超高真空激光镀膜系统

超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System将光学显微镜或光谱仪模组对接于超高真空系统，可以作为超高真空互联系统的检测节点之一，用于材料和器件在不同制备环节之间对外延的薄膜或者转移沉积的二维材料等样品的质量进行快速无损检测。产品特性和核心技术模块化设计，光学部分相对独立。&bull 包含光学显微镜、激光离焦量传感器、自动调焦和共聚焦耦合光路等等在内的全部光学部分全部集成于一个光学模组之中，作为整体置于超高真空腔体之外，透过视窗玻璃聚焦于真空腔内的样品表面。&bull 不污染真空内环境。&bull 超高真空系统烘烤时可以整体取走，并在烘烤完毕之后方便地定位安装。&bull 可根据用户需求，灵活配置激光器、单色仪、探测器和物镜等光学组件。视窗玻璃厚度像差的补偿校正。&bull 拉曼光谱的高收集效率和分辨率。性能参数：注：上述表格中的激光波长、物镜和单色仪等部件可以根据客户需求调整。测试案例：超高真空长工作距离（120 mm）显微测试

自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。

超高真空多腔体镀膜系统——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。为了生产出最匹配客户需求的产品，需要告知我公司以下几个问题点：1、产品在使用过程中是否有温度产生，高温和低温分别是多少摄氏度，是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求，真空领域腔体常用材质为：碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求，腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能：材质：304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围：-190℃~+1200℃密封方式：氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项：1、真空漏率检测：标准检测漏率：1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测：标准检测压力：8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理：拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台超高真空多腔体镀膜系统

1.产品概述：系统由真空腔室（外延室、进样室）、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。2.设备用途：脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION，简称PLD)是新近发展起来的一项技术，继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后，它的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比，脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程，因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜，非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜，显示出了诱人的应用景。3.真空室：真空室结构:球形开门双室真空室尺寸:镀膜室尺寸：Ф450mm ；进样室尺寸：Ф150x300mm限真空度:镀膜室≤6.0E-8Pa；进样室：≤6.0E-5Pa沉积源:φ2英寸靶材，4个；或φ1英寸靶材，6个样品尺寸，温度:φ2英寸，1片，高800℃占地面积（长x宽x高）:约2.8米x1.3米x1.9米电控描述:部分电动控制特色参数 :配备高能电子衍射仪、氧等离子体发生器

德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品，并提供产品的售前售后服务，如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣，欢迎前来咨询！

全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统 QBT-J 约瑟夫森结超高压系统 全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统专专业制备约瑟夫森结制备，可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层，确保高性能制备及高成品率；此镀膜仪有进样室、氩离子清洗室、电子束蒸 发室以及氧化室，共计四个高真空腔室，腔室间使用传样杆进行高真空传样，传递模组须采用抓取式设计；设备所有工艺均支持4英寸及以内的晶圆或不规则样品。设备整个工艺过程，可以完全按照用户设置的参数自动化运行，工艺流程包括并不限于：抽真空，监测气压，离子清洗，样品位置调节、传样，加热，电子束蒸发特 定厚度设置，自动调整气压等。技术参数QBT-J 技术参数 Technical Specifications (双倾角约瑟夫森结制备）超高真空腔体 UHV Chamber4个UHV Chamber,包括Loadlock/Aneal, Ion Milling, Ebeam-Evaporation, Oxidation, 极限真空Ultimate Pressure1E-9Torr基板加热 Wafer HeatingRT-900℃离子束清洗 Ion Milling考夫曼离子源, Ion Energy 100-600eV, 100-1200eV, Ion Beam Current:20-200mA, Ф100基板刻蚀均一性3%电子束蒸发 Ebeam EvaporationUHV 5 Linear Pocket Ebeam Evaporation Source, 8KW Power Supply氧化 OxidationFlow and Static Mode Oxidation基板操控能力 Wafer Tilt and Rotation可实现180度倾斜及360度旋转，0.1度的精准控制基板传输 Wafer Transfer高度可靠和可重复的基板传输能力人机界面 HMI全自动化人机操作界面安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO

