蒸镀仪

一、技术原理： （1）小型蒸镀仪KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 （2）通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。 二、真空度越高越不易氧化越接近金属本色： ★玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；★两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；★专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出； ★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板； ★衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm； ★可调速旋转靶台使薄膜更均匀； ★可沉积金属（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金属、化合物（MoO3,LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； ★7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果； ★具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果； ★配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果；三、技术支持&服务： 1.技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出*的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。2.安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。 3.产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外） 4.终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。 以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟四、小型蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料：控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

一、技术原理： （1）小型蒸镀仪KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 （2）通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。 二、真空度越高越不易氧化越接近金属本色： ★玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；★两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；★专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出； ★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板； ★衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm； ★可调速旋转靶台使薄膜更均匀； ★可沉积金属（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金属、化合物（MoO3,LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； ★7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果； ★具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果； ★配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果；三、技术支持&服务： 1.技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出*的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。2.安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。 3.产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外） 4.终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。 以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟四、小型蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料：控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

科研实验室小型高温样品镀膜设备，小型蒸镀仪 郑州科探KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。. 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色科研实验室小型高温样品镀膜设备KT-Z1650CVD控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最大功率≤1200W最大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室不锈钢腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （最大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

高真空热蒸发镀碳仪7英寸TFT触摸屏，全数字显示；全自动控制，一键式操作；4根碳绳交替工作，自动检测通断；连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式。产品优势：1、7英寸TFT触摸屏，全数字显示；2、全自动控制，一键式操作；3、4根碳绳交替工作，自动检测通断；4、连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式；5、旋转样品台，可手动/自动控制；6、软硬件互锁、安全可靠； 产品参数：外形尺寸420(L)×330(D)×335(H) mm操作界面7 英寸触摸屏、全数字显示蒸发源高纯碳纤维（φ0.8mm）蒸发源数量4 根蒸发模式连续蒸发、脉冲蒸发工作模式全自动、手动预热除气有除气挡板全自动真空泵旋片式真空泵真空泵抽速1.1L/s真空室高硅硼玻璃 ~φ170×130mm极限真空≤1Pa样品台≥φ90mm工作真空≤2Pa样品台旋转手动或自动样品台转速高速、低速两档可调供电AC220V/50Hz额定功率800W蒸发源状态系统上电后自动检测 4 根蒸发源通断情况，并在主界面显示保护功能真空保护、过流保护、过压保护等其它真空、电流、电压可实时曲线 显示选配分子泵（高真空模式）、膜厚监测、温度检测等

原理：热蒸发功是能通过对碳纤维绳加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺。 特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、电流可调避免对样品造成不必要的损伤。3、真空保护可避免真空过低造成设备短路。4、触摸屏操作. 5、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。5、可进行 Flash 式或 Pulsed 式镀碳。6、Pulsed 脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显减少参数： 仪器尺寸 ：390mm×310mm×290mm（W×D×H） 真空样品室： 160mm×110mm（D×H），硼硅酸盐玻璃 极限真空度：5Pa 样品台：50mm (D) 蒸碳电流：50A-80A 可调 控制方式：触摸屏 蒸发材料：碳纤维 脉冲喷碳次数：0-9 次可调 电源：220V AC,50Hz 接地三脚插头 真空泵：2 升机械旋转泵（国产 VRD-8） 重量：~50kg 功率：1.6kw

高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。全自主支持产权效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀应用领域：1、EDS样品制备2、EBSD样品制备3、MLA系统样品制备4、其它需要制备碳膜的领域技术参数：人机界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏蒸发源高纯碳纤维（选配碳棒）蒸发源数量1-4根（更多请咨询厂家）工作模式连续、脉冲操作方式全自动一键操作真空系统涡轮分子泵+旋片泵极限真空≤5E-3Pa工作真空＜0.1Pa抽气节拍＜3分钟真空室~φ170×130mm其它样品台旋转、样品温度检测、蒸发除气等

粉末坩埚蒸镀仪铬是受欢迎的金属之一。铬是一种银色，有光泽，坚硬，含杂质的铬硬而脆，具有很高的耐腐蚀性。它的熔点为1857℃，密度为7.2g / cm3，。它的名字来自希腊语“chroma”，意思是颜色，因为它的颜色非常丰富。它广泛用于汽车工业，形成轮子和保险杠上的闪亮涂层。熔点（°C）1857 密度（g / cm3）固态7.19 液体6.9 沸点： 2672.0 ℃ 热导率：90.7W/m.K (300K) 铬粉末 铬颗粒-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；-泵：前级干泵，分子泵；- Load Lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；-工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；以下为蒸发镀膜设备的示意图： 以下是不同真空度 不同镀膜时间碳纸镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色粉末坩埚蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最 大功率≤1200W最 大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台可旋转φ62 （最 大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

