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薄膜厚度均匀性测试仪

仪器信息网薄膜厚度均匀性测试仪专题为您提供2024年最新薄膜厚度均匀性测试仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜厚度均匀性测试仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜厚度均匀性测试仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜厚度均匀性测试仪相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜厚度均匀性测试仪相关的最新资讯、资料,以及薄膜厚度均匀性测试仪相关的解决方案。

薄膜厚度均匀性测试仪相关的耗材

  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 硅片厚度测量仪配件
    硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪,能够精确给出衬底厚度和厚度变化 (TTV),也能实时给出超薄晶圆的厚度(掩膜过程中的晶圆),非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势,诸 多材料例如,Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃,石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法,对晶圆的厚度和表面形貌进行测量,可广泛用于:MEMS, 晶圆,电子器件,膜厚,激光打标雕刻等工序或器件的测量,专业为掩膜,划线的晶圆,粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计,同时,硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件,使用该探针系统后,硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆(植球晶圆),wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV,同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度,硅膜厚度(membrane thickness) 和凸点厚度(wafer pump height).,沟槽深度 (trench depth)。
  • 等厚度薄膜制样工具
    specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理,所得到样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频:http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频
  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米; 波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 光源:使用显微镜光源 光斑大小:由显微镜物镜决定 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口; 尺寸:120x120x120mm 重量:1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量
  • 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、剥离机
    薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍:LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示,加上电脑可实现微机操作,参数随意设定,可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy: 30KN(任意选) 2、荷重元精度Load Accuracy: 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy: ± 0.5% 4、操作方式Control: 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width: 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke: 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy:: ± 0.5%以内; 9、位移测量精度Stroke Accuracy: ± 0.5%以内; 10、变形测量精度Displacement Accuracy: ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device: 电子限位保护,紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight : 约140kg
  • 溶出度测试仪配件
    溶出度测试仪配件是一款自动药物溶出度仪,用于测量药物或化学物质在设定温度下的溶解情况,溶出度测试仪配备了蠕动泵和分光光度计,是领先的进口自动溶出度测试仪。溶出度测试仪配件特点六杯六杆,桨杆等采用进口SUS316不锈钢。数字读取提供连续更新的精确轴速度。水浴温度可设定到所需温度。旋转度可无限变化,可设定到任意所需速度。水浴温度均匀。全自动智能化控制温度、转速及时间三个参数。可以随意预置参数;分时显示预置值和实时值。溶出度测试仪配件应用用于药片,胶囊,药丸,固体剂型以及各种药品的溶出度测试,药品质量控制,研发。适合科研院所和制药企业的实验室使用。溶出度测试仪配件参数转速:10-250rpm电力:220V/50Hz安全功能:低水位,过热,防漏电温度:数字温度控制系统加热器:900W重量:62kg孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商,产品技术和性能保持全球领先,拥有包括溶出度测试仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类,世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系,确保每个一产品是用户满意的完美产品.我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库,可在下单后12小时内从国外直接空运发货,我们位于天津保税区的进口公司众邦企业(天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务,确保中国用户以极低的成本享受进口优质产品的良好体验。关于溶出度测试仪参数,溶出度测试仪应用,溶出度测试仪特点的更多消息,孚光精仪将在第一时间更新并呈现,想了解更多内容,关注孚光精仪等你来体验!
  • EDX迈拉膜、XRF测试薄膜-TF-115
