连续退火实验与模拟系统

连续退火实验与模拟系统 ——可以对钢板进行快速以及快速冷却实验及模拟 产品介绍 连续退火实验与模拟系统CAS-AYⅡ使用快速加热和气体/雾冷功能的红外金面反射炉实现快速加热和冷却。这个系统可以地实现钢铁材料热处理过程的模拟，可以实现钢板,不锈钢板,和磁性钢板等的通用热处理实验以及热处理过程模拟。 加热腔（红外炉） 冷却腔 特点应用 样品加热和冷却温度控制；薄钢板连续退火模拟实验； 可以实现钢板表面良好的温度均匀性；在各种气氛下对板材退火实验，表面处理实验； 立的冷却腔可以实现速冷却在钢板时效过程中的热处理实验 样品大小 70mmW*220mmL*0.5-2.0mmT(标准样品1.2mmT)；大约可以得到2个标准拉伸试样 设备组成 实验数据 仅加热腔实现冷却（缓冷）数据冷却腔实现冷却（急冷）数据 设备参数温度范围 50℃-1000℃（大1150℃）气氛氮气 空气样品大小 70mmW*220mmL*0.5-2.0mmT 加热速率 大30℃/s 冷却速率 大-70℃/s（1000℃-400℃） 设备尺寸 大约2900mmW*1000mmD*1700mmH 用户单位北京科技大学 宝钢集团有限公司中央研究院（技术中心）

高真空退火炉 产品介绍 目前高温退火炉加热大都为管式炉或马弗炉，原理为加热丝或硅碳棒对炉体加热，加热与降温速度慢，效率低下，也无法实现温度的高精度测量，加热区域也存在不均匀的现象，华测仪器通过多年研究开发了一种可实现高精度，高反射率的抛物面与高质量的加热源相配置，在高速加热高速冷却时，具有良好的温度分布。可实现宽域均热区，高速加热、高速冷却，用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空，高出纯度气体中加热。设备可组成均热高速加热炉，温度斜率炉，阶段加热炉。 它提高了加热试验能力.同电阻炉和其他炉相比，红外线反射退火炉节省了升温时间和保持时间及自然冷却到室温所需时间，再试验中也可改写设定温度值。从各方面讲，都节省时间并提高实验速度。 同高频炉相比，不需特殊的安装条件及对加热试样的要求。同电阻炉一样安装简单，有冷却系统安全可靠。以提高试验人员的工作效率，实现温度控制操作！ 设备优势 高速加热与冷却方式 高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体冷却装置，可实现快速冷却。 温度高精度控制 过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以控制样品的温度。此外，冷却速度和保持在任何温度下可提供高精度。 不同环境下的加热与冷却 加热/冷却可用真空、气氛环境、低温（高纯度惰性气体静态或流动），操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传送到加热/冷却室。 反射炉温度控制装置 高速升温时，配套的快速反应的高真空退火炉控制装置，本控制装置采用可编程温度控制器。高性能设计，响应速度快。 可选配 进口干泵：抽速≥120L/min，极限真空度≤4pa，噪音小于52db； 进口全量程真空规：刀口法兰接口，真空测量范围5X10-7Pa到1atm 为了高速加热、设备采用PID温度控制，同时采用移相触发技术保证试验温度。 根据设备上的温度控制器输入参数，您也可以简单输入温度程序设定和外部信号。另外还可以在电脑上显示热中的温度数据。 自适应热电偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型 可设定32个程序、256个步骤的程序。 30A、60A、120A内置了SCR电路，所以范围很广。 设备配置 序号 项目 数量 品牌 备注 1 炉体 1 华测 温度至1200℃ 2 加热源 1 GE 3 温度控制器 1 华测 4 电热偶 1 omega 5 温控表 1 欧姆龙 6 稳压电源 1 华测 可定制 7 制冷水机 1 同飞 制冷功率 8 分子泵 1 莱宝 CF法兰，抽速≥40L/s，极限真空度优于-0.8Mpa； 更多应用 1.电子材料 半导体用硅化合化的PRA（加热后急速冷却） 热源薄膜形成激活离子注入后硅化物的形成 2.陶瓷与无机材料 陶瓷基板退火炉 玻璃基板退火炉。 陶瓷张力、挠曲试验退火炉。 3.钢铁和金属材料 薄钢板加热过程的数值模拟。 炉焊接模拟 高真空热处理（1000℃以下） 大气气体熔化过程 压力下耐火钢和合金的热循环试验炉 4.复合材料 耐热性评价炉 无机复合材料热循环试验炉 5.其它 高温拉伸压缩试验炉。 分段分区控制炉 温度梯度炉 炉气分析 超导陶瓷退火炉

快速退火炉RTP-3-04系列采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸样品）快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到**的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。产品特点可测大尺寸样品：可测单晶片样品的尺寸为4英寸。可远程操作：提供远程监控模块。压力控制系统创新设计：高精度控制压力，以满足不同的工艺要求。存储热处理工艺：方便工艺参数调取，提高实验效率，数据可查询。快速控温与高真空：升温速率可达150℃/s，真空度可达到10-3Pa。程序设定与气路扩展：可实现不同温度段的精确控制，进行降温段的自动转接，并能够对工艺菜单进行保存，方便调用。采用MFC精确控制气体流量，实现不同气氛环境（真空、氮气等）下的热处理。独特的腔体空间设计：保证大尺寸样品的温场均匀性 ≤1.5%。全自动智能控制：采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。超高安全系数：采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障设备使用安全。产品应用金属电极合金化硬质合金薄膜去应力退火石墨烯生长器件退火材料再结晶、晶化热氧化、热氮化ITO膜致密化薄膜CVD生长搭载电学测试模块变温电阻测量等离子注入/接触退火太阳能电池片键合低介电材料热处理芯片晶圆热处理键合炉其他热工艺需求

请联系：张先生通过搭载 OPTSWING 系统，实现高速扫描提高产能。  小片到 8inch 晶圆均可对应。  搭载 Top-hat Beam，确保界面内温度的均一性。  通过温度模拟技术，优化退火条件。  各种监控机能完备（氧气浓度，Beam 形状等）