高纯度金颗粒蒸镀仪采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度 根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因 并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源、坩埚蒸发；-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；-泵：前级干泵，分子泵；- Load Lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；-工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最 大功率≤1200W最 大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台可旋转φ62 （最 大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）

小型高真空不锈钢腔体热蒸发镀膜仪CY-EVP180G-HV本仪器是一款高真空紧凑型热蒸发镀膜仪，蒸发温度从200℃到1700℃，采用钨丝篮作为蒸发源，蒸发源外套高纯氧化铝坩埚。上盖装有可旋转的样品台，能够有效提高成膜的均匀度。仪器拥有高精度的温度控制系统，采用循环加热方式，能够稳定蒸发金属及有机物。采用不锈钢高真空腔体设计，配高精度分子泵，能够达到高真空要求，较高的真空度能够有效提升蒸发镀膜的效率及质量小型高真空热蒸发镀膜仪用途： 本仪器适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

产品简介： GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定，并准确控制温度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范围内进行变化，可蒸镀直径长达2"的薄膜样品，在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转旋转，以获得更均匀的薄膜。控温蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。控温蒸发镀膜仪体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。 产品型号GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪主要特点1、已通过CE认证。2、采用石英腔体，易于清洁和样品的放入。3、样品台可旋转，能够使所制薄膜达到更好的均匀性。4、采用钨丝作为发热源，温度可达到1700℃，并配有的氧化铝舟装载样品（仅1600oC以下使用，若蒸发温度大于1600oC，样品应直接放在钨丝篮中）。　　5、热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制。6、可将设备转换到手动调节状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可达2000oC，可达到对样品镀碳等实验要求。7、可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。8、进气口配有针阀，用于调节进气流量。技术参数1、电压：AC 208V-220V 50Hz/60Hz 单相2、功率：500W，电流顶峰为30A3、真空腔体：石英腔体，直径?6"4、样品台：直径?50mm；可旋转，转速5rpm；与蒸发源间距可调，调节范围60mm-100mm5、温度：1700oC6、热电偶：S型热偶，工作温度200oC-1500oC（可选用B型热偶，工作温度1200oC-1700oC）7、控温精度：±1oC，数显温度控制器，可设置30段升降温程序8、钨丝篮：2个9、真空接口：KF4010、真空计：数显防腐真空计PCG554，测量范围3.8×10-5-1125torr11、进气接口：1/4NPS产品规格尺寸：440mm×330mm×630mm可选配件1、机械泵（带油污过滤器）（真空度10-2torr，可以蒸发贵金属，如Au、Ag）2、分子泵（可获得高真空，真空度10-5torr，蒸发易氧化材料，如Al、Mg、Li等）3、低真空系统4、高真空系统5、等离子清洗机（镀膜前对基片进行清洗，可获得更好的薄膜强度）

技术特点电流、电压检测器和先进的反馈控制技术使得镀碳过程稳定、高效。脉冲、连续模式随意切换。 提供“手动”和“自动”两种模式。“手动”模式下，可调节电压和时间旋钮来控制镀碳工艺；而“自动”模式下，客户只需提前设定好程序，镀碳仪就完全按照您的指令进行。腔体尺寸：Ф120mm×H120mm碳棒规格 ：6.15mm棒状样品台12插孔，50mm高度可调仪表真空度：大气-0.01mb电流：0-200mA

德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品，并提供产品的售前售后服务，如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣，欢迎前来咨询！

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。 设备技术参数1、使用条件：环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar2、真空室尺寸：蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)3、电子枪：新型电子枪1套，6穴坩埚4、样品转盘：样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃5、系统真空度：? 极限真空：经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa? 抽气速率：从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa? 系统漏率：整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa6、抽真空系统：FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气7、镀膜监测：采用SQM160膜厚仪进行监测。8、镀膜厚度的不均匀度≤6%