    X射线荧光膜、土壤样品杯膜、mylar膜/聚丙烯膜、日本理学/岛津/斯派克、EDX迈拉膜/XRF测试薄膜、美国Premier样品膜-TF-115 品名:XRF样品膜Sample Film 型号:TF-115 品牌:美国Premier Lab (原装进口) 货期:现货 起订量:1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜:美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域,以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film)以其极低的(几乎不含)杂质和厚度均匀而严格生产,极好的柔韧性和抗化学腐蚀性,保证检测结果的可靠性和重现性,被广泛应用于XRF样品制备、检测过程,适用于各类X-ray光谱仪(XRF:WD-XRF、ED-XRF)。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测,适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点: 有卷状和片状,多种规格、尺寸、数量可供选择; 柔韧性强、方便、耐用; *的X-ray射线穿透性,适合各类XRF光谱仪; *的抗化学腐蚀性能,不溶于有机溶剂,不污染待测样品; (几乎不含)痕量杂质,特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF:日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录:美国Premier X-ray样品膜种类:(1)、Hostaphan膜;(2)、Kapton膜:聚酰亚胺膜,卡普顿膜;(3)、Mylar膜:聚酯薄膜,迈拉膜,麦拉膜;(4)、Polypropylene膜:聚丙烯膜。 目录编号:CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-115 Mylar迈拉膜 1.5μ(0.06mil) 76mm x 91.4m 1卷/盒 Mylar® Rolls连续卷轴
  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 薄膜溶解测量仪配件
    薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化,是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品,使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部,距离玻璃窗口非常接近,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据。另外,根据需要,我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer,提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具,以固定小尺寸的硅样品或3' ' ,4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同,如溶解速度的不同,它能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程,而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量,薄膜溶解测厚仪需要光滑,具有反射性的衬底,对于光学常数测量,平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的,衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量,已经成功应用于测量反射衬底(Si晶圆)上各种光滑,透明或轻度吸收薄膜的溶解过程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜,聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:15kg 电力要求:110/230VAC薄膜溶解测量仪应用:聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
  • 耐高温薄膜
    试验时胶料上下侧应垫耐高温玻璃纸,防止胶料残留上下模腔的花纹沟槽中;这种高温玻璃纸厚度均匀,性能稳定,可消除普通薄膜纸(玻璃纸)误差大的弊端,即可解决模腔粘胶不易清理的难题又保证测试数据不失真。
  • XRF荧光光谱仪专用测试薄膜
    产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜,以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度:下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上,使用两种材料:聚酯(聚酯薄膜)和聚丙烯(商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”,例如以“lene”结尾的,通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜)。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料,聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体(例如水、聚乙二醇和高沸点油)。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析,因为它没有主要成分其中的污染。相比之下,聚酯薄膜含有不需要的磷和钙(3.5 µmMylar 对应于纯油(例如清洁白油)中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜,例如Hostaphan(带有硅污染的聚酯)或聚碳酸酯(不含污染,首选用于燃料分析)受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明,因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。
  • HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪
    HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪 HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪是园艺的好帮手,可以测试土壤的PH值(酸碱度),土壤湿度以及光照度.无需电池. 使用方法: 测土壤PH值和湿度时,先将探头尽量深地插到土里,探头上面部分留大约1厘米. 拨动笔上的按键到MOIST, MOIST是水份键,对应表上的是MOIST, DRY是干, WET是湿,数值1-3(红色部分)说明需要浇水, 4-7(绿色部分)是合适的,请根据植物的品种调整浇水时间, 8-10(蓝色部分)说明太湿了. 拨动笔上的按键到PH, PH是酸碱度键,对应表上的是8-3.5数值, ALKALINE是碱, ACDIC是酸,数值7基本是中性,数越小说明酸度越大,请根据植物的品种调整土壤酸碱度. LIGHT键是光照度,测量范围0-2000流明,数值越大,说明光照越强,请根据植物的品种来决定是否需要遮阴. 使用时注意插电极时不能碰到石头,不要用力过猛,否则容易伤害电极.用完后把电极洗干净. 如何分析植物光照强度 1. 将功能键拨至左起第二个档位上。 2. 手持装置,使装置顶端的细长蜂巢状紫色小窗置于植物顶端叶面位置,将小窗朝向最亮的光源方向。在测试过程中,请避免身体和叶子的阴影遮挡小窗。 3. 请记录测试结果(× 1000)及测试时间。 4. 请选择上午、中午、下午的中间时刻测试,所得出的数据就是这一时间段的平均光照强度。 例如: 上午9:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(上午7:00到11:00间的平均光照强度) 下午1:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(11:00到下午3:00间的平均光照强度) 下午5:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(下午5:00到7:00间的平均光照强度) 一天的总日照强度= 以上数据之和。 单位:Foot-candle hours (烛光距) 1 Foot-candle = 10.7639 Lux (勒克斯) 请查阅说明书后的光照要求表。 如何分析湿度 1. 将功能键拨至左起第三个档位上。 2. 将探棒完全插入被测土壤。在测试盆栽土壤时,将探棒插于植物干茎与花盆的中间位置,请不要离植物过近,以免伤及植物根系。 3. 读取数据。 4. 将探棒从土壤中取出,在进行下一次测试或存贮之前,请用棉布将探棒完全擦净。 5. 请不要将探棒长时间插于土壤中,也不要用此装置测试液体,以免对其造成损害。 如何分析土壤的pH值 1. 先移去被测土壤表土约5厘米;然后向下将土壤捣碎至13厘米深。并清理土壤中一切会影响测试结果的有机杂质,如叶子、根系等。 2. 将土壤用水浸透,成泥状。(最好使用雨水或蒸馏水) 3. 将功能键拨至最右边的档位上。 4. 湿润探棒。用购买时随附的特殊清洁棉片将三个探棒中的最右边一根擦净。 5. 将探棒完全插入被测土壤中。 6. 等待1分钟即可读取数据。 7. 测试结束后,将探棒擦净并晾干。 如何使用你的土壤pH值分析计 1. 先移去被测土壤表土约5厘米;然后向下将土壤捣碎至13厘米深。并清理土壤中一切会影响测试结果的有机杂质,如叶子、根系等;将土壤用水浸透,调匀成泥状。(最好使用雨水) 为了达到较准确的分析结果,你可以从被测土壤中采集一部分土,清除石子及有机碎屑物,然后把土壤碾碎成粉末状,并从中取出2杯的样土;准备一个干净的玻璃或塑料容器,倒入2杯蒸馏水或去离子水,再加入样土,搅拌使他们充分混合并压实,倒掉多余的水。 2. 使用购买时随附的清洁棉擦拭探棒约10-12厘米。应小心避免探头接触其它金属表面;再使用棉制品或纸将探棒抹净,每次应从探头擦至探棒尾部。 3.将探棒垂直插入湿润的土壤约10-12厘米深;若探棒不容易插入,请换一个新位置重试。任何情况下都不应强行插入探棒,以免损伤探头。 4.在指间按顺时针、逆时针方向转动探棒若干次,确认潮湿的土壤表土已在探棒周围分布好; 5.等待60秒后读取数据。 6.如果测试结果大于pH 7:从土中拔出探棒,擦掉探棒表面的土壤颗粒。擦拭探棒后,将其重新插入土壤中新的位置再测试一次。 在指间转动探棒2-3次,30秒后读取数据 7.如果测试结果小于pH 7:从土中拔出探棒,擦掉探棒表面的土壤颗粒。不要擦拭探棒,将其重新插入土壤中新的位置再测试一次。在指间转动探棒2-3次,60秒后读取数据。 仪器注意事项 - 探棒插在土壤中的时间不宜过长,以免损坏探棒金属表面; - 确认在存放仪器前,探棒应干燥、干净; - 应使探棒远离其他金属物质; 此仪器只用于测试土壤,请不要将探棒插入水中。 问题及解决方法 指针摇摆不定 * 石子或有机质影响仪器电极 * 土壤样土未完全压实(盆栽和重量较轻的土壤) * 清洁探棒后,有金属颗粒附着探棒 * 土壤在探棒周围分布不均匀 * 探棒距盆壁或盆底过近 * 测试时间离重新装土入盆的时间太近 * 探棒贴近肥料棒或肥料颗粒 指针迟钝或没有反映 * 需要清洁探棒 * 样土过干 * 探棒受损 极端pH值状态(仅限于盆栽土壤) * 因过量施肥而带来的养分增加 * 探棒贴近肥料棒或肥料颗粒 如何测量湿度 1.将探棒尽量垂直插入被测土壤中。在测试盆栽植物土壤时,不要使探棒离植物过近,以免伤及植物根系; 2.在探棒插入被测土壤的过程中,你会发现刻度盘内指针所指位置不稳定,这是因土壤湿度不均匀所至。所以请测试两遍以最终确定结果; 3.读取结果; 4.将探棒从被测土壤中取出,请不要拉、拽白色连接线,以免使用时出现接触不良等故障; 5.用棉布将探棒完全擦净,以备下次使用。 如何读取结果 1.湿度标度尺上的数字1-10代表湿度的逐渐递增。没有任何植物可以长时间在1和10代表的两种湿度环境下正常生长。在附表中为您提供了所列植物的湿度环境要求。如果所测结果高于表中规定要求,在此情况下您不需继续浇水;若结果低于规定要求,提醒您应立即浇水。 2.浇灌次数(参考说明书): &mdash * 1周需检查一次 &mdash ** 每4到5天需检查一次 &mdash *** 3天需检查一次仪器读数表 3.特殊水分要求 以下数字代表: i 每天向叶面洒水; ii 不要让土壤变干; iii 保持土壤湿润,但不应过于潮湿; iv 土壤应始终保持湿润; v 在浇灌间隙可令土壤变干; vi 在浇灌前4到5天应使土壤变干; vii 在植物休眠期间应逐渐减少施水量; viii 将水倒入盆栽托盘中;不需洒水在叶子表面。
  • 手持式薄膜测厚仪配件
    手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k),薄膜厚度测量范围为350-1000nm,不需要电线连接,也不需要实验室安装空间,它从USB连接中获取工作电源,这种独特设计方便客户移动测量,只需USB线缆从计算机控制测量即可,采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪,具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源,光源寿命高达20000小时,手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电,不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 15nm-90微米;波长范围: 360-1050nm 探测器:3648像素Si CCD阵列,16bit A/D精度:1nm 斑点大小:0.5mm 光源:LED混合光源( 360-1050nm )所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:300x110x500mm 重量:600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • Thorlabs精密盖玻片,厚度#1.5H(170 µ m)
    Thorlabs提供一系列精密盖玻片、显微镜载玻片和荧光载玻片(见右表),适合高性能的成像应用,比如全内反射荧光(TIRF)显微、活细胞成像和生物化学应用。精密盖玻片盖玻片由Schott D 263® M玻璃制造,这种玻璃具有透明、无色、低自发荧光的特性。#1.5H盖玻片经过精密加工,具有170 ± 5 µ m的均匀厚度,能够最大程度地减少因球面像差引起的图像缺陷;我们提供方形、矩形和圆形的版本。#0盖玻片经过研磨,厚度变得非常薄,处于85 - 115 µ m之间,适用于弱荧光或厚样品;它有方形和矩形的版本。精密盖玻片,厚度#1.5H(170 µ m)精密盖玻片,厚度#1.5H(170 µ m),公差±5 µ m推荐与高数值孔径的物镜配合使用提供方形(22 mm x 22 mm)、矩形(24 mm x 50 mm)和圆形(Ø 12 mm和Ø 25 mm)版本Thorlabs的精密盖玻片经过研磨,达到170 ± 5 µ m的均匀厚度。它们由Schott D 263® M玻璃制成,这是一种透明、无色、具有低自发荧光特性的玻璃。均匀的厚度和一致的光学特性减少了由球面像差造成的图像缺陷(详情请看规格标签)。因此,这些盖玻片非常适于与高数值孔径的物镜配合使用。 这些盖玻片有方形(22 mm x 22 mm)、矩形(24 mm x 50 mm)和圆形(Ø 12 mm和Ø 25 mm)的版本。请注意,Ø 12 mm盖玻片无法与MS15C1和MS15C2样品腔载玻片一起使用。
