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研究级影像校正光栅仪

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  • 连续光源原子吸收仪器中的背景校正问题

    连续光源原子吸收仪器中的背景校正问题

    连续光源原子吸收信号本身就具有背景信息,利用这些信息可以进行背景校正,并不需要附加的装置。不过从近些时间论坛里一些讨论来看,许多朋友应该对这个问题并不太清楚。本人有一段时间研究过连续光源原子吸收系统,恰逢其会,写下一些文字加以简单说明,也为有志于深入探讨这项技术的朋友提供一些基础文字。和传统的线光源原子吸收(LSAAS)系统相比,连续光源原子吸收(CSAAS)最大的不同当然是光源,后者采用了氙气电弧灯,除了波长短于200nm以下的少数几条谱线强度较低外,这种光源能够覆盖整个原子吸收光谱谱域。然而这并不意味着仅仅是光源改变那么简单。在LSAAS系统中,由于空心阴极灯(HCL)发射的元素谱线宽度很窄,大约只有几个pm(1pm=0.001nm),因此,从单色器出射狭缝出来的辐射光的光谱成分也是很“单色”的,尽管单色器的光谱通带并不窄,通常不小于0.2nm,但依然相当于几个pm的光谱分辨率。当然,HCL还会产生其他的一些谱线,比如阴极共存元素的发射谱线、内部充入的少量惰性气体的发射谱线以及同一元素的次灵敏线和离子线。不过只要这些谱线和分析所选择的谱线距离大于光谱带宽,就不会影响对分析谱线的测定。连续光源的情况则不同,由于光源辐射整个谱域的光谱,所以常规原子吸收的光谱分辨率根本不能满足要求。这就是说,CSAAS必须使用高分率的色散系统。目前能够提供足够高的光谱分辨率的实用系统只有中阶梯光栅系统,这种系统以大的衍射谱级和大的衍射角获得很高的光谱分辨率,但问题是这种系统的衍射谱级一般在20~80之间,不同谱级的重叠部分很大,自由光谱区域(FSR)很小,因此需要采用谱级分离装置。在中阶梯光栅色散系统中,通常前置一个棱镜色散系统,后者的色散方向和前者相互垂直,起了谱级分离的作用。棱镜色散没有谱级干扰问题,正好用于这个目的。正交耦合的棱镜色散和中阶梯光栅色散系统产生的是一个二维衍射图,而不像常规光栅色散系统那样产生干涉条纹图。举个形象的例子加以说明:前者产生的是二维码图案,后者产生的仅仅是普通的条码图案。如果用固定的PMT来读取光谱信号,就得同时转动光栅和棱镜,由于棱镜色散的非线性,中阶梯光栅的高分辨率,都使得这样的调节机构变得十分复杂,且要求相当精密,因此目前为止没有人采用这种方法。第二种方法是把PMT装在一个可以二维移动的平台上,通过移动PMT读取需要的谱线信息。实际上早期的ICP发射光谱系统也有这样做的。随着半导体技术的发展,CCD图像检测器件的出现,中阶梯光栅耦合CCD器件的系统逐渐成为原子光谱全谱同时检测的主要方案,这种系统能够以很高的分辨率一次读取整个谱域内所有波长位置的信息,而不需要任何移动部件。显然,CSAAS系统意味着连续光源、中阶梯光栅色散系统以及CCD图像检测器,这与LSAAS完全不同。同时,LSAAS中经常使用的D2灯背景校正器、自吸效应背景校正器等以谱线为对象的背景校正方法也不再适用于CSAAS。理论上塞曼效应背景校正技术是可以用于CSAAS的,问题在于CSAAS获取的信息中已经包含了背景信息,因此就无需多次一举了。如附图所示。图中蓝线代表光源的辐射光谱,红线代表背景吸收,绿线代表某原子谱线(中间的一个峰)及其附近两条谱线的吸收光谱。由于原子吸收以吸光值为分析信号,所以要获得准确的元素吸光值信号,就必须测定图中谱线峰值位置(P点)的三个信号,即Ip0、Ipb及Ip,然后用lg(Ip0/Ip)-lg(Ipo/Ip)=lg(Ipb/Ip)=lg(Ipb)-lg(Ip)计算元素的峰值吸光值。Ipo可以在原子化前测定,Ip实时测定,问题是Ipb无法测定。不过因为原子吸收谱线很窄,因此背景吸收曲线(红线)可以看成一条直线,因此可以用谱线两侧的两点(例如图中的h1和h2点)的线性内插估算出Ipb。假设谱线的峰值波长为l0,h1为l1,h2为l2,那么如果测得h1和h2处的信号,就会有:lg(Ipb)=lg(Ih1)+(lg(Ih2)-lg(Ih1))*( l0- l1)/( l2- l1)。如果l0恰好在l1和l2的中间,公式还能简化成:lg(Ipb)=(lg(Ih2)+lg(Ih1))/2。(注:l0、l1、l2中的l为西腊字母lumda)很显然,CSAAS中的背景校正只需要测定谱线峰值处和两侧某两点的实时光信号,利用前述公式就可以扣除背景吸收,甚至不需要测定Ipo,并且这种方法还具有实时校正光源及检测器漂移的功能。所有这一切有个前提,即h1和h2不能被其他原子吸收谱线覆盖。如图中如果选择到侧翼的两个峰范围内,背景校正将会受到干扰,产生很大的误差。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/05/201605311155_595384_1189445_3.png

  • 【原创】关于分光光度计基线校正的原理和方法

    【原创】关于分光光度计基线校正的原理和方法

    [color=#DC143C]对于双光束分光光度计而言在使用前必须要做基线校正(也称为基线记忆),对于此项工作的原理和操作方法许多使用者的认识不尽相同;为此谈谈我的认识。[/color](一)为何要做基线校正?众所周知、光度计的光学系统基本是由光源(氘灯、钨灯)—单色器(光栅、狭缝)—检测器(硅光二极管、光电倍增管)等三部分组成的。在我们使用的波长区域中(一般紫外可见仪器均在190nm~1100nm范围里,)上述部件在不同的波长下的响应值(光源的发射强度、单色器的色散强度、检测器的放大倍数)均不相同;通俗地说、即使没有样品,仪器如果不做基线校正,那么在190nm至1100nm的范围中,吸光值或透过率不会是一条直线,这是一种客观的物理现象,如下图;[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2008/11/200811151034_118556_1602290_3.jpg[/img]尽管上图反映的是单光束的能量图,但在基线未校正状态下,即使改用双光束测量方式来扫描一个样品,其所得到的图谱或吸光值也是不可信的。(二)被校正的基线种类和用途(1)系统基线:所谓系统基线就是仪器固有的波长范围的总基线;例如一台仪器出厂设计的波长全程范围是190nm至1100nm,那么它的系统基线就是这个范围。一般来讲,作为分析人员对一台仪器做全程扫描测试是比较少见的;之所以要做系统基线的目的一般是将仪器的光学系统的响应值校正到基本一致;这就类似马拉松赛跑一样,只要大家在同一起跑处(注意:不是[u]起跑线[/u])比赛,前后差几米出发无所谓。(2)用户基线:所谓用户基线就是分析者自己设定的测量波长区域的一段基线;由于这是分析所需要的区域,为了保证测试的准确性,故用户基线的校正是非常重要和必要的;这就类似百米赛跑一样,运动员要在同一个起跑线上比赛而不能抢跑,否则无法准确计算成绩。(三)基线校正的方法(1)系统基线:系统基线的校正较为简单,一般情况下样品室内不放样品,仅做光学系统的校正;如果一定要使用全波段的测量那另当别论。同时需要注意的是:系统基线无需经常校正,一般半个月或一个月校正校正一次即可。对有的仪器来说,系统基线校正过于频繁反而会造成基线漂移严重。(2)用户基线校正:正确的校正方法是:两只比色杯盛有空白溶液分别放置在样品及参比光路中,校正波长范围要大于分析波长范围;例如、分析设定范围为220nm~500nm,那么校正波长就要设定为210nm~510nm;等待校正结束后再将波长设定回到原来的220nm~500nm范围。这种校正方法的优点是:如果校正波长与分析波长完全吻合一致,有可能在校正后的基线两端出现大的噪声;如果校正范围大于实际分析范围并掐头去尾后可以提高分析精度。我将这种校正方法起名为“豆芽菜原理”,目的是便于记牢;(因为我们吃豆芽菜时均要掐头去根,仅吃中间部分,故以前的饭馆将炒豆芽这道菜称为“炒掐菜”;对不起、跑题了)。关于这种校正方法,许多使用者往往不知晓或忽略掉了,在此顺便介绍给版友。值得注意的是,有的仪器操作者在做基线校正时,参比一侧不放参比溶液,也就是用空气来做参比对照。这种方法在可见区对有的样品也许有时影响不大,但在紫外区影响就会很明显了。严格的说,用空气做参比所测得的结果不是真正意义上的校正光谱。(四)基线校正的注意事项(1)基线校正时要保证仪器有一定的预热时间(2)每更换一种参比溶液后均要重新做基线校正(3)如果参比溶液的吸光度大于样品的吸光度值时测试结果会出现负值,此时要考虑使用何种溶液做基线校正了。(4)做基线校正时要考虑试剂的使用波长范围问题,因为有的试剂在某个波长以下的吸光度值会无限大,这时去做校正会超出仪器的有效量程范围,无法得到真正的结果。关于试剂的使用波长范围,目前一般在试剂瓶的标签上会有标注。我有个简单资料表供大家参考如下:[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2008/11/200811151313_118602_1602290_3.jpg[/img]

