阵列仪

微阵列芯片扫描仪配件专业为扫描基因芯片，蛋白质芯片等微阵列芯片而设计，是功能强大的高分辨率荧光扫描仪。适合所有微阵列芯片，如DNA芯片，蛋白质芯片和细胞和组织，并适用于各类型的应用研究，如基因表达，基因分型，aCGH，芯片分析片内，微RNA检测的SNP，蛋白质组学和微阵列的方式。微阵列芯片扫描仪配件是完全开放的系统，兼容任何标准的显微镜载玻片25x75mm（玻璃基板，塑料，透明和不透明），可以扫描生物芯片，有3 1.mu.m/像素的分辨率，同时保持高图像质量。能够同时扫描两个检测通道3.5分钟（10.mu.m/像素，最大扫描区域），InnoScan900是市场上最快的扫描器，扫描速率可调节，达10到35行每秒。微阵列芯片扫描仪配件共焦扫描仪配备有两个光电倍增管（PMT），非常敏感，整个工作范围（0至100％）线性完美，允许用户简单地改变PMT，调整2种颜色的荧光信号。使用这种独特的动态自动聚焦系统，提供的是不敏感的基板的变形，整个扫描表面上完美，均匀。微阵列芯片扫描仪有出色光度测定性能，特别是在灵敏度和信噪比方面。微阵列芯片扫描仪有一系列可满足您的应用程序，四扫描器（710，710 U，900 U和900）。该Innoscan® 900和900AL系列（磁带自动加载机）是专为现在和未来的高密度微阵列发展。

衍射光栅-相干光栅阵列图1。照片LightSmyth单片光栅阵列单片式单基片硅栅阵列（图1）提供独特的高分辨率连续获得超出所能获得的单个光栅的光带宽。这种光栅须不能有移动部件。单片光栅阵列是一致的单次数据采集与许多宽带应用，例如激光诱导击穿光谱，可以帮助系统元件数显著减少。每个阵列由的所有相干在单一基板上形成的多个主光栅。母光栅有连续且轻度重叠的有效光谱范围。此外，在基底的顶部和底部的辅助光栅产生直接的校准的输出区域用于使用一个单一参考波长，如氦氖激光器的波长的光输出。图2。示意图说明操作的单片光栅阵列光谱仪与2D检测器设置在图2给出在一个简单的光谱仪装置的光栅阵列。一个二维检测器阵列被用来记录的光栅阵列的输出。图3示出了照射时由白色光源和一个共同传播的氦氖激光器的二维探测器阵列上看到的光栅阵列输出的示意图。每个附近的水平行包括四个主光栅中的一个的输出端，并对应于光谱范围表示。此外，还显示为红点是6个辅助光栅校准参考标记，当暴露在氦氖光。进一步详细描述了设备的运行和设计说明请点击http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。图3。阵列输出信号检测原理图校准/准直功能特性顶部和底部的六个小光栅阵列（参见图1）提供了用于校准的光谱输出，以及协助系统对齐标记，这里的校准标记用于氦氖照明，见示意图4。校准标记提供了两个主要的功能：第一，它们表示在主光栅输出的校准部分的开始和结束点。因此，它们允许用户校准波长作为位置的函数的沿着各母光栅色散线 - 注意，校准点所表示的波长范围内是独立的光栅输入角度，使光栅阵列具备各种不同可能的样式。第二，辅助光栅辅助系统调整。当所述检测器表面被适当地定位在焦平面阵列后聚焦镜，两对对准标记设计为一致性和适当远场操作指示。中心两个标记阵列探测器表面使得水平正确的准直方式。更多单片光栅阵列技术细节请参考http://www.lightsmyth.com/downloads/product_info/LS_MonoGrat_Array.pdf。单片硅平面阵列硅基底具有0.73毫米厚度。基板的高度和宽度公差是0.3毫米。光栅基片：单晶硅。光栅镀膜：铝（其它镀膜类型额外收费）。Primary GratingCalibration Markers1Line/mmSizePart NumberPrice first 99 units2,3Unit price 100+1381, 522 nm178812.5mm x 12.5mmSAG-1212A-Al$96.00 ea.$25.00 ea.2509, 696 nm13413683, 935 nm9984929, 1271 nm7341The calibration markers listed are produced by a HeNe laser incident on the small calibration gratings. Use of a different calibration light source having a different wavelength will produce markers (see Fig. 4) coinciding with different values of the dispersed spectra of the four primary gratings. Using a common input angle for calibration light and signal, the calibration marks delineate spectral output ranges of the primary gratings that are independent of grating input angle.2For orders with the total product value below $250.00, a handling charge of $75.00 will be added.3Academic discounts are available for eligible institutions. To determine eligibility complete an account application procedure.