1、微米级局域激光退火系统产品简介微米级局域激光退火系统可定向修饰量子比特的频率参数 ，提高量子芯片的良品率，解决多比特扩展中比特频率拥挤的问题。该系统可配置高真空退火腔体和惰性气体退火腔体，实现量子芯片的真空局域退火和惰性气体氛围退火功能。该系统亦可适用于半导体芯片、材料表面改性处理等领域。 2、微米级局域激光退火系统产品特点比特频率修饰准确性超过99%（300个比特样品） 激光功率0~2.5W可调，功率稳定性RMS优于0.5%（10h内） 退火目标区域定位精度达百纳米级 系统全自动化控制，可多点一键退火，人机交互便捷 微米级光斑，激光光斑形状尺寸可定制3、微米级局域激光退火系统产品参数退火重复性：常温电阻修饰准确性超过 99%（300 个比 特退火比例标准差）激光波长：532 nm 激光输出功率：支持可变功率 0-2.5W，最小调节单位 0.01W 功率稳定性：激光功率稳定性 RMS 0.5% （10h 内） 激光光斑：直径 20μm±2μm（有效退火范围），支持 定制形状尺寸 退火时间控制：最短退火时间 40ms 可处理芯片尺寸：2inch（其他规格形状可定制） 芯片定位精度：±0.25μm （X/Y 方向）

退火和淬火炉T max 1300℃· 坚固的内腔特别为热处理应用设计, 如对金属进行热处理· 双层箱体结构且背部通风，炉外表面温度低· 炉壳和炉门边采用不锈钢材质· 平行导向门,可避免操作者与高温面接触, 方便在高温状态下打开· 标准配置包括炉底座(KM 50/13-KM 90/13)· 炉腔采用多层耐火砖结构和特殊绝热设计, 低热损失, 低能耗· 三面加热(左, 右和底部), 内腔温度分布均匀· 加热元件安装在陶瓷管上，腔内自由辐射加热(KM 50/13-KM 90/13)· 底部加热元件被碳硅板覆盖，机械强度高，热传导效果好· 后墙设有排气口附件工具Thermconcept专为退火炉提供丰富的配件, 用于保护气气氛下的退火和硬化及空气气氛下的淬火处理淬火和退火盒· 保护气氛下硬化处理, 最高温度1300℃· 适合处理高速钢和高铬合金钢· 多用途淬火和退火盒, 用于保护气氛· 可消除工件的氧化或脱碳· 操作容易, 效率高· 适用于所有的箱式炉退火罩· 用于保护气氛下硬化和冷却, 最高温度1200℃· 可用于非氧化退火然后淬火处理· 保护气氛也可以是合成气体, 氮气和其它气氛(如氩气和氦气)· 体积小巧, 节省保护气氛· 可选配控制器, 精确测量退火罩内温度硬化盒系统· 用于硬化、碳化和氮化, 最高温度1100℃· 硬化盒可用于所有退火和淬火炉· 可选配保护气气氛下的退火空气气氛下淬火处理· 操作容易, 过程可靠附件和工具· 淬火箔和硬化盒, 用于无氧化钢退火和淬火，最高温度1200℃· 硬化油, 用于温度在50-150℃· 用于清洁, 去油和防腐蚀的工具· 颗粒渗碳剂，氮化粉和退火化合物· 保护气氛蒸馏瓶和硬化盒· 装料装置· 耐热手套· 装卸料工具如铲子, 拉钩, 装料盘· 硬度检测工具 德国Thermconcept公司总部设在德国不莱梅, 拥有丰富的研发、设计和生产的各种马弗炉和加热炉系统的经验，加热炉的温度范围从50℃到2000℃，能够满足绝大多数用户的应用需求。Thermconcept马弗炉和加热炉能够在全世界范围满足客户的需求, 原因是： 技术先进Thermconcept马弗炉和加热炉由世界知名供应商提供的最好材料制成。因而能够保证*实验效果、运行可靠以及长使用寿命。 实用设计Thermconcept马弗炉和加热炉设计和生产均严格遵循国际标准, 我们的目标是提供技术先进的和高性价比的产品。 定制解决方案Thermconcept提供定制实用可靠的加热炉服务，满足您具体的应用需求。 专业服务Thermconcept专业的技术人员会为您提供全方位的专业服务。Themconcept马弗炉和加热炉将会是您实验室的可靠伙伴！ 更多产品请登陆德祥官网：德祥热线：联系我们(终端用户)联系我们(经销商)邮箱：

仪器简介：ANS-800系列退火点和应变点测定仪为用户提供了按照ASTM C-336标准或者用户按照ASTM C-336修改的测试程序进行测试，通过Orton提供的专门软件，用户选择合适的操作模式、输入相关的信息，Orton软件完成余下的工作，Orton软件按照用户选择的模式控制加热速度、数据采集以及数据分析。玻璃的退火点和应变点是生产过程中广泛使用的控制参数；退火点和应变点温度发生变化，说明玻璃的化学成份发生变化了。按照标准方法ASTM C-336中定义：退火点温度是单一的玻璃纤维(直径0.65mm)在一定的重量的作用下，炉子以4℃/分钟的速度降温，玻璃纤维伸长速度达到0.14mm/分钟时的温度就是玻璃的退火点温度；应变点温度是退火点外推，伸长速度为退火点的伸长速度的0.0316倍的温度点极为应变点。这个测试是在Orton制造的LVDT延伸仪上完成，ANS-800系列可以自动跟踪监测测试样品纤维的伸长以及按照ASTM C-336标准方法计算相应的退火点和应变点。技术参数：1. 最高温度800℃和1000℃；2. 满足ASTM C336标准方法；3. 温度控制：PID控制，自动控制；4. 激光自动监控，软件自动计算退火点和应变点。主要特点：简单：操作者只需经过简单培训即可，将玻璃纤维拉伸到ASTM C-336标准方法要求的尺寸后，操作者将玻璃纤维放置到炉子中，加上砝码，点击计算机屏幕上的“START”按钮，操作者即可离开测试仪器，做其他的工作。快速：在20分钟时间内，退火点和应变点温度显示在计算机的屏幕上。准确、可靠以及重复性好：LVDT系统能自动监控玻璃纤维的伸长，计算机能自动计算玻璃纤维的伸长速度，计算机便自动计算退火点以及应变点温度。彻底消除不同操作人员之间的误差、偏差，对于玻璃纤维样品来说，误差为±1℃。灵活：用户可以完全按照ASTM C-336的操作程序进行操作，或者可以改变升温速度，提高样品退火点以及应变点的测试速度；功能强大：数据采集软件实时显示测试结果以及测试进行过程中的测试条件；数据统计软件则显示不同样品的测试结果，产生一个报告，并可以自动计算一系列纤维样品的平均 退火点和应变点温度。

