三靶射频磁控溅射镀膜仪

一、项目基本情况项目编号：0664-2260SUMEC787D项目名称：东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额：260.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：260.0000000 万元（人民币）采购需求：东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限：合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策， 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求：（1）供应商必须是所投产品的制造商或代理商，若投标人不是投标产品制造商的，投标人必须具有下列授权文件之一（本条只适用于进口产品）：a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本； b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本； c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本； d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动：（1）供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。（2）凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的采购活动。（3）供应商被“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间：2023年01月05日 至 2023年01月11日，每天上午9:00至11:00，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：线上方式：在线获取售价：￥600.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）开标时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）地点：南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求：1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：（1）具有独立承担民事责任的能力（提供法人或者其他组织的营业执照，自然人的身份证明）；（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）的会计报表或者上一年度的财务审计报告，成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。）；（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料）； （4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料）；（5）参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明）（格式见后附件）。（6）法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取：（1）获取采购文件材料：1、营业执照【复印件加盖公章，扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章，扫描件，开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章，扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】（2）凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第（1）条规定证件登记并获取，不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务，操作流程如下：（1）、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。（2）、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。（3）、输入本项目的项目编号，举例：0664-2260SUMEC787D，点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车，输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息，提交订单并确认微信支付，支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人：焦立阳，邮箱：jiaoly_work@163.com 即可，我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项：（1）确保领购人邮箱真实准确无误，电子版采购文件将发送到此邮箱。（2）目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。（3）“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。（4）非采购代理机构或平台公司原因，发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项（本项目采取在线流程）：在线流程：因疫情原因，本项目进行线上开标，请供应商尽量提前准备投标文件，以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知（附件1）的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名称：东南大学地址：南京市玄武区四牌楼2号联系方式：技术咨询：微纳系统国际创新中心：贺老师 电话：025-83792632 分机号8806； 实验室与设备管理处：刘加彬 电话：025-83792693。2.采购代理机构信息名称：苏美达国际技术贸易有限公司地址：南京市长江路198号苏美达大厦联系方式：项目联系人：杨 扬、焦立阳 电话：025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人：杨 扬、焦立阳电话：025-84532455、025-84532452

项目编号：N5101012023000011项目名称：红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式：公开招标预算金额：2,400,000.00元采购需求：详见采购需求附件合同履行期限：采购包1：自合同签订生效后起10日内采购包2：自合同签订生效后起10日内采购包3：自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标：采购包1：不接受联合体投标采购包2：不接受联合体投标采购包3：不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx

p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "PVD/spanspan style="text-indent: 28px "）、化学气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "CVD/spanspan style="text-indent: 28px "）等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style="text-indent: 28px "(Physical Vapour Deposition/spanspan style="text-indent: 28px "，/spanspan style="text-indent: 28px "PVD)/spanspan style="text-indent: 28px "技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源/spanspan style="text-indent: 28px "——/spanspan style="text-indent: 28px "固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。）/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span style="text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"/ /span/pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月，根据统计数据，spanPVD/span设备的总中标为span218/span台，涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月，平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年，由于疫情影响，span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷，平均中标量约span5/span台每月，其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，spanPVD/span设备中标市场活力回升，从二月份到七月份中标量不断增长，其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常，平均中标量约span24/span台每月。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="252" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从spanPVD/span设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达span68%/span，而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备，高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业，高校方面的采购单位以大学为主。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="265" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点，招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区，其中广东的采购量最大，达span32/span台。在这些地区中，上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力，北京以科研院所和高校采购为主力，只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业，如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司，致力于打造“中国光谷”。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="233" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "spanPVD/span设备种类繁多，包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知，磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次spanPVD/span设备中标盘点，涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style="font-size:15px"Syskey/spanspan style="font-size:15px"、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title="5.jpg" alt="5.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm"span style="font-size:15px"span三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span，配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频（spanRF/span）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度。/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title="6.jpg" alt="6.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm"span style="font-size:15px"span双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px" /spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style="font-size: 15px "VTC-600-2HD/spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title="7.jpg" alt="7.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm"span style="font-size:15px"span科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这款仪器由预真空进样室（可选）前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压（可选）、离子源清洗基片（可选）、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式，能够沉积金属、半导体和绝缘材料，还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style="font-size: 15px " /span/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"点击此处进入/spanspana href="https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml"span style="font-size:15px"span【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style="font-size:15px"专场，获取更多产品信息。/span/pp style="text-indent: 29px text-align: center "span style="font-size:15px"更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】/span/pp style="text-indent: 28px text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg"//p

据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

自从2020年Quantum Design中国子公司将英国Moorfield nanotechnology公司生产的台式高精度薄膜制备与加工系统引进国内市场以来受到了国内科研工作者的广泛关注。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧但性能可以和大型设备相媲美，并且自动化程度高、操作简单、性能可靠、配置灵活。设备所具有的这些优点正是现代实验所需要的。Moorfield Nanotechnology长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富，以满足各种个性化的实验需求。近年来，越来越多的前沿研究中需要用到多种薄膜制备手段，而传统的设备往往只有一种薄膜制备功能，制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作，并且容易对样品的性质造成破坏。针对这样的需求，Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。系统通过7英寸触摸屏控制，自动化程度高，各种制备方式可以自由切换，甚至可以同时进行。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射（蒸发）功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左：nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合，右：系统的样品台与挡板背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。产品链接1、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

一、项目基本情况项目编号：0705-2240 02012003项目名称：上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额：300.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币）采购需求：包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体，预留RHEED、RGA等接口，后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算：人民币300万元。 合同履行期限：交货期：收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。 3.本项目的特定资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。三、获取招标文件时间：2022年08月02日 至 2022年08月09日，每天上午8:30至11:00，下午13:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台方式：电子发售售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）开标时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》（可从供应商注册页面下载）和营业执照等扫描件，供应商应当提前准备，尽早办理，以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的，潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件，否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目，潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人，电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：上海期智研究院     地址：上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式：徐瑞；021-54652653      2.采购代理机构信息名 称：上海国际招标有限公司            地 址：中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式：胡羡聪、刘洲烨；86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人：胡羡聪、刘洲烨电 话：  86-21-32173682

详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态：公告 更新时间： 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息： 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00（北京时间，法定节假日除外） 招标文件售价 ￥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ￥600.000000万元（人民币） 联系人及联系方式： 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件，并于2022年12月26日 10点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：NK2022S024WD（1700-2243JJBH1249） 项目名称：南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额：600.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：600.0000000 万元（人民币） 采购需求： 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统（1套）的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限：收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细：投标人为小型或微型企业的，且所投产品的制造厂家为小、微企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细：投标人为监狱企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围，则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细：根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定，本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注：小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准，残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准，监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局（含新疆生产建设兵团）出具的属于监狱企业的证明文件，否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求：1）须为在中华人民共和国境内注册，具备独立法人资格的企业，且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定，并提供其有效的“企业法人营业执照（副本）”复印件加盖公章，及满足资格要求的证明文件；2）供应商若为法人投标，须提供法定代表人身份证明书（需由法定代表人签字或盖章）和法定代表人身份证原件；供应商若为被授权人投标，须提供法人代表授权书（需由法定代表人签字或盖章）和被授权人身份证原件。3）供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力，若为进口产品代理商参与本次投标，还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4）开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人，拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间：2022年12月06日 至 2022年12月12日，每天上午9:00至11:30，下午13:30至16:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：天津市河北区狮子林大街200号6层 方式：鉴于目前疫情防控形势，为了有效减少人员聚集和交叉感染，保证报名工作的顺利进行，提供以下两种方式： 1、现场领取：营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章，以现金形式支付（选择采取此种方式，建议提前联系项目负责人）； 2、网上领取（建议采用此种方式），具体要求如下：（1）请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com，邮件主题为：1700-2243JJBH1249报名信息，并电话联系项目负责人确认。（2）标书款以电汇或银行转账方式（为方便后期开具发票建议使用对公账户），汇至我公司的银行账号，并请在汇款备注中标明：“1700-2243JJBH1249标书款”（电汇信息及相关表格会以邮件方式发送）（3）标书款汇款后，请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 （4）采用网上领取方式进行报名的，报名日期以标书款到账日期为准。注：已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商，按以上要求报名。尚未登记注册的，须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册，通过审核后方可购买招标文件，注册网址：http：//zbb.nankai.edu.cn，注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 开标时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 地点：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：南开大学 地址：天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式：于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称：天津津建工程造价咨询有限公司 地 址：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式：王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人：王先生 电 话： 022-59009035 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容：镀膜机 开标时间：2022-12-26 10:00 预算金额：600.00万元 采购单位：南开大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：天津津建工程造价咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态：公告 更新时间： 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息： 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00（北京时间，法定节假日除外） 招标文件售价 ￥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ￥600.000000万元（人民币） 联系人及联系方式： 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件，并于2022年12月26日 10点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：NK2022S024WD（1700-2243JJBH1249） 项目名称：南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额：600.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：600.0000000 万元（人民币） 采购需求： 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统（1套）的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限：收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细：投标人为小型或微型企业的，且所投产品的制造厂家为小、微企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细：投标人为监狱企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围，则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细：根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定，本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注：小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准，残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准，监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局（含新疆生产建设兵团）出具的属于监狱企业的证明文件，否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求：1）须为在中华人民共和国境内注册，具备独立法人资格的企业，且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定，并提供其有效的“企业法人营业执照（副本）”复印件加盖公章，及满足资格要求的证明文件；2）供应商若为法人投标，须提供法定代表人身份证明书（需由法定代表人签字或盖章）和法定代表人身份证原件；供应商若为被授权人投标，须提供法人代表授权书（需由法定代表人签字或盖章）和被授权人身份证原件。3）供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力，若为进口产品代理商参与本次投标，还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4）开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人，拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间：2022年12月06日 至 2022年12月12日，每天上午9:00至11:30，下午13:30至16:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：天津市河北区狮子林大街200号6层 方式：鉴于目前疫情防控形势，为了有效减少人员聚集和交叉感染，保证报名工作的顺利进行，提供以下两种方式： 1、现场领取：营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章，以现金形式支付（选择采取此种方式，建议提前联系项目负责人）； 2、网上领取（建议采用此种方式），具体要求如下：（1）请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com，邮件主题为：1700-2243JJBH1249报名信息，并电话联系项目负责人确认。（2）标书款以电汇或银行转账方式（为方便后期开具发票建议使用对公账户），汇至我公司的银行账号，并请在汇款备注中标明：“1700-2243JJBH1249标书款”（电汇信息及相关表格会以邮件方式发送）（3）标书款汇款后，请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 （4）采用网上领取方式进行报名的，报名日期以标书款到账日期为准。注：已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商，按以上要求报名。尚未登记注册的，须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册，通过审核后方可购买招标文件，注册网址：http：//zbb.nankai.edu.cn，注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 开标时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 地点：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：南开大学 地址：天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式：于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称：天津津建工程造价咨询有限公司 地 址：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式：王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人：王先生 电 话： 022-59009035

尊敬的用户： 您好！感谢您一直以来对HORIBA的支持和关注。 射频辉光放光谱仪（GD-OES）是一款适用于材料表面分析和镀层界面元素分析的工具，它正被广泛应用于半导体、陶瓷/玻璃、镀膜钢铁、薄膜和粉末等样品的测试。 为了帮助HORIBA各系列GD-OES的用户提高仪器操作水平以及理论水平，以充分发挥仪器的性能，我公司将举办为期三天的GD-OES应用技术培训班。欢迎有培训需要的用户积报名。 主 办：HORIBA Scientific（Jobin Yvon光谱技术）培训时间：2013年11月20 日-22日培训地点：HORIBA Scientific上海应用中心 （上海市天山西路1068号联强国际广场A栋1层D单元，近2号线淞虹路地铁站）培训对象：HORIBA射频辉光放电光谱仪用户主 讲：Celia Olivero（法国应用实验室经理）、余卫华、武艳红（应用工程师）培训安排： 培训费用：1、1600元/人（保修期内可提供2人/次免费培训），请于11月12日前将费用转至HORIBA公司账户并予以确认。2、培训期间，我们将为您免费提供午餐，住宿、差旅等费用需贵单位自理。报名联系：联 系 人：Ms. Shen （沈小姐） 电 话：021-62896060-161 邮 箱：yilei.shen@horiba.com报名截止：2013年11月12日账户信息：公司名称：堀场（中国）贸易有限公司开户行：三菱东京日联银行（中国）有限公司上海分行账号：404029-00000308854（人民币） 关注我们：邮箱：info-sci.cn@horiba.com新浪官方微博：HORIBA Scientific微信二维码：

