等离子原理概述:等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。等离子体中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;分子解离反应过程中生成的紫外线;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应。等离子清洗技术在金属行业中的应用:金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、健合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在电子电路及半导体领域的应用:等离子表面处理这门工艺现在正应用于LCD、LED、 IC,PCB,SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。等离子清洗过的IC可显著提高焊线邦定强度,减少电路故障的可能性;溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中,短时间内就能清除。PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝缘物。对许多产品,不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业,其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物,经过等离子处理以后都能有效地提高粘合力,从而提高最终产品的质量。等离子处理在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。等离子清洗技术在塑料及橡胶(陶瓷、玻璃)行业中的应用:聚丙烯、PTFE等橡胶塑料材料是没有极性的,这些材料在未经过表面处理的状态下进行的印刷、粘合、涂覆等效果非常差,甚至无法进行。利用等离子技术对这些材料进行表面处理,在高速高能量的等离子体的轰击下,这些材料结构表面得以最大化,同时在材料表面形成一个活性层,这样橡胶、塑料就能够进行印刷、粘合、涂覆等操作。 等离子清洗/刻蚀机处理材料表面时,处理时的工艺气体、气体流量、功率和处理时间直接影响材料表面处理质量,合理选择这些参数将有效提高处理的效果。同时处理时的温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等因素也影响处理质量。因此,对不同的材料要制定选用不同的工艺参数。等离子表面清洗:金属 陶瓷 塑料 橡胶 玻璃等表面常常会有油脂油污等有机物及氧化层,在进行粘接 绑定 油漆 键合 焊接 铜焊和PVD、CVD涂覆前,需用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在半导体行业、航空航天技术、精密机械、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科研开发、液晶显示屏、电子电路、手机零部件等广泛的行业中有着不可替代的应用
各位做过等离子刻蚀的同行们: 我是一个新手,在刻蚀聚苯乙烯小球的时候自己设置了几个参数,但是具体每个参数对实验结果的影响还不是很清楚,先列出来Icp(w);RF(w);Pressure(mT)等。希望大家给予指点,不胜感激
透射系统拍高分辨,或者进行EELS等高端分析工作经常会遇到很麻烦的污染物,这些一部分是样品本身带有的可通过外置的等离子清洗机处理,另一部分也是现在比较难处理的就是透射系统样品腔内本身长期的碳氢化合物。等离子透射样品杆可以达到清洗效果,同时对样品以及透射系统本身没有任何的影响。 而非传统意义上等离子清洗用的是高能量的离子对样品特别是脆弱样品的破坏损伤,加热损伤等。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062250_303575_1757238_3.jpg而透射使用的外置式等离子清洗机不但可以对市场上不同透射样品杆进行清洁外,还可以进行特殊样品的真空储存。这样怕氧化的样品或特殊样品不但可以进行等离子清洁外还可以进行真空保存。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062257_303576_1757238_3.jpg
Harrick等离子清洗机(Plasma Cleaner)常见三种用途 一、金属表面去油污并清洗 金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果:1.1灰化表面有机层 -表面会受到物理轰击和化学处理(氧 下图) -在真空和瞬时高温状态下,污染物部分蒸发 -污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出 -紫外辐射破坏污染物 因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度,所以污染层不能太厚。指纹也适用。1.2氧化物去除 金属氧化物会与处理气体发生化学反应(下图) 这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合气体。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面,第二步用氢气和氩气的混合气体去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。1.3焊接 通常,印刷线路板(PCB)在焊接前要用化学助焊剂处理。在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除,否则会带来腐蚀等问题。1.4键合 好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱,这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。同时氧化层对键合的质量也是有害的,也需要进行等离子清洗。二、等离子刻蚀物的处理 在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url](例如在使用氟气对硅刻蚀时,下图)。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来(例如半导体行业用铬做覆盖材料)。 等离子方法也用于刻蚀塑料表面,通过氧气可以灰化填充混合物,同时得到分布分析情况。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的,如POM 、PPS和PTFE。等离子处理可以大大地增加粘合润湿面积提高粘合强度。三、刻蚀和灰化处理聚四氟(PTFE)刻蚀 聚四氟(PTFE)在未做处理的情况下不能印刷或粘合。众所周知,使用活跃的钠碱性金属可以增强粘合能力,但是这种方法不容易掌握,同时溶液是有毒的。使用等离子方法不仅仅保护环境,还能达到更好效果。(下图) 等离子结构可以使表面最大化,同时在表面形成一个活性层,这样塑料就能够进行粘合、印刷操作。 聚四氟(PTFE)混合物的刻蚀 PTFE混合物的刻蚀必须十分仔细地进行,以免填充物被过度暴露,从而削弱粘合力。 处理气体可以是氧气、氢气和氩气。可以应用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS和PP等。四、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗 塑料、玻璃、陶瓷与聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一样是没有极性的,因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时,玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洗。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面,不会产生有毒烟气,中空和带缝隙的样品也可以处理。 不需要用化学溶剂进行预处理 所有的塑料都能应用 具有环保意义 占用很小工作空间 成本低廉 等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证,处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理(大于15分钟),材料表面不但被活化还会被刻蚀,刻蚀表面具有极小的表面接触角和最大润湿能力。五、等离子涂镀聚合 在涂镀中两种气体同时进入反应舱,气体在等离子环境下会聚合。这种应用比活化和清洗的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成,应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。涂镀层非常薄,通常为几个微米,此时表面的疏水性非常好。常用的有3种情况 防水涂镀—环己物 类似PTFE材质的涂镀---含氟处理气体 亲水涂镀---乙烯醋酸 MYCRO(迈可诺)供稿
电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP-AES)上电感线圈的清洗 电感耦合等离子体原子发射光谱仪 (ICP-AES) 系以氩气为媒介,利用高功率射频产生强力电磁场使氩气电离,炬管内出现导电粒子后,由於磁场的作用,其运动方向随磁场的频率而振荡,并形成与炬管同轴的环形电流。原子、离子、电子在强烈的振荡运动中互相碰撞产生更多的电子与离子,最终形成明亮的白色等离子体,因具高能、高热(6,000K ~ 10,000K )的特性,样品受热开始去溶剂/分解/原子化/离子化过程。经10,000 k 高温诱导区后,原子/离子被激发处于激发态,当回到较稳定的基态时,各原子/离子释放出各特性发射波长,利用分光器和检测器,可检测各元素的发射光谱强度作定性分析,并利用比尔定律作元素定量分析。 电感耦合等离子体的形成主要是在炬管中通入氩气,形成氩气气氛,向感应线圈接入高频电源,从而形成高频电流并产生电磁场,电火花放电产生电子,使氩气局部电离成为导体,并产生感应电流,感应电流加热气体形成等离子体。 电感线圈使用一段事件后有发绿或者发黑的情况。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021339_564214_2042772_3.png等离子体形成示意图http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021341_564215_2042772_3.png 仪器型号:JY 2000 2(HORIBA) 清洗步骤: 1准备清洗用材料,DI水和分析纯氨水(配置成1:1溶液),棉花,防护用具一次性手套和口罩。