高性能激光浮区法单晶炉

高性能激光管用反射镜&bull 在设计波长下，反射率超过99.8%&bull 提供优良的宽带性能，可用于各种波长范围&bull 设计用于普通二极管通用规格表面质量:10-5平行度（弧分）:3有效孔径 (%):90后表面:GroundDWL时的反射 (%) :99.8表面平整度 (P-V):λ/10镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica (Corning 7980)产品介绍TECHSPEC® 高性能激光管用反射镜专为提供高反射率而设计，适用于最常见的二极管激光波长。本产品专为提供 0°或 45°的入射角而设计，非常适合用于光束偏转和折叠式应用。我们的TECHSPEC® 激光反射镜系列专为条件最为严苛的应用而设计。本产品结合了表面精度可达10-5的激光级基片、密致的反射镀膜和特定激光类别和波长的损伤阈值，适用于需要精度反射和高耐久性的应用。所有的TECHSPEC® 激光线反射镜设计以最大程度减低散射损失，并且可轻松地到任何光学系统。订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码375 - 435 405 12.50 +0.0/-0.26.00 ±0.24563-138375 - 435 405 25.00 +0.0/-0.26.00 ±0.24563-139730 - 840 785 12.50 +0.0/-0.26.00 ±0.2063-1471346 - 1584 1480 12.50 +0.0/-0.26.00 ±0.2063-1321440 - 1660 1550 12.50 +0.0/-0.26.00 ±0.24563-1561440 - 1660 1550 25.00 +0.0/-0.26.00 ±0.24563-1571440 - 1660 1550 50.00 +0.0/-0.210.00 ±0.24563-158技术数据

所属类别：? 光学部件 ?F-Theta透镜与扩束镜所属品牌：日本吉奥马（GEOMATEC）公司f-theta透镜又叫激光扫描聚焦镜、场镜、平场聚焦镜, 聚焦镜，平场聚焦镜，激光聚焦镜, 平场聚焦透镜, 平场透镜，激光平场透镜，是激光加工行业必不可少的光学元件之一。日本吉奥马公司YAG激光场镜（(f-theta lens)）是一款紧凑型的高性能场镜。这款f-theta透镜可以使扫描区域内像差达到衍射极限，非常适用于从微加工及大面积激光加工，是激光精细打标、微加工、激光焊接、激光切割等应用的理想选择！日本吉奥马公司YAG激光场镜（(f-theta lens)）日本市场占有率达到50%以上！日本吉奥马（GEOMATEC）公司是一家全球知名的光学器件制造商。该公司致力于提供平板显示屏、光学薄膜、激光元器件等产品与服务。产品特点：追求扫描区域内各点尺寸的衍射极限；借助日本吉奥马公司多年的优秀镀膜技术，该产品采用了高性能，高耐久的电介质多层膜；体积小、重量轻、性价比高；加工面侧（焦点面侧）、不需要专用工具就能简单拆装更换；配置镀有ＨＰＬ-ＡＲ膜的保护过滤器；安装于系统上时，法兰部的固定方法可由客户指定；可根据客户要求，提供个性化定制；产品规格 (单位：mm)产品型号设计波长 焦点距离加工范围入射孔径光斑直径备注FT-0751064nm75.0φ50φ12φ10μmFT-1001064nm101.3φ80φ12φ17μmFT-100SHG532nm101.2φ80φ12φ8.5μmFT-100THG351/355nm101.0φ42φ12φ7.0μm远心镜头FT-1501064nm151.9φ140φ8.5φ20μmFTC-150/063630/1064nm150.0φ120φ12φ20μm定制产品FTC-150/065650/1064nm150.0φ120φ12φ20μm2波长修正FT-150THG355nm152.8φ120φ12φ8.5μmFT-1651064nm165.1 φ164.3φ12φ26μmFT-165SHG532nm165.0φ144φ16φ13μm FT-2201064nm223.3φ226.3φ12φ28μmFT-2701064nm273.0φ230φ12φ31μmFT-3427633/1064nm338.4φ270φ30φ26μm定制产品FT-350633/1064nm350.0φ300φ30φ26μm定制产品

