，降低反应温度，促进化学反应速率，有利于制备高质量薄膜。3 薄膜均匀性：通过优化气体流动和等离子体分布，实现薄膜厚度的均匀控制。4 灵活性高：可根据需要调整沉积参数（如气体种类、流量、压力、温度等），制备不同成分和结构的薄膜。5 自动化程度高：集成先进的控制系统和监测设备，实现自动化操作和实时监控，提高生产效率和产品质量。4 设备参数真空室尺寸:φ400x300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:设计待定样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高600℃占地面积（长x宽x高）:约2.6米x1.6米x1.8米电控描述:全自动工艺:设计待定特色参数:设计待定

系统配置：■安捷伦4100MP-AES微波等离子体原子发射光谱仪■必须的组件（管道、线路）这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：仪器简介：◇最低的运行成本——安捷伦4100MP-AES无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本◇高性能——电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器，提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限

WB5050是使用微波等离子体发生器的远程冷等离子体刻蚀系统。手动设备适合于许多不同的应用，例如应力去除、特殊表面合理和晶圆减薄。该等离子系统的干法刻蚀作用是由下游腔室引导的活性等离子微粒（自由基）产生的纯化学反应。　WB5050微波等离子刻蚀机操作简便，易于手工装载和卸载。该工艺不需要任何额外的基体清洗。严格使用纯自由基进行表面处理。无电子和无离子工艺是成功处理NAND和DRAM等极端敏感的硅基体的关键因素。等离子体由位于工艺腔室顶部，距晶圆上方2.45 GHz的磁控管产生，可以处理所有尺寸的晶圆，包括8"和12" 的带框架的晶圆。　 该等离子刻蚀设备适用于工艺开发和中试生产产品特点： 极低的基板热负荷，专为SU-8灰化及硅蚀刻进行了优化（如MEMS应用） 可蚀刻或移除所有有机物质如SU-8，或其他环氧基物质 速度快 无有机残留物 纯化学蚀刻：无离子损伤，各向同性 无热冲击：仅依靠反应能量进行。对金属无损伤，如镍, 镍/铁, 金, 铜等 对硅及硅化合物仅有极轻微损伤，如SiO2 或 Si3N4 可进行高度比极大的蚀刻 可剥离超厚光刻胶层（大于1mm） 能同时对带有不同厚度光刻胶的基板进行蚀刻 温度控制高达200℃ 基板尺寸可达 460mm x 460mm 高蚀刻速率 在超大面积上超过200um/h(批量9x6”晶圆) 并与厚度无关 硬烘烤条件(HB)下蚀刻率与穿透性无关； 非HB及200℃ HB的蚀刻率差别小于10% 高度自动化，对每块基板可实现结束点检测 高度符合环保要求 相关应用- MEMS- 半导体晶圆刻蚀

MZYD10S型微波反应系统 产品介绍： 根据需要定制的微波反应系统或者用于产品中试放大 技术参数： 1) 微波输出功率：0-10KW分档可调，采用多磁控管输出方式 2) 输入电压：AC 380V± 10％ 3) 工作频率：2450MHz± 50 MHz 4) 输入视在功率：&le 18KVA 5)反应内腔尺寸（长*宽*高）：600mm*600mm*1000mm 6) 设备底部带脚轮 7)控制手段灵活，多个功率档位，每个管子即可单独控制，也可组合输出； 8)中文宽屏 &ldquo 人机界面HMI&rdquo 显示工作状态并能进行各项数据的设定与工作状态的监控； 9) 工业级可编程逻辑控制器作为中心控制器件 10) 各项参数可由用户在HMI触摸屏上自由设定； 11) 磁控管温度采样输出异常报警等多种故障报警方式监视；

产品介绍 多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统 二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：正负1℃；；●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌 如果你想了解更多关于多功能微波变频化学反应系统的相关信息，欢迎致电 、、，我公司将会有专业的团队为您服务，先欧公司期待您的来电！ 南京先欧仪器制造有限公司 公司地址：南京经济开发区新港大道42号先欧科技楼公司电话： 传 真： 售后服务部电话： 中文网站：http://www.xianouyq.com 英文网站：

