高通量场发射透射显微镜

国仪量子 场发射透射电子显微镜 TH-F120 TH-F120取名源自中华名山“太行”（TH），寓意TH-F120将如太行山一样成为中国透射电镜产业的脊梁。产品特点肖特基场发射电子枪平行束/会聚束自适应切换照明系统对称式极靴、恒功率物镜 （高衬度/高分辨模式可选）高像素CMOS相机四轴高精度样品台全中文软件交互界面产品优势人机分离 电镜空间与工作空间分离，减少人为干扰，提升安全性，带来舒适的使用体验高效操作各模块控制高度集成至PC端，全中文软件交互界面一目了然，提升操作效率越级体验将场发射电子枪、高自动化系统等配置120 kV平台，入门即高配丰富拓展预设充足的附件加装接口以及整机升级空间，满足用户使用新需求，有效应对多样的应用场景产品参数 高衬度版高分辨版加速电压10～120 kV10～120 kV信息分辨率0.20 nm0.14 nm点分辨率0.36 nm0.30 nm放大倍率10～1,200,000 x10～1,500,000x主相机像素4096×40964096×4096样品台倾转角-90 °~+90 °-70 °~+70 °支持拓展EDS、STEM、侧插式相机、EELS、插入式冷冻盒

JEM-ACE200F是日本电子透射电子显微镜系列中的一款特殊设计的产品，在兼顾高分辨高稳定性的同时，最求分析效率的最大化和操作的自动化。颠覆传统的电镜外观设计，除了让人耳目一新外，还对设置环境更具抗干扰能力。 主要技术指标： 1. 点分辨率：0.21nm； 2. 晶格分辨率：0.1nm 3. STEM 分辨率：0.136nm； 4. 信息分辨率：0.11nm； 5. 能谱：可以安装两个超级能谱 6. 洛伦兹模式：标配

Talos F200i S/TEM 产品描述更高生产率和灵活性 — 支持更多材料科学应用 用于高分辨率成像和分析应用的Thermo Scientific Talos F200i 扫描/透射电子显微镜 (S/TEM) 现可提供对称布置的双100 mm2 Racetrack 检测器“( Dual-X”)，以提高分析通量。 Thermo ScientificTM TalosTM F200i S/TEM 为 20-200 kV 场发射扫描/透射电子显微镜，专为提高各种材料科学样品和应 用的分析性能和生产率而设计。其标准 X-TWIN 物镜极靴间距——可赋予应用灵活性——结合高再现性镜筒设计，可支持高分辨率 2D 和 3D 表征分析、原位动态观察及衍射应用。同时，Talos F200i 还 配备了 4k × 4k Ceta 16M 相机，可在 64 位平台上提供大 视野、高灵敏度快速成像。您可根据自身需求选择适宜的 EDS 可加装各类的能谱探头，从单 30 mm2 到双 100 mm2 特点与用途关键优势 双 EDS 技术可实现。从单 30 mm2 探头到可实现高通量 (或低剂量)分析的双 100 mm2 探头，可根据您的需求 选择理想的 EDS 高质量 S/TEM 图像和准确的 EDS。借助创新直观的 Velox 软件用户界面，可通过极其简单的操作方法，获得 高质量 TEM 或 S/TEM 图像。Velox 软件内置的特有的 EDS 吸收校准功能可实现精确的定量分析 全方位原位分析功能。加装三维重构或原位分析 样品杆。高速相机、智能软件和我们的大 X-TWIN 物镜间 距可实现 3D 成像和原位数据采集，同时可避免分 辨率和分析能力的损失 提高生产效率。超稳定镜筒，借助 SmartCam 和恒定功率 物镜实现的远程操作，用于快速的模式和高压切换。轻松 快速切换，适用于多用户环境 可重复性的数据。所有日常 TEM 合轴(例如，聚焦、 共心高度调节、电子束偏转、聚光镜光阑器对中、电子束 倾斜和旋转中心)自动完成，确保每次开始使用时都具有优质的成像条件。实验可反复重现，使您可以更多关注研 究工作本身，而非所用设备 高速大视野成像。4k × 4k Ceta CMOS 相机具有大视野， 能够在整个高压范围实现高灵敏度、高速数码缩放 紧凑型设计。本设备具有更小的尺寸和占地面积，有助于 在更具挑战性的空间内安装，同时降低安装和支持成本 产品参数TEM 线分辨率 ≤0.10 nm TEM 信息分辨率 ≤0.12 nm LACBED 会聚角可至 ≥100 mrad 衍射角可至 24°STEM 分辨率 ≤0.16 nm EDS 侧插式，可伸缩 电子枪类型 场发射枪或高亮度场发 样品操作 Z 轴运动总行程 (标准样品杆) ±0.375 mm α 倾转角可至(三维重构样 品杆) (高视野样品杆) ±90° 样品漂移 (标准样品杆) ≤0.5 nm/min