&bull 在指定激光线处的透射率超过 90%&bull 硬质镀膜设计&bull 专为激光应用而设计通用规格入射角 (°):0 ±2光密度 OD（平均）:≥6.0基底:Low Fluorescence N-BK7 or equivalent涂层:Hard Coated表面质量:60-40厚度容差 (mm):±0.10 构造 :Mounted in Black Anodized Ring环境承受能力:MIL-STD-810F Paragraphs 501.4, 502.4, and 507.4物理的承受能力:MIL-C-48497A Paragraphs 4.5.3.1, 4.5.3.2, 4.5.3.3, 4.5.4.2, and 4.5.5.3Mount Thickness (mm):3.5 ±0.1 基片厚度（mm）:2.0 ±0.1产品介绍高性能激光线带通滤光片能与常见的气态和固态激光器搭配使用，旨在针对受激辐射提供最大的透射率，同时消除嘈杂的自发辐射。这些激光线滤光片可用于常用的二极管和 Nd:YAG 激光线（包括 532nm、785nm 和 1064nm）。高性能激光线带通滤光片非常适用于基于激光的荧光仪器、拉曼光谱或者分析或医疗激光系统。由于其边缘陡峭，因此高性能激光线带通滤光片是 TECHSPEC® 陷波滤光片和激光线长波通滤光片的出色补充。技术数据订购信息 Dia. (mm)CWL (nm)FWHM (nm)最小传输 (%)阻断波长范围 (nm)基片厚度（mm）产品编码12.50 +0.0/-0.1248.60 1.70 - 2.240 228.2 - 246.1 & 251.1 - 279.9 2.0 ±0.112-25812.50 +0.0/-0.1266.00 1.90 - 2.455 242.8 - 263.3 & 268.7 - 302.2 2.0 ±0.112-25925.00 +0.0/-0.1266.00 1.90 - 2.455 242.8 - 263.3 & 268.7 - 302.2 2.0 ±0.112-27512.50 +0.0/-0.1325.00 1.24 - 2.2880 291 - 322 & 328 - 381 2.0 ±0.147-61225.00 +0.0/-0.1325.00 1.24 - 2.2880 291 - 322 & 328 - 381 2.0 ±0.164-24712.50 +0.0/-0.1355.00 1.35 - 2.4990 315 - 352 & 359 - 423 2.0 ±0.164-24025.00 +0.0/-0.1355.00 1.35 - 2.4990 315 - 352 & 359 - 423 2.0 ±0.164-24812.50 +0.0/-0.1405.00 1.50 - 2.890 353.5 - 401 & 409.1 - 495.3 2.0 ±0.112-26825.00 +0.0/-0.1405.00 1.50 - 2.890 353.5 - 401 & 409.1 - 495.3 2.0 ±0.112-276 12.50 +0.0/-0.1457.90 1.70 - 3.290 393.1 - 453.3 & 462.5 - 576.7 2.0 ±0.112-26925.00 +0.0/-0.1 457.90 1.70 - 3.290 393.1 - 453.3 & 462.5 - 576.7 2.0 ±0.112-27712.50 +0.0/-0.1488.00 1.85 - 3.4290 415 - 483 & 493 - 625 2.0 ±0.147-49125.00 +0.0/-0.1488.00 1.85 - 3.42 90 415 - 483 & 493 - 625 2.0 ±0.164-25012.50 +0.0/-0.1514.50 1.96 - 3.690 434 - 509 & 520 - 670 2.0 ±0.147-49225.00 +0.0/-0.1514.50 1.96 - 3.690 434 - 509 & 520 - 670 2.0 ±0.164-25112.50 +0.0/-0.1532.00 2.02 - 3.7290 447 - 527 & 537 - 699 2.0 ±0.147-49325.00 +0.0/-0.1532.00 2.02 - 3.7290 447 - 527 & 537 - 699 2.0 ±0.164-25212.50 +0.0/-0.1561.00 2.10 - 3.990 466.7 - 555.4 & 566.6 - 750.5 2.0 ±0.112-27125.00 +0.0/-0.1561.00 2.10 - 3.990 466.7 - 555.4 & 566.6 - 750.5 2.0 ±0.112-27912.50 +0.0/-0.1632.80 2.40 - 4.2390 515 - 627 & 639 - 885 2.0 ±0.147-49425.00 +0.0/-0.1632.80 2.40 - 4.2390 515 - 627 & 639 - 885 2.0 ±0.164-25312.50 +0.0/-0.1647.10 2.46 - 4.4990 525 - 641 & 654 - 913 2.0 ±0.164-24125.00 +0.0/-0.1647.10 2.46 - 4.4990 525 - 641 & 654 - 913 2.0 ±0.164-25412.50 +0.0/-0.1671.00 2.55 - 4.790 540 - 643 & 678 - 961 2.0 ±0.164-24225.00 +0.0/-0.1671.00 2.55 - 4.790 540 - 643 & 678 - 961 2.0 ±0.164-25512.50 +0.0/-0.1780.00 2.96 - 5.4690 609 - 772 & 788 - 1202 2.0 ±0.164-24325.00 +0.0/-0.1780.00 2.96 - 5.4690 609 - 772 & 788 - 1202 2.0 ±0.164-25612.50 +0.0/-0.1 785.00 2.98 - 5.590 612 - 777 & 793 - 1214 2.0 ±0.147-49525.00 +0.0/-0.1785.00 2.98 - 5.590 612 - 777 & 793 - 1214 2.0 ±0.164-25712.50 +0.0/-0.1808.00 3.07 - 5.66 90 626 - 800 & 816 - 1270 2.0 ±0.164-24425.00 +0.0/-0.1808.00 3.07 - 5.6690 626 - 800 & 816 - 1270 2.0 ±0.164-25812.50 +0.0/-0.1830.00 3.15 - 5.8190 639 - 822 & 838 - 1325 2.0 ±0.164-24525.00 +0.0/-0.1830.00 3.15 - 5.8190 639 - 822 & 838 - 1325 2.0 ±0.164-25912.50 +0.0/-0.1852.00 3.20 - 6.090 652 - 843.5 & 860.5 - 1106.6 2.0 ±0.112-27225.00 +0.0/-0.1852.00 3.20 - 6.090 652 - 843.5 & 860.5 - 1106.6 2.0 ±0.112-28012.50 +0.0/-0.11,030.00 3.90 - 7.290 947.6 - 1014.6 & 1040.3 - 1368.2 2.0 ±0.112-27325.00 +0.0/-0.11,030.00 3.90 - 7.290 947.6 - 1014.6 & 1040.3 - 1368.2 2.0 ±0.112-28112.50 +0.0/-0.11,064.00 4.04 - 7.4590 979 - 1053 & 1075 - 1429 2.0 ±0.147-49725.00 +0.0/-0.11,064.00 4.04 - 7.4590 979 - 1053 & 1075 - 1429 2.0 ±0.164-261