柱面镜阵列常规柱面透镜阵列可用作高效扩散片透镜柱面轴沿着第一个维度排列传统的柱面镜阵列通常用在高效扩散片上，柱面镜的焦距是各自宽度的3到5倍，每个柱面镜组的光轴都是平行并列的。通用规格尺寸容差（英寸）:±0.05基底:Acrylic涂层:Uncoated厚度容差 (%):±40折射率nd:1.49工作温度 (°C):80 (Maximum)透射率 (%) :92 (from 400-1100nm)波长范围 (nm):400 - 1100产品信息尺寸（英寸）有效尺寸（英寸）EFL (inches)透镜数目CT (inches)产品编码11 x 1111 x 110.08564 per 25.4mm0.085#43-02812 x 1212 x 120.01142 per 25.4mm0.06#43-02915 x 1515 x 150.0953 per 25.4mm0.09#43-0279.75 x 139 x 120.413 per 25.4mm0.09#43-026

APD阵列筱晓光子供应APD阵列，包括线性APD阵列和矩阵APD阵列。该系列APD雪崩二极管阵列主要用于：激光雷达、激光测距。我们同时供应APD雪崩二极管和APD雪崩二极管模块。ChipPackageDescription8AA0.4-9SOJ22GLAPD Array 8 Elements, QE80% at 760-910nm with NTC16AA0.13-9SOJ22GLAPD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm with NTC16AA0.13-9DIL18APD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm16AA0.4-9SOJ22GLAPD Array 16 Elements, QE80% at 760-910nm25AA0.04-9BGAAPD Array 25 (5x5) elements, QE80% at 760-910nm with PTC25AA0.16-9BGAAPD Array 25 (5x5) elements, QE80% at 760-910nm with PTC64AA0.04-9BGAAPD Array 64 (8x8) elements, QE80% at 760-910nm with PTCQA4000-9TO8SiQuadrant Avalanche Photodiode, QE80% at 760-910nm

多透镜阵列?在成对使用时创建均匀的照明?集成式，单片式设计我们的多镜头阵列是完美的照明和投影系统。 阵列可以成对使用，以在照明场上提供均匀的亮度。 阵列是整体的，与胶结或塑料品种相比，产生更高的透射率和更好的稳定性。 多透镜阵列的光轴居中在每个单元的中心±0.15mm以内。ABCDStock No.46.06mm46.06mm4mm3mm#63-23058mm60mm7mm5.4mm#63-231订购信息：标题产品号46 x 46mm Lenslet Array, 4 x 3mm Lenslets#63-23058 x 60mm Lenslet Array, 7 x 5.4mm Lenslets#63-231

多镜头阵列多镜头阵列• 成对使用时产生均匀的照明• 集成式整体设计通用规格涂层:BBAR (400-700nm)基底:B270厚度 (mm):3.00厚度容差 (mm):±0.2波长范围 (nm):400 - 700我们的多透镜阵列非常适合照明和投影系统。阵列可以成对使用，以在整个照明范围内提供均匀的亮度。 与水泥或塑料品种相比，该阵列为整体式，具有更高的透射率和更高的稳定性。 多透镜阵列的光轴居中位于每个像元中心的±0.15mm范围内。产品信息标题产品编码46 x 46mmLensletArray， 4 x 3mmLenslet#63-23058 x 60mmLensletArray， 7 x 5.4mmLensl#63-231技术信息ABCDStock No.46.06mm46.06mm4mm3mm#63-23058mm60mm7mm5.4mm#63-231

产品特点：安捷伦微阵列解决方案采用SureScan 高分辨技术的安捷伦DNA 微阵列扫描仪工作流程解决方案* 基因表达谱 — 支持多种模式生物，在全基因组水平上研究基因转录*比较基因组杂交 — 支持从多种样品类型及 FFPE 组织中进行高分辨率的全基因组水平的DNA 拷贝数变化的分析* 小 RNA — 提供最完善的实验室操作流程和及时更新的微阵列设计方案，分析小 RNA 表达谱并研究其在基因调节中的作用* 染色质免疫沉淀法 — 探讨蛋白质 — DNA 相互作用在转录、复制、修饰和修复过程中的作用* DNA 甲基化 — 提供高分辨率的全基因组甲基化谱，进一步了解哺乳动物 DNA 甲基化和基因调节的机理* 靶向序列捕获 — 结合下一代测序技术，关注感兴趣的关键基因组区域，解决费用问题，实现对基因多样性更加深入的研究订购信息：采用 SureScan 高分辨技术的安捷伦 DNA 微阵列扫描仪产品描述部件号高分辨率微阵列扫描仪系统G2565CA扫描仪升级，从 G2565BA 到 G2565CAG2539A 附件杂交炉旋转架G2530-60029杂交芯片夹（不锈钢）G2534A芯片固定夹, 1 阵列/片5 片/包*G2534-60003 芯片固定夹 , 2 阵列/片5 片/包*G2534-60002 芯片固定夹, 4 阵列/片5 片/包*G2534-60011 芯片固定夹, 8 阵列/片5 片/包*G2534-60014 *提供大包装的同样产品