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOS GmbH公司（总经理Max Haider先生）共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差，使其与标准型号显微镜相比，分辨率提高了1.5倍，同时，探针电流提高了10倍。最近，该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪，进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时，该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置，可以以后加配球差校正进行升级。 特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像 HAADF-STEM图像0.136nm，FFT图像0.105nm（高分辨率镜头（*）） HAADF-STEM图像0.144nm（标准镜头） 明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm（w/o球差校正仪） 高速，高灵敏度能谱分析：探针电流× 10倍 元素面分布更迅速及时 低浓度元素检测 操作简化 自动图像对中功能 从样品制备到观察分析实现无缝连接 样品杆与日立聚焦离子束系统兼容 配有各种选购件可执行各种评估和分析操作 同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）图像。 低剂量功能（*）（有效降低样品的损伤和污染） 高精度放大校准和测量（*） 实时衍射单元（*）（同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案） 采用三维微型柱旋转样品杆（360度旋转）（*），具有自动倾斜图像获取功能。 ELV-3000即时元素面分布系统（*）（同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像）（*） 选购件技术指标 HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm（当放大倍数为4,000,000时）w球差校正仪保证 0.144 nm（当放大倍数为7,000,000时）（标准镜头）保证 0.136nm（HAADF图像） 保证0.105 nm（通过FFT）（当放大倍数为7,000,000时）（高分辨率镜头（*））放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV （*）成像信号明场扫描透射电子显微镜：相衬图像（TE图像） 暗场扫描透射电子显微镜：原子序数衬度图像（Z衬度图像） 二次电子图像（SE图像） 电子衍射（*） 特征X射线分析和面分布（能谱分析）（*） 电子能量损失谱分析和面分布（EV3000）（*）电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器（*）照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪（*）六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移± 1 &mu m试片镜台样品移动X/Y轴 = ± 1 mm, Z轴 = ± 0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆：± 30° （标准镜头）, ± 18° （高分辨率镜头（*））真空系统 3个离子泵，1个TMP极限真空10-8 Pa（电子枪）, 10-5 Pa（样品室）图像显示个人电脑／操作系统PC/AT兼容, Windows® XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫，慢扫（0.5至320秒／帧）自动数据显示记录序号，加速电压，下标尺，日期，时间 （*） 选购件

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 2024年7月28日日本电子株式会社全球同步发布场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列升级为JSM-IT810系列，升级后的产品实时功能更强（包括实时能谱、实时3D等的），自动化程度更高，操作更加直观简单，上手更加方便。

2016年新年伊始，日本电子株式会社（JEOL）即全球同步推出了新款场发射透射电镜JEM-F200。 为了全面整合近年发展起来的透射电镜上的各种功能，JEM-F200进行了全新设计，在保障各种功能达到极限的同时，追求操作的简单化和自动化，为用户提供透射电镜操作的全新体验。具体特点表现为： 1）精炼的全新设计：在提高机械和电气稳定性的同时，凭借对透射电镜的丰富经验，对电镜整体进行了精炼全新设计，力求为用户提供全新感受； 2) 四级聚光镜设计：为了最大程度发挥出STEM功能，JEM-F200进行了全新概念的四级聚光镜设计，亮度和汇聚角可以分别控制； 3）高端扫描系统：在照明系统扫描功能之上又增加了成像系统的扫描功能（选购件）可以获得大范围的STEM-EELS； 4）皮米样品台控制：标配的压电陶瓷控制样品台，可以在原子尺度上获得精准的移动； 5）全自动装样测角台（SPECPORTER）：样品杆的插入拔出只需电钮即可全自动实现，彰显其便利性及安全性； 6）成熟的冷场发射技术：将JEOL应用在球差校正技术上的高端冷场发射技术移植到普通的场发射透射上，可获得更好的高分辨观察、更高效的成分分析和更好的化学结合状态分析； 7）双超级能谱设计：可安装双超级能谱，将普通电镜能谱的分析能力拓展到原子尺度； 8）节能减排：启用省电模式耗电量降低80%。

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

行业领先的分子和细胞三维成像功能和通用性核心优势:支持范围广泛的用户: 凭借完全数字化的界面、领先的人体工程学设计以及遥控特征，Talos F200C TEM 使较广范围的用户都能够拥有功能强大的生物及生物材料样品三维表征能力。更快地获得结果。广泛的自动化联合完全集成的 1,600 CMOS 探头降低了必需的步骤数。更好地洞察: 在 20-200kV 能级的观测技术上取得最大的光学稳定性，获得最佳的对比度/分辨率平衡更高的可重复性和可靠性。 恒功率物镜（可选）压电载物台、极为稳定的光学部件以及可靠的系统机壳带来了最高的系统稳性。在一个系统中完成多项工作。 从单个平台执行最为广泛的应用。利用高分辨率获得三维洞察Thermo Scientific™ Talos™ F200C 透射电子显微镜 (TEM) 是一个强大的多功能系统，可在细胞生物学、结构生物学和纳米技术研究中提供生物和生物材料样品的 3D 表征。凭借自身可提高通量、稳定性和易用性的创新设计，Talos F200C TEM 使科学家能够更好地快速洞察和了解三维大分子结构、细胞成分、细胞和组织。该系统配备的恒定功率 C-Twin 透镜可提供出众的光学性能，有助于确保在对比度和分辨率之间实现最佳平衡。超级稳定的平台包括（可选）压电载物台、极为稳定的光学部件以及可靠的系统机壳，从而保证了最大的热力和机械稳定性。

