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高精度纳米级三维形貌仪

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高精度纳米级三维形貌仪相关的资讯

  • 用于纳米级表面形貌测量的光学显微测头
    用于纳米级表面形貌测量的光学显微测头李强,任冬梅,兰一兵,李华丰,万宇(航空工业北京长城计量测试技术研究所 计量与校准技术重点实验室,北京 100095)  摘 要:为了满足纳米级表面形貌样板的高精度非接触测量需求,研制了一种高分辨力光学显微测头。以激光全息单元为光源和信号拾取器件,利用差动光斑尺寸变化探测原理,建立了微位移测量系统,结合光学显微成像系统,形成了高分辨力光学显微测头。将该测头应用于纳米三维测量机,对台阶高度样板和一维线间隔样板进行了测量实验。结果表明:该光学显微测头结合纳米三维测量机可实现纳米级表面形貌样板的可溯源测量,具有扫描速度快、测量分辨力高、结构紧凑和非接触测量等优点,对解决纳米级表面形貌测量难题具有重要实用价值。  关键词:纳米测量;激光全息单元;位移;光学显微测头;纳米级表面形貌0 引言  随着超精密加工技术的发展和各种微纳结构的广泛应用,纳米三坐标测量机等精密测量仪器受到了重点关注。国内外一些研究机构研究开发了纳米测量机,并开展微纳结构测量[1-4]。作为一个高精度开放型测量平台,纳米测量机可以兼容各种不同原理的接触式测头和非接触式测头[5-6]。测头作为纳米测量机的核心部件之一,在实现微纳结构几何参数的高精度测量中发挥着重要作用。原子力显微镜等高分辨力测头的出现,使得纳米测量机能够实现复杂微纳结构的高精度测量[7-8],但由于其测量速度较慢,对测量环境要求很高,不适用于大范围快速测量。而光学测头从原理上可以提高扫描测量速度,同时作为一种非接触式测头,还可以避免损伤样品表面,因此,在微纳米表面形貌测量中有其独特优势。在光学测头研制中,激光聚焦法受到国内外研究者的青睐,德国SIOS公司生产的纳米测量机就包含一种基于光学像散原理的激光聚焦式光学测头,国内也有一些大学和研究机构开展了此方面的研究[9-11]。这些测头主要基于像散和差动光斑尺寸变化检测原理进行离焦检测[12-13]。在CD和DVD播放器系统中常用的激光全息单元已应用于微位移测量[14-15],其在纳米测量机光学测头的研制中也具有较好的实用价值。针对纳米级表面形貌的测量需求,本文研制了一种基于激光全息单元的高分辨力光学显微测头,应用于自主研制的纳米三维测量机,可实现被测样品的快速瞄准和测量。1 激光全息单元的工作原理  激光全息单元是由半导体激光器(LD)、全息光学元件(HOE)、光电探测器(PD)和信号处理电路集成的一个元件,最早应用于CD和DVD播放器系统中,用来读取光盘信息并实时检测光盘的焦点误差,其工作原理如图1所示。LD发出激光束,在出射光窗口处有一个透明塑料部件,其内表面为直线条纹光栅,外表面为曲线条纹全息光栅,两组光栅相互交叉,外表面光栅用于产生焦点误差信号。LD发出的激光束在光盘表面反射回来后,经全息光栅产生的±1级衍射光,分别回到两组光电探测器P1~P5和P2~P10上。当光盘上下移动时,左右两组光电探测器上光斑面积变化相反,根据这种现象产生焦点误差信号。这种测量方式称为差动光斑尺寸变化探测,焦点误差信号可以表示为  根据焦点误差信号,即可判断光盘离焦量。图1 激光全息单元  根据上述原理,本文设计了高分辨力光学显微测头的激光全息测量系统。2 光学显微测头设计与实现  光学显微测头由激光全息测量系统和光学显微成像系统两部分组成,前者用于实现被测样品微小位移的测量,后者用于对测量过程进行监测,以实现被测样品表面结构的非接触瞄准与测量。  2.1 激光全息测量系统设计  光学显微测头的光学系统如图2所示,其中,激光全息测量系统由激光全息单元、透镜1、分光镜1和显微物镜组成。测量时,由激光全息单元中的半导体激光器发出的光束经过透镜1变为平行光束,该光束被分光镜1反射后,通过显微物镜汇聚在被测件表面。从被测件表面反射回来的光束反向通过显微物镜,一小部分光透过分光镜1用于观察,大部分光被分光镜1反射,通过透镜1,汇聚到激光全息单元上,被全息单元内部集成的光电探测器接收。这样,就将被测样品表面瞄准点的位置信息转换为电信号。在光学显微测头设计中选用的激光全息单元为松下HUL7001,激光波长为790 nm。图2 光学显微测头光学系统示意图  当被测样品表面位于光学显微测头的聚焦面时,反射光沿原路返回激光全息单元,全息单元内两组光电探测器接收到的光斑尺寸相等,焦点误差信号为零。当样品表面偏离显微物镜聚焦面时,由样品表面反射回来的光束传播路径会发生变化,进入激光全息单元的反射光在两组光电探测器上的分布随之发生变化,引起激光全息单元焦点误差信号的变化。当被测样品在显微物镜焦点以内时,焦点误差信号小于零,而当被测样品在显微物镜焦点以外时,焦点误差信号大于零。因此,利用在聚焦面附近激光全息单元输出电压与样品位移量的单调对应关系,通过测量激光全息单元的输出电压,即可求得样品的位移量。  2.2 显微物镜参数的选择  在激光全息测量系统中,显微物镜是一个重要的光学元件,其光学参数直接关系着光学显微测头的分辨力。首先,显微物镜的焦距直接影响测头纵向分辨力,在激光全息单元、透镜1和显微物镜之间的位置关系保持不变的情况下,对于同样的样品位移量,显微物镜的焦距越小,样品上被测点经过显微物镜和透镜1所成像的位移越大,所引起激光全息单元中光电探测器的输出信号变化量也越大,即测量系统纵向分辨力越高。另外,显微物镜的数值孔径对测头的分辨力也有影响,在光波长一定的情况下,显微物镜的数值孔径越大,其景深越小,测头纵向分辨力越高。同时,显微物镜数值孔径越大,激光束会聚的光斑越小,系统横向分辨力也越高。综合考虑测头分辨力和工作距离等因素,在光学显微测头设计中选用大恒光电GCO-2133长工作距物镜,其放大倍数为40,数值孔径为0.6,工作距离为3.33 mm。  2.3 定焦显微测头的实现  除激光全息测量系统外,光学显微测头还包括一个光学显微成像系统,该系统由光源、显微物镜、透镜2、透镜3、分光镜1、分光镜2和CCD相机组成。光源将被测样品表面均匀照明,被测样品通过显微物镜、分光镜1、透镜2和分光镜2,成像在CCD相机接收面上。为了避免光源发热对测量系统的影响,采用光纤传输光束将照明光引入显微成像系统。通过CCD相机不仅可以观察到被测样品表面的形貌,而且也可以观察到来自激光全息单元的光束在样品表面的聚焦情况。  根据图2所示原理,通过光学元件选购、机械加工和信号放大电路设计,制作了光学显微测头,如图3所示。从结构上看,该测头具有体积小、集成度高的优点。将该测头安装在纳米测量机上,编制相应的测量软件,可用于被测样品的快速瞄准和高分辨力非接触测量。图3 光学显微测头结构3 测量实验与结果分析  为了检验光学显微测头的功能,将该测头安装在纳米三维测量机上,使显微物镜的光轴沿测量机的Z轴方向,对其输出信号的电压与被测样品的离焦量之间的关系进行了标定,并用其对台阶高度样板和一维线间隔样板进行了测量[16]。所用纳米三维测量机在25 mm×25 mm×5 mm的测量范围内,空间分辨力可达0.1 nm。实验在(20±0.5)℃的控温实验室环境下进行。  3.1 测头输出电压与位移关系的建立  为了获得光学显微测头的输出电压与被测表面位移(离焦量)的关系,将被测样板放置在纳米三维测量机的工作台上,用精密位移台带动被测样板沿测量光轴方向移动,通过纳米测量机采集位移数据,同时记录测头输出电压信号。图4所示为被测样板在测头聚焦面附近由远及近朝测头方向移动时测头输出电压与样品位移的关系。图4 测头电压与位移的关系  由图4可以看出,光学显微测头的输出电压与被测样品位移的关系呈S形曲线,与第1节中所述的通过差动光斑尺寸变化测量离焦量的原理相吻合。当被测样板远离光学显微测头的聚焦面时,电压信号近似常数。当被测样板接近测头的聚焦面时,电压开始增大,到达最大值后逐渐减小;当样板经过测头聚焦面时,电压经过初始电压值,可认为是测量的零点;当样品继续移动离开聚焦面时,电压继续减小,到达最小值时,电压又逐渐增大,回到稳定值。在电压的峰谷值之间,曲线上有一段线性较好的区域,在测量中选择这段区域作为测头的工作区,对这段曲线进行拟合,可以得到测头电压与样板位移的关系。在图4中所示的3 μm工作区内,电压与位移的关系为  式中:U为激光全息单元输出电压;∆d为偏离聚焦面的距离。  3.2 台阶高度测量试验  在对光学显微测头的电压-位移关系进行标定后,用安装光学显微测头的纳米三维测量机对台阶高度样板进行了测量。  在测量过程中,将一块硅基SHS-1 μm台阶高度样板放置在纳米三维测量机的工作台上,首先调整样板位置,通过CCD图像观察样板,使被测台阶的边缘垂直于工作台的X轴移动方向,样板表面位于光学显微测头的聚焦面,此时测量光束汇聚在被测样板表面,如图5所示。然后,用工作台带动样板沿X方向移动,使测量光束扫过样板上的台阶,同时记录光学显微测头的输出信号。最后,对测量数据进行处理,计算台阶高度。图5 被测样板表面图像  台阶高度样板的测量结果如图6所示,根据检定规程[17]对测量结果进行处理,得到被测样板的台阶高度为1.005 μm。与此样板的校准结果1.012 μm相比,测量结果符合性较好,其微小偏差反映了由测量时温度变化、干涉仪非线性和样板不均匀等因素引入的测量误差。图6 台阶样板测量结果  3.3 一维线间隔测量试验  在测量一维线间隔样板的过程中,将一块硅基LPS-2 μm一维线间隔样板放置在纳米测量机的工作台上,使测量线沿X轴方向,样板表面位于光学显微测头的聚焦面。然后,用工作台带动样板沿X方向移动,使测量光束扫过线间隔样板上的刻线,同时记录纳米测量机的位移测量结果和光学显微测头的输出信号。最后,对测量数据进行处理,测量结果如图7所示。  根据检定规程[17]对一维线间隔测量结果进行处理,得到被测样板的刻线间距为2.004 μm,与此样板的校准结果2.002 μm相比,一致性较好。  3.4 分析与讨论  由光学显微测头输出电压与被测表面位移关系标定实验的结果可以看出:利用在测头聚焦面附近测头输出电压与样品位移量的单调对应关系,通过测量测头的输出电压变化,即可求得样品的位移量。在图4所示曲线中,取电压-位移曲线上测头聚焦面附近的3 μm位移范围作为工作区,对应的电压变化范围约为0.628 V。根据对电压测量分辨力和噪声影响的分析,在有效量程内测头的分辨力可以达到纳米量级。  台阶高度样板和一维线间隔样板测量实验的结果表明:光学显微测头可以应用于纳米三维测量机,实现微纳米表面形貌样板的快速定位和微小位移测量。通过用纳米测量机的激光干涉仪对光学显微测头的位移进行校准,可将测头的位移测量结果溯源到稳频激光的波长。实验过程也证明:光学显微测头具有扫描速度快、测量分辨力高和抗干扰能力强等优点,适用于纳米表面形貌的非接触测量。4 结论  本文介绍了一种用于纳米级表面形貌测量的高分辨力光学显微测头。在测头设计中,采用激光全息单元作为位移测量系统的主要元件,根据差动光斑尺寸变化原理实现微位移测量,结合光学显微系统,形成了结构紧凑、集测量和观察功能于一体的高分辨力光学显微测头。将该测头安装在纳米三维测量机上,对台阶高度样板和一维线间隔样板进行了测量实验,结果表明:该光学显微测头可实现预期的测量功能,位移测量分辨力可达到纳米量级。下一步将通过多种微纳米样板测量实验,进一步考察和完善测头的结构和性能,使其更好地适合纳米三维测量机,应用于微纳结构几何参数的非接触测量。作者简介李强,(1976-),男,高级工程 师,主要从事纳米测量技术研究,在微纳米表面形貌参数测量与校准、微纳尺度材料力学特征参数测量与校准、复杂微结构测量与评价等领域具有丰富经验。
  • 我国科学家在纳米级分辨太赫兹形貌重构显微技术方面取得进展
    蛋白分子膜(蛋白膜)在生物传感和生物材料领域应用广泛。从纳米尺度精确检测蛋白分子的成膜过程,对控制蛋白膜的品质、理解其形成机制和评价其功能表现具有重要意义。然而,目前尚缺少一种能够精确表征蛋白分子在成膜过程中所有形态结构的技术手段,例如,原子力显微镜虽然具有优异的表面成像功能,但是它难以提供样品的亚表面信息,无法揭示蛋白分子层的内部结构信息。        近日,中国科学院重庆绿色智能技术研究院研究员王化斌团队和上海大学材料生物学研究所教授李江团队等合作,报道了一种同时具有表面和亚表面探测能力的纳米级分辨太赫兹形貌重构显微技术。研究团队发展了多介质层有限偶极子近场理论模型,建立了基于样品太赫兹近场光学显微图像重构样品三维形貌的方法,实现了单个蛋白分子、蛋白网状结构、蛋白单分子层和蛋白复合层的精确检测。太赫兹形貌重构显微技术具有无损、无标记的特点,以及表面和亚表面检测能力;其侧向分辨率与原子力显微镜相当,垂直分辨率达0.5 nm。该技术为研究生物分子、功能材料和半导体器件等样品提供了一种全新的技术途径。相关研究成果以Near-Field Terahertz Morphological Reconstruction Nanoscopy for Subsurface Imaging of Protein Layers为题,发表在ACS Nano上。研究工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金、重庆市自然科学基金等的支持。
  • 西北工大校友研发光纤显微内窥镜,实现最高1微米的分辨率和纳米级三维重建