产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌：PLASSYS 型号：MEB 550SL3 产地：欧洲 法国 应用：约瑟夫森结（Al, Nb, NbN, NbTiN） 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料，请咨询我们！ 预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW； 样品台： 。可加载4英寸衬底； 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜， 。倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级） 真空泵系统： 。干泵 + 低温泵； 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪： 。频率分辨率10-4Hz或更高； 。速率分辨率10-3nm/s； 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀：氧气气路+MFC 氧化腔体： 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电； 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵；真空度10-8 T 全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

克普斯镀膜机真空腔体:——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司克普斯采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。常见真空腔体技术性能:材质:不锈钢、铝合金等腔体适用温度范围:-190°C~+1500°C(水冷)空封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈出厂检测事项:1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*//s2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测.内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.不锈钢真空腔体加工,铝合金真空腔体的品质获得并通过|S0 -9001质量标准体系认证,所有产品均经过真空氦质谱检漏仪出厂,产品被用与航空航天、科研、核电、镀膜、真空炉业、能源、医药、冶金、化工等诸多行业,如有需要欢迎咨询！克普斯真空为高校、科研院所设计加工高真空、超高真空的真空腔体，可以根据客户的技术要求(PPT)开发设计，也可以按图(草图、CAD图、照片)设计加工。可以加工的真空腔体形状:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状 可以加工的真空腔体材质:不锈钢材质 (304、304L、316316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质等。真空产品设计能力、完善的真空机械加工体系以及快速的服务啦应支持，承接各种规格型号的真空室开发设计、按图定制等。我们为高真空或超高真空应用设计及制造的各种真空腔体，包括为高校和科研院所设计真空试验腔体、真空环境模拟腔体、真空放电测试腔体、真空激光焊接腔体、CVD反应腔体、真空镀膜室等。另外，客戶订制的真空室都可通过我们的工程设计，与您现有的真空系统融合，成为一套功能完整的系统。也可以通过我们的工程设计，预留标准接口及装配位置，方便您日后增配或更换真空部件，实现系统的升级或功能的转换。我们能定制的真空室结构与材质配置多种结构型态:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状:多种材质:不锈钢材质 (304、304L、316,、316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质。所有材质是经过特别选择的，可达到低磁渗透性的要求。我们的开发设计人员均具有10年以上真空行业工作经验，独立开发设计上百套涵盖真空室的相关产品 我们使用业界*的CNC加工中心以及其它配套的加工机械，并业已形成完善的真空机械加工体系。我们的质量保证及售后服务能力我们的产品严格遵照相关标准，并执行原材料检验、加工在线检测、半成品检测及成品出厂检测，对于非标定制的产品与客户联合检测验收 需要特别指出的是对于真空室，所有接缝处、焊接处及法兰连接处都要通过严格的观察检验及氨质谱检漏仪检漏测试，并对整个系统进行漏率测试，系统漏率优于 8.0x10-8 Pa.L/S.实验室真空系统,真空腔体,真空探针台,克普斯镀膜机真空腔体