TH-F120场发射透射电子显微镜是一款先进的分析仪器，它结合了场发射电子源的高亮度和透射电子显微镜的高分辨率成像能力。该产品适用于材料科学、生物学、纳米科技等多个领域的研究和分析工作。TH-F120具备以下特点：1. 高分辨率成像：采用场发射电子源，提供高亮度的电子束，实现纳米级甚至亚纳米级的高分辨率成像。2. 稳定性与可靠性：设计精密，确保长时间运行的稳定性和可靠性，适合连续工作环境。3. 先进的样品室：提供大空间样品室，支持多种样品的装载和分析，包括冷冻样品。4. 多功能分析：配备能量色散X射线光谱仪（EDS）和电子能量损失谱（EELS）等分析附件，实现样品的化学成分和电子结构分析。5. 易于操作的用户界面：采用直观的用户界面和先进的软件，简化操作流程，提高工作效率。6. 安全性设计：符合国际安全标准，确保用户在使用过程中的安全。TH-F120场发射透射电子显微镜是科研和工业领域中不可或缺的精密分析工具，能够帮助研究人员深入理解材料的微观结构和性质。TH-F120在材料科学领域的应用尤为广泛，它可以帮助科学家们研究纳米材料的晶体结构、界面行为、缺陷分布等关键特性。通过高分辨率成像，研究人员能够观察到材料在原子尺度的排列和变化，这对于开发新型材料、优化材料性能具有重要意义。在生物学领域，TH-F120也发挥着重要作用。它能够以极高的分辨率成像生物大分子，如蛋白质、核酸等，揭示它们的精细结构和相互作用机制。这对于理解生命过程、疾病发生机制以及药物研发等方面都具有重要的推动作用。此外，TH-F120还具备强大的数据分析能力。其配备的软件系统能够自动处理和分析采集到的图像和数据，提供精确的定量分析结果。这大大减轻了研究人员的负担，提高了工作效率和准确性。总的来说，TH-F120场发射透射电子显微镜是一款功能强大、性能卓越的精密分析仪器。它不仅具备高分辨率成像、稳定性与可靠性、多功能分析等显著特点，还在材料科学、生物学等多个领域发挥着重要作用。随着科学技术的不断进步和应用领域的不断拓展，TH-F120必将在更多领域展现出其独特的价值和魅力。

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100NavigatorSEM-100高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像 &bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100B PLUSNavigatorSEM-100B PLUS高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100B PLUS高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。新机型在硬件部分模组提升较大，配备新型电子枪，电子束落点能量范围可达30keV，涵盖绝大多数扫描电镜落点能量需求范围。分辨率可达1.0nm (15keV下), 且在1-3kV低加速电压下即可获得1.5nm高分辨率的同时，仍能保持1‰以下的低图像畸变。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 该系统实现二次电子和背散射电子的双通道同步100M/s级超高速成像&bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

JEM-2800是日本电子透射电子显微镜系列中的一款特殊设计的产品，在兼顾高分辨高稳定性的同时，最求分析效率的最大化和操作的自动化。颠覆传统的电镜外观设计，除了让人耳目一新外，还对设置环境更具抗干扰能力。 主要技术指标： 1. 点分辨率：0.21nm； 2. 晶格分辨率：0.1nm 3. STEM 分辨率：0.16nm； 4. 二次电子分辨率：0.5nm； 5. 能谱：可以安装两个超级能谱 6. 洛伦兹模式：标配

JEM-ACE200F是日本电子透射电子显微镜系列中的一款特殊设计的产品，在兼顾高分辨高稳定性的同时，最求分析效率的最大化和操作的自动化。颠覆传统的电镜外观设计，除了让人耳目一新外，还对设置环境更具抗干扰能力。 主要技术指标： 1. 点分辨率：0.21nm； 2. 晶格分辨率：0.1nm 3. STEM 分辨率：0.136nm； 4. 信息分辨率：0.11nm； 5. 能谱：可以安装两个超级能谱 6. 洛伦兹模式：标配

产品简介日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术，空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射技术开辟了高效，高精度样品分析的新途径。分辨率：0.1 nm（晶体点阵）0.19 nm（点对点）0.13 nm（信息极限）放大倍数：200倍 至 1,500,000倍加速电压：300 kV, 200 kV （*）, 100 kV （*）（*） 选购附件 解决方案 立扫描透射电镜HF3300在原位催化中的应用 应用领域：石油/化工检测项目：热性能检测样品：化工原料 方案优势近年来，在催化领域中，真实的催化反应过程成为广大学者的研究热点。原位扫描透射电镜能够实现实时观察样品的反应过程，监测样品的变化。其中日立的冷场300KV的HF3300型扫描透射电镜配备了独特的真空系统(差分泵) 。气体可以直接通入样品室与样品进行反应，到达样品表面的压力最 高能够达到10Pa；配备的新型冷场枪更加稳定，亮度更强，发射电流更加稳定；宽真空范围二次电子探头的加入，能够实现同时观察样品的明场，暗场及二次电子像，从而实现对催化反应过程全方位的了解。实验设备：HF-3300场发射透射电子显微镜