感应退火是一种快速, 高效, 精确, 可重复, 非接触的加热过程, 适用于金属和其他电传导材质Ambrell 感应设备可以精确的加热局部, 不影响整体的特性Ambrell 感应退火应用:1. 退火不锈钢管2. 将铜管退火, 制成管材和管材3. 退火不锈钢手柄4. 退火铜线接头Ambrell EASYHEAT 感应加热系统可以提高您的产能. 我们有各种功率满足您的需求.为什么选择 Ambrell 感应加热系统1. 提供直接, 精确的加热: 精确的热模式, 加热时毗邻的材料不受影响2. 快速加热: 与烤箱和火柜对比, 加热更迅速3. 能源效率: 大部分消耗的能量转化成有用的加热 没有热机或者冷却循环,消除了待机的热损失4. 清洁无焰: 更安全,可重复加热Ambrell EASYHEAT 感应加热系统技术参数:型号EASYHEAT 0112EASYHEAT 0224EASYHEAT LI 3542EASYHEAT LI 5060EASYHEAT LI 7590EASYHEAT LI 8310最大功率1.2 kW2.4 kW4.2 kW6.0 kW9.0 kW10.0 kW频率150-400 kHz150-400 kHz150-400 kHz150-400 kHz150-400 kHz150-400 kHzLine Voltage105-129/ 198-250, 1 ph198-250 1 ph187-264/ 370-520, 3p187-264/ 370-520, 3p187-264/ 370-520, 3p187-264/ 370-520, 3pInput Max1.6 kVA3.3 kVA5.2 kVA7.4 kVA11.2 kVA12.4 kVA美国 inTEST 旗下 Ambrell 感应加热设备制造商, 成立于1986年, 为全球超过50个国家累计提供 12,000 台高质量, 高可靠性的感应加热系统. Ambrell 感应加热广泛应用于钎焊, 锻造, 热处理, 熔炼, 金属与塑料结合等行业. Ambrell 感应设备提供节能, 非接触式加热, 有效提高工业加热过程的效率. 上海伯东是美国 Ambrell 感应加热设备中国总代理.上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品简介：GSL-1100X-MGI-16是一款16通道管式炉，针对于高通量样品烧结，退火和淬火使用，其最高温度可达1100℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管都是采用真空法兰密封可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。产品型号GSL-1100X-MGI-16 1100℃ 16通道管式炉（高通量退火&淬火）炉 主要特点管式炉共有16个通道，其炉管尺寸25 OD x 20 ID x 200 L mm 每个加热模块都有独立的温控系统控制，最高温度可加热到1100℃KF25的快接法兰安装在每根石英管上，可使样品在真空或气氛保护环境下进行热处理加热模块有两种工作位置，水平位置用于样品烧结，垂直位置用于样品淬火。炉体可以由水平位置旋转到垂直位置，可以用于金属样品浇注等实验 技术参数1.工作温度：连续工作温度1000℃，最高工作温度：1100℃( 1小时)2.恒温区长度：30mm(温度均匀性+/- 1℃)60mm(温度均匀性+/- 5℃)3.最大升温速率：10 ℃/ min4.控温精度：+/- 1℃,K型热偶（共16根）伸入到每根炉管内部，以达到准确的温度测量和控制 5.炉管：16根，尺寸：25 OD x 20 ID x 200 L mm6.最大可放入样品量：每个通道最大可放入样品量100g7.最大功率13KW，电压：208 - 240V单相, 50/60Hz8.温控系统：16通道有独立的温控系统，所有温度设置都集中在6英寸触摸屏上操作；采用PID方式调节温度，可设置30段升 降温程序带有超温和断偶程序保护 9.真空法兰：KF25快接法兰，上面安装有机械压力表 10.产品尺寸：2350mm L x 690mm W x 1860mm H，900mm L x 660mm W x 1340mm H11.淬火功能加热模块有两种工作位置，水平位置用于样品烧结，垂直位置用于样品淬火 真空泵（可选）可在本公司选购各种真空泵质量认证CE认证所有电器元件（输入电压24V）都通过了UL/MET/CSA认证质保一年质保期，终生维护（不包含炉管、加热元件和密封圈）注意事项炉管内气压不可高于0.02MPa由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击石英管的长时间使用温度＜1100℃对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN） 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。 特点：高活化率表面粗糙程度最小温度最高达 1850°C批量规模高达 50硅片（150mm）加热率最高达 150 K/min通过SiH4可实现硅“过压 Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属 CLV200 小批晕生产用垂直炉管I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产 centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计， zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。cent rot herm 的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。 常压工艺退火氧化扩散LPCVD PECVD Zui高温度可达 11 00° C净化间占用面积小 [1.6 m叮售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批最高可处理 50 片晶圆售 全自动 cassette -to-cassette 传片

产品介绍： 名称：马弗炉/退火和淬火炉型号： N 7/H - N 87/H产地：德国特点：立式箱式炉，炉腔7-87升，最高温1280℃，三面加热 仪器简介： 为适应实验室苛刻的工作环境，如对金属进行热处理时，窑炉必须采用坚固的轻质耐火砖保温结构。炉型N 7/H - N 87/H正是解决该类问题的最佳方案。窑炉可以加配各种配件，如针对保护气加工处理的退火盒、辊道或带淬火槽的冷却站。从而，即便是最苛刻的应用情况如医药领域内的钛不完全退火也可轻松实现，同时无需使用其它昂贵复杂的退火设备。技术参数： 型号最高温度°C内尺寸mm容积 升外尺寸mm连接功率 千瓦 电气连接*重量公斤分钟至最高温度宽深高宽深高N 7/H 128025025012077206405103,0 1相60180N 11/H 1280250350140117207405103,6 1相70180N 11/HR 1280250350140117207405105,5 3相1 70120N 17/HR 1280250500140177208905106,4 &, lt , /P3相1 90120N 31/H 1280350350250318401010132015,0 3相210105N 41/H 1280350500250418401160132015,0 3相260120N 61/H 1280350750250618401410132020,0 3相400120主要特点： 最高温度1280 °C 三面加热（两侧和底部） 安装在支承管上的加热元件自由辐射热量，使用寿命长久 底部加热受SiC抗热板保护 炉腔具备优质的多层轻质耐火砖保温结构 炉侧设有排气口，自N 31/H起位于炉后壁 N 7/H - N 17/HR采用台式构造 自N 31/H起配备支架 平行导向门向下开启（也可根据需要向上打开） 手动和自动配气系统 针对各类控制器的说明参见“测量和调节技术”更多产品详细信息，请登录安赛斯（中国）有限公司官网。如需选型，请直接联系安赛斯（中国）有限公司工作人员。