1. 产品概述脉冲激光沉积镀膜机PLD 系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2. 设备用途脉冲激光沉积镀膜机PLD 是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。3. 技术参数基片尺寸：8inch（可向下兼容）加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热靶材：3*4”真空度：5*10-7Pa气路系统：氧气、氮气、氩气模块：PLD+进样室激光窗口：配有闸板阀光路系统：激光扫描功能4. 企业简介深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝泵）。多种组合沉积模式，同一腔体实现多种功能沉积方式，沉积源模式有:磁控溅射源Sputter source电子束蒸发E-beam SourcesK-cell蒸发热蒸发Thermal sources氧化物源Oxide sources此系统高度灵活，软件操作方便，专业为研究机构沉积超纯度薄膜，真正的高真空沉积系统。The System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options. 感谢中科院上海应用物理研究所上海光源同步实验部用此设备，为广大专业研究人员提供服务！！上海光源同步实验部配置的是磁控溅射（直流和射频均有）和电子束蒸发的组合功能，膜厚均匀性(镀膜500纳米左右厚度)均达到3%，这种组合系统极大地扩展了沉积功能，性能价格比超高，是研究人员的有力工具！！使用此系统的主要用户还有：中国计量院，吉林大学，中国科技大学，中北大学等技术参数：顶部法兰: 12”Radial ports：4 x NW100CF沉积接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF分子泵: 300ls , 500 ls options样品操作: Quick-open top-lid.极限真空: 5x 10E-10 (24小时烘烤)机柜: Low footprint frame on transport casters样品台操控: Rotation, heating, bias样品操作: Load-Lock （可选）Sample size样品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ，大到8”，12”等膜厚监控: QCM, Ellipsometry烘烤: Internal or jacket全自动软件操作，方便简单：Automation Touch screen pump down and process automation系统尺寸:Width: 1.5mHeight: 1.6mLength (standard): 1.3mLength: (with Loadlock): 2.0m主要特点：Top-loading chamber (500mm直径)超高真空匹配接口多种沉积源模式接口Analysis, load-lock and viewing ports多种样品夹具， 样品台可旋转，加热/冷却，DC/RF偏压 多种沉积源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

产品简介：该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备，通过模块式化设计后，系统安装方便灵活易于维护，适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控镀膜溅射系统主要特点1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室，由溅射真空室与管路组成。2、配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好。3、用于镀制各种单层膜、多层膜系，可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。4、同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。5、作为试验设备来说达到了最佳的性能价格比。技术参数系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。极限真空优于：5.0x10-5Pa（经烘烤除气后）真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10-4Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm，手动上开盖辅助液压结构，前有一个观察窗，样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。2、磁控溅射靶靶材尺寸：Φ50mm（其中一个可以溅射磁性材料）；永磁靶一支、强磁靶一支：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；配手动挡板。2个靶可共同向下面的样品中心溅射，靶与样品距离90～110mm可调。3、铠装加热样品:加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热最高温度 室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。配有磁力转轴，电机驱动每分钟低于30转。标准配件1、真空部件进气角阀：2套；RF100观察窗：1套；观察窗法兰：RF100 2个；电阻规： KF16 1个；电极引线： CF25 1个；2、工作真空获得及测量：直联6L/s机械泵： 1台；F600分子泵：1台；电磁KF20阀：1台；5227真空计：1台角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等： 1路；KF25电磁压差阀： 1台；CF100闸板阀：1台；3、相关规格的金属密封铜圈，氟橡胶密封圈4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等5、安装机台架组件:安装台架：整个设备安放在一个用承载式标准电箱上，箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。6、电源控制系统电源布置在标准电箱上，安装于系统机架上。7、自制电源控制电源：1台（为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测）； 样品加热电源：1台（日本产控温表可实现程序控温）室温-600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制。8、配套电源真空计电源：1套直流DC500W电源：2套流量显示、流量控制器：1套9、备品备件：1套

1.产品概述：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。2.设备用途：高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大院校、科研院所进行薄膜材料的科研。3.产品优点：可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜，易于保证镀膜后化学计量比的稳定。反应迅速，生长快，通常一小时可获得一定厚度的薄膜。定向性强、薄膜分辨率高，能实现微区沉积。生长过程中可原位引入多种气体，对提高薄膜质量有重要意义。容易制备多层膜和异质膜，通过简单的换靶即可实现4.真空室结构:球形结构真空室尺寸:Ф300mm限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；样品尺寸，温度:1英寸，高800℃占地面积（长x宽x高）:约1.8米x0.97米x1.9米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±5%