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

Talos F200i S/TEM 产品描述更高生产率和灵活性 — 支持更多材料科学应用 用于高分辨率成像和分析应用的Thermo Scientific Talos F200i 扫描/透射电子显微镜 (S/TEM) 现可提供对称布置的双100 mm2 Racetrack 检测器“( Dual-X”)，以提高分析通量。 Thermo ScientificTM TalosTM F200i S/TEM 为 20-200 kV 场发射扫描/透射电子显微镜，专为提高各种材料科学样品和应 用的分析性能和生产率而设计。其标准 X-TWIN 物镜极靴间距——可赋予应用灵活性——结合高再现性镜筒设计，可支持高分辨率 2D 和 3D 表征分析、原位动态观察及衍射应用。同时，Talos F200i 还 配备了 4k × 4k Ceta 16M 相机，可在 64 位平台上提供大 视野、高灵敏度快速成像。您可根据自身需求选择适宜的 EDS 可加装各类的能谱探头，从单 30 mm2 到双 100 mm2 特点与用途关键优势 双 EDS 技术可实现。从单 30 mm2 探头到可实现高通量 (或低剂量)分析的双 100 mm2 探头，可根据您的需求 选择理想的 EDS 高质量 S/TEM 图像和准确的 EDS。借助创新直观的 Velox 软件用户界面，可通过极其简单的操作方法，获得 高质量 TEM 或 S/TEM 图像。Velox 软件内置的特有的 EDS 吸收校准功能可实现精确的定量分析 全方位原位分析功能。加装三维重构或原位分析 样品杆。高速相机、智能软件和我们的大 X-TWIN 物镜间 距可实现 3D 成像和原位数据采集，同时可避免分 辨率和分析能力的损失 提高生产效率。超稳定镜筒，借助 SmartCam 和恒定功率 物镜实现的远程操作，用于快速的模式和高压切换。轻松 快速切换，适用于多用户环境 可重复性的数据。所有日常 TEM 合轴(例如，聚焦、 共心高度调节、电子束偏转、聚光镜光阑器对中、电子束 倾斜和旋转中心)自动完成，确保每次开始使用时都具有优质的成像条件。实验可反复重现，使您可以更多关注研 究工作本身，而非所用设备 高速大视野成像。4k × 4k Ceta CMOS 相机具有大视野， 能够在整个高压范围实现高灵敏度、高速数码缩放 紧凑型设计。本设备具有更小的尺寸和占地面积，有助于 在更具挑战性的空间内安装，同时降低安装和支持成本 产品参数TEM 线分辨率 ≤0.10 nm TEM 信息分辨率 ≤0.12 nm LACBED 会聚角可至 ≥100 mrad 衍射角可至 24°STEM 分辨率 ≤0.16 nm EDS 侧插式，可伸缩 电子枪类型 场发射枪或高亮度场发 样品操作 Z 轴运动总行程 (标准样品杆) ±0.375 mm α 倾转角可至(三维重构样 品杆) (高视野样品杆) ±90° 样品漂移 (标准样品杆) ≤0.5 nm/min

捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机JSM7000F采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。产品规格：主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。＜特点＞捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统）TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加）捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 信息由科沃安科技（苏州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

低电压扫描透射电子显微镜具备多种成像模式：透射模式（TEM），扫描模式（SEM），透射扫描（STEM）分析模式：电子衍射模式：ED 能量色散光谱模式：EDS电子加速电压：10, 15, 25 kV空间分辨率：1nm采用Schottky场发射电子枪，高亮度和对比度观察生物样品无需染色，且对切片厚度无要求，成像结果对比度高。真空自闭锁技术，更换样品仅需3分钟。无需冷却水和电源，无需专业实验室，操作简单，维护成本极低。其他类应用： 生物研究方向实验室台式透射电子显微镜系统，支持多种成像模式观察生物样品无需染色，简易快速地获得观察结果无需专门隔震防磁使用环境，操作维护简单无需冷却水，无需专业实验室，维护成本低采用电子加速电压，避免了传统电镜的缺点和限制 在大型的透射电子显微镜系统中，电子加速电压一般在80-300 kV左右。在如此高的电压下，对于C，H，O，N等轻元素组成的样品（如高分子和生物样品等），只有经过重元素染色操作才可以得到较好的图像对比度。而LVEM25采用的电子加速电压范围在10-25 kV，较低的加速下，研究者不需要对样品进行染色，即可得到很高的图像对比度。同时在25 kV电压下，LVEM25还避免了低电压对样品厚度的限制要求，只需要研究者按照正常厚度要求制作样品切片即可。操作简单，维护成本极低。 LVEM25虽然和传统TEM一样遵循了相同的电子透镜基本原理，但是在产品结构上却有着显著的不同。这一创新性设计使得LVEM25的设备尺寸大大缩小，真正实现了TEM的“小型化，台式化"。LVEM25对设备安装环境没有任何要求，不需要高功率电源，无需磁屏蔽和减震装修，更不需要冷却水和液氮冷阱等复杂配置，日常维护成本极低。同时LVEM25操作界面简单友好，研究者经过相对简单的培训后即可执行日常操作。 优化的硬件配置，保证运行稳定可靠。 采用肖特基场发射电子枪 LVEM25采用了Schottky场发射电子枪，保证设备连续运行数千小时。同时为样品成像提供了更好的亮度和空间均匀度。 样品和电子枪附近采用离子泵抽真空 LVEM25在样品腔和电子枪附近配备了离子泵来达到超高真空环境，在保证设备运行稳定的同时，有效避免了外部机械振动。 电子透镜组由永磁体组成 LVEM25的电子透镜模块由永磁体构成，从而精简了一般大型电镜中的磁体电源系统，进一步提高了设备运行的稳定性和可靠性，同时大大降低了维护成本。 放大倍率：1,000 - 470,000 加速电压：10, 15, 25 kV分辨率：1 nm 类型：场发射规格：分析系统 加工定制：标准器电子枪：Schottky场发射电子枪 加速电压：5,10,15,25 kV成像模式：TEM、STEM、SEM、EDS和ED TEM分辨率：最高1.0 nm冷却水：不需要 压缩空气：不需要换样时间：最快2分钟 应用：材料、生物体积：小巧 操作维护：简单