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021341_564216_2042772_3.png 2.拆掉仪器上的雾化器,距管。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021343_564221_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021343_564220_2042772_3.png 3.用脱脂棉沾取1:1氨水后,轻轻擦电感线圈。不能用太大力,放置线圈变形。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021343_564219_2042772_3.png 4.清洗完成后,安装上距管和雾化器。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021346_564224_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021346_564223_2042772_3.png 5.安装后进行点火测试自检http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564230_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564229_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564228_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564227_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564226_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509021348_564225_2042772_3.png 总结: 1.电感线圈的清洗一般一年清洗一次就可以了(厂家工程师建议),毕竟稀氨水对线圈(铜合金材质)换是有一定腐蚀的。 2.电感线圈的清洗力度要小,不能用太大力,放置线圈变形。 3.稀氨水有一定的刺鼻,防护及通风措置要做好。
光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等;(c) 再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百 A厚的光敏材料——光刻胶。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关 ,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比;(d) 在光掩模上制备所需的通道图案。将光掩模复盖在基片上,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样,可用制版的方法将底片上的二维几何图形精确地复制到光刻胶层上;(f) 烘干后 ,利用未曝光的光刻胶的保护作用 ,采用化学腐蚀的方法在阻挡层上精确腐蚀出底片上平面二维图形。掩模制备用光刻的方法加工微流控芯片时 ,必须首先制造光刻掩模。对掩模有如下要求:a.掩模的图形区和非图形区对光线的吸收或透射的反差要尽量大;b.掩模的缺陷如针孔、断条、桥连、脏点和线条的凹凸等要尽量少;c.掩模的图形精度要高。通常用于大规模集成电路的光刻掩模材料有涂有光胶的镀铬玻璃板或石英板。用计算机制图系统将掩模图形转化为数据文件,再通过专用接口电路控制图形发生器中的爆光光源、可变光阑、工作台和镜头,在掩模材料上刻出所需的图形。但由于设备昂贵,国内一般科研单位需通过外协解决,延迟了研究周期。由于微流控芯片的分辨率远低于大规模集成电路的要求,近来有报道使用简单的方法和设备制备掩模,用微机通过CAD软件将设计微通道的结构图转化为图象文件后,用高分辨率的打印机将图象打印到透明薄膜上,此透明薄膜可作为光刻用的掩模,基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。近年来,使用湿法刻蚀微细加工的报道较多,适用于硅、玻璃和石英等可被化学试剂腐蚀的基片。已广泛地用于电泳和色谱分离。湿法刻蚀的程序为 :(a) 利用阻挡层的保护作用,使用适当的蚀刻剂在基片上刻蚀所需的通道 ;(b) 刻蚀结束后 ,除去光胶和阻挡层,即可在基片上得到所需构型的微通道;(c)在基片的适当位置(一般为微通道的端头处)打孔,作为试剂、试样及缓冲液蓄池。刻有微通道的基片和相同材质的盖片清洗后,在适当的条件下键合在一起就得到微流控分析芯片。玻璃和石英湿法刻蚀时,只有含氢氟酸的蚀刻剂可用,如HF/HNO3,HF/ NH4。由于刻蚀发生在暴露的玻璃表面上,因此,通道刻的越深,通道二壁的不平行度越大 ,导至通道上宽下窄。这一现象限制了用湿法在玻璃上刻蚀高深宽比的通道。等离子体刻蚀等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀工艺,刻蚀气体分子在高频电场作用下,产生等离子体。等离子体中的游离基化学性质十分活泼,利用它和被刻蚀材料之间的化学反应,达到刻蚀微流控芯片的目的。等离子体刻蚀已应用于玻璃、石英和硅材料上加工微流控芯片 , 如石英毛细管电泳和色谱微芯片。先在石英基片上涂上一层正光胶 (爆光后脱落的光胶),低温烘干后,放置好掩模,用紫外光照射后显影,在光胶上会产生微结构的图象。然后用活性CHF3等离子体刻蚀石英基片 ,基片上无光胶处会产生一定的深度通道或微结构。这样可产生高深宽比的微结构。近来,也有将等离子体刻蚀用于加工聚合物上的微通道的报道。http://www.whchip.com/upload/201610/1477271936108203.jpg
大家好,我是这里的一名新手,有个问题要在这里跟大家讨教一下,请大家多指导,谢谢!问题如下: 等离子清洗/刻蚀机处理材料表面时,处理时的工艺气体、气体流量、功率和处理时间直接影响材料表面处理质量,合理选择这些参数将有效提高处理的效果。同时处理时的温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等因素也影响处理质量。因此,对不同的材料要制定选用不同的工艺参数,那这些参数之间的关系如何?实验要怎么安排?请指导!
湿法腐蚀是使用液态腐蚀剂系统化的有目的性的移除材料,在光刻掩膜涂覆后(一个曝光和显影过的光刻胶)或者一个硬掩膜(一个光刻过的抗腐蚀材料)后紧接该步腐蚀。这个腐蚀步骤之后,通常采用去离子水漂洗和随后的掩膜材料的移除工艺。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/12/201612130959_01_3091062_3.jpg干法刻蚀的刻蚀剂是等离子体,是利用等离子体和表面薄膜反应,形成挥发性物质,或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。http://www.whchip.com/upload/201612/1481592347583553.jpg湿法腐蚀可替换工艺包括干法刻蚀,即使用一种或多种低压力的反应气体,采用RF感应激励后进行反应,然后再将反应生成的气态物质抽出;非等离子干法刻蚀,例如双氟化疝或氢氟酸的酸性蒸气腐蚀,拥有各向同性湿法腐蚀的诸多特性,该腐蚀通常在一个有限的腔室内完成。很少有微机械化或集成化的器件是在没有进行一些湿法化学处理的情况下开发或制造的。不管器件是否是电气的,机械的,电子的,集成的,光学的,光电子学的,生物的,聚合的,微流控的传感器或执行器,有关这些器件的制造工艺或过程的替换决定将对最终的技术和商业成功有重要影响。这些器件通常在硅衬底、化合物半导体、玻璃、石英、陶瓷或塑性材料上制造,可能涉及在这些材料上淀积一层或多层薄膜并光刻和腐蚀。这些层和淀积顺序受工艺和用于开发和制造该器件的工艺单元限制,随着层数的增长变的越来越复杂和相互影响。 近乎所有IC,MEMS,MOEMS,MST和NEMS类的器件的产生都很可能与一些湿法腐蚀工艺有关。整个工艺流程可被描述为一系列步骤或者序列,这些湿法腐蚀常用于选择性的去除淀积薄膜的一部分,剥去诸如硬掩膜和光刻胶等特定的材料,为以后的加工清洗和准备衬底,去除牺牲层和部分衬底,以及形成三维结构。一个湿法腐蚀工序需要考虑如下一些因素,包括有效的腐蚀剂,腐蚀选择性,腐蚀速率,各向同性腐蚀,材料的兼容性,工艺的兼容性,花费,设备的可用性,操作人员的安全,技术支持和适当的废物处理。干法刻蚀能实现各向异性刻蚀,保证细小图形转移后的高保真性。器件设计者,工艺设计师,或者制造商在工艺允许的情况下可能偏向使用一个完整的干法处理流程,但是许多标准的处理步骤例如光刻胶的显影和圆片清洗仍然湿法的。与干法刻蚀相比,湿法腐蚀工序在成本,速度,性能发面更有优势。干法刻蚀的仿真还不可用,如常用的微结构的选择性钻蚀或与晶向相关的腐蚀仿真等。考虑到干法刻蚀要求在一个昂贵的等离子区或者RIE腐蚀系统里有长的腐蚀时间,湿法腐蚀变得特别有吸引力,需要同时处理整盒圆片(25片装圆片盒)或更多的圆片时,湿法腐蚀在成本和时间上的效益更突出。 不管选择干法还是湿法加工工艺,总是强烈受到在特定的加工环境下设备的可用性及对开发者有用的工艺限制。成功的设计者,开发者和制造商几乎总是使用或修改趁手的工艺。除非是必须开发新工艺,安装新设备,或者取得新的工艺技能,一般总是避免额外的需求。理解什么时候要应用干法和湿法这两个工艺并且在可能的情况下使用标准工艺是很重要的。下表总结比较湿法和干法刻蚀之间的一般注意事项。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/12/201612130959_02_3091062_3.jpg
[center]二、射频系统[/center]射频系统(RF System)产生回旋加速器的高频振荡加速高电压,它有二个主要的功能:在回旋加速器中被加速的束流每旋转一次给于离子两次能量增益;从离子源中拉出离子(RF提取)。RF系统主要由高频加速电极(D电极)、高频共振线[RF谐振腔(RF Cavity RCAV)]和高频功率源这三部分构成。这是回旋加速器中最基本的组成部分之一。它的工作状况对于加速器的性能有很大的影响,一个好的高频系统应该是工作频率可调,并且在工作负载等条件变化的情况下具有高度的稳定性,包括高达10-6量级的频率稳定度和10-3以上的电压稳定度。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021217_179811_1623423_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021218_179812_1623423_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021219_179813_1623423_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021221_179814_1623423_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021222_179815_1623423_3.jpg[/img][/center]