  • 【杨啸涛研究员】回用户【zhangxm】关于中阶梯光栅的问题并推荐一本好书

    Zhangxm,您一共有六个问题,先回答一个。关于中阶梯光栅,我的回答是抄书。以下的文字是邓勃,何华昆老师的《[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]分析》中抄下来的,改了改段落号和图号,改了一二个印刷错误。《[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]分析》化学工业出版社2004年9月第一版。这是十分好的教科书。许多问题可以从中得到解答。参考文献我就不列了。希望大家都能看到,看完这本书。[color=red]【4077注】[/color]本网《仪器书店》有这本书出售,用户可在此购买:[url]http://www.instrument.com.cn/book/shtml/20040922/1008299.shtml[/url]1. 中阶梯光栅与棱镜构成的双单色器中阶梯光栅的特点一是每毫米的刻线数目较少,都在100以内;二是以较大的衍射角和较高级数的谱线工作,且多与棱镜或低色散的光栅构成高色散中阶梯光栅单色器。G.R.Harrson开创了这项工作。 由前面的光栅的角色散率与分辨率各式可知,在波长一定时,光栅的角色散率与衍射角β、光栅常数d和光谱级次n有关,分辨率取决于光栅的刻线面宽度W和光谱级次n。当衍射角β确定后,用小的光栅常数d(即大的刻线密度)和低谱级次(n小),或者采用大的光栅常数d(小的刻线密度)高谱级次(n大),可以得到相同的角色散率。缩小d,即增加刻线密度是有物理限度的。所以采用大的衍射角β和高谱级次n是增大角色散率的实际有效途径。至于要提高分辨率,除了要增大衍射角β外,还要增大光栅的刻线面宽度W,因为与分辨率直接相关的通光孔径A会随衍射角β的增大而缩小(A=Wcosβ)。Harrson据此发明了刻线密度小(例如100刻线/mm),主要用于高谱级(例如n等于几十至一二百)的光栅,并命名为echelle,中文译名是中阶梯光栅。图1是中阶梯光栅示意图。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211444_2819_1868106_3.gif[/img]图1中阶梯光栅示意[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211445_2820_1868106_3.gif[/img]图2 中阶梯光栅的色散的重叠多级谱线位于最佳闪耀区 当衍射角β=0时,通光孔径A=O,此时分辨率虽达到分辨率的理论极限值Rmax,但光栅无法使用。目前,一般的中阶梯光栅采用a=β=63。26’(实际上β是有一定角度范围的),此时,R= O.89Rmax。此外,为了使光栅在β方向有最大的闪耀效率,必须使光栅的闪耀角ε=β=α。并且,光栅刻槽的衍射面s须与入射、衍射光谱线垂直,s面的光学平整度要达到1/10干涉条纹(“光圈”),否则不可能使上百级的光谱都有足够的光强。这就是说,在β方向的闪耀效率很高,只要有一两度的偏离,闪耀效率就会迅速下降。目前中阶梯光栅各级光谱中央的闪耀效率可以达到70%以上(如图2所示)鬼线强度也只有母线的O.005%以下。中阶梯光栅的特点是:a.衍射角β大,由nλ=2 sinβ可知,将不同的λ和不同n级的谱线重叠在同一位置;b.这些重叠的谱线都集中在最佳的光栅闪耀区;c.对中阶梯光栅光谱,需用辅助色散元件在垂直方向进行谱级色散,再在水平方向进行波长色散,即可获得高色散的良好结果。表1列出了3个元素的谱线在不同级数次中的相对强度。表1不同级次中光谱线的相对强度[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211446_2821_1868106_3.gif[/img]2. 中阶梯光栅、棱镜两次色散一维分光双单色器 用中阶梯光栅和棱镜作色散元件构成的双单色器分光系统,如图3所示。这种单色器具有体积小,线色散率高的特点。第一个单色器用中阶梯光栅作色散元件,能得到大衍射角高级次角色散率大的谱线。由于众多衍射级次的谱线分布在很小的角度范围内,不同级次的谱线发生重叠较严重,第二个单色器将不同级次间重叠区分离开并对相应级次谱线进行色散。因第二个单色器用了石英棱镜色散元件,其紫外光谱区线色散倒数小。如Thermo-Elemental公司M系列[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]就是采用这种分光系统,其线色散倒数为0.5 nm。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211447_2822_1868106_3.gif[/img]图3 中阶梯光栅、棱镜两次色散一维分光光路系统示意3.二维分光工作方式 二维分光是指在X轴与y轴两个方向色散分光,经分光后谱线在二维的焦面上成像。由上述对中阶梯光栅工作过程分析可知,对中阶梯光栅的色散,再加用辅助的色散元件,在被色散谱线的垂直方向进行色散,即可获得高色散的良好结果。图4为中阶梯光栅与棱镜组成的交叉色散(即二维色散)分光过程示意,为简化问题,只标出了在垂直方向的色散,即不同衍射级次谱线的色散。图5为多元素同时测定[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]实验装置中用的中阶梯光栅两次分光交叉色散多色器分光系统,分光系统的焦面为二维谱线图像,检测器亦由多个光电倍增管组成的二维阵列。在检测器阵列与谱线焦面之间经严密测算制作的与多条分析波长谱线图像对应的多个狭缝专用板,分析线的数目多于光电倍增管的数目,专用板也有多块。工作时根据分析者选定的分析元素,采用相应的专用板,再通过转动机构将光电倍增管阵列移至分析谱线波长位置。这种固定光学系统,采用更换专用狭缝板和移动光电倍增管的工作方式,不仅免除了要将中阶梯光栅和棱镜十分精确地转动一个极小角度的困难,还可得到与多道同时测定一样的精度,而且在接近检出限工作时也不会找错谱线。这种交叉色散系统能提供高分辨的二维光谱信息,最先是应用在原子发射光谱仪器中。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211449_2823_1868106_3.gif[/img]图4 为中阶梯光栅与棱镜组成的交叉 色散(二维色散)分光过程示意[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211450_2824_1868106_3.gif[/img]图5 为连续光源多元素同时测定[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱[/color][/url]实验装置中用的 中阶梯光栅两次分光交叉色散多色器分光系统4 电子扫描二维分光工作方式由于中阶梯光栅经交叉色散后能给出面积较小,并有较宽波长范围的高分辨率二维光谱,所以人们就容易想到用成像器件来做二维检测器,最先是用于原子发射光谱仪器中,如国外若干大分析仪器公司的原子发射光谱仪器商品都是用紫外增强型CMOS、 CCD或CID等半导体图像检测器。对[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]器采用此项先进技术的是SIMAA6000型[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url],有文献详细报道过,采用了具有高分辨率的二维光谱焦面的中阶梯光栅分光系统和紫外增强型分段式PDA检测器。其分光光路和检测系统如图6所示,中阶梯光栅刻线是79槽/mm,闪耀角63.4o,棱镜是人造熔融石英,顶角25.15o,成像球面镜的焦距501 mm,面积是120 mmxl20 mm。线色散倒数是O.1 nm/mm(200 nm,113级)和O4nm/mm(800nm,28级)。入射狭缝选用2.3 mm×1O mm时,对于As 193.7 nm光谱通带0.2 nm,Ba 553.5 nm光谱通带约为O.55 nm。二维光谱线焦面约为50 mm×60 mm,覆盖波长范围190~900 nm。半导体图像体检测器从日本Hamamatsu定制,专门设计加工成分段式单片检测器,称分段式PDA[又称分段式CMOS-PDA]检测器],整个检测器结构如图6所示。可提供的分析线数目为:39个主要常用元素的主灵敏线,16条次灵敏线和3条用于波长校正的氖线。关于波长的检查和校正,使用装在仪器内的充氖辉光放电灯,由计算机控制一面反射镜使氖灯发射光谱线进入光路,用位于图6左上角的607.43 nm[607(A)]和左下角的614.31 nm[614(A)]和Zn空心阴极灯的202.55 nm[位于图6右上角的202(A)]三条谱线来进行。此三条谱线处于二维焦面三个重要位置,包罗了全部分析线。具体操作程序是通过在X和Y方向分别在2 mm和4 mm范围内扫描,用峰拟合程序测量三条谱线轮廓的半宽度与相对位置。SIMAA型[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]的这种分光系统,用电子扫描代替了分光元件转动的机械扫描,不但缩短工作时间和减少机械磨损,而且提高了波长精度。由于光源数量的限制,以及其他技术难点,多元素同时测定[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]器还在研究开发中,上述的中阶梯光栅分光系统应属较好的方案之一。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211451_2825_1868106_3.gif[/img]图5 SIMAA6000型[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收光谱仪[/color][/url]光学系统示意[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2005/03/200503211451_2826_1868106_3.gif[/img]