所属类别：? 光学部件 ?F-Theta透镜与扩束镜所属品牌：日本吉奥马（GEOMATEC）公司日本吉奥马（GEOMATEC）公司是一家全球知名的光学器件制造商。该公司致力于提供平板显示屏、光学薄膜、激光元器件等产品与服务。日本吉奥马公司提供YAG激光高性能扩束镜，适用波长包括1064nm、532nm与355nm，扩束倍率包括1.5X、2X、3X、4X、6X、8X、10X等，该产品是激光精细打标、微加工、激光焊接、激光切割等应用的理想选择！产品规格 (单位：mm) 类型1064nmEXP-1.5EXP-2EXP-3EXP-4EXP-6EXP-8EXP-10532nmEXP(SHG)-1.5EXP(SHG)-2EXP(SHG)-3EXP(SHG)-4EXP(SHG)-6EXP(SHG)-8EXP(SHG)-10355nm--EXP(THG)-3EXP(THG)-4EXP(THG)-6EXP(THG)-8EXP(THG)-10扩束倍率1.5×2×3×4×6×8×10×入射光束直径φ8.0φ8.5φ6.0φ5.0φ3.0φ2.0φ1.8出射光束直径φ12.0φ17.0φ18.0φ20.0φ18.0φ16.0φ18.0 L1064nm63.8 62.362.463.663.563.864.8532nm355nm--63.863.663.763.363.9综合透过率96％UP 紧凑型变焦镜头EPZ-13C（倍率１倍～３倍）EPZ-37C（倍率３倍～７倍）产品规格 (单位：mm)产品型号EPZ-13CEPZ-37C设计波长1064nm倍率1×～3×3×～7×入射光束直径φ8.0（1×）～φ3.5（3×）φ4.5（3×）～φ1.8（7×）出射光束直径φ8.0（1×）～φ10.5（3×）φ13.5（3×）～φ12.6（7×）透过率95％UP 宽幅式变焦镜头EPZ-13W（倍率１倍～３倍 ）定制产品产品规格 (单位：mm)产品型号EPZ-13W设计波长1064nm倍率1×～3×入射光束直径φ8.0（1×～3×）出射光束直径φ8.0（1×）～φ24.0（3×）透过率95％UP 紧凑型变焦镜头EPZ(THG)-13C（倍率１倍～３倍）EPZ(THG)-37C（倍率３倍～７倍）定制产品产品规格 (单位：mm)产品型号 EPZ(THG)-13CEPZ(THG)-37C设计波长355nm倍率1×～3×3×～7×入射光束直径φ8.0（1×）～φ4.0（3×）φ4.7（3×）～φ2.0（7×）出射光束直径φ8.0（1×）～φ12.0（3×）φ14.0（3×～7×）透过率95％UP