我比较熟的产品有MBE,磁控溅射,电子束蒸发,PLD,PECVD,等离子刻蚀RIE,ICP.如果大家在这方面有什么问题,非常愿意与大家交流,如果想采购这类产品和组件,或这方面的任何需求,我都可以向你推荐,可以发mail给我,lhm115011@gmail.com
* 测试仪器:矢量网络分析仪* 被测产品:射频连接器、射频线缆、滤波器、功分器、天线、放大器、衰减器、混频器、耦合器、屏蔽材料、石墨烯* 测试项目:S参数、增益、损耗、阻抗、平坦度、隔离度、驻波、介电常数等[b][font=微软雅黑,][font=微软雅黑,][font=微软雅黑,]1. [/font][b][font=微软雅黑,]系统优势[/font][/b][/font][b][/b][/font][/b][font=微软雅黑,]改进传统测试工序复杂、测试合格率不稳定的问题[/font][font=微软雅黑,]一键完成各类测试,自动生成各类测试报告[/font][font=微软雅黑,]提高测试效率50倍[/font][b][font=微软雅黑,]2. [/font][b]系统概述[/b][/b][font=微软雅黑,]系统控制测试终端——矢量网络分析仪。[/font][font=微软雅黑,]系统可自动测量射频无源器件包括射频连接器、射频线缆、滤波器、功分器、天线、放大器、衰减器、混频器、耦合器、屏蔽材料等被测产品的各项指标。[/font][font=微软雅黑,]射频器件的主要测试项目有S参数、增益、损耗、阻抗、平坦度、隔离度、驻波、介电常数(同轴法、波导法)等。[/font][font=微软雅黑,][/font][align=center][img=NSAT-1000射频无源器件测试系统概述图.jpg,550,346]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6369915216595145855887322.jpg[/img][/align][b] 3. [b]兼容仪器[/b][/b][align=center]射频无源器件自动测试系统NSAT-1000兼容仪器品牌.jpg" width="650" height="387" style="background:url(https://yibanbianji.com/libs/ueditor/themes/default/images/word.gif) no-repeat center center border:1px solid #ddd" / [/align][b] 4. 兼容品牌仪器和型号[/b][align=center][img=image.png]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6374597255761635655378639.png[/img][/align][b][font=微软雅黑,]5. 被测产品及[/font][b]测试项目[/b][/b][align=center][img=被测产品和测试项目新.png,550,342]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6375150260976336997356951.png[/img][/align][b][font=微软雅黑,]6. 系统流程图[/font][/b][align=center]射频无源器件自动测试系统流程图.jpg" width="550" height="602" style="background:url(https://yibanbianji.com/libs/ueditor/themes/default/images/word.gif) no-repeat center center border:1px solid #ddd" /[/align][b][font=微软雅黑,]7. 系统界面[/font][/b][align=center][img=产品界面.png]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6374727404073462467567890.png[/img][/align][font=微软雅黑,][b] [/b][/font][b][font=微软雅黑,][b][font=微软雅黑,]8. 应用场景[/font][/b][font=楷体, 楷体_GB2312, SimKai][b][font=微软雅黑,][/font][/b][/font][font=楷体, 楷体_GB2312, SimKai][b][font=宋体][/font][/b][/font][/font][/b][align=center] [/align][align=center][img=多射频组件自动化测试系统.png]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6373662655490608568567681.png[/img][img=射频组件测试.png]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6373662656803108567057920.png[/img][/align][align=center][font=微软雅黑,] [/font]射频无源器件自动测试系统应用场景.png" style="background:url(https://yibanbianji.com/libs/ueditor/themes/default/images/word.gif) no-repeat center center border:1px solid #ddd" /[font=微软雅黑,] [/font][img=射频组件测试应用排布.png]http://www.namisoft.com/UserFiles/Article/image/6373662659457796065481262.png[/img][/align]
我们想买一台等离子清洗,装到扫描电镜上。请问大家有没有好的推荐?
科罗纳实验室(CORONA Lab.)http://www.coronalab.net/南京苏曼电子有限公司始建于1983年。二十几年来一直致力于低温等离子体技术的理论和应用技术的研究及产品开发。成熟的掌握了直流、中频、射频、微波在低气压和大气压下以辉光放电、电晕放电、介质阻挡放电、电弧放电的方式产生低温等离子体的技术。并将谐振型频率脉宽调制、微程序控制、模糊程序控制、数字信号处理等现代先进技术融合在各种低温等离子系列产品之中。使苏曼公司推出的相关PLASMA产品实现了电路数字化、软件模糊化、结构模块化、产品系列化。各种PLASMA设备在体积、效率、功率、可靠性、外观、可操作性等方面都处于国内领先水平。尤其在系列化、价格和易用性方面更具中国特色。 苏曼公司创建的科罗纳实验室(CORONA Lab.)现在已经成为国内最具技术实力和影响力的低温等离子体技术和相关设备的研发基地,科研成果有60多项。已经推出了十几个系列的PLASMA产品。这些PLASMA设备已经广泛的应用于包装、纺织、塑料制品、汽车制造、电子设备制造、家电制造、计算机、手机、生物材料、医疗器皿、环保设备、石油天然气管道、供暖管道等行业中。成功的推动了我国高分子材料、金属材料和陶瓷材料的低温等离子表面处理技术的发展。另外,科罗纳实验室为国内80多所高等院校和研究院所设计和研制了各种用于低温等离子体物理与技术、常压等离子体物理与技术、等离子体尘埃与等离子体晶体物理与技术、等离子体材料合成、等离子体表面处理、等离子体医学生物应用、等离子体纳米技术、等离子体化工环保应体用等实验和生产设备及各种类型的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]、气液和气固反应器。在表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成和气液态处理等技术中都有对应的低温等离子体设备、实验装置和系统方案。 科罗纳实验室目前正在开展大气压辉光放电技术和等离子天线技术的研究,其部分阶段性的成果已经在工业和国防相关领域获得应用。 苏曼公司目前的系列产品有:用于塑料或金属薄膜类表面处理的ZW-A系列,CTE-K系列, CTR系列;用于纺织品表面处理的CTE-H系列;用于片材类表面处理的CTK系列;用于二维和三维零件表面处理的CTD,RFD系列;用于塑料管、金属管或复合管内外壁表面处理的CTT系列;用于家电处理的CTB系列;用于金属板材处理的CTF系列;用于物理,化学,生物,材料等实验的CTP系列。用于医疗器械生物材料处理的次大气辉光放电类HPD系列;用于环保和水处理的臭氧电源CTO系列;用于塑胶焊接和清洗的数码超声波类USW系列等。 苏曼公司提供各种系列相关产品的OEM、ODM、ESM。转让和授权使用相关技术和知识产权,并提供技术咨询及科研和生产解决方案。