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

蔡司Gemini系列场发射扫描电子显微镜，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。无论是在高真空还是可变真空模式下，对任意样品进行成像时都具有更高的表面细节信息，，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究、工业实验室、成像平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与解决方案。 [ 产品特点 ]ü 出色的检测效率ü 优异的低电压分辨率和表面灵敏度ü 智能的自动功能，一键实现聚焦，像散，电子束对中的自动调节ü 智能的电子光学设计，可实现自动光阑优化，提高低电压下的分辨率ü 最低倍数可达1X的大视野模式，可拍摄大样品及导航至感兴趣区域ü 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征ü 对称的EDS接口设计，可满足无阴影EDS图像的采集丰富的拓展性能 [ 应用领域 ]ü 材料科学，如纳米材料表征ü 工业应用，如失效分析，性能分析ü 生命科学，如大体积细胞高通量成像ü 电池领域，如老化分析、电极材料表征ü 电子半导体领域，如半导体器件失效分析 磁性FeMn纳米颗粒，图中立方体的边长约25nm，1kV分子筛上搭载纳米银颗粒，左图为Inlens SE探测器成像，右图为EsB探测器的成分衬度像，1.5kV锂电池隔膜在低温 -160°下进行成像三枚硬币可以在同一视野下进行观察EsB探测器FinFET晶体管成像STEM探测器小鼠大脑组织切片明场成像

Sigma 360用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。Sigma 360 具有极高的性价比，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。灵活的检测器选项，获取清晰图像使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。 使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。使用HDBSD或YAG检测器分析成分。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。蔡司Sigma 360 可提供 集成式 EDS 解决方案在低能量分析应用中同时实现高清晰度成像Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案，拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM，进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。同时，借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。? 集成化：通过集成化，结合高清晰成像与快速分析，从而获得不错结果? 定制化：根据不同的用户需求定制软件? 灵敏度：独特的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。完全集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。用户友好,操作简单 SmartSEM Touch是现已有操作系统的附加组件，用于多用户环境，是一种简洁的用户界面。它同时为操作经验丰富的专家用户和初级用户提供了简便的操作。基于实际的实验室环境，SEM的操作可能是电子显微镜专家的专属领域。但是，非专业用户（例如学生，接受培训不久的人员或质量工程师）也需要使用SEM获取数据，因此也有使用SEM的需求。 Sigma 300和Sigma 300 VP将非专业用户的需求考虑在内，其用户界面选项可满足操作经验丰富的显微镜专家和显微镜新手用户的操作需求。

专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOS GmbH公司（总经理Max Haider先生）共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差，使其与标准型号显微镜相比，分辨率提高了1.5倍，同时，探针电流提高了10倍。最近，该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪，进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时，该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置，可以以后加配球差校正进行升级。 特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像 HAADF-STEM图像0.136nm，FFT图像0.105nm（高分辨率镜头（*）） HAADF-STEM图像0.144nm（标准镜头） 明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm（w/o球差校正仪） 高速，高灵敏度能谱分析：探针电流× 10倍 元素面分布更迅速及时 低浓度元素检测 操作简化 自动图像对中功能 从样品制备到观察分析实现无缝连接 样品杆与日立聚焦离子束系统兼容 配有各种选购件可执行各种评估和分析操作 同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）图像。 低剂量功能（*）（有效降低样品的损伤和污染） 高精度放大校准和测量（*） 实时衍射单元（*）（同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案） 采用三维微型柱旋转样品杆（360度旋转）（*），具有自动倾斜图像获取功能。 ELV-3000即时元素面分布系统（*）（同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像）（*） 选购件技术指标 HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm（当放大倍数为4,000,000时）w球差校正仪保证 0.144 nm（当放大倍数为7,000,000时）（标准镜头）保证 0.136nm（HAADF图像） 保证0.105 nm（通过FFT）（当放大倍数为7,000,000时）（高分辨率镜头（*））放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV （*）成像信号明场扫描透射电子显微镜：相衬图像（TE图像） 暗场扫描透射电子显微镜：原子序数衬度图像（Z衬度图像） 二次电子图像（SE图像） 电子衍射（*） 特征X射线分析和面分布（能谱分析）（*） 电子能量损失谱分析和面分布（EV3000）（*）电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器（*）照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪（*）六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移± 1 &mu m试片镜台样品移动X/Y轴 = ± 1 mm, Z轴 = ± 0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆：± 30° （标准镜头）, ± 18° （高分辨率镜头（*））真空系统 3个离子泵，1个TMP极限真空10-8 Pa（电子枪）, 10-5 Pa（样品室）图像显示个人电脑／操作系统PC/AT兼容, Windows® XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫，慢扫（0.5至320秒／帧）自动数据显示记录序号，加速电压，下标尺，日期，时间 （*） 选购件