CRS超高速激光振镜模块Novanta公司旗下的英国Cambridge Technology推出的CRS超高速激光振镜模块，与其62xx或83xx系列振镜可任意矢量控制扫描不同，为了追求极致的扫描速度，在镜片的谐振频率上以正弦波进行扫描振荡，提升了数倍的振镜扫描速度。CRS利用了元素周期表上原子量最低的硬质金属铍作为振镜反射镜基材，使得激光振镜反射镜的扫描谐振频率可以高达12000Hz.CRS超高速激光振镜模块特点:- 大角度范围超高速扫描- 长使用寿命和长时间稳定性- 超轻高刚性铍金属反射镜，多种高反射镀膜选项- 非常适合高速显微扫描成像和高速眼科医疗等应用 CRS系列超高速振镜振镜CRS系列振镜提升数倍的扫描速度CRS产品指标：型号CRS 4 KHzCRS 8 KHzCRS 12 KHz反射镜尺寸12.7 mm圆形7.8 x5.5 mm椭圆7.8 x5.5 mm椭圆有效孔径12x9.25 mm7.2x5.0 mm椭圆7.2x5.0 mm椭圆谐振频率(温度 25 ℃)3,938 Hz7,910 Hz12,000 Hz频率偏差(温度 25 ℃)±50 Hz±15 Hz±50 Hz最大扫描角度24°26°10°最大扫描角度下摆动重复度250 μrad250 μrad175 μrad典型功耗1.0 W1.0 W1.5 W高反镜镀膜选项宽光谱镀膜:镀银谐振频率温度稳定度10 ppm/℃速度反馈有驱动电路板指标电源单轨,12 V直流控制电压0-4 V直流0-5 V直流扫描幅度控制有同步信号有，每次转向时发出尺寸(长x宽)30.5 mmx43 mm超高速显微扫描成像超高速眼科手术

基本介绍产品描述 手套箱蒸镀一体机 工作原理 本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。性能特点蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。技术参数材料：304不锈钢，厚度3mm 外表面：304不锈钢 内表面：油膜拉丝面使用说明设备用途 主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。 采购须知面议

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

美国SVT公司超高真空解理机SVT公司的样品解理部件可以将15mm（其他尺寸可选）的方形样品解理成15个1mm×15mm的Bar条。所有解理出的bar条被收集到样品托，堆叠在一起进行下一步批量加工。独特设计的解理工具避免了器件被破坏以及样品互相黏在一起的可能性。此解理工具可完全适用于UHV环境。解理机可以增加钝化层沉积模块。解理后堆叠在一起的Bar条直接进入钝化室，不用暴露大气。 规格在线bar条解理加工15mm×15mm 样品（10mm-32mm可选）加工成15mm×1mm 样品（1mm-5mm宽度可选）8' ' 法兰接口可烘烤至180oC，（200oC可选）样品可以两种方向加工UHV环境兼容Cassette装取

仪器简介：基质辅助脉冲激光沉积系统（MAPLE）是海军研究实验室于1994年开发的，使用准分子激光器沉积聚合物薄膜。多年来，基质辅助脉冲激光沉积系统已经有了很大的发展。商用基质辅助脉冲激光沉积系统现在很容易配备红外激光器和多目标机械手。中科院宁波材料所于2014年1月向我司订购一台MAPLE系统，该系统为国内首台“基质辅助脉冲激光沉积系统”！系统技术指标：最大衬底尺寸One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.最大衬底温度：300°C typical, but other heaters are available.MAPLE靶材温度： -194°C (80 K)压力操作范围：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressureMAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.靶材到衬底(Throw) 距离：Variable from 2.5 to 4 inches光栅路径长度：Across complete MAPLE target标准的激光束射向靶材入射角度：60°主腔体本底真空：P 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.真空腔体：Box style chamber with easy substrate / target changes.激光波长：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.VIS/NIR Resonant PLD/MAPLE System可见/近红外共振PLD/MAPLE系统