1. 产品概述半导体激光退火机是用于半导体制造过程中的一种设备。退火是一种热处理过程，通过加热半导体材料来改变其性质，以实现所需的特性，如电导率、晶体结构和应力缓解。半导体激光退火机利用高能激光束来对半导体基片进行精确和控制的加热和修改。2. 设备特点应用范围：对重掺杂碳化硅（SiC）表面沉积的过渡金属进行退火，形成良好的欧姆接触加工尺寸：4inch、6inch加工速度：1000mm/s加工精度：±1μm平台参数：行程300mm×300mm重复定位精度：±0.001mm激光器参数:紫外稼动率:98%以上重大故障间隙时间:＞1000H良率:≥99.5%

仪器简介：为适应实验室苛刻的工作环境，如对金属进行热处理时，电炉必须采用坚固的轻质耐火砖保温结构。炉型N 7/H - N 87/H正是解决该类问题的最 佳方案。可以给这些电炉加配各种配件，如针对保护气加工处理的退火盒、辊道或带淬火槽的冷却站。从而，即便是最苛刻的应用情况如医药领域内的钛不完全退火也可轻松实现，同时无需使用其它昂贵复杂的退火设备。技术参数：型号最高温度° C内尺寸mm容积 升外尺寸mm连接功率 千瓦 电气连接*重量公斤分钟至最高温度宽深高宽深高N 7/H 128025025012097206405103,0 1相60180N 11/H 1280250350140117207405103,5 1相70180N 11/HR 1280250350140117207405105,5 3相1 70120N 17/HR 1280250500140177208905106,4 3相1 90120N 31/H 1280350350250318401010132015,0 3相210105N 41/H 1280350500250418401160132015,0 3相260120N 61/H 1280350750250618401410132020,0 3相400120主要特点：最高温度1280 ° C 炉膛很深，带有三面加热（两侧和底部）功能安装在支承管上的加热元件自由辐射热量，使用寿命长久 底部加热受SiC抗热板保护 多层保温结构降低能耗炉侧设有排气口，自N 31/H型箱式炉起位于炉后壁 N 7/H - N 17/HR采用台式构造 自N 31/H起配备底部支架 平行导向门向下开启（防止炉门热辐射） 气压弹簧减震器方便炉门开关。

设备简介：①　ZC高温箱式炉系列引进国内外先进技术、自主研发生产节能、环保型的高温电加热炉，外形美观、结构合理、操作简单等。集控制系统与炉膛于一体设计。采用双层炉壳结构，双层炉壳配有风冷循环系统，在正常使用范围内可使炉体外壁表面温度不过高。②　炉膛采用多层进口高温纤维保温材质，内衬采用氧化铝纤维板材隔热材料，也可以采用耐磨轻质耐火砖为隔热材料。氧化铝纤维板材隔板材料的炉子使用温度高，热质量小，急冷急热性强，耐腐蚀性好，不裂缝、不结晶、不掉渣、无污染，使用寿命长，保温性能好可以达到较短的加热时间（节能效果是老式电炉65%以上）。③　控制系统配有微电脑智能温度温控仪，控温精度高±1度，升温速率快，高节能，高稳定，操作简单，控制主电源，加热运行/停止，可编多程程序曲线、PID微处理、全自动控制、自动升温/恒温/降温程序，另可配我司自主研发计算机通讯或触摸屏通讯控制，实现多台或者单台（电炉启动、停止，设定控温程序、历史曲线、数据报表等）监控操作功能已满足绝大部分客户需求。④　温控保护系统是采用温度/时间功能显示，超温报警，正负偏差报警，超电流、超电压及断偶报警等保护，并采用双回路可控硅对加热元件进行整流器控制，用于对炉子和产品进行保护。⑤　采用硅钼棒、硅碳棒、电阻丝为发热元件；经过客户实验和生产的反馈严格检验。应用领域有实验室和牙科、3D打印材料、冶金、陶艺、陶瓷、电子、玻璃、熔化、化工、机械、建材、光电技术、金属、非金属和塑料热处理及表面处理技术、铸造，耐火材料、新材料及特种材料等领域的开发、检测、分析、烧结、融化、生产，并适用于各种生产企业及研发实验机构工艺的理想高温实验和高温生产及高温检测专用设备。 山东中辰电炉有限公司集专业电炉设计、开发、研制，生产工艺先进，生产设备齐全，管理制度完善，检测体系优良，产品质量稳定，技术服务到位，结合新企业新颖实用的设计理念，坚实技术、产品出色的设计、高超的品质和具有诱惑力的价格而闻名。公司经过客户实验和生产的反馈严格检验。应用领域有实验室和牙科、冶金、陶艺、陶瓷、电子、玻璃、熔化、化工、机械、建材、航天航空、光电技术、金属和塑料热处理及表面处理技术、铸造，耐火材料、新材料开发、特种材料、大专院校、中科院、研究院等领域的开发、适用于各种生产企业及研发实验机构工艺的理想高温实验和高温生产及高温检测专用电炉设备。专业从事主要产品：高温炉、高温电炉、实验炉、高温工业电窑炉、箱式炉、马弗炉、电阻炉、电加热炉、预热炉、灰化炉、管式炉、空气循环炉、退火炉、回转炉、立式炉、立式电炉、井式炉、熔块炉、台车炉、卧式炉、烤瓷炉、牙科炉、钼棒炉、碳棒炉、节能炉、陶瓷炉、干燥箱、纳米炉、物理化学实验电炉、热压炉、热震炉、ITO靶材炉、MIM金属烧结炉、真空炉、气氛炉、真空气氛炉、罐式炉、钟罩炉、升降炉、氟化物烧结炉、工业炉、网带炉、推板窑等小型炉系列产品各种不同尺寸、型号种类繁多的标准窑炉电炉及特殊订制电炉用于各种不同研发、加工等领域。公司拥有完整、科学的质量管理体系，标准化的生产制造车间，是国内具有影响力的高温实验电炉、高温工业电炉窑炉生产制造商，产品远销海外并获得客户的好评，分布在全国20几个省、市、自治区、特区，国家重点大专院校、国家重点实验室，高等研究院所，俄罗斯、韩国、英国、德国、非洲、新加坡、越南等多个国家和地区。并联合多所重点科研院校共同建立了多个技术研发项目，为每一位客户提供高技术含量的产品解决方案和服务！优质的质量和服务是企业常青成长的根基。公司一直践行“以诚待人，信誉至上，质量第一，科技创新，精诚合作，共创辉煌，追求卓越，恪守匠心”八大方针的创新发展经营理念和宗旨，真诚与您合作。我们坚持不断完善服务效能努力提升产品质量，以卓越的节能产品助推人与自然和谐发展，企业资信“AAA”级重合同守信用单位，连续被授予明星企业，为客户创造更多的价值，追求以客户满意为中心，满足并超越用户期望，恪守打造匠心产品。