x射线多层膜在静态和超快x射线衍射中的应用x射线光学组件类型根据x射线和物质作用的不同原理和机制，目前主流的x射线光学组件可以大致分为四类：以滤片、窗片、针孔光阑为代表的吸收型组件；基于反射，全反射原理的各种镜片以及毛细管、波导等反射型器件，还有基于折射原理的各种复折射镜。而本文的主题多层膜镜片，其底层原理和晶体、光栅、波带片一样，都是基于衍射原理。吸收型反射型折射型衍射型滤片窗口针孔/光阑镜片：kb、wolter、超环面镜… … 毛细管：玻璃毛细管、金属镀层毛细管复折射镜：抛物面crl、菲涅尔crl、马赛克crl、… … 晶体光栅多层膜波带片多层膜的原理和工艺一般来说，反射型镜片存在“掠射角小、反射率低”的问题。而多层膜镜片则是通过构建多个反射界面和周期，并使反射界面等周期重复排列，相邻界面上的反射线有相同的相位差，就会发生干涉，如果相位差刚好为2pi的整数倍，则会干涉相长，得到强反射线。从布拉格公式可以看出：多层膜就是通过对d值的控制，来实现波长选择的人工晶体。而在工艺实现方面，目前制备x射线多层膜镜的主要工艺有：磁控溅射、电子束蒸镀、离子束蒸镀。一般使用较多的是磁控溅射或离子束镀膜工艺，即在基板上交替沉积金属和非金属层，通过选择材料，控制镀膜的厚度及周期的选定，实现对硬x射线到真空紫外波段的光的调制。上图为来自德国incoatec的四靶材磁控溅射镀膜系统。可实现多种膜系组合的高精度镀膜。[la/b4c]40 多层膜b-kα（183ev）用多层膜，d：10nm单层膜厚：1-10nm0.x nm的镀膜精度tem: 完美的镀层界面frank hertlein, a.e.m. 2008上图为40层la-b4c多层膜的剖面透射电镜图像和选区电子衍射，弥散的衍射环说明膜层是非晶结构。同时可以明显看到：周期为10nm的膜层界面非常清晰和规则。这套镀膜系统可获得0.x nm的镀膜精度。多层膜的特点示例—单色和塑形多层膜最显著的特点和优势在于可以通过基底的面型控制和镀层的膜厚控制，将x光的塑形和单色统一起来。当然，这是以精度极高的镀膜工艺为前提。下图的数据展示了进行梯度渐变镀膜时，从镜片一端到另一端镀膜的周期设计数值 vs. 实际工艺水平。可以看到：长度为150mm的基底上，单层镀膜膜厚需要控制在3.8-5.7nm，公差需要在1%以内。相当于在1500公里的长度上，厚度起伏要控制mm水平。这是非常惊人的原子层级的工艺水平。frank hertlein, a.e.m. 2008通过面型控制来实线x射线的塑形；通过极高精度的膜厚控制实现2d值渐变—继而实现单色；0.x nm尺度的镀膜误差——需要具备原子层级的工艺水平！多层膜的特点示例—带宽和反射率除了可以通过曲面基底和梯度镀膜实现对x光的塑形和单色，还可通过对膜层材料、膜厚、镀膜层数等参数的设计和控制，来实现带宽和反射率的灵活调整。如窄带宽的高分辨多层膜，以及宽带宽的高积分反射率多层膜。要实现高分辨：首先要选择对比度较低的镀膜材料，如be、c、b4c、或al2o3；其次减小膜的厚度，多层膜的厚度降为10~20å；最后增加镀膜层数，几百甚至上千。from c. morawe, esrf多层膜的特点示例—和现有器件的高度兼容左侧: [ru/c]100, d = 4 nm r 80% for 10 e 22 kev中间: si111 δorientation0.01°右侧: [w/si]100, d = 3 nm r 80% for 22 e 45 kevdcmm at sls, switzerland, m. stampanoni精密、灵活的膜层设计和镀膜控制镀膜材料的组合搭配；d/2d值的设计和控制；带宽和反射率的灵活调整。和现有器件的高度兼容多层膜主流应用方向目前，多层膜的主流应用方向和场景主要有：粉末、x射线荧光、单晶衍射以及同步辐射的单色、衍射、散射装置搭建。粉末衍射x射线荧光单晶衍射同步辐射基于dac的原位高压静态x射线衍射典型的静高压研究中，常利用金刚石对顶砧来获得一些极端条件。在极端的高压、高温下，利用x射线来诊断新的物相及其演化过程是重要的研究手段。x-ray probe利用金刚石对顶砧可以获得极端条件(数百gpa, 几千°c) 利用x射线探针来诊断和发现新物相；由于对x光源、探测器以及实验技术等方面的苛刻要求，尤其是需要将微束的x光，精准的穿过样品而不打到封垫上。长期以来，基于dac的x射线高压衍射实验只能在同步辐射实现。但同步辐射有限的机时根本无法满足庞大的用户需求。不能在实验室进行基于dac的x射线高压衍射实验和样品筛选，一直是广大高压科研群高压衍射实验室体的一大痛点。以多层膜镀膜工艺为技术核心，将多层膜镜片与微焦点x光源耦合，我们可以为科研用户提供单能微焦斑x射线源，使得在实验室实现高压衍射成为可能。下图是利用mo靶（左）和ag靶（右）单能微焦斑x射线源获得的dac加载下的lab6样品的衍射图。曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mm。可以看到：300s曝光获得的衍射数据质量是可接受的。特别地，对于银靶，由于其能量更高，可以压缩倒易空间，在固定的2thelta角范围内，可以获得更多的衍射信息，这对于很多基于dac的静高压应用来说非常有吸引力。dac加载下的lab6样品的衍射数据：多层膜耦合mo靶（左）和ag靶（右）曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mmbernd hasse, proc. of spie vol. 7448, 2009 (doi: 10.1117/12.824855)基于激光驱动超快x射线衍射在利用激光驱动的x射线脉冲进行超快时间分辨研究中，泵浦探针是常用的技术手段。脉宽为几十飞秒的入射激光经分束后，一路用于激发超快x射线脉冲，也就是探针光；另一路经倍频晶体倍频作为泵浦光。通过延时台的调节，控制泵浦激光和x射线探针到达样品的时间间隔，可实现亚皮秒量级时间分辨的测量。而在基于激光驱动的超快x射线衍射实验中，如何提升样品端的光通量？如何获得低发散角的单色光束？如何抑制飞秒脉冲的时间展宽？如何同时兼顾以上的实验要求？都是需要考虑的问题。很多时候还需要兼顾多个技术指标，所以我们非常有必要对各类光学组件和x射线飞秒脉冲源的耦合效果和特点有一个比较清晰的认知。四种光学组件和激光驱动x射线源的耦合效果对比首先我们先对弯晶、多层膜镜、多毛细管和单毛细管四种组件的聚焦效果有个直观的了解。以下是将四种光学组件和激光驱动飞秒x射线源耦合，然后进行了对比。四种光学组件在聚焦和离焦位置的光斑：激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs源尺寸：10um 打靶产额：4*109 photons/s/sr这是四种组件的理论放大倍率和实测聚焦光斑的对比。可以看到：弯晶和多层膜的工艺控制精度很高，实测光斑和理论值比较接近。而毛细管的大光斑并不是工艺精度的误差，而是反射型器件的色差导致的，不同能量的光都会对聚焦光斑有贡献，导致光斑较大。而各种组件的工艺误差，导致的强度不均匀分布，则是在离焦位置处的光斑中得到较为明显的体现。ge(444)双曲弯晶多层膜镜片单毛细管多毛细管放大倍率1270.7收集立体角 (sr)+---++反射率--+++-有效立体角 (sr)---+++1维会聚角 (deg)+---++耦合输出通量(ph/s)---+++聚焦尺寸 (μm)2332155105光谱纯度好好差差时间展宽 (fs)++++--激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs打靶产额：4*109 photons/s/sr等级: ++ + - --利用针孔+sdd，在单光子条件下，测量有无光学组件时的强度和能谱，可以推演出相应的技术参数。这里我们直接给出了核心参数的总结对比。其中，大多数用户最为关注，同时也是对于实验最为重要的，主要是有效立体角、输出光通量、光谱纯度和时间展宽。可以看到：典型的有效收集立体角在-4、-5sr的水平，而在样品上的输出光通量在5-6次方每秒这样的水平。但是需要指出的是：毛细管并不具备单色的能力，虽然有效立体角大，但输出的是复色光。对于时间展宽的比较，很难通过实验手段获得测量精度在几十到百飞秒水平的结果，所以主要通过理论分析和计算来获得。对于同为衍射型组件的ge(444)双曲弯晶和多层膜镜片，光程差引入项主要是x光在组件内的贯穿深度。对于ge(444)，8kev对应的布拉格角约为70度，x光的衰减长度约为28um，对应的时间展宽约90fs。对于多层膜镜片，因为它属于掠入射型的衍射组件，x光的衰减长度在um量级，对应的时间展宽甚至可以到10fs水平，因此这里的数据相对比较保守的。而对于毛细管这种反射型器件，光程差引入项主要是毛细管的长度差。对于单毛细管，光程差在10fs水平，对于多毛细管，位于中心区域和边缘的子毛细管长度是有较大的差异的，光程差可达ps水平。小结1. 弯晶：单色性好、时间展宽较小、有效立体角小、输出通量低；2. 多层膜：单色性好、时间展宽较小、有效立体角大、kα输出通量高；3. 单毛细管：复色、时间展宽很小、有效立体角大、复色光通量高；4. 多毛细管：复色、时间展宽较大、有效立体角最大、复色光通量最高。每一种光学组件都有其适用的场景，对于非单色的超快应用，如超快荧光、吸收谱，毛细管可能更为合适，而对于追求单色的超快应用，如超快衍射，多层膜是比较好的选择，兼顾了单色性、时间展宽和有效立体角（输出通量）三个核心指标！如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨。北京众星联恒科技有限公司致力于为广大科研用户提供专业的x射线产品及解决方案服务！

近年来我国各级医院都在努力通过改造医院软硬件条件，不断更新医疗诊断设备以提高提高医疗服务收入，因此对质量好、多功能的大中型器械医疗设备的需求也在持续增长。根据驰昂咨询(Sinotes)最新统计数据显示，2012年我国医用射频与核磁仪器市场规模达119.8亿元人民币，同比增长21.1%。　　 图1. 2007至2012年我国医用射频与核磁仪器市场规模与增长　　射频与核磁仪器主要包括X射线设备、CT设备、MRI设备等。X射线设备由于市场普及度较高，在射频与核磁仪器市场上占有较大比重，而CT及MRI设备则是增长较快的射频与核磁仪器类别。　　 图2. 2012年我国医用射频与核磁仪器市场份额

中国科学技术大学潘建伟、赵博等与中国科学院化学所白春礼小组合作，在超冷原子双原子分子混合气中首次实现三原子分子的相干合成。在该研究中，他们在钾原子和钠钾基态分子的Feshbach共振附近利用射频场将原子和双原子分子相干地合成了超冷三原子分子，向基于超冷原子分子的量子模拟和超冷量子化学的研究迈出了重要一步。2月10日，这一重要研究成果发表在国际权威学术期刊《自然》杂志上。图：从超冷原子和双原子分子混合气中利用射频场合成三原子分子的示意图量子计算和量子模拟具有强大的并行计算和模拟能力，不仅能够解决经典计算机无法处理的计算难题，还能有效揭示复杂物理系统的规律，从而为新能源开发、新材料设计等提供指导。量子计算研究的终极目标是构建通用型量子计算机，但实现这一目标需要制备大规模的量子纠缠并进行容错计算，仍然需要长期不懈的努力。当前量子计算的短期目标是发展专用型量子计算机，即专用量子模拟机，它能够在某些特定的问题上解决现有经典计算机无法解决的问题。例如，超冷原子分子量子模拟，利用高度可控的超冷量子气体来模拟复杂的难于计算的物理系统，可以对复杂系统进行精确的全方位的研究，因而在化学反应和新型材料设计中具有广泛的应用前景。超冷分子将为实现量子计算打开新的思路，并为量子模拟提供理想平台。但由于分子内部的振动转动能级非常复杂，通过直接冷却的方法来制备超冷分子非常困难。超冷原子技术的发展为制备超冷分子提供了一条新的途径。人们可以绕开直接冷却分子的困难，从超冷原子气中利用激光、电磁场等来合成分子。利用光从原子气中合成分子的研究可以追溯到上世纪八十年代。激光冷却原子技术的出现使得光合成双原子分子得以快速的发展，并在高精度光谱测量中取得了广泛的应用。在光合成双原子分子取得成功之后，人们开始思考能否利用量子调控技术从原子和双原子分子的混合气中合成三原子分子。在2006年发表的综述文章[Rev. Mod. Phys. 78，483, (2006)]中，美国国家标准局的Paul Julienne教授等人回顾了光合成双原子分子过去二十年的发展历史，并指出从原子和双原子分子的混合气中合成三原子分子是未来合成分子领域的一个重要研究方向。由于光合成的双原子分子气存在密度低、温度高等缺点，一直无法用来研究三原子分子的合成。后来随着超冷原子气中Feshbach共振技术的发展，利用磁场或射频场合成分子成为制备超冷双原子分子的主要技术手段。从超冷原子中制备的双原子分子具有相空间密度高、温度低等优点，并且可以用激光将其相干地转移到振动转动的基态。自2008年美国科学院院士Deborah Jin和叶军的联合实验小组制备了铷钾超冷基态分子以来，多种碱金属原子的双原子分子先后在其他实验室中被制备出来，并被广泛地应用于超冷化学和量子模拟的研究中。超冷基态分子的成功制备重新唤起了人们对合成三原子分子的研究兴趣。2015年，法国国家科学研究中心的Olivier Dulieu教授等在理论上分析了从原子双原子分子混合气中合成三原子分子的可行性 [Phys. Rev. Lett. 115, 073201 (2015)]。 但由于三原子分子的相互作用极其复杂，无法精确计算，因而理论上无法预测三原子分子的束缚态的能量以及散射态和束缚态的耦合强度。中国科学技术大学的研究小组在2019年首次观测到超低温下原子和双原子分子的Feshbach共振，相关成果发表于《科学》杂志 [Science 363, 261 (2019)]。在Feshbach共振附近，三原子分子束缚态的能量和散射态的能量趋于一致，同时散射态和束缚态之间的耦合被大幅度地共振增强。原子分子Feshbach共振的成功观测为合成三原子分子提供了新的机遇。但由于原子和分子的Feshbach共振非常复杂，理论上难以理解，能否和如何利用Feshbach共振来合成三原子分子依然是实验上的巨大挑战。在该项研究中，中国科学技术大学的研究小组和中科院化学所的研究小组合作，首次成功实现了利用射频场相干合成三原子分子。在实验中，他们从接近绝对零度的超冷原子混合气出发，制备了处于单一超精细态的钠钾基态分子。在钾原子和钠钾分子的Feshbach共振附近，通过射频场将原子分子的散射态和三原子分子的束缚态耦合在一起。他们成功地在钠钾分子的射频损失谱上观测到了射频合成三原子分子的信号，并测量了Feshbach共振附近三原子分子的束缚能。这一工作为量子模拟和超冷化学的研究开辟了一条新的道路。超冷三原子分子是模拟量子力学下三体问题的理想研究平台。三体问题极其复杂，即使经典的三体问题由于存在混沌效应也无法精确求解。在量子力学的约束下，三体问题变得更加难以捉摸。如何理解和描述量子力学下的三体问题一直都是少体物理中的一个重要难题。此外，超冷三原子分子可以用来实现超高精度的光谱测量，这为刻画复杂的三体相互作用势能面提供了重要的基准。由于计算势能面需要高精度地求解多电子薛定谔方程，超冷三原子分子的势能面也为量子化学中的电子结构问题提供了重要的信息。该研究工作得到了科技部、自然科学基金委、中科院、安徽省、上海市等单位的支持。论文链接： https://www.nature.com/articles/s41586-021-04297-2

近日，国家药品监督管理局经审查，批准了上海微创电生理医疗科技股份有限公司生产的“一次性使用压力监测磁定位射频消融导管”创新产品注册申请。该产品由射频消融导管、连接尾线和尾线连接盒组成。其中导管主体包含高扭矩管身和可弯曲的头部，头部装有铂铱电极，1个头端电极和3个环形电极。该产品在医疗机构中与上海微创电生理医疗科技股份有限公司生产的三维心脏电生理标测系统和心脏射频消融仪配合使用，用于药物难治性、复发性、症状性阵发性房颤的治疗。该产品采用了基于应变片原理压力传感技术、磁场定位技术、头端多孔盐水灌注技术与三维电生理标测系统，可为房颤患者的治疗提供整体解决方案，是国产首个具有压力感知功能的心脏射频消融导管。与传统心脏类射频消融导管相比，该产品可以实时测量导管头端和心壁之间触点压力值，更好的辅助术者完成手术，有效防止术中导管与组织贴靠力过大造成蒸汽爆裂或过小引起消融不完全，可缩短医生学习曲线，达到更优的远期治疗成功率。该产品获批上市有利于该技术的临床应用推广和降低临床治疗费用，使更多房颤患者受益。药品监督管理部门将加强该产品上市后监管，保护患者用械安全。

当光线照射到两种介质的分界面上时，一部分光线改变了传播方向返回原来的媒介中继续传播，这种现象称为光的反射。在自然界中，光的反射存在着镜面反射、漫反射和逆反射三种现象。光的反射示意图镜面反射是在光线入射到一个非常光滑或有光泽的表面上时发生的。光线在物体表面反射的角度和入射的角度，度数相同但方向相反。如果物体的表面和光源成精确的直角，那么反射光线会完整地反射回光源方向。光的漫反射是一种最常见的反射形式。漫反射发生在光线入射到任何粗糙表面上， 由于各点的法线方向不一致，造成反射光线无规则地向不同的方向反射。只有很少一部分光线可以被反射回光源方向，所以漫反射材料只能给人眼提供很少的可视性。逆反射（背面反射）是指反射光线从靠近入射光线的反方向，向光源返回的反射。当入射光线在较大范围内变化时，仍能保持这一特性。当石英片上镀膜后，石英片的逆反射会对镜面反射的结果有明显的影响。本文采用日立的UH4150紫外可见近红外分光光度计、5°绝对反射附件和60mm积分球测试分析逆反射的影响。 下面是2种不同工艺需求的测试数据图：左图为同一批次的2个镀膜样品，变量为基底是否进行了涂黑处理。通过数据可以明显的发现：涂黑处理后的反射率明显降低，在1370nm附近的反射率约为0.3%，这是因为涂黑处理使得基底的背面反射（逆反射）尽可能地消除。 右图为另一种工艺的产品，直接对样品进行测试，不需要额外的处理，可以得到1300 ~ 1600 nm范围内反射率低于0.2%的效果，符合产品的预期。一般遇到测试反射率低于0.5%的指标需求时，建议使用标准片测试。×总结根据测试的目的需求，基底是否处理对实际的测试结果有很大影响。样品的反射率测试，需要考虑背面反射的影响。日立的紫外可见近红外分光光度计UH4150结合镜面反射附件，可以准确的表征低反射率的样品性能。——the end——公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