  • HL-6301 土壤湿度测试仪
    HL-6301 土壤湿度测试仪 HL-6301 土壤湿度测试仪本款仪器是园艺的好帮手,可以测试土壤的湿度,无需电池.工作原理: 通过土壤中有机营养物质的电解值测出植物土壤水份情况, 把探针插入根部就可读出,无需电池.精确有效的测出植物土壤里的湿度;准确掌握各种植物生长的适宜条件;把探针插入根部土壤中就可读出准确的土壤湿度,MOIST是水份键,对应表上的是MOIST, DRY是干, WET是湿,数值1-3(红色部分)说明需要浇水, 4-7(绿色部分)是合适的,请根据植物的品种调整浇水时间, 8-10(蓝色部分)说明太湿了. 使用时注意插电极时不能碰到石头,不要用力过猛,否则容易伤害电极.用完后把电极洗干净. 如何测量湿度 1.将探棒尽量垂直插入被测土壤中。在测试盆栽植物土壤时,不要使探棒离植物过近,以免伤及植物根系; 2.在探棒插入被测土壤的过程中,你会发现刻度盘内指针所指位置不稳定,这是因土壤湿度不均匀所至。所以请测试两遍以最终确定结果; 3.读取结果; 4.将探棒从被测土壤中取出,请不要拉、拽白色连接线,以免使用时出现接触不良等故障; 5.用棉布将探棒完全擦净,以备下次使用。 如何读取结果 1.湿度标度尺上的数字1-10代表湿度的逐渐递增。没有任何植物可以长时间在1和10代表的两种湿度环境下正常生长。在附表中为您提供了所列植物的湿度环境要求。如果所测结果高于表中规定要求,在此情况下您不需继续浇水;若结果低于规定要求,提醒您应立即浇水。 2.浇灌次数(参考说明书): &mdash * 1周需检查一次 &mdash ** 每4到5天需检查一次 &mdash *** 3天需检查一次仪器读数表 3.特殊水分要求 以下数字代表: i 每天向叶面洒水; ii 不要让土壤变干; iii 保持土壤湿润,但不应过于潮湿; iv 土壤应始终保持湿润; v 在浇灌间隙可令土壤变干; vi 在浇灌前4到5天应使土壤变干; vii 在植物休眠期间应逐渐减少施水量; viii 将水倒入盆栽托盘中;不需洒水在叶子表面。
  • 聚合物薄膜测厚仪配件
    聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法,使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标:例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg),热分解温度,薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据,能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据,并且能够控制薄膜加热和制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究,例如:薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究,薄膜光学性质随温度的变化,薄膜预烘烤Post Apply Bake,光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量,这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的,背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks,给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能,光刻薄膜的热处理影响分析,Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5%分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg 电力要求:110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度
  • HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪 HL-6322
    HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪 HL-6322 土壤湿度/酸度/光度测试仪是园艺的好帮手,可以测试土壤的PH值(酸碱度),土壤湿度以及光照度.无需电池. 使用方法: 测土壤PH值和湿度时,先将探头尽量深地插到土里,探头上面部分留大约1厘米. 拨动笔上的按键到MOIST, MOIST是水份键,对应表上的是MOIST, DRY是干, WET是湿,数值1-3(红色部分)说明需要浇水, 4-7(绿色部分)是合适的,请根据植物的品种调整浇水时间, 8-10(蓝色部分)说明太湿了. 拨动笔上的按键到PH, PH是酸碱度键,对应表上的是8-3.5数值, ALKALINE是碱, ACDIC是酸,数值7基本是中性,数越小说明酸度越大,请根据植物的品种调整土壤酸碱度. LIGHT键是光照度,测量范围0-2000流明,数值越大,说明光照越强,请根据植物的品种来决定是否需要遮阴. 使用时注意插电极时不能碰到石头,不要用力过猛,否则容易伤害电极.用完后把电极洗干净. 如何分析植物光照强度 1. 将功能键拨至左起第二个档位上。 2. 手持装置,使装置顶端的细长蜂巢状紫色小窗置于植物顶端叶面位置,将小窗朝向最亮的光源方向。在测试过程中,请避免身体和叶子的阴影遮挡小窗。 3. 请记录测试结果(× 1000)及测试时间。 4. 请选择上午、中午、下午的中间时刻测试,所得出的数据就是这一时间段的平均光照强度。 例如: 上午9:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(上午7:00到11:00间的平均光照强度) 下午1:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(11:00到下午3:00间的平均光照强度) 下午5:00的读数× 4小时= 这一时间段的光照强度(下午5:00到7:00间的平均光照强度) 一天的总日照强度= 以上数据之和。 单位:Foot-candle hours (烛光距) 1 Foot-candle = 10.7639 Lux (勒克斯) 请查阅说明书后的光照要求表。 如何分析湿度 1. 将功能键拨至左起第三个档位上。 2. 将探棒完全插入被测土壤。在测试盆栽土壤时,将探棒插于植物干茎与花盆的中间位置,请不要离植物过近,以免伤及植物根系。 3. 读取数据。 4. 将探棒从土壤中取出,在进行下一次测试或存贮之前,请用棉布将探棒完全擦净。 5. 请不要将探棒长时间插于土壤中,也不要用此装置测试液体,以免对其造成损害。 如何分析土壤的pH值 1. 先移去被测土壤表土约5厘米;然后向下将土壤捣碎至13厘米深。并清理土壤中一切会影响测试结果的有机杂质,如叶子、根系等。 