1. 产品概述Pallas A220 碳化硅快速热退火系统，加热分区设计，具备良好的温度均匀性，高精度的控温模式，更优的升温速率。2. 设备用途/原理Pallas A220 碳化硅快速热退火系统，加热分区设计，具备良好的温度均匀性，高精度的控温模式，更优的升温速率。3. 设备特点晶圆尺寸 6/8 英寸兼容，适用工艺 快速热退火。适用域 科研、化合物半导体。

1. 产品概述PFS系列是SiC工艺等高温处理工艺中，配合使用的退火设备。可大对应φ 150mm。2. 设备用途/原理SiC功率器件用。研究开发。量产用。3. 设备特点 大可对应φ150mm基板。大可加热2000℃。高真空对应。单批次25片一次性处理（也有5片处理机）

Ta玻璃退火点应变点测量仪退火是一种热处理过程，可使玻璃中存在的热应力尽可能消除或减小至允许值。除玻璃纤维和薄壁小型空心制品外，几乎所有玻璃制品都需要进行退火。退火点温度是均匀的玻璃纤维(直径0.65mm)在一定的重量的作用下，炉子以4℃/分钟的速度降温，玻璃纤维伸长速度达到0.14mm/分钟时的温度就是玻璃的退火点温度；应变点温度是退火点外推，伸长速度为退火点的伸长速度的0.0316倍的温度点即为应变点。该仪器采用拉丝法测试玻璃的退火点和应变点，参考标准ASTM C336，SJT11039-1996电子玻璃退火点和应变点测试方法，JC/T752-1996石英玻璃退火点测试方法；主要参数：1、使用温度：1000℃2、数显温度分辨力：0.1℃3、精度：小于1%4、升温速率：可控制在5±1℃/分；PID控制，自动控制；

1. 产品概述Sitara TA230A 12英寸单片快速热退火系统，适用于 260-1200℃快速热处理工艺。2. 设备用途/原理Sitara TA230A 12英寸单片快速热退火系统，适用于 260-1200℃快速热处理工艺，高精度温度控制，提供优异工艺，低成本，高产能。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸，适用工艺 快速热退火、快速热氧化、金属硅化。适用域 科研、集成电路。

一、设备简介青岛晨立电子有限公司生产的非晶带材连续式退火炉由：进端工作台、出端工作台、加磁器、设备主体、进出料通道、主工作通道、冷却通道、加热器和外饰护板的组成。 二、设备用途为了满足不同用户对各种连续式退火炉的不同需求，本公司推出了CLTH-4型非晶带材连续式退火炉，在不同压力条件下能够实现快速、缓慢冷却，达到各种热处理工艺，对非晶原件、非晶磁粉芯、纳米晶及非晶铁芯在不同磁场要求下达到其特有的性能。 三、设备主要技术指标1、 温度范围：300∽1060℃2、 工作温度：±1℃3、 控制精度：±0.5℃4、 控制段数：3段加热，1段冷却5、 加热器：采用直径为6mm的优质电阻丝，保证加热器寿命6、 铜棒：采用直径为30mm的铜棒，处理好接口和材质的关系7、 冷却方式：第一温区气冷，第二温区气冷和水包两种方式，保证冷却段温度始终保持一致8、 磁场强度：30 oe，纵瓷要闭环自动调节（内部配有手动调节旋钮）9、 安全连锁保护：超温、断偶、断磁及压力异常保护报警10、 设备冷却：有冷水机配有纵向缠绕的铜管给予冷却