摘要: 综述了近年来电感耦合等离子体原子发射光谱在基础理论研究、进样技术以及广泛的分析应用领域方面的进展,并简介了对仪器装置的改进和研制。引用文献108篇。 关键词: 电感耦合等离子体原子发射光谱;综述 中图分类号: O657.31 文献标识码: A文章编号: 0254-5357(2000)01-0032-10The Development of Inductively Coupled PlasmaAtomic Emission SpectrometryYANG Xiang, JIN Ze-xiang(Faculty of Material Science and Chemical Engineering,China University of Geosciences, Wuhan 430074, China)Abstract: A review on the development of inductively coupled plasma atomic emission spectrometry including basis research, sampling techniques, application and instrumentation development is presented. 108 references are cited.Key words: inductively coupled plasma atomic emission spectrometry review 30多年来,电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)以其优良的分析特性得到迅速发展和广泛应用。现代科学技术的进步和生产发展的需求不断推动这种分析技术的改进和革新。本文简要介绍ICP-AES的若干进展。1 基础理论研究 ICP-AES基础理论研究主要涉及ICP放电热平衡性质、离子布居特征、激发电离机理以及基体效应等方面。而ICP放电基本参数特别是温度(T)和电子密度(ne)测量是解释诸多基础理论问题的重要信息依据。虽然任何对温度和电子密度变化敏感的物理量(如线光谱、带光谱和连续光谱或吸光度及线光谱宽度)均可以成为测量等离子体相应温度和电子密度的尺度[1],但应用较多的方法主要有三种:① 以双线发射法或多线发射法测量等离子体激发温度(Texc)[2,3],由同一元素的离子线和原子线强度比来测量ne或电离度(α)[4],这种完全建立在局部热平衡(LTE)条件的方法最大缺陷是由不同文献提供的光谱跃迁基本数据有时差别较大,由此测得的Texe和ne亦相差甚远。② 测量氢谱线Hβ 486.32 nm或Ar谱线的Stark变宽计算等离子体ne,再依据Saha方程、理想气体状态方程和电荷中性假设计算对应的Te(LTE),这种方法的特点是无论等离子体是否处于LTE体系,同等离子体某一空间位置相对应,利用Hβ或Ar谱线的Stark变宽测量的ne具有确定的单一值,因而获得了广泛应用[5]。③ 利用激光Thomson散射光谱测量等离子体Te和ne。黄茅等[6]对该法作了报道,最近又利用激光Thomson散射和Rayligh散射比较了27 MHz和40 MHz Ar ICP的气体温度(Tg)、Texc、Te和ne[7]。作者[8]曾应用方法②研究了有机溶剂与水溶液引入Ar-ICP引起ne和Te轴向变化,实验表明有机ICP只有相对水溶液ICP在较高的射频功率和较低的载气流量参数下操作,才能保证有机-ICP具有与水溶液ICP相当的ne和Te,此时有机ICP的优异分析性能才能表现出来。 ICP放电特征表现为偏离LTE状态已获得共识。主要特征是等离子体各种温度不一致(TeTionTexcTg)以及各电离状态和能级状态布居相对LTE状态(按Saha方程和Boltzmam方程计算)为过布居或欠布居[9,10]。ICP放电局部偏离热平衡程度随等离子体工作参数(主要是射频功率、观察高度和载气流量)而变,但在常规Ar-ICP分析操作条件下,等离子体放电偏离LTE状态不太明显,基本属于部分局部热平衡(PLTE)[11,12],Blades等[13]利用Sr、Ca、Mg、Cd、Zn五种元素比较了用以估计ICP偏离LTE程度的非平衡参数br[12]对射频功率的依赖关系,以及射频功率对元素实验电离度αexp和LTE电离度αLTE的影响,实验证实ICP放电表现为PLTE性质。艾军等[14]也利用上述五种元素的不同离子线和原子线对进行了比较研究,结果与文献[13]一致。孙大海等[15]研究了等离子体操作条件对αexp和αLTE的影响,证实ICP放电是偏离LTE的。郑建国等[16]应用Monte Carlo模拟方法研究了ICP-AES的电离和激发过程。有关ICP放电激发-电离模型,陈新坤[17]已作了详细论述。 近年来,ICP-AES有关基体效应和干扰校正的研究取得了可喜的成果。Karen等[18]报道了等离子体发射光谱中易电离元素对溶液和悬浮[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]液质[/color][/url]量传输效率的影响。Dubuisson等[19]比较了轴向观测和径向观测ICP-AES的信背比和基体效应。徐方平等[20]提出用t检验法对干扰因子lg(Ix′/Ix)进行统计处理,以判断ICP-AES中的非光谱干扰。杨金夫等[21]研究了不同电离电位的基体元素K、Na、La、Y和Mg对17种分析元素谱线强度的影响,实验表明其影响程度与谱线激发电位及基体元素电离电位有定量的相关关系。罗建波等[22]比较了ICP-AES流动注射、气动及蠕动泵进样的酸效应和化学干扰的特点和程度。 计算机技术和化学计量学在ICP-AES中的应用,对光谱分析专家系统的开发和光谱干扰校正发挥了重要作用。张卓勇等[23]报道了ICP-AES分析信号系统的开发应用。应海等[24]介绍了ICP-AES初级专家系统中谱线模拟的理论基础,模拟了Ca、Mg和Al在LTE和non-LTE情况下的离子线,与LTE条件下的结果相比,在non-LTE条件下的结果更接近实际扫描谱图。 有关ICP-AES光谱干扰校正方法研究的报道很多,例如Boumans[25]提出干扰系数校正法,在此基础上改进的多组分线性校正法[26]、正交多相式校正法[27]、逐步逼近干扰系数校正法[28]、相互干扰系数校正法[29]。这类干扰校正方法最大的缺点是针对不同物料的样品分析,必须预先通过繁杂的实验建立相应的干扰系数表,而且要求实验条件十分稳定。Saxbery等[30]提出的广义标准加入法和梁红健等[31]的正交试验-广义标准加入法具有可同时校正光谱干扰和避免基体差异引起的非光谱干扰的优点,但在实际应用中仍存在需要预先了解样品基体性质,标准加入次数多而麻烦,以及不适宜于多元素分析等缺点。导数光谱法[32]也可用于校正ICP-AES背景干扰和谱线重叠干扰,而且能减小干扰物等效浓度,从而改善真实检出限。但是该法对谱线重叠十分严重以及带有测量噪声的背景而引起光谱干扰校正效果较差。计算机差谱法[33]是通过对存储在计算机内的谱图进行适度的差减处理,即从待测组分和干扰组分混合谱图中适度差去干扰组分的谱图达到消除光谱干扰的目的。为了获得良好的差减效果,该法要求对操作参数波动所产生的影响进行校正,同时要求信号强度与浓度之间有良好的线性关系。智能化方法校正ICP-AES光谱干扰的报道有计算机模拟光谱谱线干扰[34]和重叠谱线分离法[35]。这两种方法都是基于谱线展宽原理,谱线展宽有Gaussian分布和Lorentziam分布两种形式,当谱线重叠时,强度有加和性。因此,任何实际的光谱干扰图形均可分解为若干个Gaussian曲线、Lorentziam曲线与一个直流背景值的迭加,或者说通过它们可以模拟出光谱干扰的谱图。重叠谱线分离法正好相反,它是将分析物信号根据待测组分和干扰组分各自谱线系数关系将其分离。由于这两种方法都要求给出适宜的函数模型、光谱跃迁参数值和最优化实验条件,而各元素的光谱跃迁参数值至今尚不完善,且不同文献提供的数值存在一定差异,以及实验条件波动可能导致ICP放电强度与设定的计算强度有较大的偏差,因此这两种方法目前在实际分析中受到一定限制。应用化学计量学方法校正ICP-AES光谱干扰主要有因子分析法[36]、人工神经网络法[37]、Kalman滤波法[38]以及改进的自适应Kalman滤波法[39]、加权增量Kalman滤波法[40]以及导数光谱Kalman滤波法[41]等。这些方法原则上都能校正谱线重叠干扰和背景干扰,其效果随参数选择而异,并受波长定位精度的影响。因子分析法是一种多元统计的数学方法,基于原始数据的相关关系,借助数学方法将一组包含众多关系复杂的变量分解为少数变量(因子)。当待测组分与干扰组分间存在较强交互作用时,分析结果对原始数据中的实验误差十分敏感。合适的因子分析不仅对原变量信息无损失,而且还可以找到能反映表面现象的本质联系和影响观测数据的主要因素。神经网络法是通过模拟人脑的神经网络来处理信息,对处理多组分光谱分析中因果关系不明确、推理规则不确定的复杂非线性问题有独到之处,具有容错能力强,预测速度快等特点。但是应用该法效果的好坏其网络参数的选择起着重要作用,而网络参数的优化和选择,目前尚无系统的理论指导。Kalman滤波法是一种应用较广泛的校正ICP-AES光谱干扰的化学计量学方法,其基本思想是进行一次观测可得出未知参数的统计值,而当得到新的观测数据后,基于此数据和前一时刻的统计值,按递推公式可算出新的估计值。随着观测数据的不断获得,同时又不断舍弃前一时刻的观测数据,从而大大减少计算量和贮存量,实现实时处理。与离峰分析法相比较,该法由于能提供模型或结果可靠的信息,为消除波长定位误差,改善真实检出限提供了可能,背景和谱线重叠干扰都严重的多组分分析,也可获得准确的分析结果。作者十分同意Boumans[42]的看法:ICP-AES干扰校正的出路在于充分发挥计算机的能力,化学计量学的运用可能导致该领域的重要突破。不过ICP-AES中复杂样品的基体干扰特征千差万别,在应用计算机和数学
这些是不是算作等离子体还请高手指正!1、等离子体清洗机/刻蚀/灰化/减薄 通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,或者与样品表面的材料反应生成相应的气体,由真空系统排出反应腔,整个过程在样品表面不产生残留物,固体如: 金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行 处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的 吸附/粘附特性等等。 2、离子溅射:氩气充入已被低真空泵抽真空的样品室里。多次充入氩气,使不需要的气体排出,特别是水蒸汽。这样,样品室内充满了尽可能多的纯的氩气。然后调节样品室内工作压力为0.05-0.1mbar,这样就可以开始溅射了。 开始溅射时,在靶(阴极)加上高压,在靶和样品台(阳极)之间产生了一个高压区。空间内的自由电子在磁场作用下进入旋转轨道,与空间内的氩原子碰撞。每次碰撞把氩原子外层中的一个电子撞出,使中性的氩原子带正电。这个雪崩效应激发了辉光放电。 带正电的氩离子被阴极吸引撞向阴极靶,撞出阴极靶上的金属原子。释放的金属原子之间以及金属原子与真空室内的其它气体分子之间的碰撞使金属原子四处发散,形成雾状。这样金属原子从各个方向撞击样品表面然后均匀地凝聚在样品表面,在即使是非常多裂缝的样品表面也能覆盖一层均匀的、有足够导电性的金属薄膜。 由于金和银原子表面的高度扩散性,它们容易在样品表面形成岛状,这样,除非金属镀层有10nm厚,否则达不到所需导电性。白金能产生最细腻的镀层。 溅射镀层的细腻程度取决于靶材、工作距离、气体压力和溅射电流以及反应持续时间3、磁控溅射:电子枪发射的电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。4、等离子切割机:等离子切割是利用高温等离子电弧的热量使工件切口处的金属 等离子切割机标准图片部份局熔化(和蒸发),并借高速等离子的动量排除熔融金属以形成切口的一种加工方法。等离子切割机配合不同的工作气体可以切割各种氧气切割难以切割的金属,尤其是对于有色金属(不锈钢、铝、铜、钛、镍)切割效果更佳;其主要优点在于切割厚度不大的金属的时候,等离子切割速度快,尤其在切割普通碳素钢薄板时,速度可达氧切割法的5~6倍、切割面光洁、热变形小、几乎没有热影响区。
一般离子刻蚀样品(离子清洗样品)所用的枪为氩离子枪。主要清洗样品表面的粘污物和深度剖析时刻蚀样品。在电子能谱分析中常用离子刻蚀样品