Pickering Interfaces与Menlo Microsystems的合作将新的开关技术引入PXI射频多路复用开关，以显著地提高性能。2023年6月26日，于英国Clacton-on-sea。Pickering Interfaces公司作为生产用于电子测试及验证领域的信号开关与仿真解决方案的主要厂商，于今日发布了一款采用新的开关技术的PXI/PXIe射频多路复用开关模块新产品。新款基于MEMS的射频多路复用开关是无线通讯和半导体测试的理想选择，与传统 EMR(电磁继电器)开关相比，操作寿命大大延长(高达300倍)、切换速度更快(高达60倍)、带宽更高，射频功率处理能力更强。插入损耗也与EMR相当，并且远低于固态开关。 　　新产品家族基于Menlo Microsystems的Ideal Switch®构建。这是首款性能特性能够支持要求严苛的射频测试环境，比如半导体、消费者无线设备和各种S波段的应用(包括移动服务、卫星通讯和雷达)的商用MEMS组件。“Pickering多年来一直在密切关注MEMS(微机电系统)技术，”Pickering Interfaces的开关产品经理Steve Edwards说。“Menlo Micro凭借Ideal Switch成为第一家提供满足射频测试所需规格的量产MEMS开关的公司。” 　　Menlo Microsystems的创始人兼全球营销高级副总裁Chris Giovanniello指出：“我们与Pickering Interfaces的合作伙伴关系建立在专注于下一代射频产品和应用的五年合作之上。“现在，我们的 Ideal Switch 已被Pickering用来构建首批射频多路复用开关，我们期待进一步推进我们的创新技术的发展。” 　　40-878 (PXI)和42-878 (PXIe)是50Ω 4：1 射频多路复用开关。为了适应不同规模的测试应用，40/42-878系列提供单组、双组或四组多种规格选择，都仅占用一个PXI或 PXIe机箱插槽。用户可以灵活地选择机箱，最大程度地减少所需插槽的数量。40-878也可以在Pickering的所有LXI/USB模块化开关机箱中安装使用。因此，受PXI、LAN或USB控制的不同的开关解决方案具有相同水平的高性能。该模块提供SMB或MCX连接器，用户可以选择最适合其应用的接口。另外，Pickering还提供类型齐全的线缆解决方案。 　　Pickering的开关产品经理Steve Edwards对新产品作了说明：“40/42-878系列提供大于30亿次的操作寿命，远超基于EMR的解决方案(通常为1千万次操作)，最大程度地减少由于继电器损坏或需要维护造成的系统停机。仅50us的切换速度使得这些开关可以在EMR的一次切换时间内进行多次切换，因此最大程度地减短了测试周期时间，以及提高了系统吞吐量。快速切换的优点使得这款产品适用于类型广泛的各类应用。” 　　“另外，40/42-878提供4GHz的带宽(现有的EMR产品带宽为3GHz)，可以支持新的更高频率的测试要求，因此有助于延长测试系统的使用寿命。提高了带宽的同时也提高了射频承载功率，超过了EMR解决方案的10W功率。”Edwards说：“最后，与固态解决方案不同，40/42-878中使用的MEMS开关具有低插入损耗，在4GHz时通常小于1.4db —— 与EMR解决方案相当，但具有基于MEMS设计的所有优势。” 　　40/42-878系列随附驱动程序，可在所有主流的软件编程环境中使用。在操作系统方面，支持所有微软当前的Windows版本和主流的Linux版本，以及其他实时硬件在环(HiL)工具。另外，Pickering为所有模块提高三年质保。

第八届浙江省国际“互联网+”大学生创新创业大赛决赛中获得“金钥匙奖”颁奖。 将一台手掌大小的长方形仪表盒子线头接上一段射频电路，仪表显示屏上随即出现电波图形… … 8月上旬，在杭州电子科技大学通信工程学院科协创新实验室内，一款由该院学生团队联合研发的便携式矢量网络分析仪进行应用演示。 “如果电波图形和被测试电路板上已绘制好的电波图形吻合，说明该射频电路发射性能优良，反之则说明该电路传输信号有问题。”该设备核心研发人员、杭电通信学院大三学生江逸宁介绍说，团队凭此在7月底落幕的第八届浙江省国际“互联网+”大学生创新创业大赛决赛中获得“金钥匙奖”，从而拿到这一赛事全国总决赛的入场券。 记者了解到，这一分析仪可用于检查信号发射状况，分析出基站天线、电缆接触状况等影响网络的变量，并进行修复，从而恢复基站正常功能。 射频电路的网络测试，具有广泛应用场景。比如当前在高校开展广泛的电子信息类学科竞赛，普遍要用到无线信号传递。通常智能车的通信模块、航模比赛的遥控装置等就要用到射频电路发射信号。 “在电子竞赛中深感现有市场上网络测试仪器使用起来不便或太贵，所以我们想自己研发性价比高、使用方便的网络测试仪，目标是使其成为射频微波领域的‘万用表’。”该项目主要负责人、杭电通信学院大三学生王来龙说。 “实验室用到的电子网络测试仪、基站维护领域的驻波仪等设备，通常价格不菲以及被国外垄断。”该团队指导老师、杭电通信学院教授张福洪说，他们鼓励学生研发推出具备类似功能甚至可实现部分替代的仪器。 据介绍，这一分析仪由学生团队通过自主设计核心电路优化仪器电路结构、使用国产全自主芯片以及提升机器学习方法研制而成，基于团队成员的快速锁相环、数模转换器等专利，使频率测量的效率大为提高，同时降低了生产成本。 “同学们从实践出发，学以致用，促进电子测试仪器的国有化，推动测量仪器进一步发展，是一次大胆而创新的尝试。”中国电子学会嵌入式系统专家委员会委员严义教授对此表示。

薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术，其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结，以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中，晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中，薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一，占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术指在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积原理可大致分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀，具体又包含有MBE等各种镀膜技术。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。随着技术的发展，PVD技术也不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术，在此特为大家盘点介绍各种PVD技术。真空蒸发镀膜技术真空蒸发(Vacuum Evaporation) 镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。其物理过程为：采用几种能源方式转换成热能，加热镀料使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3eV) 的气态粒子(原子、分子或原子团)；离开镀料表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜；组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。电子束蒸镀技术电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蚀和耐高温氧化膜。电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀最大的优势在于：可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束定位准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷，对能量的利用率不高；而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离，也有可能带来污染。此外，大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解，这影响了薄膜的成分和结构溅射镀膜技术溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。射频溅射技术射频溅射是溅射镀膜技术的一种。用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，由于常用的交流电源的频率在射频段，如13.56MHz，所以称为射频溅镀。在直流射频装置中，如果使用绝缘材料靶，轰击靶面的正离子会在靶面上累积，使其带正电，靶电位从而上升，使得电极间的电场逐渐变小，直至辉光放电熄灭和溅射停止。所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。磁控溅射技术磁控溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。离子镀膜技术离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行，其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。多弧离子镀(MAIP)多弧离子镀是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积。分子束外延（MBE）分子束外延（MBE）是新发展起来的外延制膜方法，是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下，由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气，经小孔准直后形成的分子束或原子束，直接喷射到适当温度的单晶基片上，同时控制分子束对衬底扫描，就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。该技术的优点是：使用的衬底温度低，膜层生长速率慢，束流强度易于精确控制，膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜，以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料。分子束外延不仅可用来制备现有的大部分器件，而且也可以制备许多新器件，包括其它方法难以实现的，如借助原子尺度膜厚控制而制备的超晶格结构高电子迁移率晶体管和多量子阱型激光二极管等。我们在公车上看到的车站预告板，在体育场看到的超大显示屏，其发光元件就是由分子束外延制造的。脉冲激光沉积（PLD）脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。激光分子束外延（L-MBE）激光分子束外延技术（L-MBE）是近年来发展起来的一项新型薄膜制备技术，是将分子束外延技术与脉冲激光沉积技术的有机结合，在分子束外延条件下激光蒸发镀膜的技术。L- MBE结合了PLD的高瞬时沉积速率（不需要考虑成分挥发时的热平衡问题等等）及MBE的实时检测功能，是一种改良的MBE方法。近年来，薄膜技术和薄膜材料的发展突飞猛进，成果显著，在原有基础上，相继出现了离子束增强沉积技术、电火花沉积技术、电子束物理气相沉积技术和多层喷射沉积技术等。目前，芯片制造过程中关键的PVD设备主要包括硬掩膜（Hard Mask ）PVD设备、铜互联（CuBS）PVD 以及铝衬垫（Al PAD）PVD，主要使用溅射镀膜技术。目前，主流物理气相沉积厂商包括，北方华创、合肥科晶、中科科仪、SPTS、ULVAC、Applied Materials、Optorun、那诺-马斯特、IHI Corporation、Lam Research、Semicore Equipment、Veeco Instruments、Oerlikon Balzers、Mustang Vacuum Systems、Singulus Technologies、KurtJ.Lesker、博远微纳、汇成真空、佛欣真空、北京丹普、九鼎精密、意力博通、CHA Industries、Angstrom Engineering、Denton Vacuum、Mantis、沈阳科学仪器有限公司等。更多仪器请查看以下专场【物理气相沉积】、【激光脉冲沉积】、【分子束外延】。

滨松公司将于2016年10月1日开始销售LED照射单元GC系列产品，作为线性紫外（UV）LED照射单元LIGHTNINGCURE LC-L5G的新成员，该产品具备可连接、薄型、低功耗的特点，适用于国内外生产电视机、平板电脑终端、智能手机等厂家工序中的UV固化工序。 该产品将于9月28日在日本东京举办的材料和技术综合展“N+（N PLUS）”、10月5日在日本大阪举行的“关西机械高性能薄膜展”上亮相。 所谓UV固化，是指通过照射UV光，对UV粘合剂、UV镀膜剂、UV油墨等进行固化的技术，其最佳波长根据用途有所不同。UV粘合和UV镀膜时使用波长为365nm或405nm的UV光源，UV印刷时使用385nm或395nm的UV光源。 为进一步满足电视机、平板电脑终端、智能手机等面板的UV粘合、以及对电路板等进行表面保护的UV镀膜等用途，考虑到UV固化应用市场的不断增长，滨松公司在该产品线上增加投放了新的GC系列。将GC系列链接在一起的状态通过连接照射单元，应对各种产品类型 现产品在连接时可按照射窗的长边方向，用兼顾电源与控制信号输入的导线和固定板即可实现连接。通过改变单元的连接数量，即可方便地调整UV光的照射宽度，适用于电视机、平板电脑终端、智能手机，电路板等各种不同尺寸的产品加工要求。在更换产品种类时也无需替换设备等，减少了设备投资费用。 提高光量的均一性 以往的产品也可以将照射单元排列起来扩大UV的照射宽度，但光源不容易照射到单元的正下方，会出现局部UV光量不足的问题。但新的GC系列则实现了单元的直接相连，且所采用的生产技术可以使LED的UV照射窗镜头在位置上高度对准，这样在单元相互连接时实现了在全部UV照射区域里光量的高度均匀性。以此减少UV固化的不均匀性，提高产品质量。更小体积，节省空间 通过对整体设计进行改良，改变了单元内部的吸气排气结构以及风扇电机的型号，实现了GC系列产品的薄型化。单元厚度从原来的55mm缩小为24mm，单元体积则仅是原有产品的四分之一，大大减少了生产现场的空间。 低功耗，节能化 GC系列产品可以根据用途在所需最小范围内进行UV照射，消耗功率从原来的180W减小到40W，实现了大幅度的节能减耗，更加环保友好。在今后，为了满足市场对光强输出的更高要求，滨松公司计划在明年春天推出更大功率UV-LED单元来扩充产品线。 GC系列：GC-77参数一览项目内容 / 值単位照射面积177 × 5mm峰值波长365385395405nm紫外照射强度22W/cm2输入电压（DC）48V消耗功率（Max.）4540W外形尺寸（W × H × D）77 × 140 × 24mm1 在照射距离2mm处的照射面积 2 照射距离2 mm处、照射面积内的最大紫外照射强度线性UV-LED照射单元LIGHTNINGCURE LC-L5G 「GC-77」 LIGHTNINGCURE是滨松光子学公司的注册商标其他UV-LED照射单元系列一览GP系列 该系列的应用为，向印刷品直接喷射UV油墨，用低强度的UV照射使其达到半硬化状态，防止油墨的渗出以提高印刷质量，用于油墨喷射打印机预烘干。同样是窄薄型和低功耗。GJ系列 用于油墨喷射打印机的正式烘干，小型大功率照射单元。 GL系列 在加大GJ系列宽度的同时，实现了光输出的高度均匀性，针对屏幕印刷、凸版印刷、凹版印刷、间歇印刷、一部分的胶印、塑料容器的直接印刷等用途，提供了UV印刷所需要的大功率照射单元。