Delong低电压台式透射电子显微镜LVEM系列Delong Instruments推出的LVEM系列低电压台式透射电子显微镜（Low-Voltage Electron Microscope），采用Schottky场发射电子枪，电子束加速电压远低于大型透射电镜。低电压电子束对密度和原子序数有很高的灵敏度，对于轻元素样品，无需染色即可得到高质量成像，尤其适合高分子、生物等样品。同时，低电压透射电镜对样品的损坏较小。☆ 实验室台式透射电子显微镜系统，支持多种成像模式 ☆ 观察生物样品无需染色，简易快速地获得观察结果☆ 无需专门隔震防磁使用环境，操作维护简单☆ 无需冷却水，无需专业实验室，维护成本低各型号详情(点击图片即可了解) LVEM 5LVEM 5将高分辨率成像和纳米级分辨能力结合在一起，小型台式TEM设计。LVEM5能够在TEM、SEM和STEM成像模式下工作，同时保持经济实惠和使用简单，是高校或研究机构从事纳米工作的理想工具。LVEM 25LVEM 25是性能强大的紧凑型透射电子显微镜。它具有多功能性，将TEM、STEM两种成像模式，和ED分析模式结合到一台独立的机器中。实用和直观的设计以及令人印象深刻的分辨率使得LVEM25在高校或研究机构中纳米工作的研究成为一种乐趣。LVEM 25ELVEM 25E是All in One的紧凑型透射电子显微镜。它的多功能性在于它将3种成像模式（TEM、SEM和STEM）和2种分析模式（EDS和ED）结合到一台独立的仪器中。这种先进的设计与令人印象深刻的分辨力相结合，使LVEM 25E成为满足您纳米级成像要求的特殊伙伴。各型号参数对比 LVEM 5LVEM 25LVEM 25E（New!!!）操作模式 TEM, STEM, SEM, ED TEM, STEM, ED TEM, STEM, ED, EDS, Dark Field TEM, Dark Field STEM 工作电压5 kV10, 15, 25 kV10, 15, 25 kV分辨率（TEM）1.5 nm1.0 nm1.0 nm未染色样品的对比度高高高电子源场发射电子枪场发射电子枪场发射电子枪冷却水不需要不需要不需要压缩空气不需要不需要不需要换样时间3分钟3分钟2分钟

LVEM5 台式透射电子显微镜（Bench-top TEM） 详细介绍Delong Instruments 荣誉出品 • 世界唯一的小型台式透射电子显微镜（TEM）• 世界唯一的多用途台式电子显微镜• 透射电镜（TEM）、电子衍射（ED）、扫描电镜（SEM）、扫描透射电镜（STEM）四种成像模式• 分辨率：1.5nm（TEM）；10nm（SEM）• Schottky场发射电子枪：高亮度、高对比度• 观察生物样品无需染色• 体积仅为传统透射电镜1/10，操作维护简单 台式设计：体积小巧，灵活性高，价格低传统透射电子显微镜体积庞大，对放置环境有着严格的要求，并且需要制冷机等外置设备。通常会占据整间实验室。 LVEM5从根本上区别于传统电镜，尺寸较传统电镜缩小了90%，对放置环境无严格要求，无需任何外置冷却设备，可以安装用户所需的任意实验室或办公室桌面，是目前性价比最高的电子显微镜。Schottky场发射电子枪：高亮度/高对比度电子枪类型是决定电镜性能的重要参数。LVEM5采用特殊设计的倒置肖特基（Schottky）场发射电子枪，提供高亮度高相干的电子束。电子枪使用寿命可达2000小时以上。传统TEM多采用100kV以上电子束加速电压，高能电子束不能区分轻材料中相近的密度和原子序数，对于轻元素样品（C、N、O样品，生物样品）难以获得好的对比度，影响图像质量。LVEM5采用5kV低电压设计，低电压电子束对密度和原子序数有很高的灵敏度，对于小到0.005 g/cm3的密度差别仍能得到很好的图像对比度。例如，对20nm碳膜样品，5KV电压下比100KV电压下对比度提高10倍以上。而LVEM5的空间分辨率在低电压下仍能达到1.5nm。 未经染色的老鼠心脏切片在80kV透射电镜下得到的图像，与LVEM5下得到的图像。LVEM5采用5kV低加速电压，图像具有更好的对比度. TEM-STEM-ED-SEM 四种成像模式TEM模式LVEM5是世界上唯一的台式透射电子显微镜，同时也是唯一的低加速电压（5kV）透射电镜。同传统透射电镜（80-200kV）相比，增加了电子束与样品的相互作用，从而提高了图像对比度。 提高了图像对比度。 无需重金属染色即可观察轻元素样品（如生物样品）。 避免染色造成的假象，观察样品真实结构分辨率2nm，放大倍数 5000-202,000x，图像采集：2048 x 2048 添加TEM升级选件，分辨率提升至1.5nm，放大倍数 50万倍 SEM模式扫描电镜（SEM）模式可用于观察任意固体样品。在SEM模式下，LVEM5采用4分割背散射探测器，提供多个观测角度。普通扫描电镜在观察不导电样品时，需要对样品进行喷金、喷碳处理，以增加样品导电性。LVEM5的另一优点在于，无需喷金可直接观测不导电样品。分辨率10nm，放大倍数 640x - 100,000x，图像采集像素：2048 x 2048 STEM模式在扫描透射电子显微（STEM）模式下，电子束被聚焦到很小直径，在样品上进行扫描。可用于观察厚度较厚的样品或染色样品 ED模式电子衍射（ED）可用于确定样品的晶体结构、结晶度、相组成. 操作简单，换样快捷，成本低廉LVEM5直观的用户界面、简便的控制台设计，使用户仅需极少的培训，即可轻松操作。让用户在使用时更加舒适。不同于传统透射电镜每次更换样品后需要几十分钟的抽真空时间，LVEM5更换样品仅需3min，节省大量时间。LVEM5首次购置费用远低于传统电镜，且在一款仪器中集成了透射电镜与扫描电镜功能，真正的物超所值。LVEM5独特的设计优势，在使用中无需冷却水，无需专业实验室，维持成本极低。 应用案例

