三靶射频磁控溅射镀膜仪

随着电镜技术和应用快速发展，越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

溅射镀膜的合金靶材有Au-pd和Pt-Pd，这两种合金的成分是多少？哪位知道。

本人是研一新生，使用氧化饵陶瓷靶射频溅射氧化饵薄膜，但是溅射之后靶的表面有很多金属颗粒状物体于靶材表面，原因无从而知，希望大佬们能给些意见，谢谢你们！[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/06/202006151317575201_8602_4204633_3.png[/img][img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/06/202006151317576246_7946_4204633_3.png[/img]

我们实验室的磁控溅射仪老是出问题,不能正常工作,有没有高手,请帮帮忙!

真空磁溅射镀膜是否一定要在超净室中操作。放在普通房间行吗

我公司是真空磁控溅射氧化铟锡的生产厂家，大概原理是在真空状态下，在溅射靶材铟锡合金上施加负电压，充入溅射气体氩和反应气体氧，铟锡金属原子被溅射出后与氧发生反应成氧化铟锡，在我们实际应用中需要监控铟锡金属原子被溅射出后与氧发生反应时的光谱，以便更好的控制氧气输入的流量。请问有没有相宜的检测和监控设备？jyapu@sohu.com

最近单位要买一台磁控溅射镀膜机，不知国内外哪些厂家的设备比较好，因为镀膜机的部件比较多，又要求真空，出点小问题难免，所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的，指点指点。

真空镀膜机可以做Au-Pd、Au、Pt-Pd和Pt；离子溅射仪：环形电极，二极管放电模式。大概分别需要银子？！谢谢！

大家好，我实验室的镀膜仪（型号：CS-400多靶直流、射频磁控溅射仪）出了些问题，想请教大家一下，谢谢。 刚开始机械泵（型号：2ZX-4）的三相电压反向了，结果导致喷油，然后把电压接好，清理好喷出的油后，机械泵就不能像以前一样快速抽到10pa以下了，大概抽到40pa左右，再往下抽就很慢了，感觉有地方漏气，希望大家能提出一些意见，谢谢。

[align=center]射频加热的应用[/align][align=center]西安国联质量检测技术股份有限公司[/align][align=center]安评中心：张倩茹[/align]尽管世界上有50多个国家种植大豆，但美国、巴西、阿根廷和中国是四大主要大豆生产商，占世界上大豆总产量的90%以上。目前世界大豆产量远超过其他任何可食用油籽，世界上的大豆约85%加工成正餐和植物油。在中国过去的二十年，大豆消费连续快速增长，从1996年到2013年，油产品增加了600%，可食用或者工业消费增长了78%。昆虫侵扰通过其代谢活动引起的微生物腐败和污染可能使大豆完全不能食用。另一个与大豆储存有关的问题是由真菌引起的霉烂，会导致严重的质量损失和食品安全问题。因此，为了符合国际贸易植物检疫条例，开发干燥大豆的非化学采后害虫防治方法，控制内部昆虫和减少大豆中的真菌菌落数量是确保保存期长、保证食品安全的重要措施。已经开发了几种方法来控制隐藏的昆虫和减少食品中真菌菌落的数量，如常规热处理，化学熏蒸，辐照。然而，所有这些方法都显示出不同的消费者接受程度是由于在它们的应用过程中，较长的处理时间降低了质量、消极的环境污染和对人类健康造成的有害影响。因此，迫切需要开发新颖、有效的能够控制昆虫和真菌且产品无不利的物理或化学变化的技术。射频(RF)能量是频率为1-300 MHz的电磁波，提供快速、容积式加热并被作为干燥产品如紫花苜蓿种子，谷物， 豆类，小扁豆，大米，胡桃和小麦的采后害虫控制的非化学选择来研究。RF的相对较长的波长通常导致较深的穿透深度和食物中可预测的温度分布。但是，不均匀加热仍然是食品行业的射频加热技术的一个问题。由于角落和边缘过热，和中心部分的欠热，产品中间和内部的不同的温度分布可能导致质量损失或昆虫生存，尤其是在中、高水分含量的食物中。理解射频加热的复杂机制和提高射频处理产品的加热均匀性，以确保在整个产品体积内完成昆虫死亡率和维持产品质量是至关重要的。计算机模拟和数学建模为不需要在实验中耗费大量时间的射频加热过程的快速分析起到有价值的工具作用。计算机模拟旨在研究各种食品材料，如苜蓿和萝卜籽，1%的羧甲基纤维素溶液，圆柱形肉压条，肉、新鲜水果，马铃薯浆，小麦粉，和葡萄干的射频加热均匀性。Neophytou 和 Metaxas通过求解耦合拉普拉斯方程和波动方程，试图为工业规模的射频加热系统的电场进行建模。成熟的计算机模拟模型使从各种农业产品获得准确的结果成为可能。不同的标准和索引已经被用来研究，评估，比较射频功率和食品样品的温度均匀性，如正常功率密度，加热均匀性指数，射频功率均匀度指数，和温度均匀度指数。因为样品温度是适合于灭虫法或巴氏灭菌法和质量评估的射频加热的主要目标。