应用电子显微镜高分辨本领和高放大倍率，对物体组织形貌和结构特征进行分析和研究的近代材料物理测试方法。但样品的制作直接影响着结果的准确性，所以制作满足要求的样品就成了整个试验的重点。现将一些常见电镜制样方法简介如下。透射电镜（TEM）TEM放大倍数可达近百万，可以看到在光学显微镜下无法看清的0.1~0.2nm的细微结构。它的样品制备工作量非常大，约占全部测试工作的半数以上或90%以上，是十分关键的。图 透射电镜样品台常用样品台分为两种：顶入式样品台和侧插式样品台顶入式样品台要求样品室空间大，一次可放入多个（常见为6个）样品网，样品网盛载杯呈环状排列，使用时可以依靠机械手装置进行依次交换。优点：每观察完多个样品后，才在更换样品时破坏一次样品室的真空，比较方便、省时间。缺点：但是需要的空间过大，使样品远离下方物镜，不宜减小物镜焦距而影响电镜分辨力。侧插式样品台样品台制成杆状，样品网载放在前端，只能盛放1～2个铜网。优点：样品台体积较小且占用空间较少，可布置于物镜内上部，利于提高电镜分辨率。缺点：不可能一次投入多个样品网中，每换一个样品都要打破一次样品室内真空，稍有不方便。支撑网的选择：支撑网有多种材质如Cu、Ni、Be、尼龙等，选择时要与待分析样品的成分分开。图 筛网尺寸制备原则• 简单• 不破坏样品表面• 获得尽量大的可观测薄区主要制备方法• 支持膜法：• 复型法：• 超薄切片法：• 薄膜试样（电解双喷减薄，离子减薄，FIB等）1. 支持膜法适用范围：纳米颗粒（防止样品从铜网缝隙中漏出）支持膜种类：• 微栅膜• FIB微栅膜• 纯碳微栅膜• 多孔碳膜• Quantifoil规则多孔膜• C-flat纯碳多孔支持膜等图 筛网尺寸制备过程：• 制备支持膜：在铜网上覆盖一层有机膜后喷碳• 选择分散剂：根据样品性质选择，常用无水乙醇• 分散：使用超声波或搅拌将粉末分散成悬浮液液滴上支持膜（两种方法）：（a）滴样：用镊子将覆盖支持膜的铜网夹住，并用滴管向支持膜上滴入数滴悬浮液，使其保持夹持状态直至干燥为止（推荐）（b）捞取：用镊子夹持载网浸入溶液捞取液滴（缺点：双面挂样制备关键和注意事项：• 样品粉末能否在支持膜上均匀分布• 确保实验过程中未带入污染物2.复型法基本原理：利用电子束透明膜（碳、塑料、氧化物薄膜）复制材料表面或者断口形态的间接试样制备方法。适用范围：在电镜中易起变化的样品和难以制成薄膜的试样。样品要求：非晶态、分子尺寸小、导电性、导热性良好，耐轰击，有足够的强度和刚度。复型法分类：塑料一级复型、碳一级复型、塑料-碳二级复型、萃取复型。（1）塑料一级复型样品上滴特定溶液，溶液在样表面展平，多余的用滤纸吸掉，溶剂蒸发后样品表面留下一层100nm左右的塑料薄膜。图 塑料一级复型（2）碳一级复型利用真空镀膜装置将碳膜蒸镀于试样表面，将试样置于真空镀膜装置内，将试样置于所配的分离液内经电解或者化学分离得到分离碳膜便可应用于分析。图 碳一级复型（3）萃取复型图 萃取复型（4）塑料-碳二级复型通俗地说，塑料的一级复型中又制造出碳复型即为二级复型。分辨率相当于塑料的一级复型，对试样无损害，耐电子束辐照，复型带重金属投影。图 碳二级复型3. 超薄切片法适用范围：生物组织、较软的无机材料等。1.取材 2.固定 3.漂洗 4.乙醇或丙酮系列脱水 5.渗透 6.包埋 7.聚合 8.修块 9.切片 10.捞片染色 11.电镜观察注意事项：• 迅速：最短时间内取样,投入固定液• 体积小：所取样品体积不超过1mm3• 轻：轻轻操作，使用锋利器械，避免拉、锯、压• 准确：所取部位有代表性• 低温：在0～4℃内操作4.离子剪薄法适用范围：用于非金属材料或非均匀金属制备过程：• 预处理：按预定取向切割成薄片，机械抛光减薄到几十μm，把边长/直径切割至3mm。• 装入离子轰击装置：• 抛光：获得平坦而宽大的薄区。图 离子剪薄法5.电解双喷减薄法适用范围：只能制备金属试样，首选大块金属。样品准备：• 磨抛厚度均匀，避免穿孔偏• 样品保证清洁• 多准备一些试样，试合适的条件制备步骤：• 样品接正极、电解液接负极，电解液从两侧喷向样品• 样品穿孔后，自动停机• 获得中间薄，边缘厚，呈面窝状的TEM薄膜样品电解液选择：根据样品；不损伤仪器优点：条件易控制，快速，重复性好，成功率较高。图 电解双喷减薄法原理图6. 聚焦离子束法（FIB）适用范围：适用于半导体器件的高精度切割与线路修复。原理：采用从液态金属镓中提取离子束，并通过调节束流强度对指定区域进行快速精细处理。方法：铣削阶梯法，削薄法（H-bar）铣削阶梯法：• 预处理：铣削出两个反向的阶梯槽，中间留出极薄的TEM试样• 标记：刻蚀出定位标记• 定位：用离子束扫描定位标记，确定铣削区域• 铣削：自动或手动完成铣削加工图 铣削阶梯法制备的样品TEM照片削薄法（H-bar）：• 使用机械切割和研磨等方法将试样做到50-100μm厚• 使用FIB沉积一层Pt保护层• 使用FIB铣削掉两侧的材料图 削薄法工作示意图扫描电镜（SEM）扫描电镜样品制备比透射电镜样品制备简单，无需包埋和切片。样品要求：样品须为固体；达到无毒、无放射性、无污染、无磁性、无水分、组分稳定。制备原则：• 表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干；• 新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态；• 要侵蚀的试样表面或断口应清洗干净并烘干；• 磁性样品预先去磁；• 试样大小要适合仪器专用样品座尺寸。常用方法：块状样品块状导电材料：无需制样，用导电胶把试样粘结在样品座上，直接观察。块状非导电（或导电性能差）材料：先使用镀膜法处理样品，以避免电荷累积，影响图像质量。图 块状样品制备示意图粉末样品直接分散法：• 双面胶粘于铜片表面，借助棉球使被测样品颗粒直接撒布于其上，并用洗耳球对样品进行轻吹以去除粘附的、没有被牢固地固定的粒子。• 将装有颗粒的玻璃片翻起，对着已准备好的试样台用小镊子或者玻璃棒轻敲，使细颗粒能够均匀地落入试样台上。超声分散法：将少量颗粒放入烧杯内，加乙醇适量，超声震荡5分钟，然后用滴管加入铜片内，使其自然干燥。镀膜法真空镀膜真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）就是将蒸发容器内需要成膜的原材料在真空室内进行加热，将蒸发容器内的原子或分子气化并从表面逸出，一种形成蒸气流并将其射入固体（称为衬底或基片）的表面以冷凝成固态薄膜的工艺。离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜在局部真空溅射室内辉光放电生成正向气体离子；在阴极（靶）与阳极（试样）之间电压加速时，荷正电离子轰击阴极表面并原子化阴极表面材料；生成的中性原子，向四面八方飞溅，射落在样品表面，从而在样品表面生成了均匀的薄膜。特点：• 对任何待镀材料来说，溅射都是可能的，只要它能够制成靶材即可（适用于难蒸发材料和不容易获得高纯度化合物的相应薄膜材料的制备）；• 溅射所获得的薄膜和基片结合较好；• 消耗贵金属少，每次仅约几毫克；• 溅射工艺具有良好的可重复性，膜厚可控，同时能在大范围基片表面得到厚度均一的膜。• 溅射方法：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射。1．直流溅射图 直流溅射沉积装置示意图已经很少使用了，由于沉积速率过低~0.1μm/min、基片加热、靶材导电、直流电压和气压都必须很高。优点：装置简单，容易控制，支模重复性好。缺点：工作气压高（10-2Torr）,高真空泵不起作用；沉积速率低，基片升温高，只能用金属靶（绝缘靶导致正离子累积）2．射频溅射图 射频溅射工作示意图射频频率：13.56MHz特点：• 电子作振荡运动，延长了路径，不再需要高压。• 射频溅射可制备绝缘介质薄膜• 射频溅射的负偏压作用，使之类似直流溅射。3．磁控溅射原理：用磁场使电子移动方向发生变化，电子移动轨迹被束缚与拉长，工作气体中电子电离几率增加，电子能量得到高效利用。由此使得正离子轰击靶材产生的靶材溅射变得更高效，可以在更低气压下溅射，而被正交电磁场捆绑的电子则会被束缚于靶材周围，仅能在它们能量消耗殆尽后沉积下来的基片中溅射。图 磁控溅射原理示意图特点：低温，高速，有效解决了直流溅射中基片温升高和溅射速率低两大难题。缺点：• 靶材利用率低（10%-30%），靶表面不均匀溅射；• 反应性磁控溅射中的电弧问题；• 薄膜不够均匀• 溅射装置比较复杂反应溅射溅射气体添加氮气、氧气、烷类等少量反应气体，反应气体和靶材原子共同沉积于衬底上，对于某些不容易发现块材而制造靶材的物质，或者溅射时薄膜成分易偏离靶材原成分，均可用此法进行。反应气体：O2，N2，NH3，CH4，H2S等镀膜操作将制备完成的样品台放置在样品托上，放入离子溅射仪，加盖，旋紧螺丝并开启电源抽真空。当真空趋于稳定时，在5 X10-1mmHg左右，按下“启动”键，用调节针阀把电流调节到6~8mA,开始镀金，镀金1分钟后即自动停止镀金，关好电源、打开顶盖螺丝、放掉气体、取下试样即成。图 Cressington 108Auto高性能离子溅射仪冷冻电镜制样冷冻电镜是扫描电镜超低温冷冻制样传输技术（Cryo-SEM）可以实现液体，半液体和电子束敏感样品的直接观测，例如生物和高分子材料。样品经超低温冷冻，断裂和镀膜制样（喷金/喷碳）后可由冷冻传输系统置于电镜中的冷台上（温度可至-185°C）观察。适用范围：塑料，橡胶及高分子材料，组织化学，细胞化学等样品制备要求：能够保持本身的结构，又能抗脱水和电子辐射方法：（a）通过快速冷冻使含水样品中的水处于玻璃态，也就是在亲水的支持膜上将含水样品包埋在一层较样品略高的薄冰内。图 液氮冷冻（b）采用喷雾冷冻装置（spray-freezing equipment），结合基质混合冷冻技术（spray-freezing），可在极短时间内将两种溶液（如受体和配体）混合（ms量级），然后快速冷冻。图 喷雾冷冻装置金相制样金相分析是材料研究领域中非常重要的一个环节，也是材料内部组织研究的一种主要方法。利用定量金相学原理通过对二维金相试样磨面或者薄膜进行金相显微组织测量与计算，确定合金组织在三维空间中的形态，进而建立合金成分，组织与性能之间定量关系。制样过程：样品切割、镶嵌样品、机械制样、检验样品样品切割方法：金相最适合的切割方法是湿式切割轮切割法。优点：所造成的损伤与所用的时间相比是最小的切割片的选择：主要依据材料的硬度和韧性进行选择。图 砂轮片的选择• 陶瓷和烧结碳化物：金刚石切割片• 钢铁材料：氧化铝（Al2O3）切割片和CBN切割片• 有色金属：碳化硅（SiC）切割片镶嵌样品金相样品镶嵌技术（以下简称镶样）是将试样尺寸小或形状不规则造成研磨抛光痛苦时镶嵌或夹持，以便于试样抛磨，提高工作效率和实验精度的一种工艺方法。镶样一般分为冷镶和热镶。冷镶应用：对于温度和压力极为敏感材料、和微裂纹试样要进行冷镶，会使试样组织不发生改变。图 冷镶示意图冷镶材料：一般包括环氧树脂、丙烯酸树脂、聚脂树脂。• 环氧树脂：收缩率低，固化时间长；边缘保护好，用于真空浸渍，适用于多孔性材料；• 丙烯酸树脂：黄或白，固化时间较短，适合批量大、形状不规整样品镶样；对于含裂纹或者孔隙的试件渗透性更好；尤其是对印刷电路板的封装；• 聚酯树脂：黄色、透明、固化时间较长；适用于大批量无孔隙的试样制样，适用期长；真空浸渍：多孔材料（如陶瓷或热喷涂层）需真空浸渍。树脂能增强这些脆弱材料并能尽量减少制备缺陷（例如抽出，开裂或未开孔等）。只有环氧树脂由于其低粘度、低蒸汽压的性质，才能在真空浸渍中使用。荧光染料和环氧树脂可以被混合以方便地发现荧光灯中所有被充填的孔隙。图 冷镶制样 图片来源：司特尔公司热镶应用：适用于低温及压力不大的情况下不发生变形的样品。图 热镶示意图镶材料：目前，通常多用塑料做镶嵌材料。镶嵌材料包括热凝性塑料（如胶木粉），热塑性塑料（如聚氯乙烯），冷凝性塑料（环氧树脂加固化剂）和医用牙托粉与牙托水。胶木粉不透光、色泽多样、且较坚硬、样品不易倒角、但抗强酸、强碱耐腐蚀性较差。聚氯乙烯呈半透明或透明状，抗酸碱耐腐蚀性能良好，但柔软。热镶试样图片来源：司特尔公司机械制样机械制样可分两种操作：研磨和抛光1.研磨研磨的终极目标就是要得到损伤最小的平表面。这些小损伤会在后续抛光中短时间内被去除。研磨分为粗磨和细磨两个过程。• 粗磨粗磨过程就是把全部试样表面变成一个类似的面，用比较粗的固定研磨颗粒就能快速磨去材料。• 精磨 精磨会使样品有些微变形，但这些变形在抛光过程中就会消除掉。2.抛光抛光就像研磨，还得除去前道工序造成的伤害。它可以分为金刚石抛光与氧化物抛光两大工序。• 金刚石抛光唯有把金刚石当作研磨料来抛光才有可能在最快的时间内得到最佳研磨平面。其原因是金刚石非常坚硬，几乎能切割所有的物质和相态。• 氧化物抛光 对于特别软、韧性的样品，须采用氧化物抛光法。抛光在抛光布上完成。金刚石抛光时还须用到润滑剂。研磨和抛光设备检验样品打磨后的检测部位变的发亮，在观察组织的时候需要先将试样的检测部位腐蚀掉，做好之后使用酒精冲淋，使用吹风机吹扫。

近日，在海南中航特玻公司特玻生产基地，随着2号线15mm厚的在线低辐射镀膜(LOW-E)超白超厚玻璃在生产线下片装箱，全球首条在线LOW-E超白超厚玻璃线在我国诞生。　　海南中航特玻技术研发团队在国际先进技术基础上，通过自主创新，将在线LOW-E大板的厚度从3mm、4mm、5mm、6mm、8mm增加至10mm 12mm，现在又成功地生产出15 mm超厚玻璃。这是世界当前最厚的在线LOW-E玻璃产品，也是海南中航特玻继研制出在线Low-E超白产品后取得的又一创新成果。在线Low-E超白超厚玻璃的面世，标志着我国玻璃行业技术已经居于国际领先水平，对进一步拓展国际国内建筑节能玻璃市场有着重要意义，更是我国玻璃行业为世界玻璃工业技术进步作出的新贡献。　　据专家介绍，因为受到生产工艺技术的制约，在线Low-E镀膜玻璃厚片生产技术难度较高。在许多公共建筑和大部分高层楼房裙楼商业用房和大堂建筑装饰中需要大板面单片厚玻璃，因为离线Low-e玻璃存在脱膜的问题，所以，一直以来，国内外建筑师都只能在这些部位使用普通浮法玻璃厚片，以至于建筑效果和使用功能与建筑节能产生无解的矛盾。　　而在线Low-E是在浮法线上700C镀膜固溶在玻璃体上，单片使用永不会发生膜层脱膜，15mm超厚玻璃既可满足荷载和抗风强度要求，又美观坚固，钢化加工性较强，其节能膜低辐射性能与玻璃同寿命，单片使用达到冬暖夏凉，保温隔热功效十分显著，在北方冬天大幅降低室内热能的浪费，在南方能够很好的起到隔热节能效果。　　据统计，单片15mm在线LOW-E玻璃的传热系数比普通浮法玻璃传热系数低36%，比普通单片玻璃提高节能效率1/3，应用在建筑领域上，可节约大量的电力和煤炭资源消耗。不仅如此，这次海南中航特玻公司研发的新产品是在线超白厚板大尺寸Low-E玻璃，超白玻璃具有极高的透过率，可见光透过率可达92%，具有非常好的光学性能,可以更真实再现景观，是高端写字楼和豪华酒店建筑师和业主的梦想。　　通过与在线Low-E膜层的结合，既可以保证超白玻璃原有较高的可见光透过率，满足室内采光要求与舒适度，减少室内照明用电，又具有低辐射功能，达到综合节能的效果。是满足通透性建筑型要求较高的关键材料, 如北方和滨海区建筑. 同时，由于超白玻璃对原料的严格要求及自身低铁特性，超白Low-E玻璃不会产生自爆现象。　　用作大堂玻璃及幕墙玻璃时，由于抵抗风压和设计规范的要求必须采用钢化玻璃，而非超白钢化玻璃经常发生自爆，厚片普通钢化玻璃自爆的危险程度更高。因此，这一新技术还解决了困扰多年的建筑用钢化玻璃自爆的问题，这问题曾经是历年“两会“代表提案之一，一直受到社会各方面的高度关注.　　中航三鑫股份有限公司旗下海南中航特玻材料有限公司，是海南省和中航工业国防新材料重点企业，也是我国资本市场新材料板块引人瞩目的企业。位于海南省老城经济开发区，在海南文昌拥有两座世界顶级品质砂矿。企业引进欧美国多项高端浮法玻璃生产制造专有技术，拥有世界最先进CVD在线镀膜生产技术和装备。公司建有4条600吨级的浮法玻璃生产线，采用全氧燃烧生产工艺并配有余热发电，生产的汽车玻璃原片、超薄电子玻璃原片、超白浮法玻璃、超白航空材料、高速列车玻璃，以及在线低辐射系列节能玻璃等，是我国高端玻璃制造领域的领军企业。　　海南中航特玻公司2号线原是生产TCO太阳能基板玻璃。太阳能市场严重萎缩之后，企业通过技术创新，成功转型生产在线Low-E镀膜超白超厚玻璃。该产品为海南中航特玻进一步开辟国内国际市场提供了先机，也大大提高了企业的市场竞争力和经济效益。这条线完全可生产各种颜色和超白等各类在线低辐射系列3—15mm节能玻璃，也是全球第一条多品种高端节能玻璃制造生产线。目前，产品已通过国家玻璃质量监督检验中心的检验合格，性能指标完全满足国家标准《镀膜玻璃第二部分 低辐射镀膜玻璃》(GB18915.2-2002)的各项技术要求。这一优秀成果对于我国第二代浮法玻璃的研发创新，实现玻璃行业转型升级，发展资源节约型、环境友好型和优质高效型玻璃产业，使我国从玻璃大国向玻璃强国迈进，都有着十分重要的战略发展意义。

p　　近日，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展：通过采用遗传算法，实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于± 0.1%，镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS，相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。/pp　　极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜，包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜，必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制，以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。/pp　　该研究团队采用遗传算法，完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演，避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程，减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数，大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。/pp　　该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201512/insimg/23f88bde-dfca-408c-bbba-0cd143198760.jpg" title="W020151215486777681302.png" width="600" height="225" border="0" hspace="0" vspace="0" style="width: 600px height: 225px "//pp style="text-align: center "长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展/ppbr//p