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)(喷金喷碳一体机)紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM、TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室可选的LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个金属腔室可容纳6"晶圆样品或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010 HV上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 HV镀膜主体单元，均可立即使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具，也适合于极细颗粒尺寸镀膜。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011溅射头与CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。（二选一作为标配）CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元后，即可立即使用，适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，该系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱可选的HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选该单元对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用可选的基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件（可选）◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径80mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空溅射喷碳镀膜仪(高真空喷金喷碳一体机)；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜，能够根据客户需求定制。●形式：φ650-3500mm，箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，一体机系统。●真空系统：极限真空8X10-5Pa，主泵为复合分子泵低温泵扩散泵可选。●真空测量：配三路数字复合真空计，均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，转速3～30rpm变频可调，工件盘为球形和行星工件盘可选。●烘烤系统：不锈钢铠装加热器匹配数字功率控制器和PID控制模块，烘烤温度300℃，温控精度1℃，过冲不超过2℃。●电子束蒸发源：E型电子束蒸发源系统（E型）1-2套，主体有屏蔽罩，配置独立高压控制柜。●旋转蒸发源：电动转位和点动转位，配置无氧铜坩埚和石墨坩埚各一套。●电阻蒸发源：2套电阻蒸发源。（选配）●膜厚测试系统：配瑞士inficon石英膜厚在线测量系统， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探头。●离子源辅助沉积系统：一套（选配离子源或高压离子轰击系统）。●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏（工控机）和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动充气、自动镀膜、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●说明：根据用户要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备完美匹配。

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

产品详情英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台 ATS 500 AUTO 500 Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。 Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。 Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。 真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。ATS500系统配置触摸屏控制方式和分子泵高真空系统。ATS500系统为复杂薄膜应用而设计，配合不同工艺附件适用于不同应用。 真空及控制系统：触摸屏控制系统集成在19”宽的标准控制机柜中，触摸屏系统可以自动控制真空系统和各种工艺附件的工作。?。带人机接口的PLC自动真空控制系统?。7英寸彩色触摸屏?。工艺菜单可以自动控制镀膜过程，包括镀膜源，开关，基片台旋转，基片台加热和其他相关工艺附件（针对所选附件）?。工艺真空显示，流量控制显示（针对所选附件）?。真空阀位置,泵状态和联锁状态?。警报或错误消息?。 USB端口. csv文件格式处理数据日志记录?。以太网端口的远程支持和诊断 系统操作模式:? 自动模式，按照工艺菜单运转? 手动模式，按照需求进行工艺过程配置? PLC中的关键设置密码保护 ATS500系统具有高产能真空系统，包括：? Edwards XDS20i型无油干泵，用于腔室粗抽真空以及分子泵的前级预抽泵? Leybold Turbovac 600C 560l/s 型涡轮分子泵? 涡轮分子泵通过ISO160真空法兰安装在真空室的后部? 使用皮拉尼规和冷电离潘宁规监控系统压力? 具有完善的互锁设计，确保操作人员的安全。 真空腔室：带水冷的真空腔室尺寸是500mm宽/直径，500mm高，采用304无磁不锈钢制造。腔室采用前方开门设计，门上安装有工艺观察窗潜望镜结构设计的玻璃挡片装置，可以观察腔室内部配置有一套可拆卸清洗的不锈钢腔室内衬板，便于腔室内壁的保护腔室后部有一个ISO160真空法兰连接真空系统腔室底板焊接到底部法兰，不可拆卸极限真空可达5E-7Torr。

双腔室超高真空双倾角蒸镀系统 QBT-E技术参数QBT-E 技术参数 Technical Specifications (Ebeam SiO2/Si等制备)UHV超高真空腔体2腔室，Loadlock和蒸发，Loadlock极限真空 Ultimate Pressure1E-8Torr，可加热RT-900oC蒸发腔极限真空 Ultimate Pressure3E-9Torr高分辨率镀膜速率显示及控制 Depostion Rate±0.015?，Ф100mm 镀膜均一性3%基板操控能力 Wafer Tilt and Rotation可实现180度倾斜及360度旋转，0.1度的精准控制，加热RT-600oC传输全自动样品传输人机界面 HMI全自动化人机操作界面安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO测试结果展示