  • 化药质量控制--HPLC法校正因子研究中的几个问题

    HPLC法校正因子研究中的几个问题张哲峰 CDE化药药学二部HPLC法具有将不同物质分离后逐一定量的分离分析能力,在药品有关物质检测中发挥着越来越重要的作用,成为药品杂质控制中常用而有效的手段之一。在杂质对照品法、加校正因子的主成分自身对照法、不加校正因子的主成分自身对照法、峰面积归一化法等几种常用的杂质定量方式中,校正因子的研究对于选择合适定量方式,准确定量杂质具有重要意义,因而成为杂质分析方法研究中的重要内容之一。但从目前注册申报资料实际情况来看,校正因子的研究和使用中尚存在一些需要进一步思考和关注的问题。1.校正因子的定义及特点一般来讲,HPLC定量测定中,物质的检测量W与色谱响应值(峰面积等)A之间的比值称为绝对校正因子,即单位响应值(峰面积等)所对应的被测物质的量(浓度或质量);而某物质i与所选定的参照物质s的绝对校正因子之比,即为相对校正因子,即通常所讲的校正因子。目前校正因子主要用于“加校正因子的主成分自身对照法”定量相关特定杂质,这种定量方式因考虑了杂质与主成分的绝对校正因子的不同所引起的测定误差,将标准物质的赋值信息转化为常数,固化在质量标准中,且不需长期提供标准物质,因而成为现阶段杂质控制较为理想可行的手段。但这种方法有时会因不同仪器及色谱条件的波动,可产生一定范围的误差,需进行充分的方法耐用性验证,并结合色谱峰定位控制等措施,将误差控制在一定范围内。2.校正因子的测定在校正因子的研究和使用中,标准物质、色谱条件、溶剂、检测波长等均是重要的影响因素,研究中需要予以关注。2.1 校正因子的测定需要用到特定杂质及主成分的标准物质,这些标准物质应具备量值准确的特点,符合标准物质(对照品)的相关要求;其次,确定校正因子的分析方法应与最终确定的质量标准方法一致,色谱条件等需经筛选优化后确定,如有变更,需考虑对校正因子的影响,必要时重新确定;第三,要关注影响待测物UV吸收的各种因素,如溶液制备所用溶剂最好与最终确定的流动相相同,检测波长最好在特定杂质及主成分UV曲线的峰或谷处,避开吸收值急剧变化波段,以保证测定方法具有较好的耐用性,并保持测定结果的恒定。2.2 一般情况下,校正因子可视具体情况通过如下几种方法确定:(1)单浓度点测定:制备适当浓度的特定杂质对照品溶液和主成分对照品溶液,分别进样测定,照上式计算,得到校正因子。(2)多浓度点测定:制备适当的高、中、低三水平浓度的特定杂质对照品溶液和主成分对照品溶液(涵盖定量限、标准限度),分别进样测定,照上式计算各校正因子,计算RSD,求平均值,得到校正因子。(3)标准曲线法测定:精密称取杂质对照品和主成分对照品,分别制备系列溶液(涵盖定量限、标准限度),分别进样后,按最小二乘法以进样量对响应值(峰面积等)进行线性回归,求得两条标准曲线,两曲线斜率之比即为校正因子。(4)吸收系数比值法:对于UV检测器来讲,两物质的相对校正因子实际上也是两物质以流动相为溶剂,在检测波长处的紫外吸收系数E1cm1%之比,故可按吸收系数法测定法的相关技术要求测定各自吸收系数,如对照品级别的标准物质、高中低三水平浓度测定、吸收度介于0.3~0.8之间、至少5台不同型号的UV分光光度计、2份供试液同时平行制备测定、同台仪器2份供试液的平行测定结果不超过±0.5%等。测定两物质的吸收系数后,经统计分析确定两物质吸收系数,计算比值,求得校正因子。上述各方法中,(1)和(2)法较为简捷,可以快捷地量化特定杂质与主成分紫外吸收特征的差异,多用于评估采用主成分自身对照法定量杂质时是否需要校正。但如采用加校正因子的主成分自身对照法定量杂质,需将标准物质赋值信息转化为校正因子固化在质量标准中,那么校正因子的准确性非常关键,校正因子的准确计算应符合更为严格的要求,需要考虑并控制求算校正因子过程中的各种误差因素,以及仪器通用性和色谱系统的耐用性等因素,以便使求得的常数更为准确并具代表性,此时采用(3)、(4)法更为适宜,如能考虑到测定人员、不同试验室因素的影响,会更加符合常数求算的基本要求。

  • HPLC法校正因子研究中的几个问题

    HPLC法具有将不同物质分离后逐一定量的分离分析能力,在药品有关物质检测中发挥着越来越重要的作用,成为药品杂质控制中常用而有效的手段之一。在杂质对照品法、加校正因子的主成分自身对照法、不加校正因子的主成分自身对照法、峰面积归一化法等几种常用的杂质定量方式中,校正因子的研究对于选择合适定量方式,准确定量杂质具有重要意义,因而成为杂质分析方法研究中的重要内容之一。但从目前注册申报资料实际情况来看,校正因子的研究和使用中尚存在一些需要进一步思考和关注的问题。 1.校正因子的定义及特点 一般来讲,HPLC定量测定中,物质的检测量W与色谱响应值(峰面积等)A之间的比值称为绝对校正因子,即单位响应值(峰面积等)所对应的被测物质的量(浓度或质量);而某物质i与所选定的参照物质s的绝对校正因子之比,即为相对校正因子,即通常所讲的校正因子。 目前校正因子主要用于“加校正因子的主成分自身对照法”定量相关特定杂质,这种定量方式因考虑了杂质与主成分的绝对校正因子的不同所引起的测定误差,将标准物质的赋值信息转化为常数,固化在质量标准中,且不需长期提供标准物质,因而成为现阶段杂质控制较为理想可行的手段。但这种方法有时会因不同仪器及色谱条件的波动,可产生一定范围的误差,需进行充分的方法耐用性验证,并结合色谱峰定位控制等措施,将误差控制在一定范围内。

  • 【求助】AVI校正错误!

    请教各位近红外高手,今天早上做AVI校正的时候出现了一个错误“AVI 校正光谱失真,请确保光束清晰然后重复此操作。”请问是什么原因造成的那??重启机器后就没有这个错误了。

  • 使用了CID检测器 ,是不是就不必采用多元光谱拟合校正?

    最近想要选购一套ICP光谱, 对比各家仪器。各有所长!Thermo 采用CID ,有专利保护,当然CID比CCD的优势很多就不多说了!PE,Varian采用CCD检测器。硬件不行,他们为了矫正谱图,只好在软件上下功夫。他们都使用了多元光谱拟合校正光谱干扰技术,MSF(PE)或者FACT(VARIAN)!那我就有一个问题,能否把CID检测器和多元光谱拟合校正光谱干扰 这2种优点结合到一起呢?难道,Thermo就没有想过 采用 多元光谱拟合校正光谱干扰。还是有了CID检测器,就不需要多元光谱拟合校正了???看看大伙都有什么意见?

  • 光谱仪用光栅知识简介 !

    光栅作为重要的分光器件,它的选择与性能直接影响整个系统性能。光栅分为刻划光栅、复制光栅、全息光栅等。刻划光栅是用钻石刻刀在涂薄金属表面机械刻划而成;复制光栅是用母光栅复制而成。典型刻划光栅和复制光栅的刻槽是三角形。全息光栅是由激光干涉条纹光刻而成。全息光栅通常包括正弦刻槽。刻划光栅具有衍射效率高的特点,全息光栅光谱范围广,杂散光低,且可作到高光谱分辨率。◆如何选择光栅选择光栅主要考虑如下因素:1、光栅刻线,光栅刻线多少直接关系到光谱分辨率,刻线多光谱分辨率高,刻线少光谱覆盖范围宽,两者要根据实验灵活选择;2、闪耀波长,闪耀波长为光栅最大衍射效率点,因此选择光栅时应尽量选择闪耀波长在实验需要波长附近。如实验为可见光范围,可选择闪耀波长为500nm;3、使用范围,3、光栅效率,光栅效率是衍射到给定级次的单色光与入射单色光的比值。光栅效率愈高,信号损失愈小。为提高此效率,除提高光栅制作工艺外,还采用特殊镀膜,提高反射效率。◆光栅方程反射式衍射光栅是在衬底上周期地刻划很多微细的刻槽,一系列平行刻槽的间隔与波长相当,光栅表面涂上一层高反射率金属膜。光栅沟槽表面反射的辐射相互作用产生衍射和干涉。对某波长,在大多数方向消失,只在一定的有限方向出现,这些方向确定了衍射级次。如图所示,光栅刻槽垂直辐射入射平面,辐射与光栅法线入射角为α,衍射角为β,衍射级次为m,d为刻槽间距,在下述条件下得到干涉的极大值:Mλ=d(sinα+sinβ)定义φ 为入射光线与衍射光线夹角的一半,即φ=(α-β)/2;θ 为相对于零级光谱位置的光栅角,即θ=(α+β)/2,得到更方便的光栅方程:mλ=2dcosφsinθ从该光栅方程可看出:对一给定方向β,可以有几个波长与级次m 相对应λ 满足光栅方程。比如600nm 的一级辐射和300nm 的二级辐射、200nm 的三级辐射有相同的衍射角,这就是为什么要加消二级光谱滤光片轮的意义。衍射级次m 可正可负。对相同级次的多波长在不同的β 分布开。含多波长的辐射方向固定,旋转光栅,改变α,则在α+β 不变的方向得到不同的波长。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/03/201703121735_01_1841897_3.jpg