    “我预计今年年底提前博士毕业,虽然我的德国导师希望我继续留下做博后,但我更希望能回到老家江苏做科研。而在最近发表的论文里,我和所在团队首次将定量相位成像技术,用于超细光纤显微内窥镜中,实现了最高 1 微米的分辨率、以及纳米级的三维重建。并通过光纤实现无透镜光场成像,借此制备出一款新型无透镜光纤显微内窥镜。”德累斯顿工业大学生物医学计算激光系统能力中心博士生孙佳伟 表示。▲图 | 孙佳伟(来源:孙佳伟 )此次提出的无透镜光纤显微内窥镜,具备 1000 倍的放大倍率,可通过图像重建让医生“看清”脑部神经元或是组织表面的细胞。(来源:Light: Science & Applications)研究中,他和同事使用无透镜光纤显微内窥镜,对无标记的癌细胞进行高对比度成像,让光纤内窥镜能进一步对体内癌症组织表面进行细胞级的高分辨率成像。这意味着,人们可通过此内窥镜尽早找出病变的癌细胞,实现癌症的早期预警。同时,鉴于光纤内窥镜探针只有头发丝量级,因此可在极大降低创口大小的同时,深入体内的狭小部位,如细微血管、肺泡、耳蜗等进行显微成像。另外,其所搭载的系统基于量产的多芯光纤,可做一次性的内窥镜探头,用完后可以轻松换上新的光纤以作为探头,从而彻底消除交叉感染的风险。据介绍,内窥镜成像(endoscopy)作为临床常用的体内成像方法之一,其常规直径至少在几十毫米以上,且图像放大倍率只有大约 50 倍,只能看清组织大概的形貌。而孙佳伟 的无透镜光纤显微内窥镜的探测端,没有使用任何透镜,探针的直径只有 0.35 毫米,大约在头发丝量级,能大大减轻创口的大小。对于神经外科手术来说,常常需要在大脑或脊柱开非常小的切口,进而通过内窥镜和特殊器械,进行复杂精密的手术。而内窥镜的尺寸越小,手术对患者造成的额外损伤就越小,患者术后恢复得也就越快。▲图 | 新型无透镜光纤显微内窥镜,探针直径仅为 0.35 毫米(来源:孙佳伟 )多年来,荧光显微成像已成为生物医学中广泛使用的成像方法,通过对样品进行荧光标记、激发和检测,可对荧光标记的样品做以选择性成像,从而提升成像的对比度。此前市面上最新的光纤显微内窥镜,是通过共聚焦扫描来实现体内荧光显微成像,但其需要昂贵的光学系统和复杂的校准流程,同时还得预先对体内组织进行特殊荧光染色。然而,某些情况下荧光剂会影响组织正常功能,用后也不易去除。因此,无标记成像技术对内窥镜尤为重要。定量相位成像,是一种无标记显微成像技术。其原理是通过组织中不同成分的微小相位差,来实现生物医学样品的高对比度成像。从技术手段来讲,进一步重建光场的相位信息,还能实现纳米级轴向分辨率的三维成像,这让定量相位成像也常被用于芯片表面检测。但是,此次提出的光纤内窥镜系统,使用量产化的多芯光纤束作为体内成像探针。虽然多芯光纤束只有三根头发丝那样粗,里面却包含着一万根单模的光纤芯,每一根光纤芯都能独立传播光学信号,而把这一万根光纤芯的光学信号组合起来,就相当于有了一万个能成像的像素。但是,光在每一根纤芯中的传播距离有着微小的差别,而光波的相位又非常敏感,即使是 10 纳米以下的光传播距离差,也会引起可观的相位变化。由于光在这一万根光纤芯中的传播距离各不相同,这会带来非常严重的相位失真,就像把样品的光学信息进行了“加密”,故在多芯光纤束中实现定量相位成像,是一个颇具挑战性的难题。(来源:Light: Science & Applications)找到“解码”光场的“钥匙”那么,如何从“加密”光场信息中恢复样品信息呢?孙佳伟 等人提出一种名为远场散斑转换的算法,可从光纤输出端的散斑中,重建出光纤中的固有相位差,这就相当于拿到了“解码”光场的“钥匙”。这样一来,当使用无透镜光纤显微内窥镜去探测样品时,用这把“钥匙”来“解码”样品的光场信息,就能得到样品的相位信息。另外,鉴于可通过光纤显微内窥镜重建完整的光场信息,这时只用一张散斑图像重建出不同深度的图像,即可实现数字重新对焦,并能把无透镜光纤显微内窥镜的工作距离从 10 微米提到 10 毫米。得益于这样的数字对焦,以后医生们再也不用手动调整焦距,通过程序即可实现实时数字对焦,让无透镜光纤显微内窥镜的易用性得到极大提升。近日,相关论文以《通过超薄无透镜光纤内窥镜进行定量相位成像》(Quantitative phase imaging through an ultra-thin lensless fiber endoscope )为题发表在 Light: Science & Applications 上。▲图 | 相关论文(来源:Light: Science & Applications)孙佳伟 担任一作兼通讯,德累斯顿工业大学测量和传感器系统技术实验室于尔根W查斯克(Juergen W. Czarske )教授、以及同一实验室的内克塔里奥斯库库拉基斯(Nektarios Koukourakis )博士担任共同通讯作者。该工作还得到清华大学精密仪器系曹良才 教授和马克思普朗克光科学研究所约亨顾克(Jochen Guck )教授的指导。其中一位审稿人评价称,“论文中的实验结果令人信服,清楚地标明该方法能够对样品进行定量相位成像,并验证了三维成像的可能性。该项新技术开辟了在超细内窥镜进行相位成像的广阔前景。”另一个审稿人表示,“作者使用一种全新的计算重建算法,以便远场强度图像获得相位信息,实现了基于光纤的定量相位成像。”(来源:Light: Science & Applications)据悉,该研究主要由德国科学基金会支持,旨在通过自适应控制多芯光纤的输出光场,精准控制癌细胞的旋转。与此同时,对细胞进行全息成像,最终得到癌细胞完整的三维重建图。为了实现在纳米级精度下,用光精准地去控制癌细胞,孙佳伟 耗时一年搭建出一个非常复杂且昂贵的光学系统,单单研发实验器件的控制程序,他就写了近一万行代码。后来,又泡在实验室几个月,终于通过光纤光场调控,对细胞多轴旋转做以实时控制。这项成果的实现也是世界首次,相关论文在更早之前已发表在 Biomedical Optics Express 上 [1]。▲图 | 利用光纤输出光场,癌细胞进行光学无接触操控,实时控制细胞旋转轴(来源:孙佳伟 )他说:“当时有一个误区,觉得越复杂的系统越高级,固然系统越复杂,需要解决的技术难题也就越多,其中的技术含量也就越高,但是繁杂的系统也就意味着高成本、高投入,难以获得广泛的应用。很多经典的研究,后人看起来其实只是解决了一个很小的问题,但最难的是从零到一的突破过程。”舍弃复杂昂贵的光学器件,只用一根光纤、一个相机和一些基本光学元件,在有限的成本内,通过程序提升成像性能。所以他一直在思考,如何把光学系统化繁为简?于是就有了关于此次论文的初步想法[2]。正好那时,清华大学精密仪器系曹良才 教授课题组的吴佳琛 博士来德国交流,曹教授团队在计算光学领域有着很深的造诣。“在和佳琛沟通了我的想法之后,他也对此特别感兴趣。因为光纤输出端的散斑太过复杂,一开始的算法效果并不理想。后来我们不断改进算法,终于在有天深夜,佳琛激动地跟我说算法成功了。我连忙从床上蹦下来打开电脑,把他的算法和我的代码整合起来,那天晚上兴奋地没怎么睡着。第二天一大早就立马赶去实验室验证算法,结果发现真的能在实验中完美重建出相位图像。”孙佳伟 说。(来源:Light: Science & Applications)计划将光纤显微内窥镜用于临床研究另据悉,因为光学仪器大多都非常精密,外界的微弱干扰都有可能对实验结果产生影响。因此为了减小外部震动,孙佳伟 所在的实验室专门建在地下一层。但是,他的实验室离马路比较近,每次有大型车辆经过的时候,都能在仪器数据上观测到微纳级的抖动。为了得到最佳的实验数据,那几周他每天等到半夜路上没有车的时候,一个人在漆黑的实验室里做实验。功夫不负有心人,最后的实验结果也非常稳定。家庭,也给他提供了软动力支持。他说:“我老婆虽然没有直接参与此次研究,但每次我的实验没有进展、焦头烂额的时候,她总能耐心地安慰我、鼓励我,等我焦躁的心安静下来后,理性地帮我梳理思绪找到问题所在。”据介绍,孙佳伟 是江苏南通人。本科就读于西北工业大学信息对抗技术专业。读研时,他来到德国留学,在波鸿大学读激光与光子学专业。那时,他开始接触到光学实验,并开始从事数字全息成像方面的研究。其说道:“一开始只是单纯觉得激光特别酷,但在实验室待久了之后,我深刻体会到光学实验是一个慢工出细活的过程,慢慢地也喜欢上泡在实验室的感觉。我的硕士论文获得了接近满分的成绩,导师把我推荐到现在的课题组继续攻读博士,我也得以继续从事光学成像的研究。”(来源:Light: Science & Applications)在德国读博更像是工作,他作为一名博士生的同时也是学校雇员,目前其还担任助理研究员一职,要承担一定的教学任务,以及指导本科生和硕士生的毕业论文。为此,孙佳伟 还开设了一门叫做“数字全息技术”的实验课程。疫情期间,他把实验课搬到线上,通过视频给学生呈现光学实验的过程,同时也在线上辅导学生处理数据。当下,他的重心依然是科研。目前的图像重建算法对电脑的硬件要求比较高,后续他计划使用人工智能提升算法效率,让图像重建程序在普通笔记本电脑上也能轻松运行,并能实时重建三维图像。同时,他和导师也申请了与所在大学的附属医院的合作项目,计划进一步将光纤显微内窥镜用于临床研究。参考资料:1.Sun J, Koukourakis N, Guck J, et al. Rapid computational cell-rotation around arbitrary axes in 3D with multi-core fiber[J]. Biomedical Optics Express, 2021, 12(6): 3423-3437.https://doi.org/10.1364/BOE.4230352.Sun J, Wu J, Wu S, et al. Quantitative phase imaging through an ultra-thin lensless fiber endoscope[J]. Light: Science & Applications, 2022, 11(1): 1-10.https://doi.org/10.1038/s41377-022-00898-2
  • 重庆绿色智能技术研究院王化斌研究员团队,上海大学李江教授团队:在纳米级分辨太赫兹形貌重构显微技术方面取得进展
    近日,中国科学院重庆绿色智能技术研究院研究员王化斌团队和上海大学材料生物学研究所教授李江团队等合作,报道了一种同时具有表面和亚表面探测能力的纳米级分辨太赫兹形貌重构显微技术。蛋白分子膜(蛋白膜)在生物传感和生物材料领域应用广泛。从纳米尺度精确检测蛋白分子的成膜过程,对控制蛋白膜的品质、理解其形成机制和评价其功能表现具有重要意义。然而,目前尚缺少一种能够精确表征蛋白分子在成膜过程中所有形态结构的技术手段,例如,原子力显微镜虽然具有优异的表面成像功能,但是它难以提供样品的亚表面信息,无法揭示蛋白分子层的内部结构信息。研究团队发展了多介质层有限偶极子近场理论模型,建立了基于样品太赫兹近场光学显微图像重构样品三维形貌的方法,实现了单个蛋白分子、蛋白网状结构、蛋白单分子层和蛋白复合层的精确检测。太赫兹形貌重构显微技术具有无损、无标记的特点,以及表面和亚表面检测能力;其侧向分辨率与原子力显微镜相当,垂直分辨率达0.5 nm。该技术为研究生物分子、功能材料和半导体器件等样品提供了一种全新的技术途径。相关研究成果以Near-Field Terahertz Morphological Reconstruction Nanoscopy for Subsurface Imaging of Protein Layers为题,发表在ACS Nano上。研究工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金、重庆市自然科学基金等的支持。
  • Nature | 我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构
    14日夜,国际顶级学术期刊《自然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术,将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部,通过控制激光移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三维结构的直写和擦除。这一新技术,突破了传统飞秒激光的光衍射极限,把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸,从传统的1微米量级(相当于头发丝的五十分之一),首次缩小到纳米级,达到30纳米,大大提高了加工精度。这一重大发明,未来或可开辟光电芯片制造新赛道,有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备,在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。
  • 30纳米染色质高精度三维冷冻电镜结构成功解析