红外反射镜的镀膜材质有镀金、镀银、镀铝的，性能上相差多少呢？还有号称“金刚石加工切削整体合金反射镜,光路传输效率更高于一般金属镀层技术的反射镜”的，这种合金反射镜是什么材质的？

请教一下大家:核磁共振仪用来激励能级跃迁的射频源需要达到哪些要求啊?

射频导纳物位控制技术是一种从电容式物位控制技术发展起来的，防挂料性能更好，工作更可靠，测量更准确，适用性更广的物位控制技术，“射频导纳”中“导纳”的含义为电学中阻抗的倒数，它由阻抗成份，容性成份，感性成份综合而成，而“射频”即高频，所以射频导纳技术可以理解为用高频电流测量导纳的方法。高频正铉振荡器输出一个稳定的测量信号源，利用电桥原理，以精确测量安装在待测量容器中的传感器上的导纳，在直接作用模式下，仪表的输出随物位的升高而增加。 　　射频导纳技术与传统电容技术的区别在于测量参量的多样性，三端驱动屏蔽技术和增加的两个重要电路，这些是根据在实践中的宝贵经验改进而成的。上述技术不但解决了连接电缆屏蔽和温漂问题，也解决了垂直安装的传感器根部挂料问题。所增加的两个电路是高精度振荡驱动器和交流鉴相采样器。 　　对一个强导电性物料的容器，由于物料是导电的，接地点可以被认为在传感器绝缘层的表面，对仪表传感器来说仅表现为一个电容和电阻组成的复阻抗，从而引起两个问题。 　　第一个问题是物料本身对传感器相当于一个电容，它不消耗变送器的能量，（纯电容不耗能），但挂料对传感器等效电路中含有电阻，则挂料的阻抗会消耗能量，从而将振荡器电压拉下来，导致桥路输出改变，产生测量误差。我们在振荡器与电桥之间增加了一个驱动器，使消耗的能量得到补充因而会稳定加在传感器的振荡电压。 　　第二个问题是对于导电物料，传感器绝缘层表面的接地点覆盖了整个物料及挂料区，使有效测量电容扩展到挂料的顶端，这样便产生挂料误差，且导电性越强误差越大。 　　但任何物料都不是完全导电的。从电学角度来看，挂料层相当于一个电阻，传感器被挂料覆盖的部分相当于一条由无数个无穷小的电容和电阻元件组成的传输线。根据数学理论，如果挂料足够长，则挂料的电容和电阻部分的阻抗和容抗数值相等，因此用交流鉴相采样器可以分别测量电容和电阻。测量的总电容相当于C + C 在减去与C 相等的电阻R，就可以获得物位真实值，从而排除挂料的影响。 　　即C测量=C物位+C挂料 　　C物位=C测量-C挂料 　　=C测量-R 　　这些多参量的测量，是测量的基础，交流鉴相采样器是实现的手段。由于使用了上述三项技术，使得射频导纳技术在现场应用中展现出非凡的生命力。射频导纳料位开关 http://www.yhck8888.com阻旋料位开关 http://www.yhck888.com音叉料位开关 http://www.yhck6666.com射频导纳物位开关 http://www.yhck666.com