电镀废水氟化物蒸馏装置JT-FZL6B水蒸气蒸馏仪预处理专业生产实验室专用蒸馏仪,源头厂家,货源充足,欢迎到厂参观选购,现场签约专门针对挥发酚,氨氮等物质蒸馏的蒸馏仪,符合各项执行标准以及生产标准.水蒸气蒸馏是分离、提取样品中有效成分的重要方法之一，其操作是将水蒸气通入样品体系中，有效成分伴随水蒸气蒸出，从而达到分离提纯有效成分的目的，被广泛应用于烟草、食品、药品、化工等多个行业。现有的传统的水蒸气蒸馏装置是较为的繁琐的玻璃装置，安装困难、操作时间长、耗能量大，且存在不安全隐患等技术问题。氟化物蒸馏装置JT-FZL6B水蒸气蒸馏仪产品特点：1.6支样品可同时独立进行蒸馏实验2.水蒸气蒸馏法温度控制严格，排除干扰好，不易发生暴沸3.7英寸大液晶触摸屏控制，6支独立控制系统4.6个独立数显控温，控温精度高5.采用高纯铝模块加热，升温速度快，精度高6.内置制冷压缩机，无需外置冷水机，噪音小7.有过压过流漏电保护系统，稳定性高，提高了使用寿命8.自带蒸汽发生器，出蒸汽速度快，且蒸汽速率可调9.蒸汽自带自动补水功能，安全简单方便易操作 氟化物蒸馏装置JT-FZL6B水蒸气蒸馏仪技术参数：产品型号JT-FZL6AJT-FZL6BJT-FZL6C控温范围室温-300度单孔功率400W400W400W控制系统7英寸大液晶触摸屏样品支数6支样品瓶500ml制冷系统无内置外置蒸汽发生器有自动补水有过压保护有漏电保护有总功率3.8KW4.6KW4.6KW电压220V 50HZ电镀废水氟化物蒸馏装置JT-FZL6B水蒸气蒸馏仪预处理

有机器件产线定制：我方现有优势技术・ 極限真空 ：蒸着装置、分析装置 10-８Pa・ 高純度精製 ：有機材昇華精製装置 半導体Level・ 極薄膜 ：蒸着装置、Sputter装置 数10Å ・ 高純度環境 ：Glove Box 1PPM 以下 （水分、氧 ）・ 超低能量電子線 5ev （不受地磁気影響）・ 極限微弱光検出 Photon counting・ 極低温 ：冷凍幫浦 10K现有客户：东京大学、京都大学、日本理化学研究所、KODAK邓青云、三菱树脂、住友化学、三星电子、阿格蕾雅、富士施乐、NHK等

小型蒸镀仪介绍： KT-Z1650DM小型蒸镀仪是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。 郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数国家重点实验室 及科学院校，科探仪器已经成为老师 同学欢迎和信任的品牌之一。 公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术10余项，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师 同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！ 控温方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序大功率≤800W大输出电压电流电压≤10V 电流≤80A真空度机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa挡板类型电控样品室石英腔体φ160mm x 160mm样品台可旋转φ62 （大可安装φ50基底）样品台转速8转/分钟样品热源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1600℃蒸发坩埚容积3ML真空法兰KF25抽气口 KF25扩展口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展1 膜厚在线测试 2 分子泵

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

ETD-80AF型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。 配有高位定性的飞跃真空泵 ETD-80AF type thermal evaporation coating instrumentA process in which the substrate or workpiece is placed in a vacuum chamber to vaporized and vaporized by heating the coating material and deposited on the surface of the substrate or the workpiece to form a film or coating. Vacuum pump equipped with high quality 配套泵蒸发靶材蒸发电流操作真空样品仓尺寸样品台尺寸工作电压两升飞跃泵碳棒最大电流100A,工作电流0-80A2*10-2mbar直径 170，高120mm样品台尺寸直径150mm220V，50HZ 需要镀膜的样品 电子束敏感的样品非导电的样品新材料主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。非导电材料实验电极制作观察导电特性

热蒸发镀膜机 - 极高性价比！型号：EasyDEP产地：韩国原装进口 仪器特点：1/ 沉积材料：金属；2/ 膜厚均匀性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉积方式：热蒸发舟；4/ 极限真空：5.0 x 10 -6 Torr； 技术规格：1/ 最大样品尺寸：6英寸；2/ 基底旋转：0~10rpm；3/ 不锈钢腔体，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：机械泵，150L/Min；扩散泵，215L/Sec；5/ 薄膜厚度监控：石英振荡传感器实时厚度控制；6/ 厚度精度：0.5%；7/ 热蒸发源：4英寸热蒸发舟，交流电源；