[align=center]射频加热的应用[/align][align=center]西安国联质量检测技术股份有限公司[/align][align=center]安评中心:张倩茹[/align]尽管世界上有50多个国家种植大豆,但美国、巴西、阿根廷和中国是四大主要大豆生产商,占世界上大豆总产量的90%以上。目前世界大豆产量远超过其他任何可食用油籽,世界上的大豆约85%加工成正餐和植物油。在中国过去的二十年,大豆消费连续快速增长,从1996年到2013年,油产品增加了600%,可食用或者工业消费增长了78%。昆虫侵扰通过其代谢活动引起的微生物腐败和污染可能使大豆完全不能食用。另一个与大豆储存有关的问题是由真菌引起的霉烂,会导致严重的质量损失和食品安全问题。因此,为了符合国际贸易植物检疫条例,开发干燥大豆的非化学采后害虫防治方法,控制内部昆虫和减少大豆中的真菌菌落数量是确保保存期长、保证食品安全的重要措施。已经开发了几种方法来控制隐藏的昆虫和减少食品中真菌菌落的数量,如常规热处理,化学熏蒸,辐照。然而,所有这些方法都显示出不同的消费者接受程度是由于在它们的应用过程中,较长的处理时间降低了质量、消极的环境污染和对人类健康造成的有害影响。因此,迫切需要开发新颖、有效的能够控制昆虫和真菌且产品无不利的物理或化学变化的技术。射频(RF)能量是频率为1-300 MHz的电磁波,提供快速、容积式加热并被作为干燥产品如紫花苜蓿种子,谷物, 豆类,小扁豆,大米,胡桃和小麦的采后害虫控制的非化学选择来研究。RF的相对较长的波长通常导致较深的穿透深度和食物中可预测的温度分布。但是,不均匀加热仍然是食品行业的射频加热技术的一个问题。由于角落和边缘过热,和中心部分的欠热,产品中间和内部的不同的温度分布可能导致质量损失或昆虫生存,尤其是在中、高水分含量的食物中。理解射频加热的复杂机制和提高射频处理产品的加热均匀性,以确保在整个产品体积内完成昆虫死亡率和维持产品质量是至关重要的。计算机模拟和数学建模为不需要在实验中耗费大量时间的射频加热过程的快速分析起到有价值的工具作用。计算机模拟旨在研究各种食品材料,如苜蓿和萝卜籽,1%的羧甲基纤维素溶液,圆柱形肉压条,肉、新鲜水果,马铃薯浆,小麦粉,和葡萄干的射频加热均匀性。Neophytou 和 Metaxas通过求解耦合拉普拉斯方程和波动方程,试图为工业规模的射频加热系统的电场进行建模。成熟的计算机模拟模型使从各种农业产品获得准确的结果成为可能。不同的标准和索引已经被用来研究,评估,比较射频功率和食品样品的温度均匀性,如正常功率密度,加热均匀性指数,射频功率均匀度指数,和温度均匀度指数。因为样品温度是适合于灭虫法或巴氏灭菌法和质量评估的射频加热的主要目标。
这两天ICP-MS等离子体点火一直失败,显示是射频发生器故障是怎么一回事?型号:PE Nexion-300D
[font=微软雅黑] 作为一名大二学生,在刚刚结束的一学期中学习了仪器分析和仪器分析实验这两门课程,恰好暑假实习[/font][font=微软雅黑]有机会[/font][font=微软雅黑]来到检验检测中心[/font][font=微软雅黑]真正开始实践所学知识,使我对各类仪器有更深刻的认知。[/font][font=微软雅黑] [/font][font=微软雅黑][font=微软雅黑] 在实习过程中,我主要接触的是电感耦合等离子体发射光谱仪,这是一种将[/font][font=微软雅黑]ICP技术和光谱结合在一起的分析仪器。ICP利用电感线圈上施加强大功率的射频信号在线圈包围区域形成高温等离子体,并通过气体的推动,保证了等离子体的平衡和持续电离,在ICP-OES中,ICP部分起到提供高温环境的作用。原子光谱分析则是利用受激发的原子产生的光学辐射进行定性定量分析。在五十年代末六十年代初,由于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]分析法的崛起,原子发射分析的灵敏度差等缺点使得它比AAS稍有逊色,由于ICP这一新的激光光源的应用和新的进样方式的出现,为原子发射分析注入了新的活力,目前它仍是仪器分析中的重要方法之一,检测工作中起到非常重要的作用。[/font][/font][font=微软雅黑] [/font][font=微软雅黑][font=微软雅黑] 这台电感耦合等离子体发射光谱仪有着许多优点,它可以对各种不同类型的试样中[/font][font=微软雅黑]70多种元素(金属元素及P、S、C、F、Cl、Br等非金属元素)进行分析。试样一经激发后,由于试样中不同元素都同时发射特征光谱,可以做到多元素检测,[/font][/font][font=微软雅黑]分析速度快,可在几分钟内对几十种元素进行定量分析[/font][font=微软雅黑][font=微软雅黑]大大提高了检测效率。在[/font][font=微软雅黑]μg/ml级别上的准确度也较高,相对误差可达到1%以下。在根据国标检测水中重金属含量时,ICP发射光谱仪测定含量时可以达到许多元素的检出限。[/font][/font][align=center][img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/08/202308081234244182_5088_6118538_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/align][align=center]工作中使用的ICP[/align][align=center][img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/08/202308081234338594_4493_6118538_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/align][font=微软雅黑][/font][align=center] 工作中使用的ICP[/align][font=微软雅黑] 在检验检测中心实习、接触新仪器的过程中,我也遇到了很多突发情况。我所使用的这台电感耦合等离子体发射仪,配有自动进样器,进样系统由矩管、雾化室、雾化室、蠕动泵等组成。在实习过程中,我遇到过样品管、废液管由于长时间在蠕动泵的高压力下工作而无法恢复原有长度从而无法进样的情况,这时就需要重新更换样品管和废液管。这一情况提醒我们在使用完成后要及时松开蠕动泵。[/font][font=微软雅黑] [/font][font=微软雅黑][font=微软雅黑] 此外进样系统还需要注意:总溶解固体([/font][font=微软雅黑]TDS)须0,2%,以降低雾化器堵塞的风险;在调节泵夹时,保证雾化室无积液等。除此之外,实验室的温度、湿度在一定情况下也会影响到仪器的运行,当湿度过大时可能会出现点火点不着的情况。在其中一次实验LabBook的创建过程中,样品类型为STD,在对应标准曲线时标准品5对应级别选择错误,使得标准曲线出现较大偏差,后续的样品检测都需重新进行。失厘,差之千里。检测的性质决定了试验检测机构是一个必须科学严谨工作的部门,因此检验人员要具备认真细心、科学严谨的科学态度。这都提醒着我未来的学习工作要严谨认真,不能忽视细节。[/font][/font][font=微软雅黑] [/font]
[font=Arial] [url=https://www.bjutc.com/USBwxppfxy.html]USB频谱分析仪[/url]、USB射频信号源、以及相关配套产品。该系列产品全部基于USB接口设计,具有体积小、重量轻、便于携带、性价比高、应用广泛等特点,其体积和重量在同类产品中都是最小的。VSA系列USB微型频谱分析仪,工作方式与一般频谱分析仪基本相同,只需通过接口与计算机连接,它就立刻成为一台功能强大真正意义上的频谱分析仪。VSA系列USB微型频谱分析仪具备强大的网络功能,使用远程监控模块,就可以通过局域网或互联网实现对频谱分析仪的远程监控,即使无USB接口的计算机也可以通过网口连接频谱分析仪直接操作。VSG系列USB微型射频信号源,通过使用任意波形发生器的IQ调制技术就可以轻松实现各种调制信号,同时具有扫频、跳频、脉冲等各类RF调制功能,能满足用户绝大部分需求。 [/font][img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/12/202312041534520239_5858_3248856_3.jpg!w690x517.jpg[/img][font=Arial] 其应用范围非常广泛,适合大学、科研院所、军工企业、广播电视系统、电信运营商、系统集成商及电子爱好者使用。[/font]
[list=1][*]离子体 温度极高(大约10,000 K) 并辐射危险性射频(RF)和紫外能量。工作线圈工作在 1500 V RMS电压及40 MHz 频率状态下。RF和UV的泄漏会严重伤害皮肤及眼睛,靠近等离子体会使皮肤严重烧伤,等离子体放电会将人体击出相当远一段距离并可能导致死亡、严重电击或皮肤深层烧伤。等离子体的危害,你了解吗?[/list]
ICP整机解决方案关键部件(ICP射频电源及光学系统)的解决方案需要相关产品及方案的请回帖
目前,对于FEG-TEM来说,等离子清洗仪几乎成为了必备的辅助设备。但等离子清洗也存在问题,如可能改变样品中碳含量,可能引起样品的氧化等,这种效应到底有多大,现在也没有人能说得清。有经验的朋友,特别是从事钢铁材料研究的朋友,请你们谈谈使用等离子清洗仪的经验及效果。最好有原理性的分析。期待大家的真知灼见。
电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)参数解读及检出限分享============================================================================http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/07/201207041559_375731_2000796_3.jpg研究领域:分析化学 主要用途: 可用于地质、环保、化工、生物、医药、食品、冶金、农业等方面样品中元素的定性、定量分析。 工作原理 感耦等离子体原子发射光谱分析是以射频发生器提供的高频能量加到感应耦合线圈上,并将等离子炬管置于该线圈中心,因而在炬管中产生高频电磁场,用微电火花引燃,使通入炬管中的氩气电离,产生电子和离子而导电,导电的气体受高频电磁场作用,形成与耦合线圈同心的涡流区,强大的电流产生的高热,从而形成火炬形状的并可以自持的等离子体,由于高频电流的趋肤效应及内管载气的作用,使等离子体呈环状结构。 样品由载气(氩)带入雾化系统进行雾化后,以气溶胶形式进入等离子体的轴向通道,在高温和惰性气氛中被充分蒸发、原子化、电离和激发,发射出所含元素的特征谱线。根据特征谱线的存在与否,鉴别样品中是否含有某种元素(定性分析);根据特征谱线强度确定样品中相应元素的含量(定量分析)。工作模式:通过一次测定,同时记录样品中待测元素的所有发射谱线,不管这些谱线是在紫外区,还是在可见区,也不论这些待测元素是高浓度或是低浓度,多能同时完成测定。ICP炬形成过程1)Tesla线圈—高频交变电流—交变感应磁场;2)火花—氩气—气体电离—少量电荷—互相碰撞—雪崩现象—大量载流子;3)数百安极高感应电流(涡电流,Eddy current) —瞬间加热—到10000K—等离子体—内管通入氩气形成环状结构样品通道—样品蒸发、原子化、激发。