仪器简介：淬火和退火盒 带或不带保护气接口的淬火和退火盒可以根据需要进行专门制造，用于冷抽真空处理如小件或散 件退火，最高温度1100 ° C

仪器简介：带柄退火罩 带柄退火罩带保护气接口，用于保护气气氛下的退火和硬化及空气气氛下的淬火处理，适于炉型 N 7/H至N 61/H

高压氧气氛退火炉 产品简介德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉温度可达850°C，压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理。也可用于含氧晶体的高温退火处理。炉体直径15mm，长度200mm，温度均匀。温度、压力可定制更高。应用领域可用于高压晶体生长的料棒前处理。也可用于含氧晶体的高温退火处理。应用案例高压氧气氛退火装置在钙钛矿化合物Nd1-xSrxNiO3材料制备中的应用进展由于平面四边形配位的低价镍氧化物具有跟铜酸盐超导体类似的电子数和轨道杂化特点，因此，自铜氧化物中发现超导电性以来，低价镍氧化物也一直是广大研究人员的研究热点材料之一。尤其，2019年科学家在SrTiO3衬底上生长的Nd1-xSrxNiO2薄膜中观察到了高达15 K的超导电性，这一报道再次引发了人们对无限层RNiO2（R=Nd，La）化合物的兴趣。优质RNiO2相样品的获得对于从实验上研究其物理机理是至关重要的前提条件。目前已报道的RNiO2相的制备方法是通过向Nd1-xSrxNiO3中加入还原剂进而还原得到Nd1-xSrxNiO2。然而，从NiO中得到Nd1-xSrxNiO3相需要将Ni2+提升至Ni3+x，因此其制备过程中必须要采用高压氧气氛。近期，美国阿贡实验室Bi-Xia Wang等人采用溶胶-凝胶和高压退火结合技术合成了钙钛矿化合物Nd1-xSrxNiO3 (x = 0, 0.1 and 0.2)，文献中所使用的高压退火工艺条件为：烧结温度1000°C， 氧压150-160bar。相关成果已发表在Phys. Rev. Materials（DOI: 10.1103/physrevmaterials.4.084409）。在该项研究中，作者使用的高压退火装置即为德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉，该设备可实现1100°C高温，160bar高压，也可根据用户需求定制更高的温度和压力。同时，该设备也具备多种安全防护机制，可有效保证设备安全运行，是高压晶体生长的料棒前处理和含氧晶体高温退火处理的利器。 德国SciDre 高压氧气氛退火炉装置 参考文献Bi-Xia Wang, Hong Zheng, E. Krivyakina, O. Chmaissem, Pietro Papa Lopes, J. W. Lynn, Leighanne C. Gallington, Y. Ren, S. Rosenkranz, J. F. Mitchell, and D. Phelan, Phys. Rev. Materials, 4, 084409 – Published 21 August 2020.更多应用案例，请您致电 010-85120277/78/79/80 或 写信至 info@qd-china.com 获取。发表文章1. (2020)Synthesis and characterization of bulk Nd1-xSrxNiO2 and Nd1-xSrxNiO3 . Phys. Rev. Materials, 4, 084409 – Published 21 August 2020.用户单位美国阿贡实验室

产品应用：该电炉采用红外灯管加热，通过滑动炉体实现快速降温。应用于半导体或太阳能电池基片退火。也可用于快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、硅化物合金退火、电极合金化、氧化物生长、离子注入后退火、薄膜沉积等工艺试验 产品特点：可在真空/气氛/空气等不同环境下通过快速移动炉体，加之强风冷设计，可对样品进行快速升降温处理；管内测温设计，温控精度高,*大升温速率50℃/s 紧凑的台式设计，快速连接法兰，减少了炉管因安装造成损坏的可能，方便操作。产品名称RTP-小型快速退火炉产品型号RTP-G11103-K额定功率9KW额定电压220AC 50/60Hz*高温度1000°C 连续工作950°C(1 小时)加热区长度300mm恒温区长度100mm加热元件红外灯管温度控制国产程序控温系统可编程50段程序控温；控制精度±1℃石英管尺寸Φ110*380MM炉管材质石英管滑动距离355mm滑动方式手动滑动建议升温速度室温900℃：30℃/sec900℃~1000℃： 10℃/sec外形尺寸950 X 350 X 530 mm 重量45Kg标准配置气路总成一套（含真空压力表）石英管一支、高温手套一副。76MM的样品石英架一个。

台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理，也可用于其他有高精度热处理要求的方向。Moorfield Nanotechnology将样品、衬底等材料的热处理上升到与纳米材料的制备同样的技术高度。通过的真空度与气氛控制以及高精度的温度控制使样品的热处理过程变得和样品的制备过程一样高度可控。西班牙光子科学研究所、英国物理实验室、曼彻斯特大学等用户对该设备的性能都给与了高度的评价。ANNEAL有强大的真空、气氛控自动制系统，从高真空到各种气氛都可以高精度自动控制。ANNEAL可实现Ar, O2, N2，H2等多种气体高精度的流量控制。ANNEAL有多种加热方案满足对不同温度的需求。完备的安全设计方案与特的尾气稀释方案可以确保即使是在氢气气氛下退火也可以轻松掌控。系统配备的触屏式自动控制系统满足退火程序的设定与存储。加热方式：石英灯：温度高600℃，可兼容4英寸、6英寸样品台，可兼容多数气氛。CCC碳化物：500℃以上需求的常选方案，温度可达1000℃，适用于非氧气环境。SiC保护的碳材料：兼容氧气氛围与多数气体氛围的增强型加热材料。主要特点：◎ 高精度气氛自动控制◎ 4英寸、6英寸样品台◎ 高1000℃的加热温度◎ 本底真空5×10-7 mbar◎ 简单快速取样◎ 设定、保存多个热处理程序◎ 完备的安全性设计◎ 易于维护◎ 兼容超净室◎ 稳定的性能表现系统选件：◎ 4英寸、6英寸样品台◎ 石英灯加热系统◎ 电阻式加热系统◎ 流量计控制◎ 分子泵、机械泵真空系统◎ 气压全自动控制系统

AS-One系统有两种型号： AS-One 100 系统或AS-One 150 系统该快速退火炉是专门为满足大学、研究实验室和小规模生产的需求而研制的，高可靠且性价比高。该工艺室采用贝壳式设计，可完全进入底板，方便装载和卸载基板，并允许实际清洁腔体快速数字PID温度控制器在整个温度范围内提供精确和可重复的热控制。特征：基本尺寸：Up to 直径100 mm (4-inch) for AS-One 100 Up to 直径150 mm (6-inch) for AS-One 150 Small substrates using susceptors工艺腔体运用不锈钢冷腔室壁技术温度范围标准配置：最高达到1250°C高温配置：最高达到1450°C温度控制标准配置：热电偶和高温计用来测量温度快速数字PID温度控制器在可获得精确的和可重复的热控制真空和气体最多可达5路带MFC的工艺气体，一路清洁气体电脑控制全PC电脑控制，每个配方最多100步骤全数据记录与处理历史的人机界面设计选项：石墨托盘/碳化硅涂层托盘/粗真空泵和涡轮泵/快速冷却系统/其他套件应用： ● 快速热退火 ● 快速热氧化 ● 扩散/接触时退火 ● 化合物退火 ● 结晶或致密化我公司专业销售Annealsys产品，并提供Annealsys产品的售前售后服务，如您对Annealsys产品感兴趣，欢迎前来咨询！