产品描述灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。用于清晰成像的灵活探测利用先进探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。自动化加速工作流程4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。使用工作流程的一步，将结果可视化。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。用于清晰成像的灵活探测利用新的探测技术表征所有的样品。在高真空模式下利用创新的 ETSE 和 in-lens 探测器获取形貌和高分辨率的信息。在可变压力模式下利用可变压力二次电子和 C2D 探测器获取锐利的图像。利用 aSTEM 探测器生成高分率透射图像。利用 BSD 或者 YAG 探测器进行成份分析。配件SmartEDX为您带来一体化能谱分析解决方案如果单采用SEM成像技术无法全面了解部件或样品，研究人员就需要在SEM中采用能谱仪（EDS）来进行显微分析。通过针对低电压应用而优化的能谱解决方案，您可以获得元素化学成分的空间分布信息。得益于：优化了常规的显微分析应用，并且由于氮化硅窗口优的透过率，可以探测轻元素的低能X射线。工作流程引导的图形用户界面极大地改善了易用性，以及多用户环境中的重复性。完整的服务和系统支持，由蔡司工程师为您的安装、预防性维护及保修提供一站式服务。 拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像在您的数据中加入拉曼光谱及成像结果，获得材料更丰富的表征信息。通过扩展蔡司Sigma 300，使其具备共聚焦拉曼成像功能，您能够获得样品的化学指纹信息，从而指认其成分。识别分子和晶体结构信息可进行3D分析，在需要时可关联SEM图像、拉曼面扫描成像和EDS数据。完全集成RISE让您体验由先进的SEM和拉曼系统带来的优势。

Delong America Inc. 荣誉出品 LVEM5 低电压台式透射电子显微镜（Bench-top TEM） &bull 小型台式透射电子显微镜（TEM）&bull 多用途台式电子显微镜&bull 透射电镜（TEM）、电子衍射（ED）、扫描电镜（SEM）、扫描透射电镜（STEM）四种成像模式&bull 分辨率：1.5nm（TEM）；10nm（SEM）&bull Schottky场发射电子枪：高亮度、高对比度&bull 观察生物样品无需染色&bull 体积仅为传统透射电镜1/10，操作维护简单台式设计：体积小巧，灵活性高，价格低传统透射电子显微镜体积庞大，对放置环境有着严格的要求，并且需要制冷机等外置设备，通常会占据整间实验室。LVEM5从根本上区别于传统电镜，尺寸较传统电镜缩小了90%，对放置环境无严格要求，无需任何外置冷却设备，可以安装用户所需的任意实验室或办公室桌面，是目前性价比较高的电子显微镜。Schottky场发射电子枪：高亮度/高对比度电子枪类型是决定电镜性能的重要参数。LVEM5采用特殊设计的倒置肖特基（Schottky）场发射电子枪，提供高亮度高相干的电子束。电子枪使用寿命可达2000小时以上。传统TEM多采用100kV以上电子束加速电压，高能电子束不能区分轻材料中相近的密度和原子序数，对于轻元素样品（C、N、O样品，生物样品）难以获得好的对比度，影响图像质量。LVEM5采用5kV低电压设计，低电压电子束对密度和原子序数有很高的灵敏度，对于小到0.005 g/cm3的密度差别仍能得到很好的图像对比度。例如，对20nm碳膜样品，5KV电压下比100KV电压下对比度提高10倍以上。而LVEM5的空间分辨率在低电压下仍能达到2nm。 未经染色的老鼠心脏切片在80kV透射电镜下得到的图像，与LVEM5下得到的图像。 LVEM5采用5kV低加速电压，图像具有更好的对比度TEM-STEM-ED-SEM 四种成像模式TEM模式LVEM5是一款台式透射电子显微镜，同时也是一款低加速电压（5kV）透射电镜。同传统透射电镜（80-200kV）相比，增加了电子束与样品的相互作用，从而：+ 提高了图像对比度+ 无需重金属染色即可观察轻元素样品（如生物样品）+ 避免染色造成的假象，观察样品真实结构分辨率2nm，放大倍数 5000-202,000x，图像采集：2048 x 2048添加TEM升选件，分辨率提升至1.5nm，放大倍数 50万倍SEM模式扫描电镜（SEM）模式可用于观察任意固体样品。在SEM模式下，LVEM5采用4分割背散射探测器，提供多个观测角度。普通扫描电镜在观察不导电样品时，需要对样品进行喷金、喷碳处理，以增加样品导电性。LVEM5的另一优点在于，无需喷金可直接观测不导电样品。分辨率3nm，放大倍数 640x - 1,000,000x，图像采集：2048 x 2048STEM模式在扫描透射电子显微（STEM）模式下，电子束被聚焦到很小直径，在样品上进行扫描。可用于观察厚度较厚的样品或染色样品ED模式电子衍射（ED）可用于确定样品的晶体结构、结晶度、相组成操作简单，换样快捷，成本低廉LVEM5直观的用户界面、简便的控制台设计，使用户仅需很少的培训，即可轻松操作。让用户在使用时更加舒适。不同于传统透射电镜每次更换样品后需要几十分钟的抽真空时间，LVEM5更换样品仅需3min，节省大量时间。LVEM5次购置费用仅为传统电镜的1/3左右，且在一款仪器中集成了透射电镜与扫描电镜功能，真正的物超所值。LVEM5特的设计优势，在使用中无需冷却水，无需专业实验室，维持成本低。部分测试数据 TEM：碳纳米管 ED：ZnO单晶 STEM：聚乙烯单晶 SEM：水凝胶 应用案例材料领域 生物领域用户列表LVEM5在全球范围已拥有麻省理工、加州大学、乔治亚理工、慕尼黑大学、曼彻斯特大学等50多个用户。优异的性能为LVEM5赢得了用户的一片赞誉。