中国科学院微电子所射频电源(RFGenerator)课题组(www.rf-power.net)从1984年开始研发电子管射频电源(13.56MHz)，1985年研制成功500W-10KW电子管射频电源，获得“六五”攻关荣誉证书以及“FD-2反应离子刻蚀机与超精细刻蚀研究”项目二等奖。　　从2010年开始在极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项(国家02重大专项)项目资金支持下，研发晶体管射频电源(13.56MHz)，2011年研发成功300W-3000W晶体管射频电源，获得第七届国际发明展览会银奖。　　经过二十多年的发展完善，产品的性能不断提高，规格齐全,目前开发成熟的电子管与晶体管射频电源产品有：300W、500W、1KW、1250W、1.5KW、2KW、3KW、5KW、6KW、8KW、10KW等多种规格以及不同功率的400KHz高频电源及不同功率的稳流源与自动匹配器。年销售电子管与晶体管射频源占国内市场份额的70%以上。　　目前射频电源组分为三个部门：产品研发部，产品生产部，产品推广与售后服务部。　　产品研发部：有专业研发人员7人，其中硕士及以上比例100%，具有教授级职称2人，具有博士学历3人，从清华大学，中科院电工所，中国科学技术大学引进资深射频技术与自动控制专家3人，目前已建立起一支由高级研发顾问领导的国际化研发人才团队。　　产品生产部：有专业技术工程师17人，具有500平方专业射频电源生产与测试车间(可以进行ESD，EMC等测试)，年生产能力达3000台套，库房常年备有库存，可保证给客户随时发货。　　产品推广与售后服务部：有专业推广销售人员4人，专业售后服务人员2人，其中硕士及以上比例100%。　　射频电源广泛应用于等离子体研究，集成电路工艺设备，太阳能光伏工业，LED制程，薄膜生长，射频感应加热，医疗领域的消毒与理疗美容，常压等离子消毒清洗等领域。　　中国科学院微电子研究所射频电源组网址：www.rf-power.net

依据《中华人民共和国无线电管理条例》，第五章第二十七条，生产的无线电发射设备，其工作频率、频段和有关技术指标应当符合国家有关无线电管理的规定，并报国家无线电管理机构或者地方无线电管理机构备案。无线射频产品型号核准制度在中国是强制的认证制度。　　频谱资源属于国家资源，因此每个国家对于无线射频产品的管理，也是强制性要求，除中国SRRC认证外，美国FCC认证，欧盟的R&TTE认证，是全球针对无线射频的主要法规要求。　　如何让您的产品更顺利，更快捷的满足这些技术壁垒，迅速占有市场，特举办该研讨会，与各厂家共同发展。　　【主要内容】　　l 《中国无线电管理条例》法规解读以及有关新规定　　l 中国无线电发射设备型号核准(SRRC)及测试规范　　l 无线射频产品的美国FCC认证　　l 无线射频产品的欧盟R&TTE认证　　l 无线射频产品的其他地区(如巴西，日本，韩国，东南亚等地)认证要求　　l 无线射频产品的模块认证　　l 无线射频产品在船用产品，车用产品，飞机产品，及军品中的特殊要求　　【适合对象】　　电子企业技术研发人员、检测人员、质量控制人员、采购人员，相关部门领导　　【举办单位】　　l 广州广电计量检测股份有限公司　　【演讲嘉宾/议题】　　演讲题目：　　无线射频产品SRRC、FCC、R&TTE认证等多国要求　　演讲嘉宾：　　吴煜民：GRGT电磁兼容检测中心中心总监，从事产品检测认证工作十余年，精通通信行业检测及认证，　　在无线通信产品性能测试，射频测试，EMC测试，多国认证等业务领域拥有丰富经验。　　【会议安排】日期2012年 7月26日（星期四） 时间10:00-17:00地点成都市永丰路45号 长盛帝都国际酒店 3楼会议室议程9:30-10:00 签到10:00-12:00 无线电管理条例以及相关新规及中国无线电发射设备型号核准认证流程及测试要求12:00-13:30 午饭13:30-14:30 FCC认证及R&TTE认证等多国要求14:30-15:00 茶歇、互动交流、答疑15:00-15:30 无线射频产品的模块认证15:30-15:40 茶歇15:40-16:30 无线射频产品在船用产品，车用产品，飞机产品，及军品中的特殊要求16:30-17:00 互动交流、答疑、　　【费用】 A、听课免费(不办理相关证件) 　　　　 　　B、提供讲义教材　　　　　　C、免费提供午餐　　Registration form报名回执课程名称：《无线射频产品SRRC、FCC、R&TTE认证等多国要求》日期2012年7月26日公司名称： 公司地址： 联络人： 电话： 传真： E-mail： 参加人： 职位： 手机： E-mail： 参加人： 职位： 手机： E-mail： 请写下您感兴趣的问题，我们的专业讲师将在现场为您作详细解答问题1：问题2：温馨提示：* 请将以上报名表于2012年7月22日前回传到我司，以便为您预留座位。 * 为方便签到，请携带您的名片入场。 * 会务组联系方式：广州广电计量检测股份有限公司 成都分公司地址：成都市高新西区西芯大道4号创新中心A219室联系人： 曾永电话：028-66259369 传真：028-66259366手机：13882274060电邮：zengy@grg.net.cn　　* 为方便签到，请携带您的名片入场。　　* 会务组联系方式：广州广电计量检测股份有限公司 成都分公司　　地址：成都市高新西区西芯大道4号创新中心A219室　　联系人： 曾永　　电话：028-66259369 传真：028-66259366　　手机：13882274060　　电邮：zengy@grg.net.cn　　交通指引：成都市永丰路45号 长盛帝都国际酒店 3楼会议室　　交通路线： 84路 52路 92路 28路 11路 51路 408路

为满足半导体设备客户的需求，中科院射频电源组(www.rf-power.net)经过2个月的设计研发，于2013年3月正式推出固态RFG-2000高端型射频电源(3U风冷系列)，此型号适用于大腔室刻蚀等半导体设备。此型号带有RS232/RS485/USB通讯协议，模拟口通讯，脉冲调制，相位同步与移相等功能。固态RFG-2000高端型射频电源(3U风冷系列)　　中国科学院微电子所射频电源(RF Generator)课题组从1984年开始研发电子管射频电源(13.56MHz)，1985年研制成功500W-10KW电子管射频电源，获得“ 六五”攻关荣誉证书以及“FD-2反应离子刻蚀机与超精细刻蚀研究”项目二等奖。　　从2010年开始在极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项(国家02重大专项)项目资金支持下，研发晶体管射频电源(13.56MHz)，2011年研发成功300W-3000W晶体管射频电源，获得第七届国际发明展览会银奖。　　经过二十多年的发展完善，产品的性能不断提高，规格齐全, 目前开发成熟的电子管与晶体管射频电源产品有：300W、500W、1KW、1250W、1.5KW、2KW、3KW、5KW、6KW、8KW、10KW等多种规格以及不同功率的400KHz高频电源及不同功率的稳流源与自动匹配器。　　年销售电子管与晶体管射频源占国内市场份额的70%以上。　　目前射频电源组，实行组长负责制，下设三个部门：产品研发部，产品生产部，产品推广与售后服务部。　　产品研发部：实行部长负责制，有专业研发人员7人，其中硕士及以上比例100%，具有教授级职称2人，具有博士学历3人，从清华大学，中科院电工所，中国科学技术大学引进资深射频技术与自动控制专家3人，目前已建立起一支由高级研发顾问领导的国际化研发人才团队。　　产品生产部：实行部长负责制，有专业技术工程师17人，具有500平方专业射频电源生产与测试车间(可以进行ESD，EMC等测试)，年生产能力达3000台套，库房常年备有库存，可保证给客户随时发货。　　产品推广与售后服务部：实行部长负责制，有专业推广销售人员4人，专业售后服务人员2人，其中硕士及以上比例100%。　　射频电源广泛应用于等离子体研究，集成电路工艺设备，太阳能光伏工业，LED制程，薄膜生长，射频感应加热，医疗领域的消毒与理疗美容，常压等离子体消毒清洗等领域。　　中国科学院微电子研究所射频电源组网址：www.rf-power.net

火力发电占中国超过70%的发电量，全国遍布了成千上百座火电厂，火力发电厂的安全运营对于电力生产商至关重要。在火电厂中，AMETEK DREXELBROOK的物位产品在静电除尘器、输煤程控、气力输送领域以及汽轮机油箱液位监控、润滑油含水测量等领域有非常成熟的应用方案。在输煤程控领域，AMETEK DREXELBROOK的射频导纳物位开关（杆式或平板式）安装在原煤仓上进行低位、高位和高高位料位报警，DR6400/6500系列26/80GHZ雷达料位计安装在罐顶对煤位进行连续监控。下面图片均为AMETEK DREXELBROOK物位产品在现场安装使用的工况照：图1上图1位在原煤仓上的低位报警开关，该工况选用的射频导纳平板开关，开关的安装形式巧妙避免了落煤对传感器的损害，完美的实现了低位报警功能。图2上图2为原煤仓连续煤位测量，采用AMETEK DREXELBROOK DR6500系列80Ghz高频雷达，精确的为客户计算煤位，和开关一起，双重保证原煤仓安全运作。以上用实际应用图片体现了AMETEK DREXELBROOK产品在电厂多个场合的应用，除以上图片所显示实际应用案例之外，还有其他诸多场合，总体火力电厂应用总结如下：AMETEK DREXELBROOK射频导纳产品在国内的火电厂应用非常多，目前开关的使用量累计超过20000台，见证了中国火电厂的发展历程，也维护了火电厂的安全运行。

最近，中科院上海硅酸盐研究所无机材料分析测试中心卓尚军、钱荣等人的课题组与英国质谱仪器公司（MSI）合作，将堆叠磁铁系统和辉光放电质谱仪（Autoconcept GD90-RF）的射频源耦合，在非导体样品中观察到了超过50%的信号强度增益。作者借助ANSYS，对这种显著信号增强现象的机理进行了分析，发现：振荡磁场的引入，扩展了电子的运动路径，增大了电子和中性粒子间的碰撞几率，从而提高了非导体样品的电离效率。同时，该现象在多种非导体样品中得以再现，表明该方法是一种简便、有效且具备一定普适性的方法。相关工作发表在国际权威学术期刊《Analytical Chemistry》上。 横向堆叠磁铁、横向块体磁铁、轴向块体磁铁耦合和无磁铁耦合情况下，Y2O3、BSO (Bi12SiO20)、BTN (Ba5.52La0.32Ti2Nb8O30)样品中的Y、Bi、Ba的射频放电信号对比。 用典型元素的信号强度表示的放电稳定性：采用经堆叠磁铁耦合的射频源，对(a)Y2O3、(b)BSO (Bi12SiO20)、(c)BTN (Ba5.52La0.32Ti2Nb8O30)样品进行溅射得到的测量结果。文章链接如下：http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acs.analchem.6b04884 文章摘要如下：A method for signal enhancement utilizing stacked magnets was introduced into high-resolution radio frequency glow discharge-mass spectrometry (rf-GD-MS) for significantly improved analysis of inorganic materials. Compared to the block magnet, the stacked magnets method was able to achieve 50–59% signal enhancement for typical elements in Y2O3, BSO, and BTN samples. The results indicated that signal was enhanced as the increase of discharge pressure from 1.3 to 8.0 mPa, the increase of rf-power from 10 to 50 W with a frequency of 13.56 MHz, the decrease of sample thickness, and the increase of number of stacked magnets. The possible mechanism for the signal enhancement was further probed using the software “Mechanical APDL (ANSYS) 14.0”. It was found that the distinct oscillated magnetic field distribution from the stacked magnets was responsible for signal enhancement, which could extend the movement trajectories of electrons and increase the collisions between the electrons and neutral particles to increase the ionization efficiency. Two NIST samples were used for the validation of the method, and the results suggested that relative errors were within 13% and detection limit for six transverse stacked magnets could reach as low as 0.0082 μg g–1. Additionally, the stability of the method was also studied. RSD within 15% of the elements in three nonconducting samples could be obtained during the sputtering process. Together, the results showed that the signal enhancement method with stacked magnets could offer great promises in providing a sensitive, stable, and facile solution for analyzing the nonconducting materials.