ICP光源特点1)低检测限:蒸发和激发温度高;2)稳定,精度高:高频电流—趋肤效应(skin effect) —涡流表面电流密度大—环壮结构—样品导入通道—不受样品引入影响—高稳定性3)基体效应小(matrix effect):样品处于化学惰性环境的高温分析区—待测物难生成氧化物—停留时间长(ms级)、化学干扰小,样品处于中心通道,其加热是间接的—样品性质(基体性质,如:样品组成、溶液粘度、样品分散度等)对ICP影响小。4)背景小:通过选择分析高度,避开涡流区。5)自吸效应小:样品不扩散到ICP周围的冷气层,只处于中心通道,即是处于非局部力学系统平衡;6)分析线性范围宽:ICP在分析区温度均匀,自吸收、自蚀效应小7)众多元素同时测定:激发温度高(70多种)不足:对非金属测定的灵敏度低,仪器贵,维护费用高。===========分==============割==============线================== 分析技术比较http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/07/201207051253_375984_2000796_3.jpg主要特点 1.同时读出、无任何谱线缺失的全谱直读等离子体发射光谱仪,快速、线性范围宽所以,可以通过选择合适的谱线,有效避免光谱干扰;2.无任何可移动部件,长期稳定性极好;3. CCD检测器,灵敏度高且防电子溢流;4、同一元素,具有很多分析谱线,不同元素具有不同的灵敏度,高灵敏度谱线检测低含量的样品,低灵敏度谱线检测高浓度样品,所以有效地拓宽了分析的浓度范围;5、分析速度极快;6、同时记录样品的背景信号,有效扣除背景影响,大大改善分析精度。7.高效稳定 可以连续快速多元素测定 精确度高。8.中心气化温度高达10000K可以使样品充分气化 有很高的准确度。9.工作曲线具有很好的线性关系 并且线性范围广。10.与计算机软件结合全谱直读结果,方便快捷。===========分==============割==============线================== 技术参数进样系统: 1、雾化器、标准—石英同心雾化器、雾室、标准—石英旋流雾室、炬管、可拆卸,低气流,低功率石英炬管、蠕动泵。2、计算机控制,双道12滚柱,精确控制流速,保证测定精度。 3、氩气: 计算机控制流速,采用质量流速控制,可准确到0.001L/min。使得日常分析可获得优于0.5%的精度。4、等离子体气:0~16L/min 辅助气:0~2L/min 雾化气:0~2L/min5、波长范围:175-785nm波长连续覆盖,完全无断点 6、焦距焦距 0.0004(mm),中阶梯光栅刻线97.4线/mm 7、信号稳定性:≤1.0%RSD(4小时) 8、RF发生器频率:40.68MHz 9、等离子体输出功率700~1700瓦 10、等离子体冷却气0~22.5L/min可调 11、检出限:多数元素能达到0.00xppm级===========分==============割==============线==================以下为自己做出来的检出限,仅供参考。。。。。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/07/201207091121_376622_2000796_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/07/201207091121_376623_2000796_3.jpg
问题描述:什么是ICP?什么是射频?射频发生器起什么作用,对ICP有什么影响?解答:[font='Times New Roman','serif'][color=black]ICP[/color][/font][font=宋体][color=black]是[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Inductively Coupled Plasma[/color][/font][font=宋体][color=black]的缩写,代表着电感耦合等离子体,如下图所示。[/color][/font][align=center][img=,690,454]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206211116527891_1843_3389662_3.jpg!w690x454.jpg[/img][/align][font=宋体][color=black]前一个是做水溶液样品的等离子体照片,后一个是做有机物直接进样的等离子体照片。(图片由谱育科技[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]EXPEC 7350[/color][/font][font=宋体][color=black]型三重四极杆[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]上标配的摄像头拍摄)[/color][/font][font=宋体][color=black]射频([/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]RF[/color][/font][font=宋体][color=black])是[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Radio Frequency[/color][/font][font=宋体][color=black]的缩写。[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Radio[/color][/font][font=宋体][color=black]是无线电广播和收音机的意思,在[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Carpenters([/color][/font][font=宋体][color=black]木匠兄妹[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black])[/color][/font][font=宋体][color=black]的名曲《[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Yesterday Once More[/color][/font][font=宋体][color=black]》中,[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Karen Carpenter[/color][/font][font=宋体][color=black]用优美而略带伤感的嗓音唱到:[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]When I was youngI’d listen to the radio, waitingfor my favorite songs. When they played I’d sing along, it made me smile.[/color][/font][font=宋体][color=black]可惜的是,[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Karen Carpenter[/color][/font][font=宋体][color=black]是个减肥不要命的主,唱这首《昨日重现》的[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]10[/color][/font][font=宋体][color=black]年后,她死在父母怀中,就像她出生时躺在父母怀中一样安详,这就是昨日重现。她为什么这么痴迷于减肥呢?其实她也不胖,她表面上是减肥,实际上她是希望永远苗条,永远年轻,她希望吃唐僧肉长生不老,吃别的都没啥意思,于是她死于神经性厌食症。所以说呀,啥胖不胖的,哥们弟兄姐妹们,吃着喝着先,来,干一杯。[/color][/font][font=宋体][color=black]扯远了。射频([/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]RF[/color][/font][font=宋体][color=black])[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]Radio Frequency[/color][/font][font=宋体][color=black]就是广播频率,这个频率的电磁波可以在空气中传播,并经大气层外缘的电离层反射,形成远距离传输能力,其频率范围是[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]300K-300 GHz[/color][/font][font=宋体][color=black],[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]和[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]ICP-OES[/color][/font][font=宋体][color=black]上用的[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]27.12 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]和[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]40.68 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black],以及家用微波炉、微波消解仪和超级微波消解仪用的[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]2450 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black],都属于射频。