2. 将土壤用水浸透,成泥状。(最好使用雨水或蒸馏水) 3. 将功能键拨至最右边的档位上。 4. 湿润探棒。用购买时随附的特殊清洁棉片将三个探棒中的最右边一根擦净。 5. 将探棒完全插入被测土壤中。 6. 等待1分钟即可读取数据。 7. 测试结束后,将探棒擦净并晾干。 如何使用你的土壤pH值分析计 1. 先移去被测土壤表土约5厘米;然后向下将土壤捣碎至13厘米深。并清理土壤中一切会影响测试结果的有机杂质,如叶子、根系等;将土壤用水浸透,调匀成泥状。(最好使用雨水) 为了达到较准确的分析结果,你可以从被测土壤中采集一部分土,清除石子及有机碎屑物,然后把土壤碾碎成粉末状,并从中取出2杯的样土;准备一个干净的玻璃或塑料容器,倒入2杯蒸馏水或去离子水,再加入样土,搅拌使他们充分混合并压实,倒掉多余的水。 2. 使用购买时随附的清洁棉擦拭探棒约10-12厘米。应小心避免探头接触其它金属表面;再使用棉制品或纸将探棒抹净,每次应从探头擦至探棒尾部。 3.将探棒垂直插入湿润的土壤约10-12厘米深;若探棒不容易插入,请换一个新位置重试。任何情况下都不应强行插入探棒,以免损伤探头。 4.在指间按顺时针、逆时针方向转动探棒若干次,确认潮湿的土壤表土已在探棒周围分布好; 5.等待60秒后读取数据。 6.如果测试结果大于pH 7:从土中拔出探棒,擦掉探棒表面的土壤颗粒。擦拭探棒后,将其重新插入土壤中新的位置再测试一次。 在指间转动探棒2-3次,30秒后读取数据 7.如果测试结果小于pH 7:从土中拔出探棒,擦掉探棒表面的土壤颗粒。不要擦拭探棒,将其重新插入土壤中新的位置再测试一次。在指间转动探棒2-3次,60秒后读取数据。 仪器注意事项 - 探棒插在土壤中的时间不宜过长,以免损坏探棒金属表面; - 确认在存放仪器前,探棒应干燥、干净; - 应使探棒远离其他金属物质; 此仪器只用于测试土壤,请不要将探棒插入水中。 问题及解决方法 指针摇摆不定 * 石子或有机质影响仪器电极 * 土壤样土未完全压实(盆栽和重量较轻的土壤) * 清洁探棒后,有金属颗粒附着探棒 * 土壤在探棒周围分布不均匀 * 探棒距盆壁或盆底过近 * 测试时间离重新装土入盆的时间太近 * 探棒贴近肥料棒或肥料颗粒 指针迟钝或没有反映 * 需要清洁探棒 * 样土过干 * 探棒受损 极端pH值状态(仅限于盆栽土壤) * 因过量施肥而带来的养分增加 * 探棒贴近肥料棒或肥料颗粒 如何测量湿度 1.将探棒尽量垂直插入被测土壤中。在测试盆栽植物土壤时,不要使探棒离植物过近,以免伤及植物根系; 2.在探棒插入被测土壤的过程中,你会发现刻度盘内指针所指位置不稳定,这是因土壤湿度不均匀所至。所以请测试两遍以最终确定结果; 3.读取结果; 4.将探棒从被测土壤中取出,请不要拉、拽白色连接线,以免使用时出现接触不良等故障; 5.用棉布将探棒完全擦净,以备下次使用。 如何读取结果 1.湿度标度尺上的数字1-10代表湿度的逐渐递增。没有任何植物可以长时间在1和10代表的两种湿度环境下正常生长。在附表中为您提供了所列植物的湿度环境要求。如果所测结果高于表中规定要求,在此情况下您不需继续浇水;若结果低于规定要求,提醒您应立即浇水。 2.浇灌次数(参考说明书): &mdash * 1周需检查一次 &mdash ** 每4到5天需检查一次 &mdash *** 3天需检查一次仪器读数表 3.特殊水分要求 以下数字代表: i 每天向叶面洒水; ii 不要让土壤变干; iii 保持土壤湿润,但不应过于潮湿; iv 土壤应始终保持湿润; v 在浇灌间隙可令土壤变干; vi 在浇灌前4到5天应使土壤变干; vii 在植物休眠期间应逐渐减少施水量; viii 将水倒入盆栽托盘中;不需洒水在叶子表面。
  • 手持荧光光谱仪薄膜、样品杯膜TF-260
    土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#(SKY-260) permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品,欢迎采购, 卷:( 直径:3.0" (76mm);91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名:XRF样品膜Sample Film 型号: CAT. NO TF-260# 品牌:美国Premier Lab (原装进口) 货期:现货 起订量:1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜:美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域,以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film)以其极低的(几乎不含)杂质和厚度均匀而严格生产,极好的柔韧性和抗化学腐蚀性,保证检测结果的可靠性和重现性,被广泛应用于XRF样品制备、检测过程,适用于各类X-ray光谱仪(XRF:WD-XRF、ED-XRF)。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测,适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点: 有卷状和片状,多种规格、尺寸、数量可供选择; 柔韧性强、方便、耐用; 的X-ray射线穿透性,适合各类XRF光谱仪; 的抗化学腐蚀性能,不溶于有机溶剂,不污染待测样品; (几乎不含)痕量杂质,特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF:日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录:美国Premier X-ray样品膜种类:(1)、Hostaphan膜;(2)、Kapton膜:聚酰亚胺膜,卡普顿膜;(3)、Mylar膜:聚酯薄膜,迈拉膜,麦拉膜;(4)、Polypropylene膜:聚丙烯膜。目录编号:CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴
  • 透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口
    透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口 产品概述: 与X射线用氮化硅窗口类似,透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下: 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm) 边框厚度: 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm),但要100片起订。 本产品为一次性产品,不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标: 表面平整度: 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整, TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为:0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性: 该窗格呈疏水性,如果样品取自水悬浮液,悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理,可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试,但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格,但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性: 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品,能够承受1000度高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性: 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点: 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • 实验室智能石墨消解仪 多孔批量处理加热均匀