  • 光栅尺与磁栅尺的区别

    光栅尺——利用光的干涉和衍射原理制作而成的传感器。当两块栅距相同的光栅叠放在一起,同时让线纹构成一微小角度,这时在平行光照射下,与刻线垂直方向上就能看到对称分布的明暗相间的条纹,称为莫尔条纹,因此莫尔条纹是光的衍射和干涉作用的总效果。当光栅移动一个小栅距时,莫尔条纹随之移动一个条纹间距,这样,我们测量莫尔条纹的宽度就比测量光栅线纹宽度容易的多。此外,由于每条莫尔条纹都是由许多光栅线纹的交点组成,当线纹中有一条线纹有误差时(间距不等或倾斜),这条有误差的线纹和另一光栅线纹的交点位置将产生变化。但是,一条莫尔条纹是由许多光栅线纹交点组成,因此,一个线纹交点位置的变化,对于一条莫尔条纹来讲其影响就非常小了,所以莫尔条纹可以起到放大和平均的作用。磁栅尺——利用磁极的原理制作而成的传感器。基尺是被均匀磁化的钢带。S和N极均匀间隔排列在钢带上,通过读数头读取S,N极的变化来记数。 光栅尺受温度影响较大,一般使用环境在40摄士度以下。(三坐标测量机一般都要求在恒温横湿环境下测量,保证测量精度。 敞开式磁栅尺容易受磁场影响,封闭式磁栅尺则无此困扰,但成本较高。www.jnguangyu.com

  • 【资料】看看AA的光栅是如何制造的

    [font=SimSun][size=4][b]制造光学光栅的历史[/b] 光栅是光学光谱仪的心脏部分。在过去的50年中,电子、软件及自动化都得到快速的发展,而光栅的改进却是滞缓而固难。1949年George R Harrison在马省理工学院(MIT)发明了中阶梯光栅。中阶梯光栅解决了一个在刻制光栅时所碰到的问题,即如何制止钻石工具的磨损问题。即使光栅是刻制在相当柔软的材料,如铝、金和铜上,当在金属表面上精细地加工光栅时,这些金属也将很细微地磨损钻石工具。钻石工具的磨损将导致整个光栅刻槽形状的改变,使其分辨率降低而杂散光增强。我们可以设想一下,在一块面为50X100mm的空白光栅上,刻制每毫米为2400线的光栅,钻石工具将在表面材料上走动12000 m (相当7.5英里)。为了获得优于2400条/mm刻线光栅的分辨率,同时降低钻石工具的走刀路程,Harrison设计了中阶梯光栅,中阶梯光栅每毫米仅为50条刻线,在相同的50X100mm的空白光栅上,钻石工具走动250m(相当820英尺)!今天,我们采用中阶梯光栅不但是因为减少了钻石刀头的磨损,而且是因为当它与棱镜交叉色散时可获得的高分辨率二维中阶梯光谱,该二维光谱与电荷转移阵列检测器(例如CID)实现最佳匹配。[b]原来的刻线机[/b]在二十世纪50年代,Jarrell-Ash公司(Thermo Elemental的前生)先后研制了两台机械光栅刻制机。一号机具有可以在每英寸中刻制确切槽数的传动装置,而二号机可设定刻制每毫米特定的条数。上述机械中的关键部件,诸如Nitr-合金(Nitralloy)的滑台导轨、导向螺杆以及导向螺杆传动装置,在其制造时是非常小心且费力地用手工研磨抛光而成,以获得最好精度。60年代,二号机的精度由于增加了一个测量放置光栅胚模(Grating blank)滑台位置的干涉仪而大大提高。其原理是通过传动装置的差异,干涉仪用作为反馈回路以校正导致螺杆的微小但必然存在的误差。这两台仪器在其服务的三十年里作出了令人满意的贡献。1990年,科学家们对二号机作了一个彻底的现代化改造,将其技术水平提高为“艺术级”,以满足刻制机械所要求的最严竣的挑战,它被用于刻制中阶梯光栅。[/size][/font]