在庆祝中国共产党百年华诞之际，由国家发改委立项支持、中科院高能物理研究所承建的高能同步辐射光源（HEPS）首台科研设备于6月28日上午安装，为其提供技术研发与测试支撑能力的先进光源技术研发与测试平台（PAPS）启动试运行。其中，中科科仪控股公司中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于同一天正式投入使用。直线式劳埃透镜镀制装置及纳米聚焦镜镀制装置可实现各类高能物理装置聚焦镜、单色镜、劳埃镜、纳米聚焦镜等膜层制备。在两装置研制过程中，中科科美突破了多项先进制造技术：精密加工制造技术，实现大型真空腔室及复杂运动系统精密加工与装配、减震及超洁净等严苛设计指标；大型真空系统超高真空获得技术，实现结构复杂、内部零部件放气量大的大型真空腔室系统极限真空度达到10-6Pa；高精度直线运动控制技术，实现长距离导轨运行平行度达到微米量级、运动系统速率稳定性控制在千万之一以内；复杂镀膜工艺技术，实现高精度纳米量级万层镀膜工艺，膜厚精度控制在0.1纳米以内。经相关主管部门和院所专家委员会现场测试，高精密镀膜装置结构设计合理、制造工艺先进、主要性能指标达到国际同类产品水平，填补了该领域内多项国内技术空白。直线式劳埃透镜镀制装置HEPS是国家“十三五”重大科技基础设施项目之一，该项目于2019年6月29日开工建设，建设周期6.5年。建成时，HEPS将成为中国第一台高能量同步辐射光源之一，为基础科学和工程科学领域原创性、突破性创新研究提供重要支撑平台。中科科仪控股公司中科科美凭借在真空系统集成领域深厚的专业技术积淀、强大的整体方案解决能力和一站式服务能力参与到该项目中，为国家重大科技基础设施项目实施和技术攻关贡献了力量。

2021年8月30日，在嘉盛半导体（苏州）有限公司举行了华兴源创5G射频测试系统交付仪式以及上海韦尔半导体股份有限公司、嘉盛半导体（苏州）有限公司、苏州华兴源创科技股份有限公司三方战略合作签约仪式。经过长达3年的潜心研究，由华兴源创自主研发的4台射频测试系统TS-1800，在韦尔半导体和嘉盛半导体大力支持下，顺利进入嘉盛半导体（苏州）有限公司的量产线用于韦尔半导体射频开关的测试。在中国大陆射频芯片封测产业，不得不提到嘉盛半导体苏州公司，全球超过一半的射频开关产品从这里完成封测。本次华兴源创交付的TS-1800射频测试系统，最核心的射频信号矢量信号收发仪板卡（VST）及射频矢量信号网络分析仪板卡（VNA）均为从底层架构完全自主研发，因此可以说是国内首台完全自主创新的5G射频测试系统。TS-1800设计的最高收发频率可达Sub6GHz，可满足所有5G射频开关(Switch)、低噪放大器（LNA）、功率放大器（PA）、滤波器（Filter）、射频调谐（Tuner）等射频前端芯片的测试，打破了国内在5G射频专用测试领域完全依赖进口设备和进口射频矢量板卡的局面。TS-1800射频测试系统的技术亮点主要有1.在硬件设计方面，TS800利用“高功率多频段复用技术”, HP Multi-band TM. 使客户在更换产品时，无需Loadboard硬件更换，只需控制切换即可实现不同的频段的高功率测试。这项技术区别于其他射频设备，实现轻松切换，进一步提高产能。2.在数据处理方面，TS1800 采用Auto-Detect 智能算法。这个强大的智能算法的成功应用，进一步提高测试精度，确保测量的稳定性和一致性。3.TS1800的优于分时系统利用双TX通道和双RX通道集成于一卡的优势实现低功率和高功率实时并行测试的技术，在测试时间上拥有竞争优势。4.高度集成的完全自主研发板卡在测试成本方面拥有天然的竞争优势。上海韦尔半导体股份有限公司董事副总经理纪刚代表公司出席了仪式。他表示韦尔半导体作为一家中国设计公司在保证芯片品质的基础上一直积极推进测试设备的国产化，目前公司的分立器件和模拟芯片的测试已经比较多的采用国产测试设备了，但其他产品的量产测试设备还是依靠海外测试供应商。2年多前豪威集团和华兴源创首先启动了合作，目前在其代工厂已采用华兴源创测试机加分选机的解决方案。经过2年多的不断改善，华兴源创的测试解决方案在效率、稳定性等多项关键指标上已经达到国际同类水平。今天交付的4台5G射频专用测试设备主要用于公司射频开关、LNA等前端芯片的测试，由于射频测试设备的技术门槛很高，截止目前我们基本上全部采用海外品牌测试机，此次首次采购数量不多，但意义重大。首先是韦尔半导体和华兴源创的战略合作又往前发展了一步，从一个品类变成了两个品类，其次今后韦尔半导体的射频前端芯片非常有机会能逐步通过采用高性价比的国产测试解决方案来提高产品竞争力。苏州华兴源创科技股份有限公司董事长陈文源出席了仪式，他表示：首先要感谢韦尔半导体和嘉盛半导体对华兴源创的信任和大力支持，因为公司作为半导体测试设备的新厂商，成败的关键因素之一就是一定要有几家下游铁杆客户不离不弃的陪跑。在韦尔半导体项目推进过程中接收端在高频5GHz范围左右扑捉小信号峰值的时候出现过数值不稳定现象，这是一个集硬件，算法，和信号完整性交织在一起的复杂问题。在韦尔半导体的信任和支持下我们工程师们历经约1个月的奋战，应用了严谨的鱼骨法问题解决方式，做了数十次DOE，终于找到原因，并用精巧的算法实现了稳定地抓取每一次数据的解决方案，这为今天的顺利交付奠定了扎实的基础。其次今天交付的设备，对于华兴源创只是万里长征开始的第一步，我们将持续投入研发，通过与海外同类畅销机型的对比以及从满足客户的各种需求出发，不断升级完善产品，希望在不久的将来，华兴源创的5G射频测试解决方案能成为国内射频芯片厂商乃至全球射频芯片厂商心目中的最佳测试解决方案。出席此次仪式的还有上海韦尔半导体股份有限公司运营总监蒋海林、生产运营高级总监褚彩萍、封装总监俞江彬、嘉盛半导体（苏州）有限公司总经理李操权、运营总监石岩、销售总监朱勤、测试总监向国平、苏州华兴源创科技股份有限公司运营中心长姚夏、董事会秘书朱辰、半导体事业部总监黄龙。华兴源创是行业领先的工业自动化测试设备与整线系统解决方案提供商，基于公司在电子、光学、声学、射频、机器视觉、机械自动化等多学科交叉融合的核心技术为客户提供从整机、系统、模块、SIP、芯片各个工艺节点的自动化测试设备。目前华兴源创产品已经服务于平板显示、半导体、可穿戴、新能源车等多个领域。