    p style=" line-height: 1.5em " & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp DNA如何包装成染色体,是科学家们一直努力破解的重要科学问题。近30年来,由于缺乏系统、合适的研究手段,作为染色质包装过程中承上启下的关键部分,30纳米染色质高级结构研究一直是现代分子生物学领域面临的最大挑战之一。 /p p style=" line-height: 1.5em "   科学家已经发现,染色质包装分4步完成,对应了染色质的四级结构:第一级结构是核小体 第二级结构是核小体螺旋化形成30纳米染色质纤维 第三级结构是30纳米染色质再折叠成更为复杂的染色质高级结构,即超螺旋体 第四级结构是超螺旋体进一步折叠形成在光学显微镜下可以看到的染色体。 /p p style=" line-height: 1.5em "   为解析30纳米染色质的高精度三维冷冻电镜结构,中科院生物物理所研究员李国红课题组及其合作者(朱平课题组和许瑞明课题组)在基金委重大研究计划“细胞编程与重编程的表观遗传学机制”支持下,自主建立了染色质体外组装和冷冻电镜技术(11埃)。利用这一技术,研究人员在国际上首次发现30纳米染色质纤维是以4个核小体为结构单元形成的左手双螺旋结构。同时,连接组蛋白H1在单个核小体内部及核小体单元之间的不对称分布及相互作用促成30纳米高级结构的形成,从而明确了H1在30纳米染色质纤维形成过程中的重要作用。 /p p style=" line-height: 1.5em "   2014年4月25日,在DNA双螺旋结构发现61周年的纪念日,《科学》杂志以Double Helix,Doubled(《双螺旋,无独有偶》)为题介绍了这项重要成果,并同期刊发英国剑桥大学教授Andrew Travers撰写的题为The 30-nm Fiber Redux(《30纳米纤维的归来》)的评论。该评论指出:(本文)结果明确地界定了染色质纤维中DNA的走向,解决了染色质到底是单股纤维还是双股纤维这个根本性的问题。本来似乎已经陷入困境的30纳米染色质纤维结构研究,又会重新成为生物学家们继续关注的焦点。该成果发表后受到国内外学术界的广泛关注,被多部世界知名最新版本教科书收录(《生物化学》《结构生物学》等)。 /p p style=" line-height: 1.5em "   据李国红介绍,在30纳米染色质纤维结构解析的基础上,他们通过与中科院物理所李明课题组合作,利用单分子磁镊技术对30纳米染色质纤维建立和维持的动力学过程进行了深入的探讨。在后续研究中,研究人员正在建立和完善描绘全基因组染色质结构的MNase-seq技术——gMNase-seq(细胞核内染色质结构分析方法),通过蛋白质融合或不同大小的金颗粒修饰和改造MNase,提高MNase-seq的空间分辨率,进一步描绘了细胞核内染色质纤维三维结构的动态调控及其分子机制。 /p p style=" line-height: 1.5em "   “30纳米染色质纤维结构”先后入选“十八大以来中国科学院重大创新成果”和“中国科学院‘十二五’标志性重大进展核心成果”。该研究成果表明我国科学家在攻克30纳米染色质纤维高级结构这一30多年悬而未决的重大科学问题上取得了重要突破,这使我国在染色质结构研究领域达到国际领先水平。同时,也为预测体内染色质结构建立的分子基础以及各种表观遗传因素对染色质结构调控的可能机理提供了结构基础。 /p p br/ /p
  • 利用荧光显微镜技术观察到世界上第一个完整的活细胞中分子的纳米级三维图像
    瑞典皇家理工学院的研究人员最近发表的研究表明,利用新的荧光显微镜技术,生成了世界上第一个完整的活细胞中分子的纳米级三维图像,显示了脑海马神经元中蛋白质的近分子尺度图像。这种技术被称为3-D pRESOLFT,可以在比电子显微镜更大的范围内观察蛋白质,可以在不杀死细胞和破坏切片的情况下实现它。在以往的荧光显微镜中,可见光照射到用荧光染料染色的细胞和组织,但该方法仅限于制作二维图像,通常分辨率较低。3-D pRESOLFT通过使用包含可切换的荧光染料的干涉图案的组合,可以像光开关那样一边切换接通和断开一边记录大量的平行图像。 整个样品暴露在少光下,防止样品褪色。研究人员发现,观察精度缩小到50纳米,比人类头发小20000倍,用这种正确的方法在三维空间观察活细胞的能力可以研究蛋白质是如何重要但鲜为人知的生理过程。
  • 全球最小的三维纳米雄鸡贺卡,3D纳米激光直写设备NanoFrazor专业定制
    金鸡报晓已迎春,元宵临近聚福门,Quantum Design China恭祝大家新春愉快,元宵吉祥。上图这幅立体逼真的画作是 Quantum Design China专为您打造的新年特别礼物。看到图像右面的坐标轴,是不是很惊讶?没错,这不是一幅手绘作品,而是借助SwissLitho公司制造的3D纳米结构高速直写设备—NanoFrazor专业定制的三维纳米雄鸡贺卡! 这幅雄赳赳气昂昂的鸡年贺卡,其尺寸仅有10μm*10μm,深度差为50nm,是目前全球小的三维纳米鸡年贺卡。整只雄鸡的微纳尺寸,以及鸡身立体的轮廓和清晰的线条,都体现了3D纳米结构高速直写机NanoFrazor让人膜拜的高直写精度(XY: 10nm, Z: 1nm)、高形貌感知灵敏度(0.1nm),另外还有高速直写,无需显影,实时观察直写效果,无临近效应,无电子/离子损伤等有的特点。 NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机采用直径为5nm的探针,通过静电力控制实现直写3D高精度直写,并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测,次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。该技术自问世以来已经多次刷新了上小3D立体结构的尺寸,创造了上小的马特洪峰模型,小立体地图,小刊物封面等记录。2016年10月,瑞士Swisslitho公司又发布了一款NanoFrazor Scholar,这款小型的纳米加工设备竟然可以放置在实验室桌面上,而且分辨率依然可达到XY:10nm;Z:2nm,轻松实现小于20nm的线宽与间距,更加便于课题组内进行纳米原型器件、微纳光学/光子学/磁学,NEMS、超材料等领域纳米机构与器件的设计与制备,是纳米结构和器件加工制备领域的之选。 2017的年味儿少不了科学的情怀,少不了我们对未知的探索和追求,带着NanoFrazor专业定制的全球小的三维纳米雄鸡贺卡,Quantum Design China祝愿大家在新的科学年中创意无限,收获满满!2017,Quantum Design China将继续伴您左右,提供丰富、的科研设备,便捷、专业的售后服务,助力您的科学研究更有说服力,更具创造力! 相关产品: 3D纳米结构高速直写机NanoFrazor: http://www.instrument.com.cn/netshow/C226568.htm小型台式无掩模光刻系统: http://www.instrument.com.cn/netshow/C155920.htm
  • 布鲁克携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加第14届中国光博会
    布鲁克公司纳米表面仪器部携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加2012年第14届中国光博会布鲁克公司纳米表面仪器在本届光博会上展出最新的ContourGT非接触式三维光学形貌仪,具有优异的抗噪声特性,能实现定标性测量的重复性和再现性,拥有业界最高垂直分辨率,适用于对各种复杂精密元器件形状的高精度质量管理工作,精确测量表面形貌、台阶高度和表面粗糙度等。 作为表面观测和测量技术的全球领导者,布鲁克公司纳米表面仪器部提供世界上最完整的原子力显微镜、三维非接触式光学形貌仪和探针式表面轮廓仪系列产品。布鲁克公司纳米表面仪器部一直着眼于研发新的计量检测方法和工具,不断迎接挑战,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。此外,还可根据工业生产中的操作模式和操作习惯,精简仪器功能,针对生产中的特定应用需求,为客户量身打造相匹配的仪器设备,简化生产过程的操作流程,提高工作效率。布鲁克的表面测量仪器广泛用于大学、研究所,工业领域的LED行业、太阳能行业、触摸屏行业、半导体行业以及数据存储行业等,进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析,提供符合需求和预算的最佳解决方案。ContourGT 光学形貌仪广泛应用于触摸屏、高亮度LED、太阳能电池、模具、零部件测量等各种领域该系列包括基本型ContourGT-K0,桌上型ContourGT-K1,中端型号ContourGT-X3,以及旗舰型号ContourGT-X8和ContourGT-X8 PSS(该型号专为高亮度LED的质量保证/质量监控而设计)等。每一种型号为用户的不同需求提供解决方案,以满足在精密制造和特定行业的要求,如高亮度LED、触摸屏、太阳能电池、隐形眼镜、半导体、硬盘、汽车和骨科等NPFLEX 三维表面测量系统为大尺寸工件精密加工提供准确测量布鲁克的NPFLEX 三维表面测量系统为大样品表面提供了灵活的非接触式测量方案,可广泛用于医疗植入、航空航天、汽车或精密加工上的大型、异型工件的测量。 基于白光干涉原理,NPFLEX 为用户提供超过接触式方法所能达到的更大数据量、更高分辨率和更好的重复性,使它成为独立或者互补的测量方案。开放式的拱门设计克服了以往某些零件由于角度或取向造成的测量困难,可实现超过300度的测量空间。NPFLEX的超级灵活性、数据准确性和测试效率为精密加工行业提供了一种简单的方法,来实现其更苛刻的加工要求、更高效的加工工艺和更好的终端产品。 客户服务热线:400-890-5666 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com
  • 布鲁克携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加第15届中国光博会
    布鲁克公司纳米表面仪器部携ContourGT非接触式三维光学形貌仪参加2013年第15届中国光博会布鲁克公司纳米表面仪器在本届光博会上展出最新的ContourGT非接触式三维光学形貌仪,具有优异的抗噪声特性,能实现定标性测量的重复性和再现性,拥有业界最高垂直分辨率,适用于对各种复杂精密元器件形状的高精度质量管理工作,精确测量表面形貌、台阶高度和表面粗糙度等。 客户服务热线:010- 5833 3252 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com 作为表面观测和测量技术的全球领导者,布鲁克公司纳米表面仪器部提供世界上最完整的原子力显微镜、三维非接触式光学形貌仪和探针式表面轮廓仪系列产品。布鲁克公司纳米表面仪器部一直着眼于研发新的计量检测方法和工具,不断迎接挑战,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。此外,还可根据工业生产中的操作模式和操作习惯,精简仪器功能,针对生产中的特定应用需求,为客户量身打造相匹配的仪器设备,简化生产过程的操作流程,提高工作效率。布鲁克的表面测量仪器广泛用于大学、研究所,工业领域的LED行业、太阳能行业、触摸屏行业、半导体行业以及数据存储行业等,进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析,提供符合需求和预算的最佳解决方案。ContourGT 光学形貌仪广泛应用于触摸屏、高亮度LED、太阳能电池、模具、零部件测量等各种领域该系列包括基本型ContourGT-K0,桌上型ContourGT-K1,中端型号ContourGT-X3,以及旗舰型号ContourGT-X8和ContourGT-X8 PSS(该型号专为高亮度LED的质量保证/质量监控而设计)等。每一种型号为用户的不同需求提供解决方案,以满足在精密制造和特定行业的要求,如高亮度LED、触摸屏、太阳能电池、隐形眼镜、半导体、硬盘、汽车和骨科等NPFLEX 三维表面测量系统为大尺寸工件精密加工提供准确测量布鲁克的NPFLEX 三维表面测量系统为大样品表面提供了灵活的非接触式测量方案,可广泛用于医疗植入、航空航天、汽车或精密加工上的大型、异型工件的测量。 基于白光干涉原理,NPFLEX 为用户提供超过接触式方法所能达到的更大数据量、更高分辨率和更好的重复性,使它成为独立或者互补的测量方案。开放式的拱门设计克服了以往某些零件由于角度或取向造成的测量困难,可实现超过300度的测量空间。NPFLEX的超级灵活性、数据准确性和测试效率为精密加工行业提供了一种简单的方法,来实现其更苛刻的加工要求、更高效的加工工艺和更好的终端产品。 客户服务热线:010- 5833 3252 邮箱:sales.asia@bruker-nano.com
  • 3D打印显微镜nSPEC 3D可捕捉纳米级三维图像
    2014年10月14日,世界上技术最先进的纳米成像(nanoimaging)技术解决方案开发商,Nanotronics Imaging宣布推出其最新的计算机控制显微镜&mdash &mdash nSPEC 3D。该公司是在田纳西州Nashville美国化学学会2014年国际橡胶会议上公布这一消息的。   nSPEC 3D配置了带先进的计算机模式识别算法的高品质光学镜头,定制化的3D打印硬件,具备人工智能,只需点击一下鼠标或做个手势即可捕捉纳米级的三维图像。   Nanotronics Imaging公司首席执行官Matthew Putman:&ldquo 我们的解决方案将使许多行业,包括工业材料、半导体、甚至是生物制药等,获得复杂的成像技术,可以提升他们的制造能力和快速、高效地操纵先进材料的能力。&rdquo 据了解,该公司开发nSPEC 3D的初衷就是为了解决工厂在对复杂材料进行高通量成像时所面临技术挑战&mdash &mdash 即无法捕捉3D图像中可重复的测绘图型及自动诠释功能。   与传统的实验室仪器不同,这款nSPEC 3D是由Nanotronics团队与纽约著名设计师Mari Kussman和Francis Bitonti合作设计的。通过将成像技术与3D打印技术相结合,可以以低得多的成本获得和使用纳米级图像。   Flow Polymers是领先的化学分散剂和加工助剂生产商,该公司首席执行官Michael Ivany称:&ldquo 我们对Nanotronics公司开发的nSPEC 3D兴奋不已,因为这款仪器有帮助行业优化产品的性能、使用寿命和稳定性。到现在为止,我们还没有找到一种仪器能够充分量化混合质量。&rdquo   在这次会议上,Nanotronics将利用Oculus公司虚拟现实技术与 Leap Motion的手势控制现场演示如何操作由 nSPEC 3D拍摄的纳米级3D景观展。
  • 布鲁克推出新款SKYSCAN 2214 CMOS版纳米级三维X射线显微镜