[/color][/font][font=宋体][color=black]小伙伴不禁要问,为什么非得是[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]27.12 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]、[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]40.68 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]和[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]2450 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]这几个数呢?好像各个[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]和微波厂家都商量好似的,郭德纲说得好啊,同行之间是赤裸裸的仇恨,难道说如今同行也可以达成共识啦?[/color][/font][font=宋体][color=black]首先同行之间可以有共识,国外的行业协会非常多,行业协会可以制定标准,规范行业行为,我国也有仪器仪表协会。同行有竞争是正常的,良性竞争可以促进行业的发展。如果同行的竞争发展到仇恨,那已经到了恶性竞争的程度,说明这个行业需要进行整顿了。[/color][/font][font=宋体][color=black]其次,射频是可以在空中到处跑的,会串台,为了防止民用射频发射点对无线电通讯、广播、电视和雷达等造成干扰,国际组织规定了工业、科学研究、医学及家用等民用射频的频率,请看下面两条:[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]ISO/IEC TR 18047-3-2011[/color][/font][font=宋体][color=black]信息技术[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black].[/color][/font][font=宋体][color=black]射频识别装置合格试验方法[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black].[/color][/font][font=宋体][color=black]第[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]3[/color][/font][font=宋体][color=black]部分[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]:13.56 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]空中接口通信的试验方法[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]ISO/IEC TR 18047-4-2004[/color][/font][font=宋体][color=black]信息技术[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black].[/color][/font][font=宋体][color=black]射频识别装置合格试验方法[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black].[/color][/font][font=宋体][color=black]第[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]4[/color][/font][font=宋体][color=black]部分[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]:2.45 GHz[/color][/font][font=宋体][color=black]空中接口通信的试验方法[/color][/font][font=宋体][color=black]小伙伴不禁又问了,这里面也没有[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]27.12 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]和[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]40.68 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black]呀?[/color][/font][font=宋体][color=black]好吧,[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]13.56[/color][/font][font=宋体][color=black]×[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]2=27.12[/color][/font][font=宋体][color=black],[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]13.56[/color][/font][font=宋体][color=black]×[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]3=40.68[/color][/font][font=宋体][color=black]。这是倍频。电脑的[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]CPU[/color][/font][font=宋体][color=black]就常常采用倍频技术。[/color][/font][font=宋体][color=black]小伙伴不禁再问,那[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]PerkinElmer[/color][/font][font=宋体][color=black]新出的[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black],射频发生器既不是[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]27.12 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black],也[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]40.68 MHz[/color][/font][font=宋体][color=black],这是怎么回事?[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]13.56[/color][/font][font=宋体][color=black]×[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]2.5=33.90[/color][/font][font=宋体][color=black],理论上倍频是从[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]1.5[/color][/font][font=宋体][color=black]一直到无限的,但需要注意的是,倍频是以[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]0.5[/color][/font][font=宋体][color=black]为一个间隔单位。[/color][/font][font=宋体][color=black]射频发生器([/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]RF[/color][/font][font=宋体][color=black]发生器)就是产生射频的装置。[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]的研发和生产非常难,难在哪呢?难在高频([/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]RF[/color][/font][font=宋体][color=black]发生器、四极杆驱动器)、高电流([/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black]RF[/color][/font][font=宋体][color=black]发生器)、高电压(点火针)、高精度(四极杆、锥、炬管准直)、高温(等离子体)、高腐蚀性(进样系统),其中高频、高压、高电流不仅做起来难,使用起来还容易坏,[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]中的故障,一半以上来自射频发生器。[/color][/font][font=宋体][color=black]射频发生器之于[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black],就像心脏之于人。心脏坏了,不跳了,人也就歇菜了。射频发生器坏了,不工作了,[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]也就废了。所以[/color][/font][font='Times New Roman','serif'][color=black][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/color][/font][font=宋体][color=black]只要能把等离子体点着,有问题也是小毛病,点不着了,基本都是大问题。[/color][/font] [img=,470,350]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206211117156383_3669_3389662_3.jpg!w470x350.jpg[/img][align=center][font=宋体]谱育科技厂房内装配好的射频发生器。[/font][/align][align=left][font=宋体]以上内容来自仪器信息网《ICP-MS实战宝典》[/font][/align]
电感耦合等离子体原子发射光谱分析信息系统, 刘思东 张卓勇 郭黎平 陈杭亭 曾宪津 胡钢东北师范大学-------------谁知道以上几位老师的联系地址?何处可以下载到该分析系统?请回帖。-------------下载分享该论文的网友请主动回帖,这对你是有好处的,因为回帖就会增加你的积分!