科学仪器是科技创新的重要基础和保障，也是创新研究成果的重要产出形式之一，标志着国家创新能力和科学技术可持续发展的水平。然而，目前我国大部分的科学仪器依赖进口，高端仪器和核心部件往往受制于人。《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和2035年远景目标》中明确要求要“加强高端科研仪器设备研发制造”。中国科学院作为国家战略科技力量，是我国开展科学仪器创新研制的主力之一，从“八五”期间开始设立“科学仪器设备升级改造和自主研制”专项。通过长期坚持高端科学仪器的自主创新研制，中国科学院取得了一系列重要成果，积累了一批关键核心技术，产出了一批具有知识产权的科学仪器设备。自2019年起，中国科学院系统梳理了具有自主知识产权的仪器设备和关键零部件，编制《中国科学院自主研制科学仪器产品名录》，并通过《中国科学院院刊》出版和传播，进一步加强中国科学院自主研制科学仪器的推广和应用。本文特汇总了2019至2022年度《中国科学院自主研制科学仪器产品名录》，供科技工作者、相关部门和企业等了解和参考。2019-2022年度中国科学院自主研制科学仪器产品名录中国科学院自主研制科学仪器2022序号产品名称数理与天文科学1量子钻石原子力显微镜2低温扫描隧道显微镜3低温扫描隧道显微镜-分子束外延联合系统4低温强磁场用扫描探针显微镜5金刚石量子计算教学机6钨灯丝扫描电子显微镜7脉冲式电子顺磁共振谱仪8氦质谱检漏仪9便携式伽玛射线成像仪10便携式核素识别仪1110拍瓦超强超短激光器121拍瓦超强超短激光器13中子斩波器14大型平行光管15核与辐射应急车载平台16激光雷达望远镜171米口径光学望远镜18大口径标准镜面1920英寸大面积微通道板型光电倍增管20超快位敏型微通道板型光电倍增管21靶斑仪22多波长飞秒全固态激光器23高重频钛宝石飞秒激光放大器24氟化钡闪烁晶体探测器25星载铷原子钟26芯片原子钟27显微共焦拉曼荧光光谱测量模块28有机玻璃内应力无损定量移动式检测装置29同步控制系统30太阳辐照度绝对辐射计化学与材料科学31分子束外延系统32深紫外激光光致发光光谱仪33深紫外激光光发射电子显微镜34场发射扫描电子显微镜35原子层沉积系统36磁控溅射台37电子束蒸发镀膜设备38系列高离化磁控溅射镀膜仪39碳化硅晶体生长炉40等离子体化学气相沉积镀膜设备41有机、无机薄膜沉积设备42台式电子顺磁共振波谱仪43X波段连续波/W波段脉冲电子顺磁共振波谱仪44全自动比表面及孔径分析仪45微型流化床反应动力学分析仪46多功能内耗仪47多相流非均相特性测量系统48光谱椭圆偏振仪49激光共聚焦法流体液膜厚度及物性测量仪50高能衍射仪51多维跨尺度材料热性能测量仪52微颗粒实时在线监测仪5380-400开尔文低温绝热量热仪54实验室中能X射线吸收谱仪55偏振光栅光刻机56台式数字光刻机57蒸发源及控制器58射频电源59分子泵60双级高速离心式空气压缩机信息与工程科学61X射线三维分层成像仪62红外焦平面探测器测试分析系统63投影光刻机64接触式曝光机系列65大视场三线阵立体航测相机66傅里叶变换红外光谱辐射分析仪67激光干涉仪68衍射光栅（平面刻划光栅、平面全息光栅、曲面全息光栅）69超高分辨率超声缺陷检测设备70高密度等离子体刻蚀机71高精度电光晶体定向仪72超高精度面形干涉测量设备73智能环形抛光机74纤维增强复合材料超快激光切割装备75万瓦级半导体激光器综合测试系统76单频激光噪声测试仪77相干光场波前测量仪78长焦可见光/红外共口径光学成像相机79显微红外成像光谱仪80机载双频激光雷达81激光跟踪仪82卫星移动通信终端综合测试仪83光矢量网络分析仪84数字延时脉冲发生器85系列深紫外准分子激光器86高温液态金属流速实时在线监测仪87集束型纳米薄膜生长系统88涡轮叶片表面温度测量仪89线阵列X射线探测器90中红外锑化物大功率激光器地球与环境科学91地面电磁探测系统92小型绝对重力仪93近钻头方位伽马成像地质导向系统94分布式光纤声传感系统95偶极横波远探测井仪96高精度光纤地震采集系统97岩石空心圆柱扭剪试验系统98天光背景测量仪99质子转移反应质谱仪100大气臭氧观测激光雷达101便携式多组份气体紫外分析仪102车载双光路污染气体分布及网格化排放遥测系统103大气成分差分光学吸收光谱在线监测系统104轨道对地高时空分辨率快速成像仪105大动态范围积分球辐射源106温室气体柱总量地基观测系统107宽波段可调谐光腔衰荡光谱仪108激光散射大气颗粒物偏振浊度计109高频单颗粒偏光粒径谱仪110深海激光拉曼光谱原位定量探测系统111声学多普勒流速剖面仪112基于大型浮标的自由伸缩式海洋剖面观测平台113三锚式浮标综合观测平台114深海海底理化环境长期观测系统115深海多参数剖面观测浮标116海底地震仪117船载挥发性有机物监测仪118系列拉曼光谱探针1196000米级可视化可控轻型柱状取样器120漫反射标准参照板生命与医学科学121人体肺部气体磁共振成像仪1221.5T无液氦超导磁共振成像系统123乳腺/灵长类正电子发射断层成像仪124小动物能谱显微CT125消毒防疫机器人126全自动数字PCR检测系统127自动化核酸快速提取仪128固态纳米孔制备仪129流式光片成像仪130全光谱荧光活体成像系统131高等级生物安全活体荧光成像系统132小动物活体荧光成像系统133多模态结构光超分辨显微镜134冷冻三维结构光照明显微镜135STED超分辨光学显微镜136激光扫描共聚焦显微镜137多脑区双光子显微成像系统138大视场高分辨光层析显微镜139光片显微镜140超广角共焦激光造影仪141数字眼底成像仪142共聚焦显微内窥镜143光电同步脑功能检测系统144超声内窥镜145伽玛射线成像仪146毒品快速检测仪147个人辐射报警仪148高精度高稳定性柔性电容式触觉传感器149微型高频超声换能器150硅神经微电极中国科学院自主研制科学仪器2021序号名称数理与天文科学1低温扫描隧道显微镜-分子束外延联合系统/变温扫描隧道显微镜系统2低温扫描隧道显微镜3高通量激光分子束外延-低温扫描隧道显微镜联合系统4无液氦（干式）超导磁体原子分辨扫描隧道显微镜、磁力显微镜5时间分辨超快透射电子显微镜系统6显微共焦拉曼荧光光谱测量模块7激光测距测控一体机8大功率中红外激光器9短波连续紫外激光器101 PW超强超短激光器1110 PW超强超短激光器12高重频钛宝石飞秒激光放大器13多波长飞秒全固态激光器14超窄线宽稳频激光系统15大功率红绿蓝单频激光器16大型平行光管17软X射线分幅相机18皮秒条纹相机19系列条纹相机20靶斑仪21系列氦质谱检漏仪22大口径高结构刚度碳化硅反射镜23高精度复杂曲面智能光学加工系统241.2 m望远镜激光测月系统251 m口径光学望远镜26400 mm口径光学望远镜27激光雷达望远镜28大口径标准镜面29高精度光学镜面30中子斩波器31超精密纳米压电位移台32VLBI数据采集系统33图像增强型镜头模块34单频激光噪声测试仪35量子态控制与读出系统36脉冲式电子顺磁共振谱仪37全光驱动高能电子束38被动型星载氢原子钟39星载铷原子钟40芯片原子钟41时间服务器42RNSS授时型接收机43授时信号模拟器44标准时间复现设备45网络精密时间服务器46NTSC高精度光纤时间频率传递设备47共视远程比对测量仪48宽带数字化脉冲星终端49皮秒高压脉冲源50太赫兹超导探测器芯片系列51超导纳米线单光子探测系统52硅探测器53CsI（Tl）闪烁晶体探头54翠鸟新型锁相放大器55旗形光学面形仪56便携式伽玛射线成像仪57伽玛射线成像仪58便携式核素识别仪59个人辐射报警仪60紫外日盲型光电倍增管61快响应光电倍增管/微通道板型光电倍增管62磁通门磁强计化学与材料科学63场发射枪扫描电子显微镜64基于可调谐深紫外激光光源的近常压光发射电子显微镜65深紫外激光光发射电子显微镜66二阶非线性光学测试仪67膜乳化器系列设备68冷喷涂设备69热丝法化学气相沉积设备70集束型纳米薄膜生长系统71磁控溅射台72原子层沉积系统73碳化硅晶体生长炉74高能衍射仪75分子束外延系统76等离子体化学气相沉积镀膜设备77蒸发镀膜设备78掠角入射沉积电子束蒸发设备79有机薄膜太阳能电池/OLED沉积设备80蒸发源及控制器81400-600 MHz高场磁共振波谱仪82深紫外/红外离子化质谱光谱仪83高灵敏在线光电离飞行时间质谱仪84皮秒单光子发光光谱仪85中性团簇红外光谱装置86交叉分子束-里德堡态氢原子飞行时间谱装置87紫外-可见区激光三联拉曼光谱仪88复杂环境气敏传感器测试系统89源表级多通道气体敏感测试平台90多相反应器内非均相流动特性测量系统91多相反应器内非均相混合特性测量系统92多功能内耗仪93多维跨尺度材料热性能测量仪94仪器分子泵95系列磁悬浮分子泵96中子分析用高温炉97微颗粒实时在线监测仪98激光共聚焦法流体液膜厚度及物性测量仪99分子吸附动力学原位测试系统100便携式离子阱颗粒质谱101单纵模纳秒脉冲光参量振荡器102程序升温脱附系统103流通池荧光检测器104离子阱毒品现场鉴别仪105便携式、台式爆炸物、毒品痕量检测仪信息与工程科学106激光闪光光谱仪（纳秒瞬态光谱仪）107系列化深紫外全固态激光器108大能量飞秒光纤激光器109超快激光精密加工设备110实时高速视觉系统111600 mm激光干涉仪（含拼接装置）112平面激光干涉仪113激光模拟单粒子效应测试系统114激光模拟剂量率测试系统115光刻机系列116高密度等离子体刻蚀机117深紫外准分子激光器系列产品118激光划片机119高速高精密激光调阻机120机载双频激光雷达121任意序列发生器122双光子3D打印系统123光栅系列（平面刻划光栅、平面全息光栅、曲面全息光栅）124高性能光学滤光片系列（荧光滤光片、诱导透射滤光片等）125绝对式光栅尺126镜面偏心间隔一体化检测系统127高通量智能音视频处理一体机128智能环形抛光机129系列真空泵130毫米波人体成像安全检查设备131LIBS元素成分非接触式快速分析仪132线阵列X射线探测器133双通道辐射剂量检测与连锁控制器134多维步态测试系统135微小部件高速高精度自动分拣装备136相干光场波前测量仪137高精度电光晶体定向仪138发动机内窥光纤火焰传感器139柔性力敏传感器140超高精度压力传感器141微型电场传感器142半导体泵浦激光放大器143光电放大器144超级基站145卫星移动通信终端综合测试仪146高温超导接收前端147空间环境模拟设备148交会灯 舱内灯149空间细胞生物反应器150氟油检漏平台151坚固-工业耐辐射摄像机152激光跟踪仪153工业全站仪154传输线脉冲发生器155功率器件闩锁测试系统156二维机械手157皮安电流测量仪158全隔离高精度多路脉冲同步触发系统159微波辐射粮食快速干燥机地球与环境科学160高精度磁强计161全天相机/全天域极光监测仪162全自动差分像运动大气视宁度监测仪163光学湍流与风廓线仪164二噁英大气采样仪165全天空气辉成像仪166全天空云图仪167大气成分差分光学吸收光谱在线监测系统168大气痕量气体成像差分吸收光谱仪169大气过氧自由基测量仪170便携式多组份气体紫外分析仪171亚硝酸在线分析仪172便携式挥发性有机物分析仪173便携式傅里叶红外多组分气体分析仪174机动车排放超细颗粒物数浓度监测仪175气态亚硝酸在线检测仪176全天域极光/气辉高光谱成像仪177农田氨挥发原位实时监测系统178质子转移反应质谱仪179大气臭氧观测激光雷达180地面电磁探测系统181探地雷达182高精度测温链183超声风速温度仪184天光背景测量仪185太阳辐射计186感应式磁场传感器187深海水声数据采集记录系统188深海声学应答释放器1896000m级可视化可控轻型柱状取样器190深海高光谱成像仪191深海多参数剖面观测浮标192实时通信潜标193漂流浮标194三锚式浮标综合观测平台195腐蚀传感器196基于大型浮标的自由伸缩式海洋剖面观测平台197单模多卡北斗通信模块198海岛近岸水文监测系统199海底地震仪200冻融循环测试系统201小型绝对重力仪202超低温电池203漫反射标准参照板204大动态范围积分球辐射源205污染物分布红外光谱成像遥测系统206水质监测水面机器人207水体藻类在线/原位监测仪208两虫检测自动识别系统209浮游动物原位探测超分辨三维成像系统210光纤信号采集器211光纤地震计212分布式光纤声传感系统213便携式土壤碳通量自动测量系统214数字化三维高清钻孔摄像系统215地下流体分层保真取样仪216地应力测井机器人217腔增强反照率光谱仪218智能厌氧制备系统219小型荧光检测模块220有机固废好氧快速发酵系统生命与医学科学221TIRF单分子显微镜222STED超分辨光学显微镜223STED超分辨光学显微镜224激光扫描共聚焦显微镜225三维结构光照明超分辨显微镜226高场磁共振射频线圈及其发射接收功能链路227光泵原子磁力计脑磁图2287T小动物磁共振成像229乳腺/灵长类诊断正电子发射断层成像系统230小动物能谱显微CT231小动物光学和光声断层多模融合分子影像设备232小动物在体自发荧光断层分子影像设备233小动物光学多模融合分子影像成像系统234四维在体光学投影断层成像系统235三维实时在体神经功能回路成像系统236高场磁共振射频线圈237超高通量基因测序仪238单细胞拉曼分选-测序耦合系统239高通量流式拉曼分选仪240单细胞扩增测序系统241芯片式高通量数字化核酸分析仪242自动化核酸快速提取仪243超微量DNA自动提取检测工作站244全自动干细胞诱导培养设备245基于自发光技术的新型抗菌药物活体筛选系统246克隆挑取仪247单细胞精准分选仪248单细胞微液滴分选系统249临床单细胞拉曼药敏性快检仪250非晶镍钛支持膜透射电镜载网251超薄切片自动收集器252平场复消色差显微物镜253微型高频超声换能器254三重四极杆质谱仪255双通道纳米颗粒示踪分析仪256生物分子界面分析仪257智能化蛋白层析系统258离子束生物工程装置259小氢新TM便携式氢氧仪260中国人群嗅觉识别测试棒261高真空低温光电关联荧光成像仪262认知障碍康复训练系统263人体多生理参数检测系统264血管内光/声多模态、多尺度成像系统265人体肺部气体磁共振成像系统266穿刺手术导航系统267轻量型锥束CT成像系统268健康管理系统（一体机、随诊包）269生物特征光谱识别仪270人与动物血液细胞非接触式识别仪271心血管功能测试仪272肺功能测试仪273动脉硬化检测仪274呼吸热量代谢测试仪275身体成分分析仪276单粒种子品质智能化无损通量检测分选仪器277消毒防疫机器人278黄曲霉毒素荧光检测器279触角电位测量系统280科研型-光镊微操作仪281五面投影虚拟仿真CAVE系统中国科学院自主研制科学仪器2020序号名称数理与天文科学1超高真空扫描探针显微镜系统2超高真空低温扫描隧道显微镜3高通量激光分子束外延-低温扫描隧道显微镜联合系统4扫描探针显微镜5干式无液氦超导磁体扫描隧道显微镜、磁力显微镜、原子力显微镜6超快透射电子显微镜系统7星载质谱仪8星载中能粒子探测器9星载高能质子（电子）探测器10热等离子体探测器11闪烁体中子探测器12线阵列X射线探测器13太赫兹超导探测器芯片系列14溴化镧闪烁晶体空间探测器15显微共焦拉曼荧光光谱测量模块16深紫外激光调制反射光谱仪17大型平行光管18400mm口径光学望远镜19激光雷达望远镜201m口径光学望远镜21大口径标准镜面22高精度光学镜面23氢原子钟24星载铷原子钟25芯片原子钟26时间服务器27激光抽运小型铯原子钟28网络精密时间服务器29高重复率距离门控产生器30超窄线宽稳频激光系统31高重频钛宝石飞秒激光放大器32多波长飞秒全固态激光器33中红外锑化物大功率激光器341PW超强超短激光系统3510PW超强超短激光器36中红外可调谐飞秒激光器37高光束质量高功率纳秒激光器38深紫外激光光致发光光谱仪39光学湍流与风廓线仪40天顶仪41高温超导接收前端42量子态控制与读出系统43脉冲式电子顺磁共振谱仪44全光驱动高能电子束45全光驱动的团簇聚变中子源46单频激光噪声测试仪47燃油喷嘴高压高温雾化特性平面激光测量系统48风力机外场气动/结构综合测试系统49磁通门磁强计50靶斑仪51超声波可视化与定量观测的动态激光光弹设备52氦质谱检漏仪53共视远程比对测量仪54授时信号模拟器55星载粒子辐射剂量仪56朗缪尔探针57RAMO-C个人辐射报警仪化学与材料科学58400-600MHz高场磁共振波谱仪59高灵敏在线光电离飞行时间质谱仪60皮秒单光子发光光谱仪61中性团簇红外光谱装置62交叉分子束-里德堡态氢原子飞行时间谱装置63紫外-可见区激光三联拉曼光谱仪64荧光相关光谱仪65暗场光谱显微镜66场发射枪扫描电子显微镜67深紫外激光光发射电子显微镜68双光子显微镜69多相反应器内非均相混合特性测量系统70多相反应器内非均相流动特性测量系统71高速高精密激光调阻机72大功率红绿蓝单频激光器73大功率中红外激光器74短波连续紫外激光器75TDTR薄膜导热测量仪76有机薄膜太阳能电池/OLED沉积设备77电子束蒸发系统78集束型纳米薄膜生长系统79磁控溅射台80等离子体化学气相沉积镀膜设备81蒸发镀膜设备82磁控溅射卷绕镀膜设备83高能脉冲磁控溅射镀膜机84分子束外延系统85蒸发源及控制器86真空泵、离子泵87系列磁悬浮分子泵88系列脂润滑分子泵89高能衍射仪90超高真空闸板阀91微型流化床反应动力学分析仪92微颗粒实时在线监测仪93单纵模纳秒脉冲光参量振荡器94程序升温脱附系统95流通池荧光检测器96离子阱毒品现场鉴别仪97便携式、台式爆炸物、毒品痕量检测仪98智能化蛋白层析系统99碳化硅晶体生长炉100分子吸附动力学原位测试系统101基于共振光散射的微阵列生物芯片检测系统102多功能内耗仪103源表级多通道气体敏感测试平台信息与工程科学104600mm激光干涉仪105高精度电光晶体定向仪106飞秒脉冲形状宽度测量仪107超级基站108原子层沉积系统109光刻机系列110高密度等离子体刻蚀机111多自由度精密工件台系列112连续波速调管113短相干激光干涉仪114动态干涉仪115短相干激光器116单频种子激光器117高功率固态飞秒激光器118高功率光纤飞秒激光器119半导体泵浦激光放大器120太赫兹量子级联激光器121系列化深紫外全固态激光器122超高精度压力传感器123固体目标微形变探测仪124高温金属液流速实时在线监测仪125绝对式光栅尺126激光跟踪仪127工业全站仪128激光划片机129激光模拟单粒子效应测试系统130微秒脉冲电源131复杂结构构件的超声无损评价系统132超声相控阵检测仪133基于SEM的nano-CT系统134二维真空机械手135LIBS元素成分非接触式快速分析仪136空间环境模拟设备137氟油检漏平台138多维力/力矩传感器139超导纳米线单光子探测系统140机载双频激光雷达141超导磁选机142三维X射线晶圆级封装计量系统143高低温空间环境模拟真空设备144伽玛射线成像仪145高密度激光改性系统146多维跨尺度材料热性能分析仪147皮秒条纹相机148可见与红外光轴平行度检测仪149小型电子束曝光系统150激光闪光光谱仪151自适应光纤耦合装置及扩束系统152高速并行超声信号系统153高压脉冲源154二阶非线性光学测试仪155任意序列发生器156光栅系列157大面积微通道板型光电倍增管158双光子3D打印系统159高通量智能音视频处理一体机160涡轮叶片表面温度测量仪161微型超声换能器162微型电场传感器地球与环境科学163分布式光纤声传感系统164光纤信号采集器165光纤地震计166海底地震仪167电离层光度计168红外云天仪169天空光谱辐照度仪170全天空云图仪171太阳光谱辐射观测设备172太阳辐射计173便携式多组份气体紫外分析仪174大气痕量气体成像差分吸收光谱仪175昼夜大气相干长度仪176大气成分差分光学吸收光谱在线监测系统177陆地-大气界面气体交换通量全自动观测系统178大气臭氧探空仪179二噁英大气采样仪180多粒径大流量空气颗粒物采样器181超声风速温度仪182海洋重力仪183水声试验用拖曳细长线列阵184实时通信潜标1856000m级可视化可控轻型柱状取样器186深海海底理化环境长期观测系统187深海激光拉曼光谱原位定量探测系统188深海多参数剖面观测浮标189深水多通道声学测量系统190深海原位水体采样装置191系列化拉曼光谱探针192水面艇用小型多普勒计程仪193水质监测水面机器人194基于ROV的小型钻机195基于ROV的小型抓斗196ROV温度梯度传感器197地应力测井机器人198原子绝对重力仪199正交偶极子声波测井换能器200地面电磁探测系统201感应式磁场传感器202探地雷达203定容管活塞式油气水多相流量计204超导重力仪205XRF岩石样品自动分析及大型化石表面元素分析仪206航天器表面电位监测器207集成电路激光精准注入分析仪208高精度磁强计209甚低频MEMS地震检波器210水体藻类在线/原位监测仪211生物耗氧量在线分析仪212地下流体分层保真取样仪213基于NB-IoT的集成式土壤墒情智能监测设备214有机-无机复合污染场地土壤多元异位集成洗脱修复设备215便携式土壤呼吸测量系统216便携式微波辐射计217气态亚硝酸在线检测仪218亚硝酸在线分析仪219扫描式岩石磁性测量仪生命与医学科学220超高通量基因测序仪221冷冻显微镜222多波长消色差全内反射显微镜223STED超分辨光学显微镜224三维结构光照明超分辨显微镜225激光扫描共聚焦显微镜226基于介质微球透镜的近场光学超分辨显微镜227TIRF单分子显微镜228小动物能谱显微CT229小动物移动眼动追踪仪230小动物光学和光声断层多模融合分子影像设备231小动物在体自发荧光断层分子影像设备232小动物光学多模融合分子影像成像系统233四维在体光学投影断层成像系统234乳腺/灵长类诊断正电子发射断层成像系统235人体多生理参数检测系统236轻量型锥束CT成像系统237人体肺部气体磁共振成像系统238糖尿病早期无创检测系统239多功能荧光分析仪240高时空分辨的电化学-荧光耦联细胞成像系统241多路激光耦合器242临床单细胞拉曼药敏性快检仪243单细胞拉曼分选-测序耦合系统244单细胞物理/化学特性高通量检测分析仪245单细胞分选仪246细胞三维培养系统247流式细胞仪248数字PCR仪249核磁共振微成像仪250超微量DNA自动提取检测工作站251全自动干细胞诱导培养设备252自适应光学视网膜成像仪253三维实时在体神经功能回路成像系统254毫米波人体成像安全检查设备255膜乳化器系列设备256三重四极杆质谱仪257生物分子界面分析仪258全自动、高分辨率、高通量植物真三维影像分析系统259生物结构真三维形态图像快速获取与定量分析仪260浮游动物原位探测超分辨三维成像系统261离子束生物工程装置262无需麻醉小动物活体发光快速检测系统263基于低频振荡的微点阵阵列/图案化制备仪器系统264黄曲霉毒素荧光检测器265消毒防疫机器人266触角电位测量系统267单粒种子品质智能化无损通量检测分选仪器268硅神经微电极269共聚焦显微内窥镜270微型高频超声换能器271平场复消色差显微物镜272科研型-光镊微操作仪273消色差全内反射荧光照明器274在线OD测量仪275两虫样品预处理仪中国科学院自主研制科学仪器2019序号名称数理与天文科学1GNSS无线电掩星探测仪2热等离子体探测器3深紫外激光光致发光光谱仪4深紫外激光光发射电子显微镜5等离子体分析仪6朗缪尔探针7靶斑仪8星载铷原子钟9星载高能质子（电子）探测器10超高真空低温扫描隧道显微镜11超窄线宽稳频激光系统12卫星高度计有源定标器13天顶仪14星载粒子辐射剂量仪15高重频钛宝石飞秒激光放大器16超导纳米线单光子探测系统17太赫兹超导探测器芯片系列18高温超导接收前端19单频激光噪声测试仪20时间服务器21扫描探针显微镜22量子态控制与读出系统23磁通门磁强计24高重复率距离门控产生器（RGG）25中红外锑化物大功率激光器26复现高超声速飞行条件激波风洞271PW超强超短激光系统2810PW超强超短激光器29中红外可调谐飞秒激光器30全光驱动高能电子束31全光驱动的团簇聚变中子源32高通量激光分子束外延-低温扫描隧道显微镜联合系统33超高真空扫描探针显微镜系统化学与材料科学34深紫外/红外离子化质谱光谱仪35脉冲式电子顺磁共振谱仪36膜乳化器系列设备37400-600MHz高场磁共振波谱仪38分子束外延系统39紫外-可见区激光三联拉曼光谱仪40高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜机41质子转移反应质谱仪42双光子显微镜43在线飞行时间质谱仪44OLED有机薄膜太阳能电池沉积设备45元素分布成像快速检测装置46开放光路面源排放VOCs气体分析仪47傅里叶红外多组分气体分析仪48场发射枪扫描电子显微镜49离子阱颗粒质谱装置50荧光相关光谱仪51碳化硅晶体生长炉52多功能内耗仪53声表面波气相色谱仪54多元素重金属在线分析仪55TVP远心/光纤照相多相测量仪56便携式、台式爆炸物毒品痕量检测仪57高能衍射仪58蒸发源及控制器59燃气分析仪60焚烧烟气二噁英等速采样仪61源表级多通道气体敏感测试平台62ZJ系列准静态d33测量仪63磁控溅射卷绕镀膜设备信息与工程科学64机载双频激光雷达65系列化深紫外全固态激光器66超导磁选机67三维X射线晶圆级封装计量系统68原子层沉积系69多自由度精密工件台系列70高低温空间环境模拟真空设备71伽玛射线成像仪72光刻机系列73高密度激光改性系统74基于SEM的nano-CT系统75高密度等离子体刻蚀机76多维跨尺度材料热性能分析仪77连续波速调管78电子束蒸发系统79磁控溅射台80皮秒条纹相机81涡轮叶片表面温度测量仪82等离子体化学气相沉积镀膜设备83可见与红外光轴平行度检测仪84小型电子束曝光系统85高速数据采集板86激光闪光光谱仪（纳秒瞬态光谱仪）87自适应光纤耦合装置及扩束系统88定容管活塞式油气水多相流量计89高速多参数自动筛选机90高速并行超声信号系统91超声剪切波弹性成像仪器92高压脉冲源93二阶非线性光学测试仪94真空部件95平面激光干涉仪96KBBF-PCD器件97多通道颗粒浓度速度测量仪98任意序列发生器99光栅系列（平面刻划光栅、平面全息光栅、曲面全息光栅）100超声风速温度仪101多维力/力矩传感器102微型超声换能器103感应式磁场传感器104大面积微通道板型光电倍增管105激光功率能量计106双光子3D打印系统107高通量智能音视频处理一体机地球与环境科学108深海海底理化环境长期观测系统109水声试验用拖曳细长线列阵1106000m级可视化可控轻型柱状取样器111深海激光拉曼光谱原位定量探测系统112深海多参数剖面观测浮标113超导重力仪114原子绝对重力仪115地面电磁探测系统116昼夜大气相干长度仪117水质监测水面机器人118陆地-大气界面气体交换通量全自动观测系统119探地雷达120大气成分差分光学吸收光谱（DOAS）在线监测系统121太阳辐射计122基于ROV的小型钻机123海底地震仪124系列化拉曼光谱探针125全天空云图仪126水面艇用小型多普勒计程仪127红外云天仪128ROV温度梯度传感器129基于ROV的小型抓斗130深海原位水体采样装置131二噁英大气采样仪132大气臭氧探空仪133生物耗氧量在线分析仪生命与医学科学134小动物光学多模融合分子影像成像设备1353.0T人体磁共振成像系统136肺部气体磁共振成像系统137乳腺PET/灵长类PET138四维在体光学投影断层成像系统139基于介质微球透镜的近场光学超分辨显微镜140全自动干细胞诱导培养设备141自适应光学视网膜成像仪142STED超分辨光学显微镜143超微量DNA自动提取检测工作站144三维实时在体神经功能回路成像系统145小动物光学和光声断层多模融合分子影像设备146毫米波人体成像安全检查设备147单细胞拉曼分选及测序耦合系统148小动物在体自发荧光断层分子影像仪器设备149临床单细胞拉曼耐药性快检仪150TIRF单分子显微镜151激光扫描共聚焦显微镜152数字PCR仪153糖尿病早期无创检测系统154科研型-光镊微操作仪155流式细胞仪156智能化蛋白层析系统157黄曲霉毒素荧光检测器158人体多生理参数检测系统