  • 近红外光谱无创血糖检测技术的研究

    对现有的一些使用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]无创离体和在体测量葡萄糖的研究结论,结合我们的研究结果进行评述。首先介绍建立葡萄糖光谱检测的基本理论。在光谱检测的分析研究中,离体测量表现出良好的结果;在体葡萄糖检测和预测,结果精度较差,离临床和家庭使用还有一些距离。 1 简介 糖尿病是一种内分泌疾病。据报导,1997年全世界的糖尿病患者超过1.2亿,到2010年将会增长到2.2亿以上。现有对糖尿病较有效的治疗手段是通过频繁的检测和胰岛素注射来对血糖浓度进行控制,从而减少或减轻由糖尿病导致的并发症。目前检测血糖的方法主要是从体内抽取血液通过生化检测进行分析,这属于有创伤检测,有创伤检测给患者带来的痛苦和不便。无创性血糖检测已引起人们极大的关注,其意义是:(1)减少患者每天采血测量的痛苦,提高病人的生存质量;(2)可提高测量次数,提高血糖控制精确度,降低糖尿病并发症发生的危险;(3)降低每次测量的成本;(4)有可能形成含有检测器和胰岛素注射的闭环循环系统;(5)其测量方法和原理可以推广应用到其它血液成分的检测。在无创性血糖检测研究中使用较多的是红外光谱分析方法,通过对一束红外光透过人体组织或者由其反射的光谱信号分析,确定组织内葡萄糖的含量。目前较有效的光谱范围是近红外区(波长为0.7μm-2.5μm)。 2 红外光谱检测葡萄糖的原理和方法 2.1 水溶液中葡萄糖的近红外吸收 有机分子在[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]区的吸收主要是由于含氢基团的分子振动的倍频与合频吸收造成的[1]。有机分子的倍频和合频光谱能够得到分子结构、组成状态的信息。有机物[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url],其特征性强,受分子内外环境的影响小,但倍频和合频比基频吸收带宽得多,使得多组分样品的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]在不同组分的谱带、同一组分中不同基团的谱带以及同一基团不同形式的倍频、合频谱带发生严重的重迭,从而使[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]的图谱解析异常困难。在混合物中的化学组分,很难再分离出每种组分单一、无重叠的吸收光谱。在有强烈水的背景吸收情况下的生物混合液,常规方法很难测量出低浓度物质的含量。水是生物组织中的主要成分,不但有单一的红外光谱,还有丰富的扩展到近红外区域的合频和倍频光谱。对水的红外光谱分析可知,水在波长为2.01μm-2.5μm的吸收较小,形成一个被称为水传输窗的区域,所以水溶液物质最好的分析波长为2.0μm-2.5μm。水在3μm以上其吸收率大于6 AU/mm,很难测量其它物质。 2.2 葡萄糖光谱的特异性在葡萄糖固体和葡萄糖溶液中所得的葡萄糖红外吸收的基频早已有报导[2]。葡萄糖伸缩振动能产生很强的合频和倍频吸收带。葡萄糖水溶液的近红外(2.0μm-2.5μm)光谱的测量有吸收峰,葡萄糖的光谱是唯一的,但葡萄糖红外区的合频和倍频光谱与水、脂肪和血红蛋白电子吸收波段的几个合频和倍频频率相互重迭,即被其它成分的光谱所覆盖。这是葡萄糖红外光谱测量的主要干扰。有机混合物对在近红外区吸收谱带的重迭以及漫反射光谱并不是各成分单独存在时光谱的迭加。组织吸收对葡萄糖测量也有影响,在手指这样小的部位中近红外光会削弱3-4个吸收单位,而5mmoL/L的葡萄糖浓度变化,光谱吸收的变化约10-5个吸收单位。组织光散射对葡萄糖测量的影响也很大,组织散射的光强、定位误差和身体各因素的影响是最主要的测量误差,这些都影响[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]学在血糖检测中的应用。 2.3光谱分析方法 在红外光谱分析时化学计量学方法是很有效的。化学计量学(Chemometrics)采用多元分析校正统计学方法与计算技术,解析化学测量数据,由红外光谱算出样品各成分的含量。现在常用的多元分析校正方法中,进行血糖检测光谱分析效果较好的是偏最小二乘法(PLS),它将已知的葡萄糖浓度的光谱组,用主因子分析作定量计算的方法,对光谱矩阵进行特征向量分析,然后使用多元线性回归,找出极小的光谱变化和分析物浓度之间的关系,消除与葡萄糖无关的光谱变数,得出校正光谱,通过校正光谱和样品光谱的内积(即点积)确定葡萄糖浓度。 3 离体检测和在体检测的研究现状 3.1 离体[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]混合葡萄糖溶液测量 Jonathon T.Olesberg等使用80个含有葡萄糖、乳酸盐、丙胺酸、抗坏血酸盐、尿素和乙酸甘油酯样品,测量葡萄糖溶液在2.0μm-2.5μm波长带宽范围内的光谱,使用PLS校正光谱预测溶液成分的浓度。结果表明,在0-35mm内葡萄糖溶液的测量预测标准差为0.39mm,乳酸盐为O.12mm,丙胺酸为0.53mm,抗坏血酸盐为0.23mm,尿素为0.11mm,乙酸甘油酯为0.12mm,结果比较满意。目前在成分从简单到复杂的水溶液中是可以预测葡萄糖浓度的,但这些溶液相对血液或血浆还很简单,研究的成分最多是5种,所以还需进一步研究更多成分的水溶液来模拟血浆或血液系统。 3.2 血浆或全血[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]葡萄糖测量 Haahand[3]从人群中获得了4个不同的全血样本,并将葡萄糖加入其中。对每个个体,准备葡萄糖浓度从(3-743)mg/dl变化的20个血液样本,然后在(1.5-2.3)μm范围内收集每个样本的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url],再利用参照葡萄糖浓度,用这些光谱去创建PLS定标模型。对所得光谱进行研究之后表明,2.0μm-2.3μm含有很有多的葡萄糖信息。利用这段区域,所得交叉校验的SEP值为30.5mg/dL。这个误差很大,但它可以通过增加定标样本的数量和控制扫描过程中样本的温度而有所减少。Amord等人把数字滤波技术用于牛血浆葡萄糖浓度的测定。将牛血离心以得到血浆,加入不等量的葡萄糖共配制69个样本,并在2.01μm-2.5μm范围内收集这些样本的光谱。通过对这些光谱的观察,发现有些区域含有很高的噪声,他们引人傅立叶滤波以减少噪声和基线偏移。经过PLS定标和预测得出SEP值。结果表明,[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]可用于测定血浆基质中的葡萄糖浓度,准确度和精度在允许的误差范围内。 我们用磷酸氢二钠和磷酸二氢钠配制不同浓度葡萄糖缓冲水溶液,葡萄糖浓度是18mg/dL-1800mg/dL。共配制20个溶液样本。另外还配制加有牛血清白蛋白(BSA)成分的葡萄糖溶液,配制时在900mg/dL的葡萄糖缓冲溶液中加入了70mg的BSA,制成样本,并在临床采集已知葡萄糖浓度的血样,使用MAGVA-AR560型近红外傅立叶变换光谱仪,在1.61xm-2.51xm段的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]范围进行研究。使用PLS分析也取得了较好的结果[4]。 3.3 在体[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]血糖测量 在体[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]血糖测量的关键是建立在体环境下的校正光谱,因为有很多误差来源影响测量,需要通过定标来消除或予以补偿。有些影响测量的误差却不容易合并到定标中,这样的误差来源主要有探测器定位误差、温度和脉搏的影响、检测设备的机械压力、水合作用、出汗、血容量以及血流比容积的变化等。现在主要有两种研究方法,一种是实验方法,在进行口服耐糖检测(OGTT)时从非糖尿病人群和糖尿病患者中无创地收集光谱信号,同时用有创伤的方法测量血糖浓度,最后在所得血糖值和无创性收集的光信号的关系基础上建立模型。这种方法不能测量出其它的代谢物、干扰物、生物噪声或者仪器与身体接触面的变化等信息,但它可计算出这些噪声所带来的影响。另一种方法是物理模型方法,在这种方法中,首先在一组标准葡萄糖溶液中测量葡萄糖的信号。然后逐渐增加标准液的复杂性来模拟人体组织,并描述每一步的精度和准确度,再用数学模型把数据关联起来,用于组织中的光线传播,最后把研究的测量方法和系统应用到人体中。所得的体内信号又与通过化学测量技术的有创伤数据关联起来。这种方法可以鉴别噪声成分,因此利用这种方法在使用化学测量技术之前消除噪声对信号的影响。 手背皮肤的近红外漫反射光谱特性,可知类似水溶液。人体组织在近红外区域也有一个传输窗,所以在2.0μm-2.5μm处有可能测量葡萄糖的浓度。一个含有脂肪和葡萄糖等的理论模型已经在2.0μm-2.5μm范围内用于模拟组织葡萄糖的光吸收[4]。在这些研究中所用的葡萄糖浓度通常要比生理浓度的范围高。但由于目前的几种技术还不能很好地确定所测的信号,对一个血糖浓度正在变化的个体来说,用口服耐糖试验的数据可以建立一个关于血糖浓度的无创性测量响应。在检测过程中产生的数据还可在后来的无创性测量中预测血糖浓度。由于无创性测量响应可能会带有非糖方面的生理影响,所以由口服耐糖试验和无创性测量回应关系所决定的临床定标就会产生一个定标曲线,这个曲线对被测个体来说是唯一的。但这种定标曲线可能需要通过有创伤的检测进行周期性的更新。用于定标的口服耐糖试验和饮食耐量试验会产生时间上连续的一系列测量值,但如果不能进行随机采样,这些由时间决定的数据就会影响多变量定标的结果。这样,光谱信号和噪声的临时分布可能会导致与血糖的不正确关联。在体经皮研究结果显示,到目前为止还不能鉴别直接测得的葡萄糖浓度和数据组内存在的偶然关系[5]。所以现在的研究水平用于家庭血糖监测仪还是不可接受的。 4 检测存在的问题 近红外在体检测葡萄糖浓度的缺点:(1)测量精度较低;(2)需要反复定标;(3)受到服用药物的影响,其它干扰因素较多;(4)水的近红外波段的吸收强度对溶解物