红外退火炉采用红外辐射加热技术同时搭配高精度温度控制系统，极大程度上改善了电阻式加热的弊病，同时可实现样品快速升温和退火。可广泛应用于强诱导体薄膜的结晶化退火、注入离子后的扩散退火、半导体材料的烧成与退火条件研究、快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)、电极合金化、碳纳米管等外延生长、单晶基板热处理等功能中，对新材料相关的RTP研究工作起到重要作用。型号红外退火炉IRLA-1200快速退火炉LRTP-1200石墨烯退火炉GRTP-1200产品图片 温度范围RT-1150℃RT-1200℃控温精度±0.1℃≤0.1℃±0.1℃最大升温速率45℃/s (真空) 40℃/s (氮气)100℃/s（真空，惰性气体）45℃/s (真空) 40℃/s (氮气)最快降温速度200℃/min(1000℃--400℃)，降到室温20min左右腔体冷却水冷方式、独立冷却源寸底冷却自然冷却氮气吹扫自然冷却测试气氛真空及氩气、氮气等惰性气体样品大小20 x 20 x 2，单位mm（最大）4英寸30 x 30x 4,单位mm处理材料类型薄膜、粉体、块体、液体温度传感器石墨烯定制版热电偶石墨烯定制版热电偶石墨烯定制版热电偶额定功率4x(1KW-110V/根）18x(1KW-110V/根）4x(1KW-110V/根）温度程序模式温度-时间设置，最高256步，32个程序，循环、保温等功能模糊PID逻辑控温，手动/自动开始，USB485连接工艺气路MFC控制，1路(惰性气体)MFC控制，最多4路(可选氮气、氩气、氧气、氢氮混合气)4路(可选氮气、氩气等)外观尺寸420X320X220，单位mm450×625×535，单位mm420X220X320,单位mm质量20.5kg--20.5kg 应用案例：●快速热处理，快速退火，快速热氧化，快速热氮化 ●强诱导体薄膜的结晶化退火 ●注入离子后的扩散退火 ● SiAu, SiAl, SiMo合金化 ●太阳能电池片键合 ●半导体材料的烧成与退火条件研究 ●低介电材料热处 ●晶体化，致密化 ●电极合金化 ●晶向化和坚化 ●石墨烯等气相沉积 ●碳纳米管等外延生长 ●单晶基板热处理 ●去除有机残留和光刻胶残留，降低残余应力 ●电阻烧结

1.产品概述：Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系统具有与 LSA101 相同的架构，但包括获得利的微室设计，可在扫描激光系统中实现全晶圆环境控制。该微室的独特之处在于它不需要使用真空负载锁。该系统能够运行任何惰性气体的混合物，包括合成气体。LSA201 适用于高 k 金属栅结活化和镍硅化物形成等应用。LSA201 非常适合 20nm 以下的工艺，例如环境控制至关重要的界面工程和材料改性。2.产品特点长波长、布鲁斯特角、p 偏振光，可实现佳的芯片内均匀性闭环温度反馈控制，保持严格的温度控制布局独立设计，非常适合处理平面和 FinFET 器件具有灵活停留时间的局部应力场可实现低应力处理并减少晶圆破损。

Sekvent B06F 模拟系统中配有灵敏的气体流量传感装置，全自动的计量及运算方式使得研究人员可以获得准确的实验数据，使得大部分因手动操作和人工计算导致的误差被降到最低；方便不同行业和不同地区的工程技术及科研人员进行工程模拟数据的分享和对比，更好更快的发现工程运行的症结，优化解决方案；同时，该系统能够最大限度的减少人工操作，更加高效进行模拟试验。数据精准&标准化系统配有实时温度、大气压力检测装置，可将测定的气体流量数据实时校正为标况下（0℃，1atm）干燥气体体积，尽可能缩小由环境变化造成的数据不准确。气体流量的实时校正系统为研究人员提供了更高质量的数据保障，为动力学参数的确定及连续运行过程模拟的模型建立提供有效的数据支撑。模块化设计便于不同的实验组合支持手动/自动进料，同时支持单一/多元物料混合进料，可以较好的实现低固体浓度物料的稳定进料和运行；而且每组发酵单元都可以彼此独立运行。2L套件或5~10升CSTR反应器套件，以及20L的EGSB及IC有机废水高效反应器，都可以自由组合。高度的灵活性可满足多种模拟研究的需求。软件界面Sekvent软件界面简明且直观，操作简便；您可在页面设置里输入样品质量、底物挥发性固体（VS）或化学需氧量（COD）、有效容积、进料时间和间隔等参数，数据将被实时储存，并自动计算出每个发酵单元所需的底物和接种物的量，同时系统将会为您自动记录实验情况，生成系统报告，方便您对系统运行的管理。实验结果可直接导出EXCEL数据进行编辑，清楚的评估在不同有机负荷率（OLR）和水力停留时间（HRT）下，模拟实际生产的COD/VS的去除效果和产气性能。在保证有机物去除效率和系统稳定运行的前提下提高有机负荷，降低水力停留时间，实现经济效益最大化。云存储(拓展功能)系统可利用基于WEB 的移动端云存储技术研究，方便在任何地方， 使用联网的终端设备， 按照标准的公用应用接口来登录云存储平台。独立运行的云存储服务器保护了用户数据安全，同时避免了由于编辑大量数据造成的计算机运行不稳定甚至数据丢失的情况，最大程度上提高实验的高效性。无论您在家或是出差途中，无论您使用电脑还是手机，都无需进行任何软件安装。可随时随地查询实时运行曲线和数据，方便您校核实验方案，实时监测实验运行情况，优化工艺参数，并可记录完整的实验数据。厌氧反应单元反应器最佳组合3种可选：CSTR-5G/ CSTR-10S/ CSTR-5S反应器类型：连续搅拌釜式反应器工作体积：5L/10L 反应器材料：高硼硅玻璃/不锈钢（AISI 316）混合方式：机械搅拌，可调控搅拌速度、方向和周期，最大转速达300rpm 温度控制方式：外部循环水浴（可单独出售）室内使用发酵瓶工作体积：2L反应器材料：玻璃水浴箱尺寸：53×33×24cm水温控制：≤95℃（203°F，精确度：±0.2℃）混合方式：机械搅拌，可控搅拌速率、方向和周期，最大转速200rpm 气体流量及DAQ单元原理：气液置换和浮力控制法6组微量气体流量采集可同时运行支持多达 12 通道模拟信号采集：6通道4-20 mA电流无源信号输入，6通道4-20 mA电流有源信号输入USB 3.0 接口内置温度及压力传感器嵌入式处理器完成全自动数据采集及分析测量分辨率：1.8 mL (标准配置) 检测容量: 单组标准配置通道(1.8mL分辨率)累计产气测量上限达85L规格尺寸：46 × 18 × 33 cm材料：工程塑料、铝合金重复性精度：±1% 软件&系统连续实验专业软件通过内置嵌入式芯片运行基于Linux的应用在线监测气体流量及累积体积实时在线压力和温度标准化校正功能多路复用技术支持不同启动时间独立运行批式实验为用户实验设计提供友好的界面指导实时信号和历史数据显示提供实时系统诊断日志供电：24 V DC / 3A (厌氧反应单元: 机械搅拌) 12 V DC / 3A (气体流量及DAQ单元)使用环境：室内