    D4智能石墨消解仪采用高纯石墨材料作为加热体,包裹式加热,效率更高,温度均匀性更好。多孔设计,轻松实现样品的批量处理,是您样品消解的好伴侣。产品特点1、无线蓝牙技术,控制更智能使用mini平板(PAD)蓝牙控制技术,真彩触摸屏,仪器内部无需任何接插件和开关,便可轻松的实温度控制,让您的工作充满时尚、自由和畅快。2、均衡、包裹式加热,消解效率更高高纯石墨体具有良好的导热性,为所有样品提供均匀的热量,消除了加热盲点。立体包裹式加热,热量损失更少,效率更高,弥补了电热板加热的不足。3、多孔设计,处理量倍数于微波消解批量处理,整体时间大大缩短;标配39孔,一次可处理3900ml液体样品;可定制49孔、64孔或81孔,处理量倍数于微波消解仪;常压式消解仪更安全更快捷。4、高品质工艺,维护操作简单石墨体表面喷涂特氟龙涂层,易清洁、耐腐蚀;聚四氟乙烯台面,整机外围无金属部件,可在强酸强碱等恶劣环境中放心使用。5、安卓系统,时尚,功能强大采用先进的专家PID温控系统,独特的可视化监控,用户可通PDA界面清楚的看到整个消解过程中的各项参数:消解时间、保持时间、当前温度等,用户可以根据不同的样品自行编辑并保存消解方法。6、真实的样品温度可选配外置温度探针,保证了样品的真实温度,使样品消解更加到位。7、完善配件,更贴心可选配聚四氟乙烯消解管、回流盖、双层支架、单层支架、单层钢架、聚丙烯消解管、长短玻璃消解管等等,使用更贴心。
  • 高灵敏度积分球;辐射积分球;反射/透射积分球;高均匀度积分球;紫外均匀积分球如海光电
    IS-38-INT积分球IS-38-INT积分球 (高灵敏度积分球;辐射积分球;反射/透射积分球;高均匀度积分球;紫外均匀积分球)通过9.5mm入光口来接收光能量(波长范围200~2500nm),再经过内部漫反射后,将均匀的光能量到传送到输出端口。输入端口采用SMA905连接器,可直接耦合到光谱仪中,方便使用。该产品可用于测量发光二极管等光源的光谱特性,光通量,色温,光谱分布等参数。产品特点? 材料:漫反射朗伯特性材料 反射率~97%? 外壳:光亮发黑? 内胆直径:38mm? 输出接口:SMA905? 固定孔位:M3, 间距25mm
  • 奥谱天成高均匀性漫射源积分球
    高均匀性漫射源是直径φ500-1000mm的积分球,出口为φ50-200mm,在球内与出口平行的圆周平面上均匀的分布着12只光源,经球内面的多次漫反射之后,出口光斑的均匀性优于99.0%。
  • TEM/SEM用纯硅薄膜窗
    TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰; 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous); 减少污染:彩色污染仅为C膜的一半; 纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰; Si成分:溅镀沉积、纯的Si; 最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析; 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列,50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列,100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列,8个窗口50X50μm,1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm;纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列,窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • TEM/SEM用氮化硅薄膜窗口
    TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜:50nm厚的薄膜具有最大的视野范围;8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜:低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜,良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性:减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口:适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口,倾斜度最大可达75° 多窗口系列:2窗口,0.1x1.5mm;3x3系列,0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术:良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸,不会被溶解:可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境: 1000°C 可提供更对精确的分析,如样品中的碳含量,减少污染:可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗:机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量 良好的平整度:良好的纳米沉积基底和薄膜,无背景结构适合于SEM成像 超净加工,防止支撑膜上残留微粒:100级的超净间内包装 框架厚度:200 and 50μm :200μm是标准的TEM支撑架;50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列,8个窗口250X250μm,1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列,窗口100X100μm,Φ3mm200μm50nm3x3阵列,窗口100X100μm,Φ3mm50μm8nm单窗口,窗口大小:0.6×0.6mm;25个网格,氮化硅支撑膜200nm;网格上的氮化硅薄膜8nm;网格大小:75μm ,网格间距:25μm;Φ3mm200μm 应用简介: 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • TEM/SEM用氧化硅薄膜窗