如何判断核磁是否漏射频？漏磁？

想求助一个关于球面镀膜镜片反射率测试的问题，希望群里专家能帮我解答下，万分感谢！1.球面镜片表面镀了反射膜，想测反射率，这个一般测得是镜面反射还是漫反射，比如岛津的分光光度计配合积分球配合硫酸钡的标准白板测得是哪个？2.我用光谱仪配合积分球配合标准白板搭建系统测试反射率是否能达到一样的效果？

[font=Calibri][font=宋体]三重平衡射频混频器是常见的电子元器件，通常用于微波射频和通信系统中的变频和混频进行操作。三平衡射频混频器根据精准匹配和平衡数个电源电路，实现高效线性和低损耗的混频功效。无线通讯中的三平衡微波射频混频器、机载雷达和卫星通讯要为信号分析处理和调制解调提供可靠的解决方案领域发挥着重要的作用。[/font][/font][url=https://www.leadwaytk.com/article/5139.html]PULSAR[/url][font=Calibri][font=宋体]三平衡混频器使用[/font][font=Calibri]2[/font][font=宋体]个适配优良的四二极管环。因此，它们提供比[/font][font=Calibri]DBM[/font][font=宋体]设计更宽的[/font][font=Calibri]LO/RF[/font][font=宋体]带宽。但更关键的是，[/font][font=Calibri]TBM[/font][font=宋体]提供更高的高动态范围和更低的失帧。[/font][/font]

[b]如何判断核磁是否漏射频？漏磁？有没有简单的方法就能判断的，谢谢！[/b]

SEM版的朋友们大家好~我们的Pt sputtering coater通常使用范围是做2-10nm 厚的coating.溅射仪上有基于晶体震荡原理的thickness monitor, 但是我们不太相信. 想做独立的厚度检查.你们知道怎么测量这么薄(2-10nm)的镀层厚度吗? 基体为玻璃片.谢谢~

l射频发生器1. 电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，取功率反馈进行 闭环自动控制。2. 工作频率：40MHz 3. 频率稳定性：＜0.1% 4. 输出功率：800W—1200W5. 输出功率稳定性：≤ 0.2%6. 电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处 电场强度E：＜2V/m 磁场强度H：＜射0.2A/m 7. 电源：交流220V 25A

【序號】：1【作者】 : 杨勇【篇名】 : 工业磁控溅射镀膜中靶材利用率的提高【期刊】 : 清华大学,2006年【全文链接】 : http://0rz.tw/iVp1k

022年9月29日，经北京市市场监督管理局批准我市发布《射频电磁辐射车载巡测技术规范》（DB11/T 2017-2022），标准将于2023年1月1日起实施。　　该标准规定了100 kHz～6 GHz频段内的电磁辐射车载巡测的监测系统、监测设备、监测条件、监测方法、质量保证等技术要求。适用于城市区域电磁环境质量车载巡测，其他射频电磁场车载巡测可参照执行。　　附件：[url=http://sthjj.beijing.gov.cn/bjhrb/index/xxgk69/sthjlyzwg/jczf/325958775/2022101008583884282.pdf]《射频电磁辐射车载巡测技术规范》（DB11/T 2017-2022）[/url]