可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层功能膜。1、真空室：1.1、真空室内腔尺寸：600×600×700mm3。1.2、真空室材料： 整个真空室采用钢铁 SUS304 不锈钢材料制造，内表面抛 光，外表面喷丸处理；极限真空度高。1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板（提供两套、一套 备用）；前开门后置抽气系统结构， 四壁壳体外壳水冷，采用不锈钢水冷槽通水冷却。1.4、观察窗： Φ100mm 观察窗 2 个，观察窗内有遮挡活动板，配有两套防辐 射射玻璃（一套备用）。1.5、CF35 陶瓷封接引线法兰：2 个（照明及内烘烤引线 1 个、预留空置 6 芯电极法兰 1 个）。1.6、晶振膜厚仪接口 1 个。2、工件架旋转与烘烤：2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封；3 到 60rpm 无级调速。2.2、样品托盘尺寸分别为：可放 4 片 6 英寸样片且样品可公转可自转 2.3、样品加热温度。2.4、基片与蒸发源之间距离 350～550mm 可调，由腔外电动波纹管调节机构 在线控制。3、电子束蒸发源：3.1、用超高真空 E 型电子枪；3.2、270 °E 型电子枪及高压电源，电子枪功率 0--10KW 可调； 3.3、电子枪阳极电压：4kv、10 kv；两挡；3.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负 15mm（X，Y）；3.5、六工位水冷式电动坩埚；每穴容积 11-22ml；3.6、可调角度气动控制蒸发挡板，采用磁流体密封；3.7、电子枪配有触摸屏，可远控； 3.8、带有高压灭弧自动复位功能。 电阻式蒸发源；配备一套电阻蒸发源，含一套 3KW 数字式蒸发电源。 4、真空抽气系统4.1、低温泵： 可达 8.0×10-6Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从大气到 抽到≤6.0×10-4Pa，小于 20min；4.2、低温泵与真空室连接采用 DN250 气动插板阀门； 4.3、机械泵和低温泵连接采用不锈钢金属波纹管；4.4 系统漏率：系统停泵关机 12 小时后，真空室的真空度≤10Pa。5、石英晶体测厚仪：采用石英晶体振荡膜厚监控仪◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度◇配单个水冷探头◇监测膜厚显示范围：0～99 μ9999&angst ◇厚度分辨率：0.01&angst ◇速率显示分辨率： 0～9999.9 &angst ◇控制精度： 0.01 &angst ◇监测时间显示范围：1 分～99 小时6、真空测量系统：莱宝 PTR90N 全量程真空计。7、水冷系统配备水冷循环系统：满足设备需求（功率大于 2kW）。8、其他：8.1 不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等；8.2 产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 1 套8.3 电子枪灯丝 58.4 坩埚 108.5 配一套质量流量计（0-100sccm），用来控制工艺气体通断。 二 主要技术性能指标。

真空镀膜系统MBRAUN研发出一系列镀膜系统，配合多种可选配件和定制化方案，用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺，如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案；以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.OPTIvap模块化设计可单独使用(S)或集成于手套箱(G)不同的模块之间可实现自由组合多基板&多掩模工艺一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板 应用：复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)光学镀膜光伏、半导体行业

Q150T Plus系列产品经过系统优化，内置涡轮分子泵，其真空度可降至5 x 10-5mbar。Q150T Plus系列镀膜仪有三款型号：适用金属靶材镀膜（Q150T S Plus）适用镀碳（Q150T E Plus）选配金属蒸发功能同时适用金属镀膜及镀碳（Q150T ES Plus）

产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-450-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ2″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″或φ2″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф450mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF100法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF100光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套

产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-300-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ1″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф300mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF63法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF63光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。