  • 【资料】近红外光谱无创血糖检测技术研究

    摘要 对现有的一些使用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]无创离体和在体测量葡萄糖的研究结论,结合我们的研究结果进行评述。首先介绍建立葡萄糖光谱检测的基本理论。在光谱检测的分析研究中,离体测量表现出良好的结果;在体葡萄糖检测和预测,结果精度较差,离临床和家庭使用还有一些距离。 关键词 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url];血糖无创检测 1 简介 糖尿病是一种内分泌疾病。据报导,1997年全世界的糖尿病患者超过1.2亿,到2010年将会增长到2.2亿以上。现有对糖尿病较有效的治疗手段是通过频繁的检测和胰岛素注射来对血糖浓度进行控制,从而减少或减轻由糖尿病导致的并发症。目前检测血糖的方法主要是从体内抽取血液通过生化检测进行分析,这属于有创伤检测,有创伤检测给患者带来的痛苦和不便。无创性血糖检测已引起人们极大的关注,其意义是:(1)减少患者每天采血测量的痛苦,提高病人的生存质量;(2)可提高测量次数,提高血糖控制精确度,降低糖尿病并发症发生的危险;(3)降低每次测量的成本;(4)有可能形成含有检测器和胰岛素注射的闭环循环系统;(5)其测量方法和原理可以推广应用到其它血液成分的检测。在无创性血糖检测研究中使用较多的是红外光谱分析方法,通过对一束红外光透过人体组织或者由其反射的光谱信号分析,确定组织内葡萄糖的含量。目前较有效的光谱范围是近红外区(波长为0.7um-2.5um)。 2 红外光谱检测葡萄糖的原理和方法 2.1 水溶液中葡萄糖的近红外吸收 有机分子在[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]区的吸收主要是由于含氢基团的分子振动的倍频与合频吸收造成的[1]。有机分子的倍频和合频光谱能够得到分子结构、组成状态的信息。有机物[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url],其特征性强,受分子内外环境的影响小,但倍频和合频比基频吸收带宽得多,使得多组分样品的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]在不同组分的谱带、同一组分中不同基团的谱带以及同一基团不同形式的倍频、合频谱带发生严重的重迭,从而使[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]的图谱解析异常困难。在混合物中的化学组分,很难再分离出每种组分单一、无重叠的吸收光谱。在有强烈水的背景吸收情况下的生物混合液,常规方法很难测量出低浓度物质的含量。水是生物组织中的主要成分,不但有单一的红外光谱,还有丰富的扩展到近红外区域的合频和倍频光谱。对水的红外光谱分析可知,水在波长为2.01um-2.5um的吸收较小,形成一个被称为水传输窗的区域,所以水溶液物质最好的分析波长为2.0um-2.5um。水在3um以上其吸收率大于6 AU/mm,很难测量其它物质。 2.2 葡萄糖光谱的特异性 在葡萄糖固体和葡萄糖溶液中所得的葡萄糖红外吸收的基频早已有报导。葡萄糖伸缩振动能产生很强的合频和倍频吸收带。葡萄糖水溶液的近红外(2.0um-2.5um)光谱的测量有吸收峰,葡萄糖的光谱是唯一的,但葡萄糖红外区的合频和倍频光谱与水、脂肪和血红蛋白电子吸收波段的几个合频和倍频频率相互重迭,即被其它成分的光谱所覆盖。这是葡萄糖红外光谱测量的主要干扰。有机混合物对在近红外区吸收谱带的重迭以及漫反射光谱并不是各成分单独存在时光谱的迭加。组织吸收对葡萄糖测量也有影响,在手指这样小的部位中近红外光会削弱3-4个吸收单位,而5mmoL/L的葡萄糖浓度变化,光谱吸收的变化约10-5个吸收单位。组织光散射对葡萄糖测量的影响也很大,组织散射的光强、定位误差和身体各因素的影响是最主要的测量误差,这些都影响[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]学在血糖检测中的应用。 2.3光谱分析方法 在红外光谱分析时化学计量学方法是很有效的。化学计量学(Chemometrics)采用多元分析校正统计学方法与计算技术,解析化学测量数据,由红外光谱算出样品各成分的含量。现在常用的多元分析校正方法中,进行血糖检测光谱分析效果较好的是偏最小二乘法(PLS),它将已知的葡萄糖浓度的光谱组,用主因子分析作定量计算的方法,对光谱矩阵进行特征向量分析,然后使用多元线性回归,找出极小的光谱变化和分析物浓度之间的关系,消除与葡萄糖无关的光谱变数,得出校正光谱,通过校正光谱和样品光谱的内积(即点积)确定葡萄糖浓度。 3 离体检测和在体检测的研究现状 3.1 离体[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]混合葡萄糖溶液测量 Jonathon T.Olesberg等使用80个含有葡萄糖、乳酸盐、丙胺酸、抗坏血酸盐、尿素和乙酸甘油酯样品,测量葡萄糖溶液在2.0um-2.5um波长带宽范围内的光谱,使用PLS校正光谱预测溶液成分的浓度。结果表明,在0-35mm内葡萄糖溶液的测量预测标准差为0.39mm,乳酸盐为O.12mm,丙胺酸为0.53mm,抗坏血酸盐为0.23mm,尿素为0.11mm,乙酸甘油酯为0.12mm,结果比较满意。目前在成分从简单到复杂的水溶液中是可以预测葡萄糖浓度的,但这些溶液相对血液或血浆还很简单,研究的成分最多是5种,所以还需进一步研究更多成分的水溶液来模拟血浆或血液系统。 3.2 血浆或全血[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url]葡萄糖测量 Haahand从人群中获得了4个不同的全血样本,并将葡萄糖加入其中。对每个个体,准备葡萄糖浓度从(3-743)mg/dl变化的20个血液样本,然后在(1.5-2.3)um范围内收集每个样本的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/1p][color=#3333ff]近红外光谱[/color][/url],再利用参照葡萄糖浓度,用这些光谱去创建PLS定标模型。对所得光谱进行研究之后表明,2.0um-2.3um含有很有多的葡萄糖信息。利用这段区域,所得交叉校验的SEP值为30.5mg/dL。这个误差很大,但它可以通过增加定标样本的数量和控制扫描过程中样本的温度而有所减少。

  • 【原创】紫外可见分光光度计暗电流校正浅说

    近期在分光光度计版面上许多网友谈到光度计暗电流校正的问题,为此发表一篇个人对此问题的浅显看法,以飨有兴趣的朋友。同时望版主和广大网友指正!一、什么叫暗电流在分光光度计中,光电检测器(光电倍增管或硅光二极管等)在没有受到任何光照的情况下所输出的电流信号称之为暗电流。二、暗电流的产生暗电流是光电检测器的一种特殊产物,无论是光电管(电子流)还是硅光二极管(价电子移动)只要处于通电状态均会产生暗电流;从严格意义上讲,由于分光光度计的光信号检测系统(也成为光电转换器)不仅有光电检测器同时还包括放大电路,因此放大系统对暗电流的大小、漂移及噪声的影响也不可小视。三、暗电流对分析结果的影响对于分光光度计的原理无需再赘述,如果被测样品的透过(或反射)光信号到达光电检测器后与检测器本身的暗电流信号叠加在一起被放大处理,其测试结果的可信度和真实性就会大大打折扣;实践证明,尤其在双光束双检测器类型的仪器上,如果不进行暗电流的校正,有时结果值与真实值相差甚远。四、暗电流校正与样品背景扣除的认识误区在分光光度计的应用上,人们早已认识到样品背景对分析结果的影响,为了得到真实的光谱(也称之为校正光谱)双光束分光光度计仪器应运而生。使用者在测定前在两个通道上均放入空白液或参比液,在单波长方式下仅按调零键即可,如果是做波长扫描则要做基线记忆或称为基线校正,其目的就是做背景扣除。但有些仪器使用者对暗电流校正往往忽略或不了解甚至误将背景校正看做为就是暗电流校正。五、暗电流校正的方式暗电流校正方式依据仪器的设计不同一般有两种,下面以双光束仪器为例加以说明(1)双光束双检测器仪器此类仪器大多属于中档型,为了降低成本两只光电检测器一般选用半导体器件如:光敏二极管或硅光二极管等,此种检测器的优点是价格低廉、漂移小及省却了负高压电路、相位识别电路等;缺点是自身没有放大功能,动态响应线性差,尤其在紫外区相对灵敏度低些。由于工艺制造的原因,事实上两只参数性能一摸一样的检测器是不存在的,加上放大电路的作用,两通道的样品信号和暗电流值会相差更大;因暗电流校正原因而致使测试结果不准确的故障案例中,此类型仪器站绝大多数,故此类型仪器的暗电流校正更为重要。 此类仪器的暗电流校正方法是:在测量前样品室池架内不放置任何物品,按照仪器说明书要求或显示屏幕提示将仪器附带的黑色专用挡块(与比色池大小一致)先后依次放入到需要校正通道的池架中,盖严样品室上盖后点击相应的按键即可;还有的仪器没有单独挡块附件,在仪器设计中已将挡块预先安装在滤光器或光路中,校正时只要点击相应的操作键即可。这种校正方式称为先期校正方式。(2)双光束单检测器仪器此类仪器属于高档型,检测器一般选用光电倍增管;此种检测器因为使用一只检测器故不存在性能差异问题,加之本身有增益功能,无论从灵敏度还是动态线性范围均优于半导体检测器,但它的缺点是漂移较大,需要时时校正;此类仪器的暗电流挡块一般设置在光束分裂器的扇页上,光束分裂器也称为斩波器,由一个电机带动一片圆页,而圆页被平均分为四等份扇页,其中两个对角扇页贴有反光镜,提供的光束供样品通道用;一片透光扇页提供的光束供参比通道用,另一片扇页是黑色的就是所谓的暗电流校正挡块。当分裂器电机旋转后,斩波器圆页每旋转一周所提供的光信号顺序为:样品→参比→样品→暗电流校正,由相位识别电路筛选处理;从中不难看出,双光束单检测器仪器的暗电流校正非常简单无需人工校正,这种校正方式称为在线校正方式。