WT-LWY物位控制器为通用型物位计用于连续物位的测量，产品应用于工矿现场，适用于大多数应用场合，仪表由一个电路单元一套防爆外壳和杆式或缆式传感元件组成，传感器有多种型号可选，仪表可选整体或分体安装。　　　　1.射频导纳物位计的测量原理　　　　射频导纳是一种从电容式发展起来的、防挂料、更可靠、更准确、适用性更广的新型物位控制技术，是电容式物位技术的升级。所谓射频导纳，导纳的含义为电学中阻抗的倒数，它由电阻性成分、电容性成分、感性成分综合而成，而射频即高频无线电波谱，所以射频导纳可以理解为用高频无线电波测量导纳。仪表工作时，仪表的传感器与灌壁及被测介质形成导纳值，物位变化时，导纳值相应变化，电路单元将测量导纳值转换成物位信号输出，实现物位测量。　　　　对于连续测量，射频导纳技术与传统电容技术的区别除了上述讲过的以外，还增加了两个很重要的电路，这是根据导电挂料实践中的一个很重要的发现改进而成的。上述技术在这时同样解决了连接电缆问题，也解决了垂直安装的传感器根部挂料问题。锁增加的两个电路是振荡器缓冲器和交流变换斩波器驱动器。　　　　对一个强导电性被测介质的容器，由于被测介质是导电的，接地点可以被认为在探头绝缘层的表面，对变送器来说仅表现为一个纯电容。随着容器排料，探杆上产生挂料，而挂料是具有阻抗的。这样以前的纯电容现在变成了由电容和电阻组成的复阻抗，从而引起两个问题。　　　　第一个问题是液位本身对探头相当于一个电容，它不消耗变送器的能量，(纯电容不耗能)。但挂料对探头等效电路中含有电阻，则挂料的阻抗会消耗能量，从而将振荡器电压拉下来，导致桥路输出改变，产生测量误差。我们在振荡器与电桥之间增加了一个缓冲放大器，使消耗的能量得到补充，因而不会降低加在探头的振荡电压。　　　　第二个问题是对于导电被测介质，探头绝缘层表面的接地点覆盖了整个被测介质及挂料区，使有效测量电容扩展到挂料的顶端。这样便产生挂料误差，且导电性越强误差越大。但任何被测介质都不是完全导电的。从电学角度来看，挂料层相当于一个电阻，传感元件被挂料覆盖的部分相当于一条由无数个无穷小的电容和电阻元件组成的传输线。根据数学理论，如果挂料足够长，则挂料的电容和电阻部分的阻抗相等。因此根据对挂料阻抗所产生的误差研究，又增加一个交流驱动器电路。该电路与交流变换器或同步检测器一起就可以分别测量电容和电阻,从而排除挂料的影响。　　　　这些，多参量的测量，是必须得基础，交流鉴相采样器是实现的手段。由于使用了上述三项技术，使得射频导纳技术在现场应用中展现出非凡的生命力。　　　　2.射频导纳物位计的特点　　　　通用性强：可测量液位及料位，可满足不同温度、压力、介质的测量要求，并可应用于腐蚀、冲击等恶劣场合　　　　防挂料：独特的电路设计和传感器结构，使其测量可以不受传感器挂料影响，无需定期清洁，避免误测量。　　　　免维护：测量过程无可动部件，不存在机械部件损坏问题，无须维护。　　　　抗干扰：接触式测量，抗干扰能力强，可克服蒸汽、泡沫及搅拌对测量的影响。　　　　准确可靠：测量量多样化，使测量更加准确，泽良不受环境变化影响，稳定性高，使用寿命长。

不知道哪位兄弟用过基站射频功率调节仪,型号是mcif11的.好像是松下的查品 有用过给发个图片资料,ok? thanks

【序号】：1【作者】：董骐 范毓殿 【题名】：非平衡磁控溅射及其应用【期刊】：真空科学与技术【年、卷、期、起止页码】：1996年 01期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=ZKKX199601010&dbname=CJFD1996【序号】：2【作者】：刘翔宇 【题名】：磁控溅射镀膜中靶的优化设计 【期刊】：电子科学与技术【年、卷、期、起止页码】：2005-04-21【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=2005035360.nh&dbname=CMFD2005【序号】：3【作者】：胡作启 李佐宜 刘卫忠 熊锐 【题名】：磁控溅射靶磁场的分布 【期刊】：华中理工大学学报【年、卷、期、起止页码】：1997年 11期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=HZLG711.012&dbname=CJFD1997【序号】：4【作者】：刘瑞鹏 李刘合 【题名】：磁控溅射靶优化设计及其磁场分析【期刊】：2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议【年、卷、期、起止页码】：无【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=ZGDN200610001076&dbname=cpfd2006【序号】：5【作者】：张建民 王立 梁昌慧 【题名】：磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究 【期刊】：陕西师范大学学报【年、卷、期、起止页码】：1999年 01期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=SXSZ901.010&dbname=cjfd1999