    透射电镜(TEM)用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较: 相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。 样本安置面:对多数用户来说,样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下,蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜(AFM)观测外,蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上,没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格: 氧化硅薄膜窗特点: 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性: 耐高温,1000℃; 良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡; 化学计量比的SiO2:可用于氮气环境下的EDX分析; 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列,窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列,窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点: SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中,装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用: 氧化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在): ● 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。 ● 作为耐用(如&ldquo 强力&rdquo )基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用: 如果正确操作,氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反,若用工具直接接触薄膜,则会即刻损坏薄膜。为防损坏,可用尖嘴镊子小心夹取,就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁: 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理,我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物,用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜,因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • 薄膜纸张铜箔铝箔拉伸测试工装夹具
    适用范围:薄膜/纸张/铜箔/铝箔/等非金属材料试样的拉伸测试 可选A或B型接头:A接头 轴外径20mm长度30mm(配锁 紧母)B接头 内孔20mm深30mm 插销孔径10mm,插销孔中心到接头 端面距离14.5mm。不配接头时夹具体M12内牙夹片规格:宽30*高25mm贴胶面. 夹持试样厚度5mm。单个夹具重量500g
  • 剥离力夹具 薄膜180度剥离试验夹具
    适用范围:薄膜、 纸张类材料试样的拉伸测试无接头:夹具体M6内 牙 平面夹片,可夹持试样宽度30mm,夹持厚度2mm.
  • 粉末粒度测试仪
    PSI-4型测定仪使用说明书 一、仪器简介及应用范围PSI-4系列为第四代透过法粒度测定仪,是测定金属、非金属及其化合物粉末的比表面积和粒度的装置。可广泛应用于粉末冶金、精细化工、硅酸盐工业、食品、制药、核工业、以及表面技术的各种粉末粒度和比表面积的测定。本仪器结构简单,操作方便,仪器有快速计算板,不需要复杂计算,测定一次只需3~5分钟。本仪器运用的测定方法为“张瑞福法”,该方法是测定金属及其化合物粉末比表面积和粒度的国家标准:GB11107-89和国际标准:ISO10070-91,荣获国家发明奖。PSI-4A型带快速计算板,无须复杂计算,可直接读出粒径值,使用操作非常方便。PSI-4B型带有游标卡尺,可精确测量粉末床的厚度及水柱高度,大大提高了测量范围和精度。 二、技术性能PSI-4APSI-4B仪器设计精度0.010.01粒度测量精度0.030.02粒度测量范围Dk0.1~100μm0.02~120μmDv0.02~1μm0.002~0.5μm比表面积测量Sk0.06~60(m2/g)0.05~300(m2/g)Sv6~300(m2/g)12~3000(m2/g)Sw2~150(m2/g)0.2~1.5×103(m2/g)注:Dk为包络比表面粒度,也称粘性流透过粒度; Dv为全比表面粒度;Sw为质量全比表面积 Sk为粉末包络比表面积; Sv为粉末全比表面积,也称粉末吸附全比表面积。工作环境: 干燥,无腐蚀,温度25±12℃,相对湿度<80%电 源: 220ACV,50Hz,20W外型尺寸: 755×400×260 mm3净 重: 12 kg三、工作原理及结构本仪器是基于稳定空气流动下,气体透过粉末压缩床,气体的透过率受粉末的粒度、形状和床的有效孔隙度的影响。当已知粉末形状、孔隙度并测出其透过率时,就可以计算出粉末的粒度和各种比表面积。仪器由空气泵、干燥器、水柱稳压器、垂直压力计、泄气阀、试样管、粉末压缩装置、试样管夹紧装置、U型压力计、精密阀、游标卡尺和仪器计算面板等组成。仪器的气流及测压系统如(图一)。 空气由微型气泵(14)加压送入系统,泄气阀(1)和水柱稳压器(13)将过量的空气排入大气,垂直压力计(12)测量供气系统的压力。调节泄气阀开度和水柱稳压器的液面高度将供气压力稳定在500mm水柱。稳压后的少量的空气经干燥器后进入试样管,由U型压力计测得空气出试样管后、进精密阀前的压力。空气*后经精密阀排入大气。在上述系统中,对于一定量的粉末,按国标GB11107-89即可求得粒度值: Dk=aL … … … … … … … … … (1) 又:ΔP=50-2H … … … … … … … … … … … … … … … … … (2) … … … … … … … … … … … … … … … … (3) … … … … … … … … … … … … … … … … … … (4) 可得:Dk=5.34L… … … … … … (5)上列式中:m为粉末的质量(克);ρe为粉末物质的物性密度或有效密度;εp定义为粉末床的孔隙度;α定义为试样的下料系数,是粉末质量与密度的比值;Δp是空气透过粉末床试样的压力降(厘米水柱);H为U型压力计单根水柱上升高度值(厘米),U型压力计是精密等径管制成,真实的压力值应为2H厘米水柱;L为试样(粉末床)厚度,单位为(厘米);a为仪器常数5.34,具有量纲(厘米)1.5,计算所得Dk值单位为(微米)。 A、B两种型号具有完全相同的气流系统。不同之处在于粉末床及水柱高度的测量方法。PSI-4A型如(图二)所示:中间的齿轮齿杆(8)的作用是压缩粉末床和测量压力计中水柱高度。四个腰圆型孔用来观察稳压系统的工作情况:左下孔观察水柱稳压器工作时的气泡冒出情况,以3-8(个/秒)的气泡冒出速率为宜。左上孔观察水柱稳压器的水位。右下孔观察垂直压力计的初始值,右上孔观察开泵后垂直压力计的水柱高度值,二者之差才是供气压力真实值。仪器正面的快速计算板上图形意义如下:横坐标表示的是试样的孔隙度值,纵坐标是公制的长度单位,可度量压力计的水柱高度和粉末床的厚度。