RTP快速退火炉是一种先进的半导体材料处理设备，其核心功能是通过快速加热和冷却的方式对材料进行高温处理。以下是关于RTP快速退火炉的详细产品介绍： 工作原理RTP快速退火炉的工作原理基于高温加热和快速冷却的过程。首先，将待处理的材料放置在炉腔中，并通过加热元件（如电阻丝、电热棒等）迅速将材料加热至设定的温度范围，通常为400~1300℃。在加热过程中，炉腔内的温度会被精确控制在恒定的数值范围内，以确保材料能够达到所需的退火温度。随后，通过冷却介质（如氮气、水等）将炉腔内的温度迅速降低至室温，从而避免材料再次发生晶粒长大和相变。 主要特点1. **快速加热和冷却**：RTP快速退火炉能够在极短的时间内完成加热和冷却过程，显著提高生产效率。2. **高温精度**：该设备具有高精度的温度控制系统，能够精确控制样品的温度，实现高质量的热处理。3. **均匀加热**：RTP快速退火炉采用先进的加热技术，确保样品在炉腔内均匀受热，避免温度不均匀导致的材料性能不一致。4. **多功能性**：该设备适用于各种材料的处理，包括硅、氮化物、氧化物等，满足不同工艺需求。5. **节能环保**：RTP快速退火炉通常采用节能设计，具有较低的能耗和环保性能。 应用领域RTP快速退火炉广泛应用于半导体制造、电子、光电、材料科学等领域。具体应用场景包括：* MOS器件的源、漏、栅接触改性* 电阻器、电容器的结构、电性能改良* 掺杂、扩散等工艺步骤的快速实现* 低介电常数介质材料的退火等 选择建议在选择RTP快速退火炉时，需要考虑以下因素：1. **温度范围和控制精度**：根据工艺需求确定所需的最高温度和温度控制精度。2. **加热速率和冷却速率**：考虑加热和冷却速率是否满足工艺要求，以确保快速热处理的实现。3. **样品尺寸和数量**：根据样品尺寸和数量选择适合的炉腔尺寸和容量。4. **控制系统和软件**：选择具有稳定可靠的温度控制系统和易于操作的软件界面的设备。5. **能源消耗和环保要求**：考虑设备的能耗情况和环保性能，选择节能环保的设备。6. **品牌和服务**：选择知名度高、信誉良好的厂家和品牌，确保产品质量和售后服务的可靠性。 结论RTP快速退火炉作为半导体制造过程中不可或缺的设备，其高效、节能和环保的特点使得它在现代半导体工业中得到了广泛应用。随着技术的不断发展，RTP快速退火炉的性能也将不断优化，为半导体产业的进步提供有力支持。

132 3531 3002 热处理炉分为退火炉、淬火炉、回火炉、正火炉、调质炉，主要用于大型碳钢、合金钢零件的退火；表面淬火件回火；焊件消除应力退火、时效等热处理工艺。加热方式有电加热、燃油、燃气、燃煤、热风循环。退火炉是一种新型换热设备。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。【产品描述】陶瓷纤维模块是用对应材质的陶瓷纤维针刺毯，按纤维组件结构、尺寸，在专用机械上加工而成。在加工过程中，均保持一定比例的压缩量，保证陶瓷纤维模块壁衬砌筑完毕后，，陶瓷纤维模块在不同方向的膨胀，使陶瓷纤维模块之间相互挤成一个无缝隙的整体，陶瓷纤维模块均能通过各种形式的锚固件直接固定于工业窑炉炉壳钢板锚固钉上。【产品特性】陶瓷纤维模块的应用不仅仅在炉壁上，也为终用户带来了如下好处： 处在耐火棉背面的多种形式的锚固件使得耐火棉的安装既可采用兵列式排列方式也可采用拼花地板式排列方式； 耐火棉毯在解除捆扎后会在不同方向上相互挤紧，不产生缝隙；有弹性的耐火棉毯可以抵抗机械外力； 耐火棉毯的弹性可以弥补炉壳的变形，使得组件之间不产生缝隙；由于重量轻，作为隔热材料时的吸热很少；低导热性能带来高的节能效果； 具有抵抗任何热冲击的能力；衬体无需烘干和养护，所以安装好以后便可立即投入使用；锚固系统远离组件的热面，使得金属锚固件处在相对低的温度下。【安装方法】炉板除锈 → 将模块螺栓焊接在炉壁板上 → 取出模块 → 将模块导向杆拧到螺杆的小头上 → 将模块沿中心孔穿过导向杆靠到炉板上 → 采用专用板手将螺母拧紧到螺杆上→ 拧下导向杆 → 依次进行其他模块的安装 → 抽出模块中心塑料管 → 拆开模块捆扎带→ 压缩安装补偿毯 → 安装下一排折叠模块。【安装要求】(1)锚固钉焊接位置应准确，严格控制误差；(2)先将背衬层安装完毕，再施工纤维模块；(3)先安装炉顶模块再安装炉墙；(4)炉墙模块的安装应从底部开始向上安装；(5)模块的排列方式多采用同向"兵列式"排列，安装完一排模块后应按要求压缩铺衬补偿毯；(6)顶与墙及墙与墙的链接处应压缩铺衬补偿毯。【技术参数】产品名称陶瓷纤维模块分类温度 ℃105012601430产品代码SYGW-189SYGW-289SYGW-389SYGW-489SYGW-589加热**线变化（%）950℃×24h≦-31000℃×24h≦-31100℃×24h≦-31200℃×24h≦-31350℃×24h≦-3理论体积密度 (Kg/m3)200±10；220±10；240±10；260±10理论导热系数 W/(N.K)平均200℃0.045-0.060平均400℃0.095-0.120平均600℃0.160-0.195产品规格（mm）300×300×250或定制包装形式纸箱/编织袋质量环境体系认证ISO9001-2000，ISO14001-1996