高性能中阶梯紫外拉曼光谱仪——Smart RAMAN- UVLadder in high-performance ultraviolet Raman spectrometer特点：小体积{ 超紧凑型设计： 210 x 120 x 86 mm；4kg高性能{ 高分辨率：3~100px-1{ 无需扫描单次摄谱探测范围：18,0-1{ 可选激发频率：224~325nm { 高灵敏度：-50℃致冷电子倍增式EMCCD传统的光谱探测方式 传统的光谱探测方式虽可获得高分辨率，但获得全谱信息必须通过扫描获得；而扫描过程，无可避免的导致不同谱段激光积分时间不同，进而导致不同谱段实际光老化时间不一致；为后续定性定量分析样本特性带来无法解决的系统误差；同时因为扫描造成了全谱积分时间较长； 而光纤光谱仪虽然同时全谱积分，但却无法得到高分辨率，高灵敏度（普通光纤光谱仪的RAMAN setup分辨率在250px-1以上，实用分辨率常常到12~450px-1）德国LTB的Smart RAMAN 系列中阶梯拉曼谱仪卓越特点 德国LTB拥有国际领先的中阶梯光栅光谱技术，使光谱探测不再需要扫描，仍可获得宽谱兼顾高分辨率的丰富光谱信息；LTB的RAMAN探测能力可以达到15px-1级别，与此同时实现无需扫描宽谱摄谱； 该技术使光谱探测做到全谱同时积分，高速探测；避免了紫外光长时间灼烧样本造成的样本过快光退化；使光谱数据的可靠性得到质的飞越；引领RAMAN光谱探测仪器进入新的时代……紫外（共振)拉曼优点：{ 适合波长的紫外激光激发可以完全避免荧光本底的干扰。{ 由于拉曼信号强度正比于激发激光波长四次方成反比，紫外激光激发拉曼信号效率明显提升。{ 共振拉曼可以提供很高的共振增强因子，理论极限可达2个数量级，从而大幅度提升检测极限。 应用：{ 半导体材料photoluminescence（PL光致发光）现象探测与分析；{ 半导体工业过程控制及材料研究

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

吴廷照教授发明的高性能空心阴极灯（中国、美国专利）采用三电极设计，使用两个分离的空心阴极，辅阴极电流由&ldquo 冷阴极&rdquo （另一支空心阴极）供给，阳极公用。其发射强度大、测定灵敏度高、检出限低、稳定性好。还可减少临近谱线的干扰，因此可使用较大光谱通带，能量进一步提高，改善分析性能。