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F JEOL新一代场发射扫描电子显微镜的旗舰机型。 它继承了上一代广获好评的性能如极高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能极大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其最佳性能。 产品规格：分辨率1.0 nm (0.5 kV)0.7 nm (1 kV)0.6 nm (15 kV)3.0 nm (5 kV、WD: 10 mm、5 nA)倍率×10 ～ ×1,000,000加速电压0.01 ～ 30 kV探针电流数 pA ～ 500 nA检测器（标配）高位检测器(UED)、低位检测器(LED)电子枪浸没式肖特基Plus场发射电子枪最佳光阑角控制镜内置物镜超级混合式物镜/SHL自动功能自动聚焦、自动消像散、自动调节亮度、自动调节衬度大景深模式(LDF)内置样品台全对中测角样品台样品移动X:70mm Y:50mm Z:2 ～ 41mm 倾斜轴:-5 ～ 70° 旋转:360°马达驱动5轴马达驱动样品交换室最大直径: 100mm 　最大高度: 40mm抽真空系统SIP、TMP、RP 主要特点：◇ Neo Engine（New Electron Optical Engine）新一代电子光学控制系统Neo Engine（New Electron Optical Engine），是JEOL电子光学技术荟萃的结晶。 它综合了透镜控制系统和自动化技术，即使改变电子光学条件，光轴的偏离也极小，大大提高了可操作性及观察精度。 无论是谁都可以很简便地发挥出仪器原本的功能。 ① 提高了自动功能 样品 : 用CP 制备的矿物截面（树脂包埋） 入射电压 : 5 kV，检测器 : RBED，观察倍率 : ×100,000 不仅提高了自动功能的精度，而且只需要几秒钟就可以聚焦。 ② 提高了倍率的精度 样品 : 测长用的样品（MRS5） 入射电压 : 10 kV， 观察倍率: ×50,000 大幅度地提高了倍率的精度，而且实现了高精度测长。 ③ 能量过滤器更加易用 样品 : 名片 入射电压 : 1.5 kV， 检测器 : UED， 观察倍率 : ×3,500 即使大幅度改变能量过滤器的设定值，视野或聚焦位置基本不会偏离。 ◇ GBSH-S (GENTLEBEAM™ Super High resolution Stage bias mode)GBSH 是在低加速电压下提高分辨率的一种方法。 新开发的GBSH-S可以给样品台施加高达5 kV的偏压。 因此，使用GBSH模式不需要使用专用的样品杆就可以无缝过渡到其他模式。※GENTLEBEAM™ 通过给样品施加偏压，起到了对入射电子减速，对出射电子加速的作用。 ◇ 新型背散射电子检测器　※ 选配件采用新开发的超高灵敏度的背散射电子检测器，可以在清晰的衬度下进行观察。 灵敏度比以往的产品提高了很多，特别是在低加速电压下能得到高衬度的成分像。旧机型 新机型 样品 : Cu的截面 入射电压 : 3 kV 观察倍率 : ×10,000 WD： 4.5 mm ◇ 新型外观设计 外观设计紧凑，大大节省了安装空间，可以支持多种安装环境。 ◇ 新的样品交换方式 采用新设计的样品交换系统（load lock），操作简单了，不仅减少误操作还提高了通量和耐用性。 ◇ SMILENAVISMILENAVI 是为初学者在短时间内学会基础操作而开发的操作导航系统。 操作人员按照流程，只要点击图标，SEM操作画面就会联动，依照提示引导即可操作。① 强调操作按钮只要将鼠标光标挪到SMILENAVI的指南键上，SEM的GUI上的相应键会出现方框。 在SMILENAVI指南里点击按键后，SEM的GUI会变成灰色来强调相应键。 ② 显示照片在SMILENAVI的指南里点击按键后，会显示该按键位置的照片。 ③ 显示操作顺序的视频 SMILENAVI的指南里有介绍操作顺序的视频。 继承了旧机型的高性能 ◇ 浸没式肖特基 Plus 电子枪浸没式肖特基Plus FEG 通过与电子枪和低像差聚光镜的组合，性能进一步得到改善，达到了更高的亮度。 能有效地收集从电子枪发射出的电子，即使在低加速电压下，也能获得数pA ～数10 nA 的探针电流，不用交换物镜光阑也能进行高分辨观察和快速元素面分布及EBSD 分析。 ◇ ACL（最佳光阑角控制镜）ACL（最佳光阑角控制镜）位于物镜的上方，自动优化整个电流范围内的物镜光阑角。 因此，即使改变探针电流量，也能调整入射电子的扩散，始终可以获取最小的电子束斑。不管是高分辨观察还是X 射线分析，对探针电流的大幅度变化都能轻松对应。 ◇ 超级混合式物镜 / SHLJSM-7900F 标配了JEOL 开发的电磁场叠加物镜 —“超级混合式物镜（SHL）”，对任何样品包括磁性和绝缘材料都能进行超高空间分辨率观察和分析。 ◇ 检测器系统能够同步采集多达4 种检测器的信号。标配低位检测器（LED）和高位检测器（UED）。 此外，还可以安装选配件：可插拔式背散射电子检测器（RBED）和高位二次电子检测器（USD）。 ◇ 高空间分辨率观察利用GBSH，即使在极低的加速电压下也能进行高分辨率观察。 GBSH下，高空间分辨率观察应用● 氧化物纳米材料