1.如何提高等离子体温度呢? 射频功率是热焰而言是固定的,等离子气体所需氩气是否也是固定的呢?2.如何对所有元素选择合适的等离子体温度呢?其温度升高,有利于第一电离能大的元素降低甚至消除多原子离子干扰,而对第二电离能较低元素则因产生双电核干扰而导致结果偏低。如何兼顾所有元素而设置等离子体温度(或条件)呢?
我的仪器是PE5300DV的,最近发现等离子体火焰形状变小,亮度变弱,咨询了工程师他说如果RF射频值,泵,流量等值和显示值一样应该不会存在此问题,但是我这边却又此问题,且这些值都相对应的,请高人指点,谢谢
射频导纳物位计(变送器)是一种新颖的物位测量仪表,它采用先进的射频导纳技术,利用电容的变化来测量贮罐内的料位,随着贮罐内料位的变化,电极与罐壁之间的电容量也随之变化,其固态电子线路将连续监测这一变化,并将变化与基准电路进行比较,然后输出与料位成正比的精确而又独立的4~20mA电流信号。它的结构分为主电极和补偿电极两部分。在主电极与补偿电极间分别施加一组RF射频信号,因而具有很好的抗粘料、挂料特性,克服了电容式物位计不能消除导电挂料影响的缺陷,是取代电容料位开关的新型物/液位测量产品。射频导纳物位计具有运行可靠,能抗生挂料层的影响,适用于几乎所有工业现场。仪表还具有安装方便,免维护,低价位等特点。仪表广泛用于石油、化工、冶金、医药、电力、食品、造纸等工业领域。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191656_648252_2814155_3.jpg射频导纳料位计由于保护电极的存在,检测电路将检测电极和保护电极的信号进行比较,从而实现克服物料粘附对物位测量的影响。下面详细的介绍相关显著的技术特点:1、通用性强:适用于各种场合,可检测颗粒、飞灰、导电、非导电液体、粘稠物料;2、抗粘附电路:先进的抗粘附电路设计,可以消除物料的粘附而产生虚假错误信号;3、失电保护模式:低位或高位故障报警。现场可调。4、安装调整容易5、不怕粘料、挂料6、稳定性好,不受温度影响7、延时输出可调8、可选耐温最高可达:550℃9、高低位失效保护功能
ICP发射光谱仪具有灵敏度高、多元素同时测量的优点,但是其应用中氩气消耗量很大,此问题也是一直困扰用户的问题。通常一钢瓶氩气价格在200-300元之间,ICP仪器正常开机的话能够使用4小时左右。传统ICP仪器的氩气消耗量在15-18L/min,那么一年下来,氩气成本也是一笔不菲的费用。尤其是,对于偏远地区的实验室来说,氩气的购买和使用更加具有困难。 所以,“降低运行成本理念,节能环保”理念的分析仪器成为了现今仪器公司研发的目标。2011年,发射光谱仪新品中有两款仪器的设计中体现了此理念。 一是珀金埃尔默推出的ICP发射光谱仪Optima 8000。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/12/201112301148_342765_1755058_3.jpg 珀金埃尔默公司ICP-AES的工厂一直设在纽约近郊的Shelton,主要的技术研发人员在此工作了20余年,产品生产质量稳定,技术基础雄厚。自1978年推出5000型以来,先后经历了5500型、6500型、P II 型、P1000 型、P2000 型、P40 型、P400 型的不断改进。1993年推出的Optima 3000型是世界上第一台全谱直读ICP-AES,1994年推出专利的双向观测技术,使ICP-AES的性能进入了一个全新的阶段。2008年完善并推出的Optima 7000DV和Optima 7300DV是珀金埃尔默公司的第十三代产品,2011年7月推出的Optima 8000系列采用了全新的射频发生器技术,是珀金埃尔默公司的第十四代产品。 Optima 8000采用了平板等离子体技术,减少了三分之一的氩气消耗量,并且不需要冷却水,运行成本大大降低。在Optima 8x00ICP光谱仪采用了平板等离子体技术,专利的RF 发生器采用免维护的等离子感应板,取代了传统的螺旋负载线圈。由于无需冷却、减少了氩气的消耗量,运行成本也大大降低。传统仪器的氩气消耗量在15-18L/min,而采用平板等离子体技术只要8-10L/min的氩气消耗量就能达到同样的效果。对于一些样品量比较大的实验室来说,每年在氩气消耗方面大概可以节约10万元,这样每三四年节省的费用都可以买一台新的仪器。 另一是安捷伦推出的1000W微波等离子体原子发射光谱仪4100 MP-AES。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/12/201112301148_342766_1755058_3.jpg 微波等离子体原子发射光谱仪并不是一个新鲜的技术,很早以前就已经出现了,但是多为实验室研究用的仪器,并且功率最高不过几百瓦,因其等离子体光源的温度低、电磁辐射高、金属元素分析灵敏度弱等原因,一直没有真正的商品化。 所以,安捷伦推出的这款1000W的4100 MP-AES也可以说是全球首款大功率微波等离子体原子发射光谱仪。微波发生器采用了日用微波炉的发生器,在人们日常生活中已经普遍使用,安全无泄漏。分光系统采用的是平面光栅的扫描式单色器,532*128pixels、6万多像素的CCD检测器。其工作温度达5000K,只有原子谱线,干扰简单。 并且采用气体冷却的方式代替水冷,绿色环保。 最为重要的是,4100 MP-AES可直接使用氮气或空气作为工作气体,无需使用易燃或昂贵气体,提高了安全性,大大降低运行成本。4100 MP-AES的价格比原子吸收光谱高,但比单道扫描型ICP-AES低,更是远远低于全谱直读型ICP-AES;而4100 MP-AES在灵敏度、线性动态范围、检测限和分析速度等性能上均优于火焰原子吸收光谱,与扫描型ICP-AES的分析性能相近。据安捷伦公司自己介绍,使用4100 MP-AES取代火焰原子吸收光谱仪能够显著解决分析费用。例如,在100个样品中分析9个元素,每周工作3天,则在五个月就开始省钱,18个月将会解决运营成本40000多美元。