仪器介绍：超声波微波组合反应系统 产品简介:XO-SM系列超声微波组合反应系统获得国家发明专利号：200712134456.2，本产品由超声波、 微波技术协同作用，具有超声和微波功率可调、可定时、温度等可控功能。适用于快速、高效、可控合成药物、有机化合物、无机化合物及纳米材料，具有化学选择性高、产物结晶度高、对无机、高分子聚合、金属纳米材料产品粒径非常均匀，而且可以有效克服有机物参与下的化学反应进行长时间反应产生的炭化现象等特点。通过本技术方案，可以使反应速度比单一微波或超声波催化方法加快许多倍，同时提高反应选择性和收率，使过去许多难以发生或速度很慢的化学反应或物理过程变得容易实现和高速完成。该设备包括超声波装置，微波装置，循环冷水机、升降装置、冷凝回流装置。超声波装置包括超声探头、超声波换能器、超声波电源、超声温度控制显示器、超声时间控制显示器、超声功率控制显示器；微波装置包括磁控管、波导、微波温度控制显示器、微波时间控制显示器、微波功率控制显示器；循环冷水机装置包括温度控制显示器（最低工作温度(-80℃)、时间显示控制器，循环泵；冷凝装置包括回流式冷凝器、三角瓶、玻璃导管、密封塞及循环保温材料。南京先欧仪器制造有限公司【XO系列新款超声波微波组合反应系统】型 号超声功率超声频率微波功率微波频率处理量超声探头直径（随机）XO-SM500~900W25KHZ0~700W2450MHZ0.5~500ml&Phi 6XO-SM1000~1000W25KHZ0~1000W2450MHZ50~800ml&Phi 10XO-SM2000~1200W25KHZ0~1200W2450MHZ100~1500ml&Phi 20XO-SM3000~1800W25KHZ0~1800W2450MHZ300~3000ml&Phi 30XO-SM4000~2500W25KHZ0~3000W2450MHZ400~4000ml&Phi 40XO-SM5000~3500W25KHZ0~5000W2450MHZ1~12L&Phi 30（配两支发生器）系统特点：●系列超声波微波组合反映系统具有微波、超声波、微波超声波单独控制和协同功能，系统具有可灵活组合特点。●采用韩国SAMSUNG微波发生系统，性能稳定；微波功率可微调；微波频率：2450MHz；●超声功率可微调；超声频率：25KHz，超声频率范围可选择15~40KHz，超声发生器具有不介入样品，通过空气传输，作用样品功能（世界领先技术）●反应釜可选配真空泵抽走水分、可做超低温微波真空干燥或其他需排走水蒸气或其他反应气体的液相反应实验；●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）；●反应容器可选配带有独特设计的通冷水装置功能：可控制温度：-40~500℃，世界首创； 可有效控制因微波发射生产的高温，使微波的使用率达到100%，使反应物质在设定的反应条件下得到最大限度的微波作用，保证反应产物的均一性和高产率；●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存；●带有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示，实时显示样品工作状态；●采用高精度探入式PT1000镀金传感器测温，实时检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0~300℃，控温精度：&le ± 0.1℃；●采用独有的变频式鼓风散热功能，使腔体内温度保持均匀；●工作时间：可连续工作， 在0~9999s可调；●同时对微波、超声进行可编程式程序控温、定时、功率可调；●可选择玻璃容器、聚四氟乙烯材料反应系统；●各种超声探头直径：&Phi 2、&Phi 3，&Phi 10，&Phi 15，&Phi 18，&Phi 25，&Phi 30，&Phi 35适合不同口径的反应容器；●配不同速度的磁力搅拌和样品升降装置，以便与微波联用；●仪器自带玻璃导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应；●具有超温和传感器异常保护，高可靠性安全性；●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用； 中科院上海硅酸盐研究所、中国林业科学院昆明昆虫植物研究所、同济大学环境科学与工程学院、南京理工大学化工学院、江苏省建筑科学研究院、苏博特新材料研究中心、盐城工学院化学与生物工程学院、南京工业大学材料科学与工程学院、南京航天航空大学纳米材料研究中心等有关单位已采用改设备，并有文章发表，如：Guoan Tai and Wanlin Guo, Sonochemistry-Assisted Microwave Synthesis and Optical Study of Single-Crystalline CdS Nanoflowers, Ultrasonic Sonochemistry, 2008, 15: 350~356. (SCI, IF=2.434) （纳米材料制备的研究）南京航天航空大学纳米材料研究中心。