  • 【原创大赛】我对荧光光谱仪的总结

    【原创大赛】我对荧光光谱仪的总结

    一、概况及发展历史1.原理在吸收紫外和可见电磁辐射的过程中,分子受激跃迁至激发电子态,大多数分子将通过与其它分子的碰撞以热的方式散发掉这部分能量,部分分子以光的形式放射出这部分能量,放射光的波长不同于所吸收辐射的波长。后一种过程称作光致发光。分子发光包括荧光、磷光、化学发光、生物发光和散射光谱等。基于化合物的荧光测量而建立起来的分析方法称为分子荧光光谱法。由光源发出的光通过切光器使其变成断续之光,通过激发光单色器变成单色光,此光即为荧光物质的激发光。被测的荧光物质在激发光照射下所发出的荧光,经过单色器变成单色荧光后照射于光电倍增管上,由其所发生的光电流经过放大器放大输至记录仪。一个激发,一个发射,采用双单色器系统,可分别测量激发光谱和荧光光谱。目前国内外荧光光谱仪示意图如图一:http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/12/201112201524_339678_2439370_3.jpg 图一 荧光光谱仪原理示意图2.分类荧光光谱仪是测定材料发光性能的基本设备。 通用荧光光谱仪大致可分为3种:(1) 基本型:在200-800 nm的紫外可见波段的稳态光谱仪。 (2) 扩展型:覆盖200-1700 nm波段的紫外可见-近红外稳态光谱仪。 (3) 综合型:覆盖上述两个波段,同时可测瞬态光谱的光谱仪。3.主要用途(1)荧光激发光谱和荧光发射光谱; (2)同步荧光(波长和能量)扫描光谱; (3)3D(Ex Em Intensity) ;(4)Time Base和CWA(固定波长单点测量); (5)荧光寿命测量,包括寿命分辨及时间分辨;(6)计算机采集光谱数据和处理数据(Datamax和Gram32)。4.发展历史第一次记录荧光现象的是16世纪西班牙的内科医生和植物学家N.Monardes,1575年他提到在含有一种称为“LignumNephriticum”的木头切片的水溶液中,呈现了极为可爱的天蓝色。在17世纪,Boyle(1626—1691)和Newton(1624—1727)等著名科学家再次观察到荧光现象。之后荧光就引起了许多科学家的研究兴趣,荧光分析方法也越来越多的被应用到生物和化学分析当中。  当然荧光分析方法的发展,与仪器应用的发展是分不开的。总体来说,荧光光谱仪自问世以来经过了三个阶段的发展过程: (1)手动式;(2)自动扫描;(3)微机化。19世纪以前,荧光的观察是靠肉眼进行的,直到1928年,才由Jette和West提出了第一台光电荧光计。光电荧光计的灵敏度是有限的,1939年Zworykin和Rajchman发明光电倍增管以后,在增加灵敏度和容许使用分辨率更高的单色器等方面,是一个非常重要的阶段。1943年Dutton和Bailey提出了一种荧光光谱的手工校正步骤,1948年由Studer推出了第一台自动光谱校正装置,到1952年才出现商品化的校正光谱仪器。 二、主要部件及功能 荧光光谱仪主要包括光源、激发单色器、样品池、荧光单色器及检测器等主要部件。1.光源早期的荧光分光光度计,配有能发生很窄汞线的低压汞灯。使用高压汞灯,谱线被加宽,而且也存在高强度的连续带。然而,一个完整的激发光谱的测定需一种能发射从可见到紫外范围的较高强度的光辐射的灯。氙弧灯能适于此条件,因此,它是目前在荧光分光光度计中最广泛使用的光源。2.单色器单色器的作用是把光源发出的连续光谱分解成单色光,并能准确方便地“取出”所需要的某一波长的光,它是光谱仪的心脏部分。单色器主要由狭缝、色散元件和透镜系统组成,其中色散元件是关键部件。色散元件是棱镜和反射光栅或两者的组合,它能将连续光谱色散成为单色光。(1)棱镜单色器 棱镜单色器是利用不同波长的光在棱镜内折射率不同将复合光色散为单色光的。棱镜色散作用的大小与棱镜制作材料及几何形状有关。常用的棱镜用玻璃或石英制成。可见分光光度计可以采用玻,它适用于紫外、可见整个光谱区。 (2)光栅单色器 光栅作为色散元件具有不少独特的优点。光栅可定义为一系列等宽、等距离的平行狭缝。光栅的色散原理是以光的衍射现象和干涉现象为基础的。常用的光栅单色器为反射光栅单色器,它又分为平面反射光栅和凹面反射光栅两种,其中最常用的是平面反射光栅。光栅单色器的分辨率比棱镜单色器分辨率高(可达±0.2nm),而且它可用的波长范围也比棱镜单色器宽,且入射光80%的能量在一级光谱中。近年来,光栅的刻制复制技术也在不断地改进,其质量也在不断的提高,因而其应用日益广泛。(3)狭缝狭缝是单色器的重要组成部分,直接影响到分辨率。狭缝宽度越小,单色性越好,但光强度也随之减少。3.样品池荧光仪用的样品池需用低荧光的材料制成,通常用玻璃和石英材料,形状以方形和长方形为宜。4.检测器

  • 【原创】小吃:塞曼背景校正的分类简要介绍

    应用塞曼效应进行背景校正时,仪器结构并不是固定或一致的,校正方式也可进一步细分为若干种,它们与磁场位置、磁场方向、以及磁场性质等方面的不同选择都是息息相关的:1.塞曼背景校正装置的安装位置不同分为光源调制与吸收线调制两种,前者是指光源在磁场中发射线的塞曼分裂,后者是指原子化器在磁场中吸收线的塞曼分裂。2.而由于磁场与光束间的方向不同又分为垂直(横向塞曼效应)与平行(纵向塞曼效应)两种。3.而根据磁场自身的工作方式又可分为两种:采用恒定磁场的偏振调制方式、采用交变磁场的磁场调制方式。上述这三条依次组合会有2*2*2=8种形式的塞曼背景校正方式:光源调制横向恒磁场塞曼背景校正光源调制纵向恒磁场塞曼背景校正光源调制横向交变磁场塞曼背景校正光源调制纵向交变磁场塞曼背景校正吸收线调制横向恒磁场塞曼背景校正吸收线调制纵向恒磁场塞曼背景校正吸收线调制横向交变磁场塞曼背景校正吸收线调制纵向交变磁场塞曼背景校正但是:1.光源调制方式对于仪器光源结构有较大要求,使得元素灯不具有通用性,逐渐被市场所淘汰吧就算...因此,目前市场上的塞曼背景校正的仪器都是采用原子化器调制方式,没有使用光源调制的类型了。2.关于横向与纵向磁场的问题。横向磁场效应产生的是波长不变的π成分和波长变化的σ±成分,前者用于测量原子吸收信号,后者不产生原子吸收信号,是用于对背景校正。而纵向磁场仅能产生σ±成分,也就是说仅能产生背景信号。3.因此,横向磁场可以使用恒定磁场和交变磁场来实现原子吸收与背景吸收的测量。而纵向磁场只能采用交变磁场,通过磁场的有无来分别实现对原子吸收信号和背景信号的测量,纵向磁场若采用恒定磁场则只有背景信号,不能用于原子吸收仪器分析。纵上所述,所以目前市场上只有3种塞曼背景校正的仪器:吸收线调制恒定磁场横向塞曼型:WFX-810型(北京瑞利分析仪器公司)Z8000/Z5000/Z2000系列(日本Hitachi公司)吸收线调制交变磁场横向塞曼型:ZEEnit系列(德国analytik-jena公司)Z3030型(美国Perkin-Elmer公司)吸收线调制交变磁场纵向塞曼型:ZL4100/Z600/Z800 AnalytTM600/800型(美国Perkin-Elmer公司)继续,这就引起了一个问题,就是您所提到的问题了,采用交变磁场背景校正的,它必须要求有复杂、庞大的电路系统,而且磁间隙有限,现有的机械、电学、物理学等水平决定了它不能够生产出有火焰燃烧缝那么长(一般15cm左右)的磁场,仅仅应用于石墨炉分析的纵向交变磁场的正常消耗功率就已经达到了4kW!这已经对用于分析的实验室的电路造成了很大的负荷,而且还不包括石墨炉电源,仅仅是它的交变磁场就是4kW了。因此目前采用交变磁场背景校正的仪器,仅仅是石墨炉分析而已,仪器在火焰一侧的背景校正方式采用的必然是D2灯。而横向恒定磁场就没有这个问题了,可以实现火焰与石墨炉的塞曼背景校正,但是并不是说这就比交变磁场要好或是技术更先进,应该说是各有所长也各有所短,真正的评判依据在于用户,用户分析自己的样品适用的方式,就是对他来说好的方式。对本文中出现的错误或各位读者有什么意见建议,欢迎大家批评指正...加一句:原创帖是个人知识、智慧与汗水,应用或转载请注明出处...不关是我的帖子,所有原创帖大家都应支持与保护!谢谢!

  • 光度计的波长校正的原理

    光度计的波长校正原理:是不是在调整光栅的角度?还是在调整出光狭缝的位置?[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]&紫外可见光度计都是这种的吗?[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/03/202303271151384638_7347_5541493_3.png[/img]