    2023年初,布鲁克发布了新款SKYSCAN 2214 CMOS版显微镜。这是一款基于纳米CT(计算机断层扫描)的多尺度X射线显微镜,适用于工业应用和学术研究。在CMOS版本中,SKYSCAN 2214平台引入了最新的科研及CMOS(sCMOS)探测器技术,将高分辨率的尖端X射线成像性能提升至新的水平。SKYSCAN 2214 CMOS版X射线显微镜SKYSCAN 2214 CMOS版本保留了创新的模块化设计,可配置多达四个探测器,用户只需触摸按钮,即可选择适合其样品及应用的探测器。这一独特设计包括一个600万像素(6 Mp)平板探测器和三个经过优化的1500/1600万像素(15/16 Mp)sCMOS探测器。这些探测器能够以优于500 nm的真实三维空间分辨率,提供高质量的视场。此外,由于动态范围大和超低噪声,这些新型sCMOS探测器在同一物体的高密度和低密度特征成像方面表现出色。功能全面的用户友好型3D.SUITE软件可实现便捷的数据采集、高级图像分析和强大的可视化功能,是对SKYSCAN 2214 CMOS版本的有力补充。这一强大的软件套件包括多项高级功能,例如,对螺旋扫描进行精确重建,可实现平面特征的无伪影成像,以及可变步长断层扫描,从而能够更高效地扫描高纵横比对象。此外,用相位还原算法对基于传播的相位对比X射线进行成像,可揭示那些只使用吸收对比成像的情况下被隐藏的特征。SKYSCAN 2214 CMOS版本采用低维护设计,从而延长了系统的正常运行时间,降低了使用成本。布鲁克AXS三维X射线显微镜产品线经理Geert Vanhoyland博士指出:“SKYSCAN 2214 CMOS版本经实践验证的超高分辨率纳米级CT是推动尖端材料科学(例如,开发轻质高强度复合材料)进步的关键因素。sCMOS探测器的视场显著扩大,因而能够以最高分辨率,提供泡沫结构等多孔材料的有统计意义的相关影像。此外,通过这些新型sCMOS探测器实现的影像质量提升而显著获益的当代研究领域还包括燃料电池,以及其他储能设备。”布鲁克BioSpin Micro-CT市场产品及应用经理Kjell Laperre博士表示:“SKYSCAN 2214 CMOS版本还可帮助推动临床前成像技术的进步。sCMOS探测器将扩展视场与真正的高分辨率相结合,支持对广泛样品进行体外成像,并提供对矿化组织和软组织的无伪影分析(例如,骨成像和牙科成像、肺成像或肿瘤血管化)。此外,在不断发展的动植物生物学研究领域,这套顶级的纳米级CT系统提供了以极高分辨率研究细小物体的终极工具。”
  • 扫描白光干涉表面形貌测量技术及应用——第二届精密测量与先进制造网络会议报告推荐
    高附加值产品中元器件的表面形貌,包括几何形状和微观纹理,对于其公差、装配和功能至关重要。表面形貌对制造工艺的变化非常敏感,由不同工艺形成的表面复杂且多样。表面形貌会影响零件的摩擦学特性、磨损和使用寿命,例如航发叶片的表面会影响飞机的空气动力学性能和燃料使用效率。扫描白光干涉术(SWLI),也称为相干扫描干涉术(CSI),是用于测量材料表面形貌最精确的技术之一。作为一种光学测量手段,扫描白光干涉术先天具有高精度、快速、高数据密度和非接触式测量等优势,被广泛应用于精密光学、半导体、汽车及航天等先进制造与研究领域。扫描白光干涉仪光路结构与成像原理示意图扫描白光干涉术经过30多年发展,在制造和科研领域得到验证,成为表面形貌高精度测量技术的标杆,尤其在半导体、精密光学和消费电子等产业的推动下,其测量功能和性能得到了持续提升。以扫描白光干涉术为代表的光学测量技术,充分利用了光的波动属性以及干涉和全息成像的优势,以光的波长作为“尺子”,在先进的光学、电子和机械元器件的支撑下,将在先进制造与智能制造中充当越来越重要的角色。第二届精密测量技术与先进制造网络会议期间,两位专家将现场分享扫描白光干涉技术及其在半导体行业的典型应用。部分报告预告如下,点击报名  》》》中国科学院上海光学精密机械研究所研究员 苏榕《扫描白光干涉表面形貌测量技术:原理及应用》(点击报名)苏榕博士,研究员,博士生导师,中国科学院及上海市海外高层次人才引进。长期致力于超精密光学干涉成像与散射测量仪器与技术研究,聚焦基础理论、核心算法、校准技术、工业应用及相关国际标准制定。主持多项国家和省部级重点研发项目;发表论文40余篇,书籍章节2章,部分技术被国际顶尖仪器制造商采用。担任期刊《Light: Advanced Manufacturing》和《Nanomanufacturing and Metrology》编委及《激光与光电子学进展》青年编委,SPIE-Photonics Europe、EOSAM和ASPE技术委员会委员,全国产品几何技术规范标准化技术委员会委员,中国计量测试学会计量仪器专业委员会委员,中国仪器仪表学会显微分会委员。【报告摘要】扫描白光干涉术是目前最精确的表面形貌测量技术之一,被广泛应用于各种工业与科研领域。从发明至今的三十余年间,在精密光学、半导体、汽车及航天等先进制造领域的需求牵引下,该技术不断取得新的进展与突破。本报告将介绍白光干涉技术的原理与应用,以及近年来的技术创新。布鲁克(北京)科技有限公司应用经理 黄鹤《先进封装工艺中三维几何尺寸监控的挑战与布鲁克白光干涉技术的计量解决方案》(点击报名)黄鹤博士现任布鲁克公司纳米表面仪器部中国区应用经理。服务于工艺设备和测量仪器行业超过15年,尤其在半导体、数据存储和材料表面工程研究领域拥有丰富经验,是一名材料学博士。黄鹤博士先后在香港理工大学任助研;在应用材料公司任高级应用工程师,负责化学机械抛光工艺和缺陷检测应用;在维易科公司任应用科学家,负责白光干涉三维形貌技术推广与导入。【报告摘要】在半导体行业路线图对不断缩小晶体管几何尺寸的快速追求的推动下,PCB/HDI尤其载板制造商正在通过更薄的高密度互连,将多芯片模块(包含芯粒)借由基板上开发更小、更密集的功能。在大批量生产过程中,对于更细线宽的铜线(Line)、更小开口的孔洞(Via)和深沟槽(Trench)及层间对位偏差(Overlay)等三维几何尺寸的测量面临多种新的挑战。而具备计量功能的 ContourSP 大型面板高效测量系统专门设计用于在制造过程中测量载板面板的每一层,确保在生产过程中最短的工艺开发时间、最高的产量、最长的正常运行时间和最稳定的测量结果。此外,本报告也会简略介绍白光干涉技术在晶圆封装时再布线工艺(RDL)监控中的典型应用。更多详细日程如下:第二届精密测量与先进制造主题网络研讨会报告时间报告题目报告嘉宾单位职称12月14日上午09:00-09:30纳米级微区形态性能参数激光差动共焦多谱联用测量技术及仪器赵维谦北京理工大学 光电学院院长09:30-10:00扫描白光干涉表面形貌测量技术:原理及应用苏榕中国科学院上海光学精密机械研究所研究员10:00-10:30先进封装工艺中三维几何尺寸监控的挑战与布鲁克白光干涉技术的计量解决方案黄鹤布鲁克(北京)科技有限公司应用经理10:30-11:00激光干涉精密测量技术、仪器及应用谈宜东清华大学 精密仪器系系副主任/副教授11:00-11:30关节类坐标测量技术于连栋中国石油大学(华东)教授12月14日下午14:00-14:30基于相位辅助的复杂属性表面全场三维测量技术张宗华河北工业大学教授14:30-15:00短脉冲光频梳激光测距技术杨睿韬哈尔滨工业大学副研究员15:00-15:30机器人精密减速器及关节测试技术程慧明北京工业大学 博士研究生15:30-16:00纳米尺度精密计量技术与国家量值体系施玉书中国计量科学研究院纳米计量研究室主任/副研究员16:00-16:30尺寸测量,从检验走向控制与孪生李明上海大学教授为促进精密测量技术发展和应用,助力制造业高质量发展,仪器信息网联合哈尔滨工业大学精密仪器工程研究院,将于2023年12月14日举办第二届精密测量技术与先进制造网络会议,邀请业内资深专家及仪器企业技术专家分享主题报告,就制造中的精密测量技术等进行深入的交流探讨。报名页面:https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/precisionmes2023/
  • 原位电镜观察双金属纳米粒子的结构形貌演变
    最近几年,随着基于贵金属(如Pt、Pd、Au等)的纳米催化剂被深入研究,人们开始把注意力转移到非贵金属催化剂(Fe、Co、Ni、Cu等)的可控合成和催化性质研究上。如果能够开发出替代贵金属的非贵金属催化剂,无论是从基础研究还是工业应用上来说都是非常有价值的。不过,从物理和化学性质来说,贵金属和非贵金属的区别还是非常大的。  考虑到金属催化材料一般是用来催化氧化还原反应,因此我们这里做一些简单的对比。对于贵金属来说,它们的纳米粒子一般来说性质比较稳定,经过还原后不太容易被氧化。即使在催化反应过程中,虽然位于表面的原子会发生价态的变化,但是对于纳米粒子的整体来说,这种价态的变化并不是那么的显著。相比之下,非贵金属的性质就更加难以控制和琢磨。对于Fe和Co来说,被还原后的金属纳米粒子非常不稳定,一旦接触空气就会被氧化。如果没有一些保护的配体或者载体,那么完全变成氧化物可能就是几秒钟的事。相对来说,Ni和Cu的金属态纳米粒子相对来说稳定一些。但是如果尺寸比较小(小于5 nm),也非常容易被空气氧化。在绝大部分加氢反应中,非贵金属的催化剂都需要经过一个预先的还原过程来进行活化。而我们在对催化剂进行表征的过程中,很多时候催化剂已经接触了空气,和实际反应条件下的样品有区别了。这种差异在非贵金属催化剂上体现的特别明显。图1. 通过Kirkendall效应,实心的Co纳米粒子被氧化形成空心的CoO结构。图片来源:Science  在氧化和还原的过程中,不仅仅是发生化学价态的变化,很多时候还会伴随着纳米粒子形貌的变化。十多年前,材料科学家们在制备Fe、Co纳米粒子的时候就发现这些实心的纳米粒子暴露空气后会逐渐被氧化,然后形成空心结构的CoO(Science, 2004, 304, 711)。这种现象可以用Kirkendall效应来解释。同时这也说明在化学态变化的同时,物质也在纳米尺度发生迁移。上述现象目前在非贵金属体系中比较普遍 而在贵金属体系则比较少见。考虑到在催化反应中,不光是催化剂的表面性质对反应性能影响很大,催化剂活性组分的几何结构也有至关重要的影响。因此,对于在氧化-还原过程中形貌会有显著变化的非贵金属催化剂,借助一些原位表征手段研究纳米粒子在氧化-还原过程中的结构演变就是很有意义的课题。  在2012年,来自美国Brookhaven国家实验室和Lawrence-Berkeley国家实验室的电镜科学家就借助环境透射电镜研究了CoOx纳米粒子被H2还原到金属Co纳米粒子的过程(ACS Nano, 2012, 6, 4241)。如图2所示,小颗粒的CoOx粒子在逐步还原的过程中会发生团聚,然后得到大颗粒的金属Co纳米粒子。图2. 通过原位电镜来观察CoOx还原到金属Co的过程。图片来源:ACS Nano  对于单组份的Co纳米粒子,情况可能还相对简单一些。对于双金属甚至更多组分的非贵金属纳米粒子,在氧化-还原条件下他们的结构演变就会变得更加复杂和有趣。最近,在2012年工作基础上,美国Brookhaven国家实验室的Huolin L. Xin博士和天津大学的杜希文教授等科学家用原位透射电镜研究了CoNi双金属纳米粒子在氧化的过程中形貌的变化(Nat. Commun., 2016, 7, 13335)。图3. CoNi合金纳米粒子逐渐被氧化为多孔的CoOx-NiOx结构。图片来源:Nat. Commun.  首先,作者考察了单个的CoNi合金纳米粒子在400 ℃下被氧化的过程。如图3a所示,实心的具有规则几何外形的纳米粒子是初始的材料。经过61秒后,在这个纳米粒子的棱角处可以观察到形貌的变化。随着时间的延长,可以明显的观察到表面形成了一层衬度较低一些的氧化层。经过了大概十分钟后,整个纳米粒子的形貌已经发生了显著的变化,说明Co和Ni在氧化的过程中不是静止的,而是在运动。再经过一段时间,实心的纳米粒子就会呈现一种核壳结构出现了氧化层和金属内核之间的明显界限。如果延长粒子在氧气气氛中的时间,金属态的内核会进一步的被氧化,直到变成一个具有多孔性质的氧化物结构(如图3b和图3c所示)。为了考察在氧化过程中Co和Ni两种元素的分布情况,作者对中间形成的结构进行了EELS elemental mapping。如图3所示,本来是充分混合的CoNi合金粒子经过氧化后,发生了部分的分离。在氧化后的粒子上,可以看到在表面形成了一个富含Co的薄层。在原文中,作者对这个氧化过程进行了三维的元素分析,确认了Co和Ni发生了空间上的部分分离。  为了解释在原位电镜实验中观察到的现象,作者对这个氧化过程进行了理论上的计算和分析。通过经典的固体物理和物理化学的理论,作者比较了Co和Ni的氧化趋势的强弱,发现Co更容易被氧化。同时,作者还考察了Co和Ni在氧化过程中的速率,发现Co具有更前的结合O的能力,也更容易在氧化的过程中发生迁移。这样结合起来就解释了在原位电镜实验中观察到了Co和Ni发生部分的分离的现象。  总的来说,这项工作发现了非贵金属纳米粒子中一些有趣的现象。而这些现象其实和催化过程都是有紧密的关系,可以帮助我们更好的理解非贵金属催化剂在氧化-还原条件下的一些行为。
  • 《Water Research》:黑磷纳米片与水中黄腐酸机理研究新进展,便携式原子力显微镜揭秘形貌变