中间互不相交的曲线簇是不同孔隙度和不同压力时的等粒度线,图形下部和等粒度线相交的粗黑线是试样(粉末床)厚度线L0,它的横坐标值是α=1时不同厚度粉末床对应的孔隙度值,计算板可左右移动。PSI-4B型外型见(图三)。与A型相比,少了快速计算板,多了游标卡尺。这样能更精确的测量试样(粉末床)的厚度值和压力计水柱高度。 四、仪器的调试与校准 仪器使用前必须进行调试和校准,两种型号基本相同,主要有三项: 1、U型压力计的校准 PSI-4A型:调节升降齿杆的旋钮,使齿杆上的指针与计算板的水平坐标基线平齐,此时U型压力计的基准水平面应与齿杆上的指针座平面平齐如(图四)所示。如不平齐,可先调节水位微调阀(图二-13);如仍调节不到位,则须对U型压力计进行加水(当U型压力计的基准水平面低于指针座平面时)或放水的操作(当U型压力计的基准水平面高于指针座平面时)。加水操作:全部松开微调阀,将水加入加水小漏斗(图一-5),再松开流量计加水阀(图一-4,图二-11),慢慢放水入U型管,当U型管压力计的基准水平面接近指针座平面时,关闭加水阀。放水操作:松开加水阀(图二-11),用注射器吸出小漏斗内多余的水,直至U型压力计的基准水平面略低于齿杆上的指针座平面平面,关闭加水阀。最后调节微调阀,即可使U型压力计的基准水平面与齿杆上的指针座平面平齐。PSI-4B型:U型压力计的基准水平面应与游标卡尺游标左卡脚上水平面平齐如(图五)。具体方法与PSI-4A型相同。 1、仪器的准备:对于经常使用的仪器,在使用前须做前一节中1、2项,即U型压力计水平基准校准和供气压力校准两项。第3项只作定期的检查(一个星期左右一次,或视使用频度而定)。仪器调试好后,停泵侯用。2、试样的制备:在千分之一的天平上称待测干燥粉末m克,用漏斗将其灌入带有一片快速滤纸和一多孔塞的试管中,试管插入橡皮坐上,漏斗及纸上附着的粉末用毛刷扫入试管中,然后盖一片滤纸和多孔塞。称取粉末的数量时,应考虑下料系数α,以求得较高的测试精度。α取值的原则是:使测量时U型压力计的水柱高度落在满量程的1/3~2/3内,粉末越粗,α值应越大;粉末越细,α值应越小。当Dk=1~20微米范围,α可取值为1~2;当Dk=20~120微米范围,α可取值为2~5,此时滤纸应用针钻孔5~6个消除滤纸阻力;当Dk=0.5~1微米范围,α可取值为0.5~1;当Dk小于0.5微米时,α可取值为0.5~0.03。将装有被测粉末的试管一头套在压缩装置底座的圆柱上,另一头在齿杆下紧压,用游标卡尺测出粉末床的厚度L,由此算出试样的孔隙度。… … … … … … … … (6) 3、测量:将粉末试样管从齿杆下取出接入试样夹头处夹紧(图三-14),开气泵,通气3分钟,稳定后,利用游标测量出U型压力计的水柱上升量H。4、计算:将已知的α、εp、H和L值代入公式(5),即可求得Dk;粉末粘性流比表面积为(微米)-1,或(米2/厘米3)。 停泵开泵重新读一次,测量数据,两数相对误差小于3%,就是本次测试的最终结果。若大于3%,再重新测样,在此孔隙度下或接近此孔隙度值,测出试样的Dk值,最后,三数据平均值为试样结果。 若试样Dk小于0.4微米,通常应计算β值,和δ值。 … … … … … … … … … … … … … … (7) … … … … … … … … … … (8) 也可从β值查δ-β曲线(图六)得到δ,则Dv,Sv为 Dv=Dk/δ… … … … … … … … … … … … … … … (9) Sv==… … … … … … … … … … … (10)注意:三次测量应给粉末床加不同压力,以得到三种不同孔隙度下测得的粒度值。三值比较起伏应不超过3%。报告结果时,应指明测量时的孔隙度。Dv是纳米级粉末所须粒度。PSI-4A型 1、仪器的准备:同B型。对于经常使用的仪器,在使用前须做前一节中1、2项。第3项只作定期的检查(视使用频度而定)。仪器调试好后,停泵侯用。 2、试样的制备:下料系数α取1,即m=ρe。在千分之一的天平上称待测干燥粉末m克,用漏斗将其灌入带有一片快速滤纸和一多孔塞的试管中,试管插入橡皮坐上,漏斗及纸上附着的粉末用毛刷扫入试管中,然后盖一片滤纸和多孔塞。将装有被测粉末的试管一头套在压缩装置底座的圆柱上,另一头在齿杆下紧压,移动计算板,找到试样高度线L0上与齿杆上的指针针尖等高的点并对准,该点的横坐标值即为粉末床的孔隙度εp。计算板保持不动。3、 测量:将粉末试样管从齿杆下取出接入试样夹头处夹紧如(图二-14),开气泵,通气三分钟,待U型压力计读数稳定,调节齿杆,使指针座平面与U型压力计水面平齐,此时齿杆指针所指的粒度值即为Dk。4、 α≠1时的测量:当粉末粒度Dk≥20或≤1微米,改变粉末的下料系数(取α≠1)可提高测量的精度。此时,可采用与PSI-4B型相同的计算法测量。α取值的原则亦同。利用升降齿杆测出粉末床的厚度和水柱高度,代入公式(3)、(4)、(5)即可得出Dk。 粉末粘性流比表面积为:(微米)-1,或(米2/厘米3)。六、仪器的维护与保养1、仪器内使用的水必须是蒸馏水。2、经常保持仪器清洁,注意不要让粉末进入系统中。 3、经常检查橡皮管是否有老化、开裂导致的漏气。如有应及时更换。4、精密阀校准后,一般不准再动。如果不小心碰动,应重新校准。5、橡皮和玻璃管道内的水柱中不能夹带气泡。 6、仪器干燥剂的检查与更换:仪器出厂时以装好变色硅胶干燥剂在气路中,正常状态硅胶为兰色,受潮时变为粉红色。硅胶变红后,将其从管道中取出,换上干燥硅胶,管道不得泄漏溢气。原硅胶可在120℃~130℃干燥2~3小时脱去已吸附的水分后,可反复多次使用。 附注:仪器附件箱装有:试样管一只,多孔塞两只,毛刷一把,多孔塞提推杆一条,漏斗一个,橡皮坐一个,快速滤纸一盒,标准管一支,金属勺子一把,注射器一只,软管一根。 2、气源压力的校准与调节:供气压力应始终保持在500±0.5mm水柱。将水柱稳压器加水至规定高度,记下垂直压力计的初始刻度值(图三-15)。将空试样管接入气流系统如(图二-14)、(图三-14)并夹紧。开气泵,垂直压力计水位上升,调节泄气阀(图二-2),使压力计水柱上升500毫米,即达到(500毫米+初始值),并维持此高度至测试结束。测试过程中,如有变动,随时调节泄气阀,保持气源压力的稳定。 3、精密阀的校准:将标准管代替试样管进行测试,气流稳定后,U型压力计的读数应与标准管上标定的数值一致:若不一致,旋转调节精密阀(图二-10),使U型压力计的读数与标准管上标定的数值一致,稳定三分钟不变即可关泵停止。五、使用与操作步骤PSI-4B型
  • 高灵敏度积分球;辐射积分球;反射/透射积分球;高均匀度积分球;紫外均匀积分球
    IS-RFLT8C-50反射积分球IS-RFLT8C-50是8°反射积分球(高灵敏度积分球;辐射积分球;反射/透射积分球;高均匀度积分球;紫外均匀积分球),采用的是反射测量的8/d的标准,8°角照明,散射接收。在相对于8°角光源对阵的方位上,设置光陷阱或者标准反射片,从而实现漫反射和全反射的测量。IS-RFLT8C-50积分球的特点是紧凑的尺寸和耐用的设计,所有的IS-RFLT8C-50积分球有两个SMA-905接口,光输入端有一个用于在光纤接入积分球之前校正光纤的8°角接口,光输出端口与输入端口成90°角(用于连接光谱仪)。另配有一个圆柱形的吸收盖,内部涂有黑色的吸光材料(用于吸收镜面反色光)。这个嵌入件刚好放入一个与积分球顶部成-8°角的接入孔中。每一个积分球都可与光谱仪一起组合成一个系统,用于测量置于积分球的采样口区域内的平面样品的综合反射率。这些积分球可测量杂色的样品及不透明或者高指向性的样品。产品特点? 光纤光学积分球:测量表面总的整体反射率? 积分球采样口直径:9.6mm? PTFE制造,可见光反射率98%。? 直径可选:38mm、50mm。
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