  • 【资料】ICP-AES光谱干扰校正方法的研究

    ICP-AES光谱干扰校正方法的研究沈兰荪著 北京工业大学出版社1997年出版简介ICP-AES(电感耦合等离子体原子发射光谱)分析技术作为一种重要的元素分析技术,在国民经济与科学研究的各个方面得到了广泛的应用,光谱干扰的校正是ICP-AES分析技术进一步发展的一个关键问题。本书是一本关于ICP-AES分析技术的专著,研究用现代信号处理的观点与方法校正ICP-AES分析中的光谱干扰,全书共分7章,第1章绪论,第2章ICP-AES分析技术为全书的基本,第3章至第6章,分别讨论了“谱线拟合法”“自适应滤波法”“卡尔曼滤波算法”及“基于数字化谱的方法”等4种主要的校正方法,第7章为光谱干扰的实时校正。本书可供有关专业 高校教师、研究生、高年级大学生、科研人员及工程技术人员使用。目 录前 言第1章绪论1.1ICP-AES中的光谱干扰1.2化学计量学的发展1.3本书内容介绍第2章 ICP-AES分析技术2.1原子发射光谱2.2 ICP-AES分析仪器 2.2.1概述 2.2.2现代ICP-AES分析仪器的典型结构 2.2.3ICP-AES仪器的分析性能 2.2.4仪器函数2.3ICP-AES中光谱干扰校正概述 2.3.1ICP-AES中的干扰现象 2.3.2背景干扰的传统校正方法 2.3.3谱线重叠干扰的传统校正方法 2.3.4传统校正方法的改进2.4讨论第3章 谱线拟合法3.1光谱干扰的数学模型3.2谱线拟合的数学基础 3.2.1Cauchy法 3.2.2直接搜索法 3.2.3Newton-Raphson法 3.2.4单纯形法 3.2.5广义最小二乘法 3.2.6Davison法3.3DFP法用于光谱干扰的校正 3.3.1DFP法[87] 3.3.2模拟数据3.4基于非线性最小二乘法的光谱干扰校正 3.4.1约束条件的处理 3.4.2迭代过程 3.4.3模拟数据 3.4.4实测谱图分析3.5讨论第4章 自适应滤波法4.1Widr0w自适应噪声抵消模型4.2自适应滤波参考输入的选取4.3LMS算法[138,96,158~161]4.4LS算法[138,162,163]4.5自适应滤波法用于背景干扰的校正[98,101,103] 4.5.1模拟数据 4.5.2实测谱图分析4.6自适应滤波法用于谱线重叠干扰的校正[99,102,103] 4.6.1自适应谱线抽取模型的提出 4.6.2模拟数据 4.6.3实测谱图分析4.7ICPAES自适应分析法 4.7.1算法公式 4.7.2模拟数据 4.7.3实测谱图分析4.8用多通道系统识别方法分离光谱重叠峰[91,105] 4.8.1多通道系统识别模型 4.8.2识别算法 4.8.3模拟数据 4.9讨论第5章 卡尔曼滤波算法5.1 Van Veen的卡尔曼滤波算法5.2 Van Veen的卡尔曼滤波算法的模型误差5.3 ICP-AES加权增量卡尔曼滤波算法5.4 讨论第6章 给予数字化谱的方法6.1 数字化谱的获取6.2 模式识别用于光谱分类与识别6.3 高维数据的降维处理6.4 因子分析处理数字化谱第7章 光谱干扰的实时校正7.1 微电子技术的发展7.2 ASIC电路的兴起7.3 WSI技术与三维集成技术7.4 表面安装技术7.5 计算机技术的发展7.6 DSP芯片的进步7.7 采用TMS320C20的光谱干扰实时校正系统7.8 采用Transputer的光谱干扰实时校正系统7.9 讨论

  • 分享影像测量仪的性能特点

    影像测量仪应用在各个不同的精密产品的行业中,是院校、研究所和计量检定部门的计量室、试验室以及生产车间不可缺少的计量检测设备之一。  影像测量仪的性能:  1、影像测量仪具备基本的点、线、圆、两点距离、角度等基本测量功能及坐标平移的功能,能满足基本的二次元测量要求。  2、花岗石底座与立柱,机构稳定可靠  3、影像测量仪的X、Y轴装有光栅尺,定位精确。  4、Z轴采用交叉导轨加配重块的全新设计,镜头上下升降受力均衡,确保精度。  5、LED冷光源(表面光合轮廓光)避免工件受热变形。  6、激光定位指示器,精确制定当前测量位置,方便测量。  7、影像测量仪可以使用OVMLite软件。  8、影像测量仪的镜头:3DFAMILY-S型0.7X-4.5X连续变倍镜头,影像放大倍率:28X-180X。

  • 帮忙下载一篇中文光栅投影法三维轮廓测试关键技术研究

    [*][作者]:[b][url=https://kns.cnki.net/kcms2/author/detail?v=Xlf5kQqXAOlm7l-65OU2lurUkXQXDNnV80swK9r6DI4FW-qMCaOI3BZE4rrkm7O0yKdNrnffasjG8N7d-CSnhfhYoDlEKF9h2DB8TeXPVEpkXvt55_Bp45HyZNWwC-6X&uniplatform=NZKPT&language=CHS][font=&][size=13px][color=#0066cc][/color][/size][/font][/url][font=&][size=13px][color=#0066cc]李恩泽[/color][/size][/font][font=&][size=13px][color=#0066cc][/color][/size][/font][/b][*][题名]:[b][b][url=https://wenku.baidu.com/view/f5a80ae3524de518964b7d76?fr=xueshu_top][b]光栅投影法三维轮廓测试关键技术研究[/b][/url][/b][/b][*][b]【期刊】:CNKI[/b][*][b][/b][*][b]【链接】:[font=&][size=13px][color=#0066cc][/color][/size][/font][font=&][size=13px][color=#0066cc]李恩泽[/color][/size][/font][url=https://xueshu.baidu.com/usercenter/paper/show?paperid=f2e2bd2913c42043529786483b494f52&site=xueshu_se]光栅投影法三维轮廓测试关键技术研究 - 百度学术 (baidu.com)[/url][/b][font=&][size=13px][color=#0066cc]李恩泽[/color][/size][/font]

  • 光谱校正原理之二-----在峰法

    2.光谱校正原理之二在峰法:在峰法即把所有光谱子扰都作为“空白”值来进行校正,直接在分析线蜂值波长位置分别测量不含分析物的样品(即空白样品)及含有分析物的样品(一般样品)的谱线强度值,并以前者所得强度值作为干扰强度Ii,(包括空白强度和背景强度等),后一强度值为表观强度Ix+i,为校正方便,可以把干扰强度直接换算为与分析物浓度相当的所谓“净空白等效浓度”或“背景等效浓度”(“BEC”),然后从Ix+i所对应的分析物表现浓度中扣除,当不考虑自吸收的影响时,分析线强度与分析物浓度的关系为 Ix=SxCx (3)而干扰强度与干扰物浓度的关系为 Ii=SiCi (4)式中Sx和Si,分别是在分析线波长位置相应校准曲线的斜率,即灵敏度。Cx和Ci,分别是分析物浓度和干扰物浓度。由式(3)及(4)得分析线表现强度(Ix+i)为Ix+I= Ix+Ii=SiCi+SxCx=Sx(SiCi/Sx +Cx)= SxCx\ (5)式中Cx\:=SiCi/Sx +Cx:即为分析物的表观浓度,即末校正干扰的分析物浓度),其中SiCi/Sx或Ii/Sx即定义为“净空白等效浓度”或“背景等效浓度”,并以Ceq或BEC表示,即Ceq=BEC=SiCi/Sx=Aci (6)其中A=Si/Sx即为干扰系数。当分析线受多种成分干扰时,总的Ceq或BEC将等于各干扰成分的“等效浓度”之和,即 Ceq=Ceq1十Ceq2十Ceq3…. =A1Ci1十A2Ci2十A3Ci3… =Σ(AjCij)=BEC (7)而分析物浓度Cx:为 Cx=Cx\—Ceq(or BEC) (8)由于表现浓度Cx和各干扰成分的(Ceq)j成(BEC)j,值很容易由该波长位置的相应校难曲线得到,校准曲线的斜率一般Si《Sx ,因而光谱干扰可由式(7)和(8)方便地校正。现在已经出现了许多用于光谱干扰校正的ICP光谱波长表,可以查阅有关文献。 如果干扰强度Ii与干扰物浓度Ci的关系为非线性关系,则Ceq(or BEC)与Ci之间的关系为二次曲线,可用下式表示:Ceq=ACi+BCi2式中A和B分别为一级和二级干扰系数。B一般为负值(有时亦出现正值,原因末明),其绝对值比A值平均约小4个数量级。应该指出,这种“在峰”空白及相应干扰系统校正法,是以ICP放电具有良好的时间稳定性作为前提条件的,因为“空白”值和表观浓度系在不同的时间内,分别出不同的样品——空白样品和分析样品来提供的,如果没有不含分析物的空白样品可利用,这种校正方法将变得更为复杂。 近代商品ICP发射光谱仪,无论多道仪器或单道仪器,一般都带有计算机控制的自动校正光谱干扰的装置(离峰或在在峰校正)。

  • 【讨论】PLC结合光栅电子尺使用的自动化控制

    【讨论】PLC结合光栅电子尺使用的自动化控制

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/04/201204270907_363661_2523522_3.jpg光栅尺的工作原理光栅尺是通过摩尔条纹原理,通过光电转换,以数字方式表示线性位移量的高精度位移传感器.光栅尺是由读数头、主尺和接口组成。玻璃光栅上均匀地刻有透光和小透光的线条,栅线为50线对/mm,其光栅栅距为0.02mm,采用四细分后便可得到分辩率为5μm的计数脉冲。一般情况卜,线条数按所测精度刻制,为了判别出运动方向,线条被刻成相位上相差90°的两路。当读数头运动时,接口电路的光电接收器分别产生A相和B相两路相位相差90°的脉冲波.输出信号再经过数显系统细分处理,分辨率是光栅周期除以信号细分数,经过电子信号细分处理分辨率可为5um或1um 光栅尺的适用领域:加工用的设备:车床、铣床、镗床、磨床、钻床、电火花机、线切割等 测量用的仪器:投影机、影像测量仪、工具显微镜等 也可对数控机床上刀具运动的误差起补偿作用 配接PLC,用于各类自动化机构的位移测

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