仪器介绍：超声波微波组合反应系统 产品简介:XO-SM系列超声微波组合反应系统获得国家发明专利号：200712134456.2，本产品由超声波、 微波技术协同作用，具有超声和微波功率可调、可定时、温度等可控功能。适用于快速、高效、可控合成药物、有机化合物、无机化合物及纳米材料，具有化学选择性高、产物结晶度高、对无机、高分子聚合、金属纳米材料产品粒径非常均匀，而且可以有效克服有机物参与下的化学反应进行长时间反应产生的炭化现象等特点。通过本技术方案，可以使反应速度比单一微波或超声波催化方法加快许多倍，同时提高反应选择性和收率，使过去许多难以发生或速度很慢的化学反应或物理过程变得容易实现和高速完成。该设备包括超声波装置，微波装置，循环冷水机、升降装置、冷凝回流装置。超声波装置包括超声探头、超声波换能器、超声波电源、超声温度控制显示器、超声时间控制显示器、超声功率控制显示器；微波装置包括磁控管、波导、微波温度控制显示器、微波时间控制显示器、微波功率控制显示器；循环冷水机装置包括温度控制显示器（最低工作温度(-80℃)、时间显示控制器，循环泵；冷凝装置包括回流式冷凝器、三角瓶、玻璃导管、密封塞及循环保温材料。南京先欧仪器制造有限公司【XO系列新款超声波微波组合反应系统】型 号超声功率超声频率微波功率微波频率处理量超声探头直径（随机）XO-SM500~900W25KHZ0~700W2450MHZ0.5~500ml&Phi 6XO-SM1000~1000W25KHZ0~1000W2450MHZ50~800ml&Phi 10XO-SM2000~1200W25KHZ0~1200W2450MHZ100~1500ml&Phi 20XO-SM3000~1800W25KHZ0~1800W2450MHZ300~3000ml&Phi 30XO-SM4000~2500W25KHZ0~3000W2450MHZ400~4000ml&Phi 40XO-SM5000~3500W25KHZ0~5000W2450MHZ1~12L&Phi 30（配两支发生器）系统特点：●系列超声波微波组合反映系统具有微波、超声波、微波超声波单独控制和协同功能，系统具有可灵活组合特点。●采用韩国SAMSUNG微波发生系统，性能稳定；微波功率可微调；微波频率：2450MHz；●超声功率可微调；超声频率：25KHz，超声频率范围可选择15~40KHz，超声发生器具有不介入样品，通过空气传输，作用样品功能（世界领先技术）●反应釜可选配真空泵抽走水分、可做超低温微波真空干燥或其他需排走水蒸气或其他反应气体的液相反应实验；●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）；●反应容器可选配带有独特设计的通冷水装置功能：可控制温度：-40~500℃，世界首创； 可有效控制因微波发射生产的高温，使微波的使用率达到100%，使反应物质在设定的反应条件下得到最大限度的微波作用，保证反应产物的均一性和高产率；●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存；●带有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示，实时显示样品工作状态；●采用高精度探入式PT1000镀金传感器测温，实时检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0~300℃，控温精度：&le ± 0.1℃；●采用独有的变频式鼓风散热功能，使腔体内温度保持均匀；●工作时间：可连续工作， 在0~9999s可调；●同时对微波、超声进行可编程式程序控温、定时、功率可调；●可选择玻璃容器、聚四氟乙烯材料反应系统；●各种超声探头直径：&Phi 2、&Phi 3，&Phi 10，&Phi 15，&Phi 18，&Phi 25，&Phi 30，&Phi 35适合不同口径的反应容器；●配不同速度的磁力搅拌和样品升降装置，以便与微波联用；●仪器自带玻璃导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应；●具有超温和传感器异常保护，高可靠性安全性；●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用； 中科院上海硅酸盐研究所、中国林业科学院昆明昆虫植物研究所、同济大学环境科学与工程学院、南京理工大学化工学院、江苏省建筑科学研究院、苏博特新材料研究中心、盐城工学院化学与生物工程学院、南京工业大学材料科学与工程学院、南京航天航空大学纳米材料研究中心等有关单位已采用改设备，并有文章发表，如：Guoan Tai and Wanlin Guo, Sonochemistry-Assisted Microwave Synthesis and Optical Study of Single-Crystalline CdS Nanoflowers, Ultrasonic Sonochemistry, 2008, 15: 350~356. (SCI, IF=2.434) （纳米材料制备的研究）南京航天航空大学纳米材料研究中心。