我们提供的这款进口激光脉冲选择器是一种性能高度可靠，完全固态化的激光脉冲提取器。这款激光脉冲拾取器的上升和下降时间快到3ns, 非常适合再生放大器的开关，激光脉冲的选择控制，锁模脉冲选通，腔倒空以及Q开关应用。该激光脉冲选择器具有可靠，最低辐射噪音，固态，高电压开关等优点，适合内腔和外腔应用这套激光脉冲提取器由电光调制器（普克尔盒）和高速高压Q开关驱动电路构成，通过选择合适的普克尔盒，它可以覆盖300-2000nm的光谱范围。同时，激光脉冲拾取器还可以选配不同的硬件满足多种应用。例如，可以配备Q开关驱动电路和普克尔盒电源，时间发生器。这套激光脉冲选择器可以选配我们的系列普克尔盒产品： KD*P普克尔盒：1)：可选孔径为10mm,16mm,20mm,可提供单晶体和双晶体两种配置； 2)：孔径8mm, 外部尺寸: 19mm x 25mm (DxL) 3)：10mm, 12mm净孔径；高平均功率和高峰值功率的应用，通常使用标准的KD*P 类普克尔盒，它的光谱范围在500-1100nm之间，晶体表面镀增透膜，在脉宽小于10ps的激光而言，它的损伤阈值可达10-20GW/cm2 RTP普克尔盒：这种晶体做成的普克尔盒不会对透射光束产生叠加的光弹性环，这款RTP调制器Q开关系统使用两块晶体，这种配备可以保证在低工作电压时提供良好的热补偿和稳定性；BBO普克尔盒：孔径为3,4,6mm, BBO晶体的压电响应低，可以耐受高平均功率激光并可以在紫外波段工作。这些普克尔盒都与我们的激光脉冲提取器配备使用。激光脉冲拾取器可以为KD*P综场调制器提供1000nm时约为7KV的半波电压。这个激光脉冲选择器前部面板安装有高压控制旋钮，您只需要轻松旋转就可以使得它提供四分之一波电压而不损失系统效率也不增加上升或下降时间。这套激光脉冲拾取器的最大重复频率由普克尔盒的电容和高压决定。例如对与KD*P普克尔盒，它的电容是5pf,工作电压是7KV，重复频率的上限大约是5KHz。领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎9MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎6MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎3MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1/4MMe 1L/瓶1100 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎3Mpe 1L/瓶2200 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1Mpe 1L/瓶 2200 M型单晶/P型多晶金刚石抛光液德国古莎1/4Mpe 1L/瓶 2200 Bio DIAMANT系列水基环保抛光液遵循欧洲严格的REACH标准，做到零有机物排放（VOC-Free）和生物友好，非常适合制样实验室使用，无需特殊的排放处理程序。M型单晶金刚石抛光液，精准的粒径分布，高效的抛光能力，轻松的色彩识别配套，可以配合全品类抛光织物使用，是制样实验室最适用的产品品种。 M型单晶高效型金刚石磨料悬浮液规格颜色粒度原料：单晶高效型金刚石磨料悬浮液9MMe型红色悬浮液9μm适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛6MMe型黄色悬浮液6μm 适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛3MMe型绿色悬浮液3μm适合需要完美保边和保存夹杂物的制样要求，达成优秀的平整表面的初抛1MMe型蓝色悬浮液1μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的最终抛光0.25MMe型灰色悬浮液0.25μm适用于中硬度的最终抛光 P型多晶金刚石抛光液，优质的多晶结构配合高密度织物可以快速提高抛光效率，提升制样表面平整度，推荐配合高密度强支撑高平整度抛光布使用。P型单晶高效型金刚石磨料悬浮液原料：多晶快速分散型金刚石磨料适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为13％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为11％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

VIR-MIR-2000中红外高效激光荧光感应卡 (MAKE INVISIBLE MIR VISIBLE)本激光荧光感应卡，形状小巧，方便携带，激光感应卡是标准尺寸: 20×25mm，最大承受功率有20W。它可显示MIR激光光束，弥补了市面上2um激光感应卡的空缺，给常用的2um激光器在光路搭建，实验测试方面提供了便捷，安全可靠，性能优良，可以在感应卡上观察到明显光束，降低 了寻找不可见的中红外激光的光斑大小以及位置的难度，,2um高效激光感应卡可感应1900-2100nm波长范围内的激光。感应卡的材料是耐磨损，耐高温的陶瓷材料，感光区被涂敷在其前表面，可轻松对中红外2um附近的红外光及其焦点进行定位。而且，我们的感光卡不需要给光敏区充电，即使在黑暗中的连续光进行探测时，发射量也是稳定连续的，使用寿命长。产品特点 激光准直与检测 低阈值功率 定制尺寸和形状轮廓 覆盖波段：1900-2100nm 高灵敏度，高性能 陶瓷衬底可以承受最大20W的功率产品应用 激光准直与检测 激光光路的搭建技术参数备注：本产品不包括杆架座等 波长对比测试我们对感应卡进行了1950nm和2004nm波长的激光器进行测试，得到如下的现象：对感应卡测试系统图1.对2004nm的激光进行测试：2004nm的激光在22mW处的测量光斑2004nm激光在22mW处的数值2004nm的激光在1W处的测量光斑2004nm激光在1W处的数值2.对1950nm的激光进行测试：1950nm的激光在21mW处的测量光斑1950nm激光在21mW处的数值1950nm的激光在1.3W处的测量光斑1950nm激光在1.3W处的数值在激光测量的过程中，我们测得，2004nm的激光在3.8mW处时，激光感应卡就可以显示出明显的激光的光斑，1950nm的激光在6mW处也可以明显的显示出激光的光斑，我们可以清晰的观察到激光的形状，亮度。产品信息 VIR-MIR-2000-0 MIR-中红外NIR-近红外2000激光的波长(nm)标准尺寸 (20×25mm) 1-可定制尺寸

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为1％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为10％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。