    【论文信息】Enhanced degradation of few-layer black phosphorus by fulvic acid: Processes and mechanisms期刊: Water Research IF 13.4DOI: https://doi.org/10.1016/j.watres.2023.120014 【背景概述】黑磷纳米片是一种与石墨烯相似的具有类似层状结构的二维纳米材料。由于其具有优秀的导电特性与可调控的能带结构,黑磷纳米片已被广泛应用于电池储能、癌症治疗、电催化和光催化固氮等领域。但是,由于第五主族的磷原子上存在孤对电子,导致黑磷纳米片很容易被氧化,尤其当黑磷纳米片被排放到水中时,该材料很容易被水中所溶解的氧气分解,形成磷氧阴离子,如果大量的黑磷纳米片被排放到自然水体中,其分解物质将会给水生生物带来氧化应激和发育毒性,严重制约了黑磷的应用。此外,磷氧阴离子还会刺激小球藻的过量繁殖,导致水体的过营养化。之前关于黑磷纳米片在水中氧化分解的研究,主要集中在氧气含量,PH值对黑磷纳米片氧化分解速度的影响,对于黑磷纳米片与自然水体中广泛存在的黄腐酸之间的作用尚未充分研究。 近日,中国地质大学何伟教授课题组与德国达姆施塔特工业大学强强联合,对不同黄腐酸浓度条件下的黑磷纳米片的分解进行了系统性研究。在研究中,通过利用便携式原子力显微镜(AFM)对黑磷纳米片和黄腐酸的二维、三维形貌进行了系统的微观表征。根据相关AFM表征结果,提出了在黄腐酸的参与下,黑磷纳米片的分解机理。相关研究成果已发表在水科学高水平期刊《Water Research》上。 【图文导读】图1. 在氧化-光照条件下,黑磷纳米片在不同浓度的黄腐酸(0,2.5,5 mgC/L)中的降解动力学过程,(a)总磷-氧阴离子(Δ[O-P]),(b)次磷酸盐(H2PO2-),(c)亚磷酸盐(HPO32-),和(d)磷酸盐(PO43-)。图2. 在氧化-光照条件下,黑磷纳米片在不同浓度的黄腐酸中降解前(a,b和c)和降解后(d,e和f)的透射电镜表征。黄腐酸在图中用红色圆圈圈出。图3. 在原液中的黑磷纳米片微观表征。(a)用nGauge对样品进行AFM三维形貌表征,(b)透射电镜表征,(c)nGauge对样品的AFM二维表征结果,(d)nGauge AFM对(c)中划线部分,黑磷样品的高度测量数据,和(e)经AFM测量样品厚度的直方图统计图。图4. 在原液中的黄腐酸微观表征。(a)用nGauge对样品进行AFM三维形貌表征,(b)透射电镜表征,(c)nGauge对样品的AFM二维表征结果,(d)nGauge AFM对(c)中划线部分,黄腐酸的高度测量数据,和(e)经AFM测量样品高度的直方图统计图。图5. nGauge AFM表征黑磷纳米片在降解前(a)和在氧化-光照条件下降解43天后的形貌结果。((b)黄腐酸浓度0 mgC/L,(C)2.5 mgC/L,和(d)5 mgC/L)图6. 在降解反应前和反应后黑磷纳米片的XPS光谱中C1s峰(a)和P2p峰(b)的表征结果。图7. 黄腐酸存在或不存在的条件下,黑磷纳米片的降解机制。本研究中是按照(3)的路径对黑磷纳米片进行降解。 【结论】何伟教授课题组利用便携式原子力显微镜(AFM),大量测量黑鳞纳米片和黄腐酸在反应过程中二维和三维形貌的表面变化,同时借助XPS等其他技术手段,研究了黑鳞纳米颗粒在不同浓度黄腐酸条件下的分解过程与机理。实验结果表明,黄腐酸的存在,在无氧和有氧条件下均可加快黑鳞纳米片在水中的分解,在光照条件下可以产生更多的次磷酸盐,在无光的条件下主要提高磷酸盐的产生。 本文中研究人员使用的便携式原子力显微镜(AFM)是加拿大ICSPI公司设计和研发的,其基于特有的芯片式自感应探针技术,摆脱了传统AFM对激光的依赖,给AFM带来了里程碑式的变化!同时,设备具有小巧、灵活、方便携带、操作简单、扫描速度快、可扫描大尺寸样品、无需后续维护、无需减震超级稳定等优点,非常适合科研研究、高等教育、工业检测等领域的客户,尤其对于需要在户外和非实验室获得原子力显微镜(AFM)表征的用户来说,是一款不可或缺的设备!ICSPI公司便携式原子力显微镜(AFM),左)Redux AFM 右)nGauge
  • 布鲁克携三维形貌计量新品亮相SEMICON CHINA 2021
    自1988年首次在上海举办以来,SEMICON CHINA 已成为中国首要的半导体行业盛事之一,它囊括当今世界上半导体制造邻域主要的设备和材料厂商。SEMICON CHINA见证了中国半导体制造业茁壮成长,加速发展的历史,也将为中国半导体制造业未来的强盛壮大做出贡献。2021年3月17日,SEMICON CHINA 2021在上海新国际博览中心隆重召开。作为世界领先的分析仪器公司之一,布鲁克携其半导体解决方案亮相SEMICON CHINA 2021。布鲁克展台在此次布鲁克参展的产品中,一台台式全自动三维形貌计量的新品吸引了观众的目光。白光干涉仪 Contour X这款白光干涉仪Contour X(三维光学轮廓仪)是世界上最全面的快速,非接触式3D表面计量自动化台式系统。该系统集成了布鲁克专有的自动倾斜光学测头,可以完全编程并自动测试一定角度范围内的表面特征,并能最大程度地减少跟踪误差。据了解,Contour X-500满足计量要求,具有无与伦比Z轴分辨率和准确性,并在更小的占地面积内提供了布鲁克的白光干涉仪(WLI)落地式型号所有业界的优点。利用业界最先进的用户界面,CountourX-500可以直观地调用多种预设好的滤镜和分析工具。借助其新的USI通用扫描模式,本产品可以轻松地针对各种复杂应用场景定制分析方法。这些场景涵盖了从精密加工表面和半导体工艺制程,到眼科和MEMS器件的R&D表征。
  • 楚光三维完成近千万天使轮融资
    9月19日消息,光学微纳3D传感器制造企业「楚光三维」完成近千万元人民币天使轮融资,该轮融资由峰瑞资本独家领投。据了解,该轮融资将被用于下一代精密光学三维成像技术平台的研发投入、早期团队建设以及新产品开发。公司以光谱共焦成像技术切入,致力于打造下一代精密光学三维成像技术平台,立志成为全球领先的微纳米级光学三维感知和量测检测仪器提供商。对于本轮融资,峰瑞资本(FreeS Fund)早期项目负责人李罡表示,随着由下而上的先进制造工艺能力及其应用推动的相关行业不断快速的发展,高精度成像,特别是微纳三维成像的需求也将快速增加。“楚光团队凭借多年的行业经验和科研积累,依托光谱共聚焦,编码成像等技术成果基础,能够快速地为微纳三维结构的高速高精度测量提供解决方案。相信在相关产业升级和先进制造的浪潮下,楚光能成为领先的精密量测平台企业。”湖北楚光三维传感技术有限公司成立于2022年11月,总部设立于湖北武汉光谷,是一家依托华中科技大学仪器科学与技术系,在光学微纳三维感知和量测领域有二十余年科研及项目开发经验,拥有多项核心专利的光学微纳3D传感器技术研发企业。楚光三维两款核心产品的光谱共焦技术原理楚光三维第一款产品“线光谱共焦3D传感器”工程样机已准备完成,是国内首批进入量产的线光谱共焦类产品,第二款产品 “面共焦3D显微传感器”原型机已打磨完成,是全球首款“面阵光+共焦成像”技术商业化产品,可实现微纳三维高效高分辨率量测检测。线光谱共焦3D传感器原理是,利用色散光学,经过高精度双轴共焦与成像系统,将样品高度信息编码到波长,相机捕获波长编码和强度信息,形成样品的高度轮廓线。沿水平方向扫描样品,对扫描区域逐行生成高度轮廓线并分析和处理,即可生成样品亚微米级精度的3D形貌、3D多层形貌。楚光三维另一款产品“面共焦3D显微传感器”,可实现“快照式”微纳3D显微成像。其原理是,基于高精度同轴共焦成像方法和主动显微照明技术,将宽频率范围的结构光投射到被测样品表面,进而通过显微镜抓取表面结构光成像并层析分析,重建表面形貌,即可获得被测表面结构微纳3D形貌、3D多层形貌。团队构成上,楚光三维具备华中科技大学仪器科学与技术系的专家科研团队,以及10余年三维成像市场化从业经历的的工程化运营团队。其中,楚光三维首席科学家刘晓军教授,长期从事微纳米3D测量技术攻关,完成多项国家级重点项目,在光学微纳3D感知与量测领域具有大量技术积累。楚光三维创始人兼CEO李敏是一名连续创业者,先后在半导体、3D视觉初创公司担任联合创始人 和业务负责人。商业化上,楚光三维的第一款产品“线光谱共焦3D传感器”去年已经完成了工程样机,并完成了多次工程机的迭代,计划今年完成量产。此外,尽管产品还在测试中,该样机已经有意向订单。
  • 475.6万元!蔡司中标中科院物理所微米X射线三维断层成像仪采购项目
    近日,中国科学院物理研究所微米X射线三维断层成像仪采购项目发布中标公告,卡尔蔡司以475.6万元中标。一、项目编号:TC220805G(招标文件编号:TC220805G)二、项目名称:中国科学院物理研究所微米X射线三维断层成像仪采购项目三、中标(成交)信息供应商名称 货物名称 货物品牌 货物型号 货物数量 货物单价(元) 卡尔蔡司(上海)管理有限公司 微米X射线三维断层成像仪(X射线显微镜) Zeiss Xradia 515 Versa X射线显微镜 1 4756000 四、招标技术规格1.1 设备用途:设备可对对各类锂电池材料(软包电池,电池极片)、金属材料、油气地质及半导体样品(失效分析)进行高分辨无损三维成像及组织表征。设备采用闭管透射式X射线源、独特的二级放大架构、独有的衬度技术、配合机器的三维数据采集、控制、重构及可视化软件以三维立体图像及二维虚拟切片的形式,清晰、准确、直观地展示各类样品内部的亚微米级及以上的组织形貌(包括样品内部组织结构、内部孔隙、微裂纹等均可清晰展示)。1.2 工作条件:(1)电源:单相 220V(±5%)、50Hz、15A(2)温度:10~25℃, 温度波动<2℃(3)环境湿度:≤70%,无凝结*2.1 分辨率2.1.1 最高空间分辨率:最高三维空间分辨率≤700nm,需提供标样的测试结果,否则视为不响应;2.1.2 最小可实现的体素(Voxel Size)≤300 nm,需提实际样品的测试切片照片,否则视为不响应;2.1.3 能够满足大样品高分辨得测试需求,须具备对锂电池材料中的软包电池实际样品局部进行高分辨率扫描成像,针对≥5cm 宽的软包电池样品的中心位置,可实现≤ 1μm 的体素分辨率的扫描成像能力,以满足采购人单位的科研需求。2.2 三维组织表征及重构2.2.1 无损伤地对样品进行三维组织表征,可获得样品的三维组织形貌及不同角度、不同位置的虚拟二维切片组织形貌信息。不需制样或只需简单制备,不需真空观察环境,不会引入人为缺陷;#2.2.2 能够自动对样品多个(20)不同区域进行 3 维成像扫描和重构;#2.2.3 具有吸收衬度和可调节相位传播衬度两种衬度模式,可以对包括高原子序数和低原子序数在内的各种材料都能获得高衬度图像。能够清楚区分样品内的不同组织;2.2.4 支持纵向拼接技术,通过纵向拼接扫描结果获得更高视野的数据;具有支持宽视场模式的物镜探测器,具备更宽的视野;*2.2.5 2000 张投影,重构 1k × 1k × 1k 图像的时间少于 5 分钟;2.2.6 支持 180°+Fan 扫描模式,从而实现快速扫描成像。2.3 光源与滤色片及支架*2.3.1 高功率微焦点 X 射线源:采用密封式透射 X射线源,功率≥10W,机器可以不间断连续扫描样品时间达 1 周以上(即 7 x 24 小时)。在用户日常使用过程中无需更换光源灯丝。最大电压≥155kV,最低电压≤30kV,连续可调;2.3.2 配备滤色片转换支架,包含不低于 10 个适用于不同能量段扫描的滤片。2.4 探测器*2.4.1 探测器规格为高对比度平板探测器或更高级的探测器系统,可实现二维有效探测面积≥200mm×200mm,需提供测试方案和样品测试结果,否则视为不响应。像素数量≥2000(长)×2000(宽);2.4.2 具备大视场≤0.4X 光学放大模式,能够实现大视野宽场模式;2.4.3 探测器可移动范围不小于 290mm。2.5 样品台及样品室#2.5.1 全电脑软件控制高精度 4 轴数控可编程马达样品台,具备超高的样品移动精度;#2.5.2 样品台 X 轴运动范围 50mm;Y 轴运动范围 100mm;Z 轴运动范围 50mm;2.5.3 样品台旋转运动范围:360 度旋转;*2.5.4 样品台最大承重≥10kg(X 射线能穿透的情况下);*2.5.5 样品台可承受样品尺寸≥100 cm2;*2.5.6 为了防止 X 射线辐射泄漏、保护仪器操作人员,设备须采用全封闭式铅房设计,样品室内配备可见光相机,确保操作人员无需通过观察玻璃窗即可监控和操作样品;*2.5.7 系统具备样品自动防撞装置,系统通过快速获取样品轮廓信息,设定硬件工作极限位置,防止因为操作不当样品和探测器、源相撞,避免损坏硬件和样品。2.6 仪器控制与数据采集、重构、可视化及分析系统*2.6.1 具备三维数据采集及控制软件,可编程软件系统,支持三维重构,具备快速抓拍功能;2.6.2 全数字化仪器控制,计算机控制工作站;2.6.3 支持原始数据查看,图像标准特征显示(如亮度、对比度、放大等)、注释、测量等;2.6.4 可以进行基本图像测量,如图像计算、滤镜等;#2.6.5 具备快速三维数据重构软件,软件界面友好,采用先进的解析算法以保证重构时间快;2.6.6 具备三维数据可视化软件,展示三维重构结果,包括虚拟断层,着色、渲染、透视等,并实现基本分析功能和注释;#2.7 数据处理工作站不低于以下配置Microsoft Windows10 Pro 操作系统Dual Eight Core CPUCUDA-enabled 3D GPU12 TB(4×3 TB)硬盘容量,RAID-532GB 内存可刻录式光驱24寸液晶显示器。2.8 样品座及标样2.8.1 对中和分辨率测试标样;2.8.2 针钳式样品座;2.8.3 夹钳式样品座;2.8.4 夹持式样品座;2.8.5 高铝基座样品座;2.8.6 高精度针钳式样品座。2.9 其他硬件2.9.1 人体工学操作台;2.9.2 四门式防辐射安全屏蔽罩,配备辐射安全连锁装置和“X-ray on”指示器;2.9.3 大移动范围、高精度花岗岩工作台。2.10 可扩展功能与双束系统、场发射电镜的数据相互关联,可将 CT 所获得的数据文件格式如 CZI, RAW,TIFF,VTK,DICOM 等格式的二维图像和 TXM 3D X-ray volumes 体量数据,导入到电镜或者双束系统的软件中,实现亚微米级到纳米级的数据关联以及数据处理。
  • ETH Zurich Norris教授课题组:3D纳米直写技术助力任意形貌六方氮化硼(hBN)纳米3D结构的制备