卷绕式真空蒸镀设备 EW系列塑料薄膜、纸、金属箔等连续卷绕的同时，对金属和氧化物进行蒸镀的成膜设备。从小型的实验机到大量的生产设备，此外，还提供一系列用于包装材料，电容器，磁带等其他应用的型号。产品特性 / Product characteristics&bull 基板传送采用全新的卷绕控制技术，可根据不同的材料和尺寸实现稳定运行。&bull 根据蒸镀的目的，可以选择匹配的蒸发源（感应加热方法，电阻加热方法，EB加热方法）。&bull 各种预处理/后处理的机制达到良好的工艺条件。&bull 可提供能够在线测量的穿透式膜厚监视仪，涡流式膜厚监视仪，电阻值监视仪等。产品应用 / Product application&bull 包装材料，透明气体屏障，金银线&bull 电容器&bull 磁带&bull 光学膜产品参数 / Product parameters关于公司1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

热蒸发镀膜NTE-3000热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。 NTE-3000热蒸发系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。NTE-3000蒸发系统是一个台式系统，跟我们的溅射系统共享一个共同的平台；比如：橱柜，腔体，真空系统，计算机控制架构等方面都是一样的。唯一的区别是一个使用磁控管，另一个使用加热坩埚. 因此，在我们溅射系统上的许多技术同样适用到我们的热蒸发系统中，比如：样品台的加热，旋转，偏斜；涂覆前的等离子清洗，膜厚监测，序列或同时操作多源；钟罩、铝或不锈钢腔体；预真空锁以及自动装片/取片系统等。NTE-3000跟NSC-3000很像, 除了样片台是在顶部并且样片是面朝下固定。因为有许多的共同点，我们可以提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术，而无须中断真空。Nano-Master的蒸发系统的另一大独特优势是持续性地控制加热器电流，而不是震荡式控制加热器。系统装配固态电流控制电路，这点跟许多系统采用的自藕变压器不同。在该系统中，电流或者RMS值的持续时间被控制。用户可以选择一个设定值，它实际上是设定交流电半周期的部分，会出现跟钨加热器电线的交叉。这样，系统可以实现精确快速的电流控制，这使得闭环温度控制就可以实现。此外，电流控制以及温度控制，可以满足蒸发的苛刻要求，无论是对有机材料还是对金属。我们测量坩埚TB的RMS电压，RMS电流，和温度，并通过热电偶TC跟坩埚底部接触的方式测量温度。空坩埚的加热实验结果如下图所示，这些加热实验结果是在208V线电压下进行的。电流和电压(没有显示)通过RMS仪表测量。通过以上的温度与电流的关系，我们可以设定并控制电流以达到坩埚内想要的温度，温度可以通过热电偶来测量。材料防止在坩埚中热损失和加热时间的常量将会发生变化，然而坩埚内的温度和热电偶的测量值之间的关系将不会变化。因此，我们的技术可以实现坩埚内的温度不依赖于大部分放入的材料，甚至不受线电压值的影响。NTE-3000热蒸发系统产品特点：最大可支持7”的方片或200mm的晶圆片沉积速度可控旋转的样品台双坩埚2KVA SRC控制电源晶振式膜厚监控仪通过LabView软件实现PC计算机控制NTE-3000热蒸发系统相似产品型号：NTE-4000 基于PC计算机全自动控制的独立系统NTE-3500 基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立系统NTE-3000 基于PC计算机全自动控制的双蒸发源台式系统NTE-1000 计算机控制的单蒸发源台式系统

熏蒸对象是生物安全柜、生物安全实验室、洁净车间、洁净厂房、药厂、动物房等需要彻底消毒灭菌空间场所的产品。熏蒸条件：生物安全柜在以下情况需要熏蒸：①在检查和维修之前 ②在更换HEPA滤器之前 ③在移动安全柜之前 ④安全柜被严重地污染 ⑤变换使用目的 ⑥长时间未用 实验室等无菌室在以下情况下需要进行熏蒸：①室内被杂菌或病毒污染 ②实验或第三方检测后释放大量的芽孢在空气中甲醛熏蒸方法为甲醛熏蒸操作指导书（厂家推荐方法）熏蒸后客户须知：甲醛熏蒸10h后无菌室要进行良好的通风，通风约30~60min；通风时要戴好帽子、口罩，必要时戴上防护眼镜。