2016年11月18日，由聚光科技（杭州）科技股份有限公司（以下简称“聚光科技”）牵头承担的国家重大科学仪器设备开发专项“自激式全固态ICP射频源研制及产业化”项目开题会议在杭州顺利召开。浙江省科技厅乐斌、中科院电工研究所韩立所长助理、浙江大学金钦汉教授、浙经事务所徐永标教授、上海环境监测中心大气环境监测室段玉森主任、浙江地质矿产研究所胡勇平教授、中国科学院高能物理研究所刘宇研究员、杭州信雅达科技有限公司赖月林总经理、杭州电子科技大学程知群教授、浙江工业大学莫卫民教授等领导、项目专家成员以及合作单位相关负责人近22人出席会议。与会人员合影　　首先由项目承担单位聚光科技党委书记陈荧平致欢迎辞，随后浙江省科技厅乐斌对项目实施过程中几点要求及评价体系等方面发表重要讲话，并希望项目组进一步加强合作，祝愿聚光科技在后续项目的实施过程中取得圆满成功。 浙江省科技厅乐斌发表重要讲话　　中国地质大学（武汉）金星教授向各位领导及专家组就项目总体情况进行了介绍，本专项重点研制具有自主知识产权、达到国际一流水平的自激式全固态ICP射频源设备，在此基础上进行工程化、产业化，同时建立一条规模生产线，年产能达500台套，项目完成后3年内年销售量300台套以上，支持ICP类分析仪器销售500台套。 中国地质大学金星教授作项目介绍　　本专项将研制工作在27.12 MHz频率的自激式全固态ICP射频源，频率稳定度优于0.01%，功率稳定性优于0.1%，输出功率在0.6～1.7 kW之间连续可调。　　在应用开发方面，本项目针对ICP射频源在光谱和质谱中的应用，将研制的ICP源集成在国产ICP-OES和ICP-MS上，实测灵敏度、背景噪声、检出限和长短期稳定性等主要性能指标，并与采用进口ICP射频源的国产ICP-OES和ICP-MS进行横向比较，以验证本项目研制的ICP射频源的性能是否满足ICP-OES和ICP-MS的要求。形成的测试报告和应用示范效果，对于ICP射频源在国产ICP-MS中的推广应用将起到一个良好的带动作用。　　在产业化方面，本项目将依托产业化承担单位的基础，按照产品开发（IPD）流程进行产品开发，参考ISO 9001：2001质量标准进行管理，建立全面的ICP射频源产品质量管理体系、物料质量管理规范和产品订单履行规范，保证ICP射频源的小试、中试和规模生产顺利实施。建立相应质量管理体系，建设生产线，实现自激式全固态ICP射频源年销售量300台套以上。　　通过本项目的实施，将给国家带来巨大的经济社会效益。　　一、为环境、食品等行业的仪器设备提供核心部件，提升我国检测设备的研制和应用水平　　在水、土壤环境质量检测、水质重金属污染突发事件和食品重金属检测领域等行业，本项目研制成功的ICP源将为这些领域重金属检测设备ICP-OES和ICP-MS提供先进的核心部件，促进国产高端元素检测设备的技术成熟，保障检测行业的检测事业发展。先进的检测设备将大大提升水质、土壤环境的检测能力，促进环境安全和食品安全的总体控制。环境和食品安全保障手段的加强，必将提高人民的生活水平，从而产生巨大的社会效益。　　二、 促进元素检测技术水平的提高　　通过实施项目，我国元素检测设备和检测质量控制产品的研制水平将会有很大提高，必将进一步促进整个国产化元素检测关键设备的产业化、标准化、系列化，形成关键检测设备核心模块的产业化基地，促进国产元素检测设备的市场化推广。　　三、替代进口，节约外汇　　目前国内高端的ICP-OES和ICP-MS设备基本购买国外产品，市场被进口设备长期垄断，价格昂贵、仪器的维护费用高、周期长。本项目研制的具有我国自主知识产权的ICP射频源，技术指标达到国外同类产品水平，将极大的促进国产ICP-OES和ICP-MS在技术上成熟，达到国外同等先进水平，能够胜任国内元素检测各种复杂的应用环境；同时实现国产化应用、本土化维护和成本的降低，完全可替代进口产品，降低了成本，不仅促进仪器企业降低成本提高产品竞争力，也帮助国产ICP类分析仪器在整个元素检测仪器市场提高竞争力。　　四、拉动内需，促进就业　　本项目涉及光学、化学、机械加工、生物学、微加工、电子学、材料科学等多行业，能够促进ICP-OES和ICP-MS等分析仪器行业的进步，项目的实施将带动相关产业的发展，增加就业岗位。　　总之，通过本项目的实施，将实现具有自主知识产权的自激式全固态射频电源的国产化和产业化，将在杭州建立一条拥有年产能力500台套ICP射频源的生产线，并实现批量销售，项目完成后年销售量超过300台套。通过本项目研究成果的推广，将促进国产ICP-OES和ICP-MS等高端无机分析仪器的产业化，提升国产仪器的市场竞争力。　　随后，各仪器开发单位分别就各承担任务的总体目标、工作难点、技术路线、实施计划等方面进行了专题汇报，经过专家组多次提问及内部讨论，形成了专家意见，为项目的顺利实施奠定了坚实的基础。

超导技术被誉为21世纪最具有经济战略意义的新兴技术之一，超导体所具备的“零电阻”和“完全抗磁”这两大神奇特性，为人们带来了巨大想象空间。例如利用超导体电阻为零的特性来进行电力输送，可以大大减少线路损耗，实现超远距离的大容量电力输送；利用它完全的磁抗性可以制造磁悬浮列车、电磁弹射装置等。“超导最近在媒体出现的频率比较高。比如时下热门的量子计算，涉及到超导量子比特；被称为‘人造太阳’的全超导托卡马克核聚变实验装置，也应用了超导磁体。”中国高温超导研究奠基人之一、国家最高科学技术奖得主赵忠贤院士介绍道，超导距离实际生活最近的应用，则是医院常见的核磁共振成像中的超导磁体。超导薄膜技术是超导技术发展的重要方向之一。日前，由赵忠贤院士倡导建立并担任顾问的研究团队，面对国外禁运，通过技术集成创新，成功研制出基于国产部件的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”，并制备出大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）超导单晶薄膜，为我国制备高品质、应用型超导薄膜产品技术带来新突破。关键设备买不来，怎么办？在东莞松山湖科学城松山湖材料实验室“实用超导薄膜研究团队”的一间实验室内，一组银白色装置占据了房间一角，三台激光器宛如手术台上的三支机械臂，将一个带有观测窗的球形操作台围在中间，绿色和紫色的光束不时闪烁。这个装置就是该团队近期研发成功的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”。该设备基于国产部件实现技术集成创新，包括采用国产小型固态脉冲激光器实现多光束共沉积、激光器与光路系统模块化整体位移、自主研发控制软件实现操作智能化等。利用这台设备，该团队还成功制备出2英寸双面YBCO超导单晶薄膜，将脉冲激光沉积技术制备高品质应用型薄膜产品，推向了一个新的高度。该团队负责人金魁研究员表示，大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）单晶薄膜，是设计高温超导薄膜器件的良好载体，而高温超导薄膜器件则是开发未来通信技术和超高性能雷达探测器的重要部件，具有十分重要的应用前景。然而，能够制备该类薄膜的先进设备，此前被德日美等少数国家掌握，一直以来对我国封锁核心技术，并且大尺寸薄膜制备设备近期也已对我国禁运，导致我国高品质应用型“薄膜”和“镀膜设备”核心技术受制于人。金魁坦言，按照最初构想，是希望直接从国外购买一套先进的大尺寸镀膜设备，之后按团队的需求改造，然而却未能如愿。“买小尺寸薄膜制备设备回来，做出的样品主要是用于基础研究，找规律、写论文，国外公司同意卖给我们；但要买能投入实用的大尺寸薄膜制备设备，他们就拒绝了。”金魁表示，另一方面，国外的设备只能实现单面薄膜的制备，无法满足团队需求。关键设备买不来，怎么办？在赵忠贤院士的鼓励和指导下，团队最终下定决心走上了自研之路。令他们感到高兴的是，团队产出成果的进度超过了预期。在国外禁运的情况下，团队仅用一年多时间就取得了成功。“积小胜为大胜”“我们用激光去打真空腔里面的靶材，由于瞬时高温，靶材表面的成分会变成等离子体向外喷射，之后接触高温衬底，外延沉积完成镀膜，过程就像是烙饼一样。”该设备主要的设计和搭建者冯中沛博士是团队里的一名年轻人，设备成功运转，让他格外兴奋。过去一年多，冯中沛和同事们几乎每天都围着这台设备转。在工作室紧邻该装置的墙边有一面白板，上面写满了与装置搭建相关的事项。一年时间里，大到整个装置的设计装配，小到一根螺丝钉的定制，整个团队“挂图作战”，环环推进，最终才获得了成功。“这台设备的功能可以扩展，也可以为超导以外的材料进行镀膜。就像买了一口锅，一开始只用来炒菜，后面还可以用来蒸煮。”冯中沛介绍道。令整个团队感慨的是，直到他们研制出成本更低、性能更优的设备时，从日本采购的小尺寸镀膜设备甚至因为疫情，还没有厂家工程师前来拆箱。“这件事虽然谈不上伟大，但是它给了我们很大信心。遇到‘卡脖子’难题，逼着自己进行自主研制和创新，最终把一条新的技术路线走通了。”赵忠贤表示，假如全国几十万、上百万的科研团队，能有十分之一像这样专注去做一件事，我们跟国外的科技竞争就能握有更大的主动权。“积小胜为大胜，变成大胜就有了长板，有了竞争优势，国外还怎么卡我们脖子？”他说道。除了团队自身的努力和经验积累，赵忠贤还特别提到，松山湖科学城给予的宽松科研环境与合理的评价体系，为这一成果取得提供了重要土壤。在他看来，松山湖材料实验室一方面注重研究实效，不以论文论英雄，让科研人员集中精力搞攻关；另一方面，充分信任科学家，原本购置设备的钱可以灵活用于自主研发，“允许用打酱油的钱去买醋”，赋予科学家自主权。推动超导技术成果转化能否制备出大尺寸、高质量的超导薄膜，关系诸多关键产业的发展前景。以超导薄膜为基础的数字电路，相比半导体材料做的数字电路速度更快、损耗更小、容量更大；用超导薄膜制成的超导量子干涉器，可以探测比人脑磁场弱几千倍的磁场，用收集来的磁信号进行分析，能够确定矿源、预报地震等。而超导薄膜制成的天线、谐振器、滤波器等微波通讯器件，具有常规材料（如金、银等）无法比拟的高灵敏度。此外超导薄膜在大型粒子加速器中也有着广泛的应用。粗略估计，国内外计划建设的各类加速器项目，对超导薄膜谐振腔的需求量将超过10000个。面对这一趋势，与超导基础研究打了大半辈子交道的学界泰斗，开始将工作重心放在推动超导技术成果转化与实际应用上来。2017年底，广东启动首批四家省实验室建设，赵忠贤接受邀请，出任松山湖材料实验室学术委员会主任一职，从北京来到了东莞松山湖。在他倡议和亲自指导推动下，“实用超导薄膜研究团队”在松山湖材料实验室迅速建立起来。除赵忠贤院士作为团队顾问之外，担任团队负责人的金魁研究员，也是一位高水平超导研究专家，他在高温超导体机理研究、超导薄膜制备、新超导体探索等方面都有诸多重要成果，先后在《自然》杂志等主流刊物发表重要论文80余篇。此外，多位具备国家重点实验室工作背景的超导薄膜和低温技术专家也先后加入，组成了国内一流的班底阵容。“我们选定的题目是‘实用超导薄膜及相关技术研究’，这个不像‘量子’或者‘智能’之类的名字时髦，但并不意味着研究的内容不重要。”赵忠贤说，希望以应用为目标来做一个中长期项目，解决超导应用过程中一系列关键核心技术难题，推动实现跨越性的进步，带来应用上的质变。谈及今后的打算，年届八旬的赵忠贤心心念念的，仍然是超导。“一是找到超导应用存在的短板，想办法推动一些项目、组织一批队伍来把超导领域的这些问题全部扫光；二是在超导应用的某些方面，希望看到我们比别人强，有自己的‘绝活’。”