    【引言】六方氮化硼(hBN)单晶纳米片的原子平滑表面,为光电应用领域带来了革 命性的突破。在纳米光学方面,hBN的强非线性、双曲线色散和单光子发射等特性,为相应的光学和量子光学器件带来一些有性能。在纳米电子学领域,良好的物理,化学稳定性和较宽的禁带,使hBN成为二维电子器件的关键材料。目前,对hBN的研究重点局限于二维扁平结构,尚未涉其3D立体结构对性能的影响。如果能根据需求对hBN纳米片的高度做出相应调整,将为下一代光电器件中调节光子流,电子流和激子流等性能提供一个有效的方法。 【成果简介】近日,Norris教授课题组利用3D纳米直写技术和反应离子刻蚀的方法制备出可任意调控形貌的hBN纳米3D结构。此类hBN纳米3D结构在光电子器件研究领域尚属次。得意于3D纳米结构高速直写机(NanoFrazor)在光刻胶上能实现亚纳米精度的加工,Norris教授课题组运用该方法制备了光电子学相板、光栅耦合器和透镜等元件。获得的元件通过后续组装过程制备成高稳定、高质量的光学微腔结构。随后,通过缩小图形长度比例的方法,引入电子傅里叶曲面,在hBN上实现复杂的高精度微纳结构,展现了NanoFrazor在3D纳米加工领域的潜力。【图文导读】图1. 使用NanoFrazor制备hBN纳米3D结构流程图(a)左图为利用NanoFrazor在光刻胶表面上实现3D结构制备,右图为通过反应离子刻蚀方法将光刻胶上的3D结构转移到hBN的流程;(b)Mandelbrot分形图案刻蚀在光刻胶上的结果。黑色代表图形的 高处,白色为 低处;(c)光刻胶上的Mandelbrot分形图案通过图(a)中的过程转移到hBN上的结果;(d)图(c)中hBN的SEM(倾转30o)表征结果。图2. 利用NanoFrazor在hBN上制备任意形貌的纳米3D结构(a)白色中线左侧为准备的高密度图形样图,右侧为通过NanoFrazor将高密度图形转移到hBN后的实际结果;(b)将图(a)中的图形转移到hBN后的SEM表征结果;(c)AFM测量图(a)中红色虚直线所示部分的表面形貌;(d)hBN纳米3D结构的高分辨成像,左下角厚度为95 nm,右上角厚度为50 nm;(e)AFM测量hBN中高密度方形结构(29 nm)周期性图样结果,体现了NanoFrazor对制备结构的高度可控性;右上角插图是该周期性结构的快速傅里叶变换(FFT)结果。 图3. 利用NanoFrazor制备的hBN光学微纳元件(a)在130 nm厚hBN上制备螺旋相位板阵列的光学表征结果;(b)单个螺旋相位板的AFM结果;(c)具有球形轮廓的hBN微透镜光学显微照片;(d)微透镜理论图样(左侧)和实际制备结果(右侧)比较;(e)光学微腔的示意图,镜、底镜、hBN微透镜(蓝色)和带横向限制(黑色箭头)的腔模式(红色);(f)拥有hBN微透镜的微腔角分辨光谱结果;(g)根据制备的微腔几何结构所计算的横向Ince-Gaussian模分布结果;(h)测量的横向Ince-Gaussian分布结果。图4. hBN上制备的电子傅里叶曲面(a)具有六边形晶格的电子傅里叶曲面位图;(d)将两个六边形晶格与一个在平面上旋转10°的晶格叠加而成的位图;(g)两个叠加的六边形晶格的位图,周期分别为55和47 nm,无平面内旋转;(j)将九个位图分别在平面内旋转0、20、40、60、80、100、120、140和160°后的叠加效果;(b)、(e)、(h)、(k)为使用NanoFrazor在光刻胶上制备(a)、(d)、(g)、(j)中图形时所获得的结果;(c)、(f)、(i)、(l)、是把(b)、(e)、(h)、(k)中的图案刻蚀在hBN上的AFM测量结果;(a)-(l)中的插图代表着相应图案的FFT结果。【小结】本文利用NanoFrazor有的3D纳米直写技术在hBN上实现了复杂高精度纳米3D结构的制备,为光电器件性能的应变调控和能带结构调控带来了新的研究方向。这一研究结果表明,NanoFrazor在开拓双曲线超材料、化电子、扭转电子、量子材料和深紫外光电器件等领域新的研究方向上有着重要的作用。
  • 3D打印制芯片 西湖大学实现国内最高精度三维精密制造
    p style=" line-height: 1.5em " & nbsp & nbsp & nbsp 一根细细的金属探针正在一块名片大小的电路板上循环画圈,探针内流下的液体逐渐围成一个圆环。“这是我们通过3D打印而成的微电极阵列,再用硅胶进行二次加工后,可用于药物机理检测等领域,检测效率将大大提升。”日前,在西湖大学精密智造实验室,正在显示屏前监测情况的西湖大学工学院周南嘉实验室博士生朱沛然对记者说。 /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em "   西湖大学工学院特聘研究员周南嘉团队自主研发的这项微米级精度三维精密制造技术,是目前国内最高精度的电子3D打印技术,以新材料作为突破3D打印精度极限的核心,设计全新的3D打印功能材料,实现了百纳米至微米级别电子3D打印。 /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em "  “我们开展的最小尺度的3D打印,就是直接在芯片上用3D打印进行加工。”周南嘉说。周南嘉团队将3D多材料打印技术引入芯片级高端制造领域,利用3D打印技术进行三维高精度光电封装、制造高频无源器件,例如可将天线尺寸缩小到十微米至百微米级别。周南嘉介绍,这一做法较现有的加工方式,在精度上提升了1个到2个数量级,从而让3D打印技术得以应用到毫米波技术、光通讯、微型机器人、柔性电子等领域,为未来小型化、集成化、个性化电子设备提供新的制造方案。 /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202011/uepic/8b30d035-636c-4309-892f-b615fbb5a600.jpg" title=" t011b1664dd6ab99891.webp.jpg" alt=" t011b1664dd6ab99891.webp.jpg" / /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em text-align: center " span style=" font-family: 宋体, SimSun " strong span style=" color: rgb(63, 63, 63) " 西湖大学工学院特聘研究员& nbsp 周南嘉 /span /strong /span /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em " & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 当下,电子与光学领域核心功能器件与系统加工对技术精度的要求越来越高,传统工艺难以满足产品需求;同时,目前市场上为人所熟知的3D打印主要以激光烧结、光固化等工艺为主,其产品主要为金属、航空件以及塑料等聚合物,但这些3D打印产品往往仅具备结构而无法功能化。这些都成为当下相关行业领域的痛点。 /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em " & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp 在周南嘉看来,3D 打印并不只是能够实现具体的结构,更重要的是实现特定的功能。依托西湖大学精密制造实验室及浙江省3D微纳加工与表征重点实验室,周南嘉以精密增材制造技术为核心,基于先进功能材料和三维集成技术方面的优势,开发了多材料、多尺度的灵活加工工艺。 /p p style=" margin-top: 10px line-height: 1.5em " & nbsp & nbsp “在超高精度 3D 打印方面,工艺本身并不复杂,要实现超高精度以及多样化功能,真正在实际应用上取得突破,从源头出发,实现材料方面的突破才是关键。”周南嘉说。通过材料和技术两方面的努力,突破目前的打印精度之后,其团队自主研发的微米、亚微米级3D打印技术与材料体系成功解决了这些难题。“其实,今后生活中常见的显示屏、手机、可穿戴设备、无人机、汽车导航、医疗健康仪器等许多电子产品的‘内脏’里,就能找到我们产品的身影。”周南嘉说。 /p
  • Analytical Chemistry封面文章 - 扫描电化学显微镜实现纳米级高分辨图像测试
    “根”本不一样的精彩——扫描电化学显微镜实现纳米级高分辨图像测试 近日,天津大学纳米中心(TICNN)马雷教授课题组的在读博士生刘根利用自主研制的~50 nm探针和最小化应用电压方案,实现了50 nm的电化学图像分辨率,从而解决了SECCM高分辨测试中液滴针尖的稳定性问题。其论文Topography Mapping with Scanning Electrochemical Cell Microscopy作为封面文章发表在Analytical Chemistry期刊上,原文链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.analchem.1c04692。SECCM纳米级高分辨率图像扫描电化学显微镜能够能够同时实现样本被研究表面局部形貌和电化学信息获取,扫描探针与样本通过半月形微液滴接触,对样本形貌无损伤,无需脱水,固化、金属喷涂等复杂的预处理。还可以通过移液管向材料表面进行定量物质传送,因此SECCM在纳米材料沉积、电化学微传感器和电催化等方面有广泛的应用前景。△图为2022年帕克AFM奖学金获得者刘根与Park NX10原子力显微镜合照 经过反复的测试与实验,该课题组利用自主研制的~50 nm直径探针及SECCM测试方案,最终得到了纳米级别的的高分辨率图像。同时也成功得到了~45 nm自组装单层金纳米颗粒的形貌和电化学产氢反应的活性图像。这项研究成果不仅能够在纳米尺度实现了SECCM的常规化测试,还能同时得到样品的形貌和电化学活性信息。该项研究成果为真正意义上的常规化测试迈出了坚实重要的一步,并极大扩展了SECCM在不同领域的应用。 工欲善其事,必先利其器。Park NX 10在该研究起到了重要作用。“SECCM测试中使用的是50 nm左右的小探针,这意味着pA级别的小电流。而且多数时候,这一数值会小于1.0 pA。这对体系的稳定性有着极高的要求。而Park NX 10体系则很好的满足了这一需求。此外,Park AFM体系的z-方向位移台,可以稳定地运行0.1 μm/s的进针速度,提供0.1 nm的高分辨率,这均满足了SECCM测量中对硬件的极高要求,极大地增加了测试的可行性和成功率。”刘根同学介绍道。在此,Park表示将竭心为用户推出易于操作、测量精准、升级创新的AFM,助力科研。并预祝马雷教授课题组能够取得更多优异的科研成果,为国家的纳米科技增光添彩!
  • 『爆裂推荐』便携式原子力显微镜(AFM)全新上线!AFM纳米形貌表征从未如此简单!
    近期,QuantumDesign中国引进了加拿大ICSPI公司设计和生产的便携式nGauge原子力显微镜(AFM),该设备基于其有的芯片式自感应探针技术,摆脱了传统AFM对激光的依赖,带给了传统AFM革命性的变化! nGauge便携式芯片原子力显微镜(AFM)具有小巧灵活、方便携带,操作简单,扫描速度快,可扫描大尺寸样品,无需维护、无需减震、超稳定等优点,适合各类纳米表征应用场景,从科学研究、高等教育到工业用户的样品3D表面形貌快速成像分析等,革命性的创新技术大的降低了传统AFM的复杂操作,也大的拓宽了传统AFM的应用范围!图1. nGauge便携式芯片原子力显微镜(AFM)实物图。左图为使用状态,右图为收纳状态。nGauge便携式原子力显微镜(AFM)特点:更小巧,更便携拥有的AFM微纳机电芯片,使得nGauge原子力显微镜(AFM)系统仅有公文包大小,可随身携带。 更简单,更易用只需点击鼠标三次即可获得样品表面纳米形貌信息,无需配置减震平台。 更高性价比扫描速度快,可扫描大尺寸样品。一个针可以进行上千次扫描,无需繁琐的更换针操作和其他后期维护工作。 部分应用案例:材料 - 钢铁抛光样品表面检测光学显微镜图像nGauge AFM三维成像生物 - 皮肤样本光学显微镜图像nGauge AFM三维成像器件 - 微纳光学器件检测SEM图像nGauge AFM三维成像光电子器件检测SEM图像nGauge AFM三维成像部分文章列表:[1]. Zhao, P., et al., Multiple antibiotics distribution in drinking water and their co-adsorption behaviors by different size fractions of natural particles. Science of The Total Environment, 2021. 775: p. 145846.[2]. Guo, P., et al., Vanadium dioxide phase change thin films produced by thermal oxidation of metallic vanadium. Thin Solid Films, 2020. 707: p. 138117.[3]. Connolly, L.G., et al., A tip-based metrology framework for real-time process feedback of roll-to-roll fabricated nanopatterned structures. Precision Engineering, 2019. 57: p. 137-148.[4]. O' Neill, C., et al., Effect of tooth brushing on gloss retention and surface roughness of five bulk‐fill resin composites. Journal of Esthetic and Restorative Dentistry, 2018. 30(1): p. 59-69. 部分已有用户:样机体验:为了更好的服务客户,Quantum Design中国引进nGauge便携式芯片原子力显微镜样机,为大家提供样机体验机会,还在等什么?赶快联系我们吧! 电话:010-85120277/78 邮箱:info@qd-china.com,期待与您的合作!