SHINCRON蒸发镀膜机请联系：张先生

反压高温蒸煮锅符合标准　　GB 150-1998《钢制压力容器》　　GB/T 10004-1998耐蒸煮复合膜、袋反压高温蒸煮锅功能用途　　适用于包装行业、薄膜厂家、食品厂家、检验机构、科研院所、医疗单位等对包装材料（及胶粘剂、油墨产品）的高温蒸煮灭菌处理。反压高温蒸煮锅产品特点　　首家生产自动反压装置，改善传统高温消毒过程中包装袋易破裂的缺点。双保险控制系统，安全可靠。微机控制，操作全程自动化，结果显示直观。实验过程中使用水源（需配排水口）或气源，较传统高温蒸煮锅灭菌更充分更快捷。加喷淋可从室温升到135℃只需15min，从135℃降温至室温只需8~10min。反压高温蒸煮锅技术参数　　消毒桶直径：400mm　　储物桶容积：50L　　工作压力：0~0.22Mpa（饱和蒸汽压）　　补水压力：&ge 0.32 Mpa　　反压压力：0.14~0.165 Mpa　　灭菌温度：100~135℃

等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化，在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能；本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体，镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵，能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa，可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小，节省空间，能够置于试验台上使用，一机多用，性价比突出，非常适合各大高校及研究机构选用。离子溅射和蒸发二合一镀膜仪适用范围：扫描电镜样品表面喷金、蒸金喷碳等操作，以及非导体材料试验电极的制作等。 离子溅射和蒸发二合一镀膜仪技术参数：供电电压AC220V，60Hz最大功率1200W样品台直径φ65mm；与蒸发源间距可调，调节范围60mm-100mm真空腔体材质：304不锈钢 O.Dφ168mm x I.Dφ160mm x 210mm最高温度1700℃热电偶B型热电偶真空计电子式真空计真空系统前级泵：浦发MVP030 无油泵 抽速30L/min次级泵：莱宝TURBOVAC 90iX 抽速90L/s真空接口KF40进气接口1/4卡套接头整机尺寸500x350x400mm

美Nano-master热蒸镀系统：NTE-4000 独立式电子束蒸镀NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统NTE-1000 简便型热蒸镀热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。NTE-4000是NTE-3000热蒸镀系统的独立式配置，提供更大的空间用于更多的选择，如不同的腔体尺寸、基片清洗、冷却、共蒸镀和溅射等功能。NTE-4000型立柜式系统（可支持更多的蒸发源，共蒸发能力，溅射能力，以及共溅射能力）。NTE-3500紧凑型独立式热蒸镀系统，触摸屏监控屏幕集成于柜体的手臂上，整个主机的占地面积仅26"x26"。可支持4个蒸发源，也可扩展支持共蒸镀和溅射能力NTE-3000是一款计算机控制的双蒸源台式热蒸镀系统，广泛应用于有机物和金属的蒸镀。该系统使用2KVA的SCR电路来实现精确的温度控制，这对有机材料蒸发非常关键。系统的设计特别关注在小的占地面积的基础上，实现干净、均匀和可重复的工艺。这是一套具有低成本高品质特性的系统，可满足科研和小规模生产需求。NTE-1000型单蒸发源的台式系统，特点：** 12英寸钟罩式/10”圆柱不锈钢/14”立方型不锈钢腔体** 最大7英寸×7英寸方形和直径200毫米圆形晶圆** 双蒸发源** 水冷样品台和水冷保护** 固态开关用于序列蒸镀用** SCR用于精确控制电流** 独立蒸发源及基片遮板** 防交叉污染挡板** 晶振膜厚监控系统** 可以以目标膜厚作为工艺的终点条件** 旋转锁紧件方便装卸片** 基片旋转** 闭环蒸镀控制** 基于计算机全自动控制，菜单驱动** LabView友好用户界面** 支持不限数量的程序每程序支持1-100个步骤** 全自动工艺控制，高重复性** EMO保护及安全联锁选配：** 基板可加热(最高到800°C)或水冷** 旋转GLAD斜角入射沉积** 行星运动样品台** 增加热蒸发电源用于共蒸发** 增加蒸发源(最大到6个蒸发源)** 更大尺寸的基片应用** RF/DC偏压** 离子源用于基片清洗** 靶枪用于溅射** 增加MFC用于支持反应溅射/蒸镀** 自动上下片** 包含冷泵在内的各种泵选项应用：** IC互连中的金属镀膜** CIGS太阳能电池应用中的金属接触层** 有机场效应晶体管** 钙钛矿太阳能电池应用** OLED** 对容易氧化的比如铟等金属材料的蒸镀** 其它涉及到熔点在2000C以内的金属的蒸发镀膜** 其它涉及到熔点在600C以内的有机物的蒸发镀膜