  • 工业三维视觉检测厂商板石智能获数千万元pre-A轮融资
    近日,工业三维视觉检测公司板石智能获数千万元pre-A轮融资,本轮融资由深创投领投,国科嘉和、辅晟资本跟投,老股东国宏嘉信追投。本轮融资资金将主要用于产品研发、市场推广和团队搭建等方面。围绕三维视觉检测,成立于2018年的板石智能,主要针对消费类电子、汽车、半导体等市场提供软硬结合的工业三维视觉检测产品。目前,已推出的产品包括通用型微观3D形貌测量系统、白光干涉检测设备和计算相位三维测量系统等产品。具体来看,板石推出的微观3D形貌测量系统,重复精度可以达到0.03纳米,其采用非接触式的干涉原理,可以在避免对产品造成损伤的情况下,进行纳米级的检测。而激光相位三维测量系统,核心算法由板石智能自主研发,不但可以实现纳米级的高精度,还可以达到毫秒级的检测速度,实现在线检测。板石智能产品板石智能创始人兼CEO程恒恒表示,相位检测的原理可以简单理解为通过收集光强信号并将之转化为相位信号,再对相位信号进行重构计算从而反推出产品的三维形貌。由于省去了传统机械性的物理扫描过程,所以检测的速度更快且精度更高。但随之而来的难度就在于算法,由于光学衍射极限制约了检测的高精度,所以板石智能在软件算法上采用了模型对比的方式。通过自研的硬件设备收集产品的周期性形貌波形,再跟已有的标准模型进行匹配,从而计算出产品的三维结构特征。在算法层面,根据检测需求板石智能自主研发了渐进高度检测、渐进轮廓检测、无损检测等多项算法。能够对产品进行任意位置的连续测量,同时,也可以通过无损拼接的方式,弥补高精度硬件有限的视野痛点,实现大视野的高精度检测,能够满足90%以上的检测需求。近年来三维检测被不断重视,但在实际应用中,由于三维检测的下游客户应用场景高度离散,导致大多数厂家为项目集成性质,需要进行大量的定制化开发,由此不仅耗费的人力物力成本高昂,且部署周期也较长。基于此,板石智能从最初就重点关注产品的通用性,通过自研软件、硬件设备,并聚焦于相对标准化的检测场景,从而开发出行业通用的三维视觉检测产品,其陆续推出先进的SST和GAT算法,可以广泛应用于新能源、半导体、3C等行业,极大提高生产效率和检测精度。板石智能产品团队方面,板石智能的核心创始团队多出身于全球最大的工业视觉检测产品供应商---基恩士,在工业视觉检测方面具备丰富的落地经验。其中核心技术团队由多位博士和视觉领域的技术专家组成,现有硕士、博士研发团队近30人。在核心光路设计、光学成像方面,有多项技术成就在nature communications等顶刊发表。作为本轮领投方,深创投智能制造首席研究员崔鹏翔表示:“无论基于中国制造高端化、智能化升级的行业趋势,还是高端装备自主可控的急迫需求,精密视觉检测都有广阔场景和美好未来。板石智能团队优秀且全面,兼具行业认知、原研能力、市场理解,有极佳的化学反应。板石智能成立以来,产品路线与商业路径合理清晰,拥有完整的短中长期产品矩阵规划和实施路径,在很短的时间内完成解决方案到核心设备国产替代再到技术前瞻性原创,难能可贵。板石智能核心产品性能指标行业领先,已经取得了头部客户的认可,新产品进展顺利,线激光、激光相位系统等陆续推出。我们看好板石智能,继续为国产精密仪器争光添彩。”
  • Analytical Chemistry封面文章 I 扫描电化学显微镜实现纳米级高分辨图像测试
    “根”本不一样的精彩——扫描电化学显微镜实现纳米级高分辨图像测试近日,天津大学纳米中心(TICNN)马雷教授课题组的在读博士生刘根利用自主研制的~50 nm探针和最小化应用电压方案,实现了扫描电化学纳米级别的成像,有效的解决了SECCM高分辨成像中液滴针尖的稳定性问题。其论文Topography Mapping with Scanning Electrochemical Cell Microscopy作为封面文章发表在Analytical Chemistry期刊上。△SECCM 纳米级高分辨图像扫描电化学显微镜能够能够同时实现样本被研究表面局部形貌和电化学信息获取,扫描探针与样本通过半月形微液滴接触,对样本形貌无损伤,无需脱水,固化、金属喷涂等复杂的预处理。还可以通过移液管向材料表面进行定量物质传送,因此SECCM在纳米材料沉积、电化学微传感器和电催化等方面有广泛的应用前景。△图为2022年帕克AFM奖学金获得者刘根与Park NX10原子力显微镜合照经过反复的测试与实验,该课题组利用自主研制的~50 nm直径探针及SECCM测试方案,最终得到了纳米级别的的高分辨率图像。同时也成功得到了~45 nm自组装单层金纳米颗粒的形貌和电化学产氢反应的活性图像。这项研究成果不仅能够在纳米尺度实现了SECCM的常规化测试,还能同时得到样品的形貌和电化学活性信息。该项研究成果为真正意义上的常规化测试迈出了坚实重要的一步,并极大扩展了SECCM在不同领域的应用。工欲善其事,必先利其器。Park NX 10在该研究起到了重要作用。“SECCM测试中使用的是50 nm左右的小探针,这意味着pA级别的小电流。而且多数时候,这一数值会小于1.0 pA。这对体系的稳定性有着极高的要求。而Park NX 10体系则很好的满足了这一需求。此外,Park AFM体系的z-方向位移台,可以稳定地运行0.1 μm/s的进针速度,提供0.1 nm的高分辨率,这均满足了SECCM测量中对硬件的极高要求,极大地增加了测试的可行性和成功率。”刘根同学介绍道。△2022年帕克AFM奖学金证书在此,Park表示将竭心为用户推出易于操作、测量精准、升级创新的AFM,助力科研。并预祝马雷教授及其课题组在未来可期的日子里取得更多优异的科研成果,为国家的纳米科技增光添彩!
  • 直击现场 | 4.5米长焊接件FreeScan UE 20分钟完成高精度三维扫描!
    FreeScan UE系列激光手持三维扫描仪控制软件升级后,扫描速度得到大幅提升。本期,小编就和我们的技术工程师来到了客户现场,体验我们FreeScan UE扫描的速度以及流畅性,并感受高精度三维扫描为客户带来的生产效率提高以及产品准确性把控方面的变化。本次,FreeScan UE的工作任务:三维扫描这个焊接件☛长:4.5m宽:1.4m高:1.7mFreeScan UE的工作成绩:扫描时间20分钟整体扫描快速、高效,如同神笔马良的毛笔,一刷成型。扫描过程截取(正常速度播放)现在,让我们回顾下完整的案例应用过程。#1传统检测困难点该焊接件为某一机械设备的支架,由人工焊接型材而成。因工件比较大,人工焊接具有随机性,误差较大。在生产过程中,为了提升产品的合格率,工件先由人工点焊,检测合格后全焊。生产的大致流程为:点焊-检测-调整工件-全焊-再次检测。两次检测,特别是在点焊之后的检测至关重要,但是也存在困难:1)检测效率低下,在这种大型焊接件的传统测量中,需要多人的协同配合;且检测内容需要一项项分开测量,耗时耗力。2)无法控制全局形变,因为是一个立体工件,传统的人工测量,只能检测单边的尺寸,无法从全局上把握整体的形变情况。FreeScan UE 可以快速获取整体三维数据,实现完整的立体框架尺寸控制,为后续的工件调整提供数据支撑。#2高精度三维检测1)在贴点等预处理后,FreeScan UE开始扫描,数据获取过程20分钟。FreeScan UE小巧灵活,仅重750g,可获取工件任一角度的数据,保证数据完整性;同时FreeScan UE具有高精度且重复性精度稳定,保证数据的可靠性。2)将数据导入至三维扫描检测软件,10多分钟即可得到检测结果。色谱图直观显示,具体哪个点位发生形变一目了然。且提供具体偏差数据,可轻松进行后续工件调整。客户现场使用感受:FreeScan UE的扫描速度真的很快,超过我的预期。有了这台三维扫描仪,我们焊接工作的精度和速度都有了很好的保障,对于我们而言,可以按期甚至提前交货给客户,同时交货附上三维检测报告,我们的客户在验收时也更加方便。小编提示:在这种大型工件扫描过程中,如果对于精度要求更高,可采用FreeScan UE Pro来进行三维扫描,结合其新一代双目摄影测量,体积精度高达0.02mm+0.015mm/m,能够更好地控制这种大型工件的整体扫描精度。
  • 德国ART纳米级定转子技术改善化妆品活性剂的皮肤渗透性
    德国ART 是全球唯一能采用定转子技术达到纳米级别的品牌,极大满足制药,化妆品,精细化工等行业的高精需求。那么德国ART 是如何利用本创新技术来改善化妆品活性剂的皮肢渗透性的呢? 背景:常规渗透促进剂会损坏皮肤,不能满足FDA要求 皮肤是身体的最外层,它保护身体免受病原体等外界因素的影响,及避免身体过多水份流失,等等。 因此, 健康的皮肤是化学品渗透的有效屏障。 而化妆品的活性剂化学性质不稳定,难溶,低渗透,低生物活性。所以现代化妆品配方的目的,是研究如何将活性剂送至皮肤内。 改善活性剂输送的一个方法是使用渗透促进剂,如:乙醇。这些渗透改善剂的原理是:他们与皮肤屏障相互作用,进而改变皮肤的结构。 这种方法是有效的,但是会损坏皮肤,因此对化妆护理产品我们应该尽量避免这种方法。按照FDA的要求,现代化妆品要在不改变人的身体结构的情况下为我们清洁皮肤,美化个人形象。 能改善活性剂的皮肤渗透性,而不损坏皮肤, 如何实现? -- 使用纳米载体! 能改善活性剂的皮肤渗透性,而不损坏皮肤,甚至有护理皮肤的特性, 如何实现?纳米载体是最好的选择! 由上二图可以看出,纳米颗粒的载体形式,更容易实现皮肤渗透,纳米载体指亚微米级,及纳米级颗粒。纳米载体的特征为:1)体积小;2)目标直接针对皮肤毛囊。这是化妆品乃至药品领域的最新概念。 例如:脂质体,纳米乳剂,脂质纳米颗粒(SLN and NLC),及纳米结晶体(smartCrystals, ARTcrystals)。这些载体的特性是不同的,如:脂质体最适合亲水的活性剂的输送,纳米乳剂和脂质纳米颗粒最适合作亲脂性的活性剂载体,纳米结晶体最适合难溶性化合物。 如何生产纳米载体和纳米化妆品? -- 使用ART纳米技术 对这一创新理念的应用,最重要的一点是如何使大规模生产该配方成为可能,并能同时节约时间和成本。 化妆品的纳米载体可以使用高压分散均质机(HPH)和球磨机(BM)来生产。但是高压均质机和球磨机体积大,能耗高,处理时间长,投资大。 而德国ART-MICCRA 的最新的高精度的定转子系统设备对生产化妆品的纳米载体特别有效。D-27是一个可以24小时连续工作的在线分散系统。 最新技术的水冷电机,利用其超高转速(36,000RPM),及强大的电机功率(2,700W),与超高精度的定转子配合,达到全球独一无二的纳米处理效果, 而只有63分贝的低噪音。 高效率的处理设备,将使用纳米载体以改善活性剂的皮肤渗透性成为可能。这不仅适用于高价格的奢侈化妆品,同时也适用于一般护理产品。 如果将纳米载体与化妆品霜剂再进行分散乳化, 即可获得纳米化妆品。 综上所述, 以前皮肤不能有效使用的难溶性或生物活性剂, 如:黄酮类化合物,现在因为纳米结晶体技术,让化妆品活性剂迈入了新的台阶; 而ART &ndash MICCRA 也让化妆品纳米载体的经济而高效的生产进入了一个新的里程碑。 (本文编辑,摘自德国Cornelia Keck博士的文章。Cornelia Keck博士是University of Appplied Sciences Kaiserslautern大学药理学和药剂学教授;德国ART公司终身科学顾问) 关于语特 和 英国Bibby / 德国ART / 德国CAT ( http://bibbyyt.instrument.com.cn. ) 广州语特仪器科技有限公司专注于搅拌器/分散乳化机等实验室样品制备等通用仪器, 熔点仪/光度计等分析仪器,以及PCR等生命科学仪器。 作为英国比比(Bibby )在中国南方的首代,广东,广西,四川,重庆,云南,海南,贵州和西藏是我司的服务范围。语特公司也是德国ART, 德国CAT 在中国的首代。 英国BIBBY 成立于上个世纪50年代,作为英国最大的实验室科学仪器生产商,世界上拥有最广泛产品系列的实验室仪器制造商之一, 其向全球提供的品牌产品以高品质和高操作性能而著称. 旗下有4个子品牌:Stuart,Techne,Jenway,Electrothermal. l Stuart: 专注于样品前处理等通用实验室仪器,包括: 熔点仪, 菌落计数器, 搅拌器, 混匀器,摇床, 纯水蒸馏器系列; l Techne: 专注于分子生物学研究设备(基因扩增仪和杂交箱), 以及温度控制产品系列(包括水浴和干浴) ; l Jenway: 是紫外/分光光度计, 火焰光度计,色度计等分析仪器的专家; l Electrothermal: 作为有70多年历史的BIBBY的新成员,全球领先的科学仪器提供者,提供电加热套,平行反应设备, 凯氏定氮设备, 电子本生灯系列。其平行反应设备是全球市场领导者。 德国ART 成立于上个世纪,是德国乃至全球最专业的分散乳化专家。 其顶级分散乳化产品从实验室仪器,中试产品到工业设备, 分散头种类极多,可满足客户各类需求;应用领域覆盖了化工,化妆品,制药,食品,环保等各大领域。 德国CAT 成立于上个世纪50年代,是德国样品制备仪器方面的专家之一。其搅拌器,从手持式,教学用,到科研通用型,高粘度型,应有尽有,是CAT的代表产品线; 而今又由普通电子马达走向无刷马达, 引领着搅拌器的研发潮流。
  • 纳米级磁共振成像仪“出世”
    美国IBM公司研究中心和斯坦福大学纳米探索中心的科学家们共同开发出一种磁共振成像仪(MRI),其分辨率要比常规MRI高出1亿倍。发表在《美国国家科学院院报》的这项研究成果,标志着为在纳米级研究复杂3D结构提供分子生物学和纳米技术工具方面迈出了重大一步。 通过将MRI的分辨率扩展到如此精细的程度,科学家们已经开发出一种显微镜,随着技术的进一步发展,该显微镜最终也许足以揭示蛋白质的结构和相互作用,为个性化医疗和靶标药物的开发取得更新进展铺平道路。该成就也将对从蛋白质到集成电路等材料研究产生影响,此类材料的研究对详细了解原子结构至关重要。 IBM研究中心战略与运营副总裁马克戴恩表示,该项技术有望提供非侵入的方式来展示诸如蛋白质等生物结构的三维细节,将给人们观察病毒、细菌、蛋白及其他生物分子的方法带来革命性变化。 这项成果的取得得益于一种称为磁共振力显微镜(MRFM)技术,该技术依赖于超细磁力的探测,除了高分辨率,该成像技术还有更进一步的化学特性优势,可“看到”表面下的东西。而且与电子显微镜不同的是,该技术不会对敏感的生物材料造成破坏。 十多年来,IBM科学家在MRFM领域一直占据着领军的地位。现在,IBM领导的研究小组已大幅提升了MRFM的灵敏度,并将其与先进的三维图像重建技术相结合,这使得他们首次能揭示纳米尺寸生物体的MRI。该技术应用于烟草花叶病毒样本时,获得的分辨率可低至4纳米(烟草花叶病毒的宽为18纳米)。 该新技术与使用梯度和成像线圈的常规MRI不同。研究人员使用MRFM来检测置于显微悬臂下样品的微小磁力,这个悬臂是一个状如跳板的薄硅片。当样本氢原子中的磁自旋与周围纳米级磁尖发生作用时,激光干涉就可跟踪悬臂的运动。对磁尖进行三维扫描,就可对悬臂的震动进行分析,从而建立起一个三维图像。 IBM研究中心纳米技术部主任丹?路加尔说,作为医疗成像领域众所周知的有力工具,MRI显微能力一直非常有限,而纳米MRI技术能够展现出个别蛋白质分子与分子化合物的内部结构,这是人们了解生物功能的关键。研究人员接下来将努力增强MRFM的灵敏度,希望能在半导体或是医学领域,显示单个分子与原子的影像。
  • 纳米材料形貌可人为控制
    自上世纪30年代起,异质结构的半导体器件就在人们的生活中发挥着越来越重要的作用。在人们的现代生活中,以半导体异质结构为基础的发光二极管、场效应晶体管、太阳能电池等都得到了广泛的应用。因此,发展纳米材料的合成技术,制备具有纳米尺寸的“半导体—半导体异质结构”材料不仅是合成化学所面临的挑战,同时也是发展新型功能纳米材料的一个重要途径。   中国科学院化学研究所高明远课题组在具有特殊结构和形貌的纳米材料的合成方面开展了一系列研究工作,取得了突破性进展。该小组采用高温热分解和分步注射的方法,成功地制备了纳米“火柴”、不对称形貌的纳米“泪滴”等异质结纳米晶体以及In2S3纳米“铅笔”。   最近,该课题组在系统研究工作基础上,利用粒径不同的Cu1.94S的纳米颗粒作为催化剂,并在反应体系中加入硫醇作为表面配体。他们证明了导体 Cu1.94S纳米颗粒可以催化硫化铟纳米晶体的生长,形成具有“半导体—半导体异质结构”的纳米材料,而类似的催化作用之前只在金属类纳米颗粒中被观察发现。研究还表明在In2S3纳米晶体的形成过程中,由铜、铟前体化合物与反应介质十二硫醇的相互作用所导致的凝胶化现象可直接影响纳米材料的晶体生长动力学。据此,通过对凝胶化过程的控制,他们成功地实现了具有异质结构的火柴形及泪滴形的Cu2S-In2S3纳米材料以及铅笔形In2S3纳米材料的制备。   中国科学院汪明博士说,论文的重要意义在于揭示了异质结构纳米晶的形成的过程及其机理,表面配体与金属离子的配位作用所导致的凝胶化对纳米材料的生长,及得到的纳米材料的结构与形貌进行控制具有重要的普适意义。
  • 多功能显微镜助力一篇AFM!3D纳米几何结构新突破
    论文题目:Spectral Tuning of Plasmonic Activity in 3D Nanostructures via High-Precision Nano-Printing发表期刊:Advanced Functional Materials IF: 19.924DOI: 10.1002/adfm.202310110【引言】 等离子体纳米颗粒由于具有特殊的光学特性被广泛应用于光电器件、化学和生物传感器等领域。若想调节纳米结构的等离子效应,则需要准确地制备出具有特定几何形状的3D纳米结构。目前,等离子纳米结构主要采用纳米颗粒或纳米颗粒阵列,通过纳米狭缝自组装法等手段,制备相应的等离子体纳米结构。可是,在制备等离子体纳米结构的过程中,由于受到了光刻等技术手段的限制,所制备的纳米结构多为2D平面结构。对于制备具有准确几何形状的3D等离子体纳米结构的相关研究尚属空白。【成果简介】 近日,格拉茨技术大学相关团队提出了基于聚焦电子束诱导沉积(Focused Electron Beam Induced Deposition,FEBID)方法制备具有准确纳米尺度3D几何结构的等离子体纳米结构。同时,作者通过FusionScope多功能显微镜和透射电镜(TEM)对相应的3D纳米结构进行了原位几何尺寸的表征。然后,使用扫描透射电子显微镜的电子能量损失谱仪(STEM-EELS)对所制备的3D纳米结构的等离子性能进行表征。所测量的结果与相关模拟计算结果相比,两者结果相互吻合,证明了通过FEBID的方法制备3D等离子体纳米结构的可行性。相关工作以《Spectral Tuning of Plasmonic Activity in 3D Nanostructures via High-Precision Nano-Printing》为题在SCI期刊《Advanced Functional Materials 》上发表。 本文使用的FusionScope多功能显微镜创新性地将SEM和AFM技术深度融合,利用SEM进行实时、快速、精准导航AFM针尖,实现同一时间、同一样品区域和相同条件下的SEM&AFM原位精准定位与测量;测量时也可以实时观察AFM悬臂的尖端,在不需要转移样品的情况下,原位进行80° AFM与样品台同时旋转,对几乎所有样品(包括复杂样品)均可以实现无视野盲区观测;其丰富的功能选件如力曲线、导电原子力显微镜(C-AFM)和磁力显微镜(MFM)以及EDS能谱仪,可有效实现多维度同区域的高级测量。本文将简要阐述FusionScope多功能显微镜对不同平面结构的等离子体样品观测结果。 图1. FusionScope多功能显微镜【图文导读】图2. 制备、清除和3D加工能力展示。(a)气体注入系统(GIS)将金属气体前驱物分子(Me2(acac)Au(III))注入到基底附近,利用聚焦电子束形成在基底上形成沉积。(b-g)展示了FEBID制备复杂构型的3D纳米结构的能力。(h)运用聚焦电子束去除碳的过程。图3. 不同平面结构的等离子体测量结果。(a)利用FusionScope多功能显微镜的原位AFM功能测量的在制备后和清除后的微纳结构变化区别。(b)通过原位AFM测量的在去除前后所制备纳米结构的体积变化。(c)部分去除样品的STEM-EELS能谱。(d-l)不同设计下的等离子体测量结果。图4. 利用FusionScope多功能显微镜获取用于模拟的数据。(a-b)利用FusionScope多功能显微镜中的SEM对AFM进行引导,在放置在TEM网格上的Au纳米线进行测量。(c)对FusionScope所获得的数据和TEM所获得的数据进行相互验证。(d)FusionScope测量Au纳米线的高度为24 nm,半峰宽为51 nm。图5. Au纳米线的等离子性能的实验和模拟结果。(a) Au纳米线在不同能量损失下的EELS模拟结果。(b)Au纳米在不同能量损失下的EELS实验结果。(c)在纳米线的边缘部分(d)中蓝色区域的EELS实验和模拟对比结果。(e)为Au纳米线的中间部分(d)中绿色区域的EELS的模拟和实验结果。图6. 可进行光谱调谐的等离子体3D纳米结构的实验和模拟结果。(a)在3D纳米结构尖端部分的EELS结果,实线为实验结果,虚线为模拟结果。(b-c)不同形貌的3D纳米结构的实验和模拟结果。(d)不同形貌的纳米结构的三个显著共振峰位置的实验和模拟结果。【结论】 论文中,格拉茨技术大学相关团队通过FEBID的方法制备了具有纳米级精度的3D等离子体纳米结构。在制备相关纳米结构过程中,通过FusionScope系统对所制备的纳米结构进行了原位的几何结构表征,为模拟过程提供了数据支持。Quantum Design公司研发的FusionScope多功能显微镜,通过特有的共坐标系统,解决了原位联合显微分析中不同表征方式无法共享微区的问题,又通过优化AFM和SEM工作流给用户提供了一个清晰简单的操作流程,为原位微区信息的获取提供了极大的便利。此外,FusionScope还可以通过更换不同AFM探针,实现对样品三维形貌,力学性能,电学性能和磁学性能的综合物性表征。 样机体验: 为了更好的为国内科研工作者提供专业技术支持和服务,Quantum Design中国北京样机实验室开放Fusionscope多功能显微镜样机体验活动,我们将为您提供样品测试、样机参观等机会,欢迎各位老师垂询!
  • 听清华大学朱永法教授和国家纳米科学中心刘忍肖老师在线讲述“复合/纳米材料的形貌及粒度表征”
    p img style=" WIDTH: 600px HEIGHT: 75px" title=" sj0213xuan01_副本.jpg" border=" 0" hspace=" 0" src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201511/insimg/8c21f2e9-490e-4a10-b5be-359d731bbccf.jpg" width=" 600" height=" 75" / /p p strong span style=" COLOR: rgb(0,0,0)" “复合/纳米材料的形貌及粒度表征”网络主题研讨会 /span /strong /p p br/ strong span style=" COLOR: rgb(0,0,0)" 会议时间:2015年12月9日 14:00-17:00 /span /strong /p p br/ 报告日程: /p p br/ span style=" COLOR: rgb(112,48,160)" strong 报告一:纳米材料的形貌和粒度分析方法及应用 /strong /span /p p br/ 报告人:朱永法 /p p br/ 清华大学化学系教授、博导,分析化学研究所副所长,国家电子能谱中心副主任。从事半导体薄膜材料的表面物理化学、纳米材料的合成与性能、环境催化以及光催化的研究工作。 /p p br/ 报告概要: /p p br/ 主要讲述了纳米材料最常用的三种形貌分析方法的原理和应用特点以及粒度分析的方法和在纳米材料研究方面的应用实例。目前最常用的形貌分析方法是扫描电子显微镜、透射电子显微镜和原子力显微镜。扫描电镜视场广,样品制备简单,不会产生信息失真,可以观察形貌以及实现颗粒大小的分布统计。透射电镜可以观察纳米材料的形貌和颗粒大小,但视野范围小,样品制备过程容易产生大颗粒的丢失现象,但可以区分聚集态和一次粒子的信息。原子力显微镜可以观察薄膜的颗粒大小,也可以观察分散态的纳米材料的形貌及大小。此外,还可以测量颗粒的厚度以及薄膜的粗糙度分布。激光粒度仪是测量颗粒大小常用的方法,但无法观察纳米材料的形貌,是一种统计颗粒直径分布,容易失真。此外,很多纳米材料分散在溶液中,可能是水合方式存在,获得的是水合颗粒大小的分布,并不是真实的材料颗粒大小,但可以获得粒度分布的信息。此外,通过XRD和拉曼光谱还可以获得纳米材料晶粒大小的数据。 /p p br/ span style=" COLOR: rgb(112,48,160)" strong 报告二:基于PeakForce Tapping模式的纳米材料表征 /strong /span /p p br/ 报告人: 孙昊 /p p br/ 布鲁克中国北方区客户服务主管 /p p br/ 报告提纲: /p p br/ PeakForce Tapping是由Bruker公司发明的一种新的基本成像模式。与传统的Contact、Tapping模式相比,PeakForce Tapping具有探针-样品作用力小、能够自动优化反馈回路、能够进行定量力学成像等优点。基于PeakForce Tapping模式,Bruker公司发展了一系列扩展成像技术,如智能成像(ScanAsyst),它可以轻易实现绝大部分常见样品的扫描参数自动优化,使刚入门的客户也能非常容易地得到专家级的图像;定量纳米力学成像(PeakForce QNM)可以在扫描形貌的同时实时定量地分析出样品的模量与粘滞力,为纳米力学测量带来了革新;峰值力表面电势测量(PFKPFM)与峰值力导电性测量(PFTUNA)使得在软样品表面同时的电学和力学测量成为可能。在这个Webinar中,我们将介绍基于PeakForce Tapping的一系列新的成像技术在纳米表征中的应用。 /p p br/ span style=" COLOR: rgb(112,48,160)" strong 报告三:纳米材料的粒度表征 /strong /span /p p br/ 报告人:方瑛 /p p br/ HORIBA 应用工程师 /p p br/ 报告概要: /p p br/ 颗粒的尺寸会影响纳米材料的各种性能,而溶液的电位则会影响纳米乳液的稳定性。纳米颗粒分析仪可以表征纳米颗粒的粒径和电位,报告会介绍粒径和Zeta电位的测试原理,重点会介绍颗粒分析在纳米材料中的应用。 /p p br/ span style=" COLOR: rgb(112,48,160)" strong 报告四:尺度表征用纳米标准样品 /strong /span /p p br/ 报告人:刘忍肖 /p p br/ 博士,高级工程师,国家纳米科学中心/中科院纳米标准与检测重点实验室,主要工作领域为纳米技术标准化,承担了十余项纳米技术标准制修订、纳米标准物质/标准样品的研制工作;从事与纳米技术相关的标准化科研工作,参与两项国家重大科学研究计划项目和一项质检公益性行业科研专项,承担国家自然科学基金和北京市自然科学基金项目。 /p p br/ 报告提纲: /p p br/ 纳米标准样品概况;尺度表征用纳米标准样品;示例:粒度、台阶高度纳米标准样品。 /p p br/ 报名条件:仪器信息网个人用户,自助报名当天参会。 br/ br/ span style=" COLOR: rgb(255,0,0)" strong 报名方式:扫描下方二维码或点击链接。 /strong /span br/ br/ img title=" 12-9纳米材料研讨会.png" src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201511/insimg/3c15c368-57fd-486a-a4ab-b1df6999103e.jpg" / br/ br/ 仪器信息网“复合/纳米材料的形貌及粒度表征”网络主题研讨会 /p p br/ a title=" “纳米材料的形貌及粒度表征应用技术”网络主题研讨会" href=" http://www.instrument.com.cn/webinar/Meeting/subjectInsidePage/1749" target=" _blank" http://www.instrument.com.cn/webinar/Meeting/subjectInsidePage/1749 /a /p
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