多阵列杂交工作站配件具有高效的振荡系统和精确的温度控制系统，是微阵列玻片和多个子阵列（多阵列玻片）杂交成功的有力杂交工作站。多阵列杂交工作站HybMix S4可以杂交多达4个载玻片。微阵列玻片受到精确温度控制，与载玻片架直接接触，一起受到精确的温度调节控制。控制温度的范围从室温至105℃，温度精度高达+/- 0.1℃。这款多阵列杂交工作站集成了轨道振荡器，提供从300至900rmp的可调转速控制，有效提高杂交和结合反应成功率。多阵列杂交工作站采用国际一流的用户友好界面，操作方便 用户可以设置温度，杂交持续时间和振荡速度。温度，时间和振荡速度显示于仪器前方的宽屏显示屏上，用户可以在任何时间调整参数。多阵列杂交工作站优势Peltier温度控制技术精确控制温度精确温度调节集成了轨道振荡系统前部具有显示和控制面板用户友好的操作界面多阵列杂交工作站参数温度范围：室温到105摄氏度加热/制冷系统：温控Peltier技术，温度分辨率 0.1 °C振荡系统：轨道振荡器速度300-1500RPM可调用户界面：高级荧光显示屏VFD， 8个编程控制操作键尺寸(LxDxH)： 29.5 x 26.5 x 17.0 cm电力要求： 220 V, 50/60 Hz, 125 W重量：8.5kg

微阵列清洗干燥工作站配件全自动清洗和干燥微阵列和荧光原位杂交FISH玻片，是分子杂交领域的理想自动清洗干燥仪器。微阵列清洗干燥工作站配件可以处理市面上任何商用或定制的微阵列和玻片或芯片，用于任何类型的微阵列实验，如基因表达，微阵列比较基因组杂交 CGH array，ChIP-on-chip, miRNA，大大提高了杂交的微阵列的的质量，具有更高信号强度，更低的背景噪音和更为均匀干净的玻片，直接可用于扫描使用。从而避免这些步骤常出现的负面影响。微阵列清洗干燥工作站配件将芯片放置在仪器的载玻片架上（最多可放20个芯片)。最多可以使用5个温度控制的清洗器采用理想的预定程序清洗，通车清洗器被覆盖起来，以便更好的进行温度控制，WALY 机械臂将载玻片架在不同的洗涤器间转移，严格控制清洗时间和温度参数。通过一个可调的垂直搅拌器改善清洗功效在经过最后一个清洗器后，机器臂自动将玻片转移到其离心机进行有效地干燥。玻片准备好进行扫描。或者，可在一个稳定的溶液中完成干燥：仪器控制玻片在稳定溶液中的移动速度。自动清洗干燥工作站具有多功能控制显示屏，能够加载并启动预先编程的清洗程序。清洗干燥站提供直观的图形用户界面，方便有效的操作程序管理，并可以为用户定制优化的操作程序。微阵列清洗干燥工作站配件大大提高微阵列和FISH的清洗质量和实验的可重复性精度和可靠性，帮助用户节省宝贵的时间和成本，提高微阵列实验的成功几率。

高通量微阵列清洗器配件专业为玻片清洗，微阵列芯片清洗而设计，拥有耐用的载玻片架，可容纳1-25个25×76毫米规格的玻璃玻片微阵列，可浸入到500ml的缓冲溶液槽。高通量微阵列清洗器配件特色该缓冲溶液槽配备有磁力搅拌棒和盖子，可以防止缓冲物蒸发。高通量微阵列芯片清洗器大大了微阵列芯片干燥前的清洗效率和效果。含独立的缓冲液加快微阵列芯片的处理和清洗速度。是提高基因学，生物医学，制药和农业研究的质量和速度的理想的工具高通量微阵列清洗器配件规格?容量：1?25个微阵列基片?体积：每个清洗步骤400毫升缓冲液。?缓冲液温度：4至50℃?材质：亚克力箱使温和溶剂稳定，如乙醇

微透镜阵列?方形透镜 和复眼透镜配置?精密熔融石英基底微透镜阵列适用于匀化来自窄线宽准分子激光器和高功率LED的输出光。微透镜阵列非常适合要求高效率和非高斯均匀度的应用。所有的微透镜阵列都是用紫外级的熔融石英制成，在193nm-2.5μm波长范围具有优秀的性能。微透镜阵列由基于半导体加工技术的光刻技术加工，该技术使每个微透镜的形状和位置都具有良好的一致性，与一些用模压环氧树脂生产的微透镜阵列不同，这种方法能够生产光斑尺寸近衍射极限的微透镜阵列。方形微透镜阵列我们的方形阵列提供标准的10mm x 10mm配置，提供各种镜头间距和焦距选项。方形微透镜通常用于光束均匀化和成形，产生斑点图案或方形平顶图案。镜头具有较高的填充因子，消除了照明场中的零级热点。方形镜片通常成对使用，与PCX镜头配合使用（请参阅上文）。典型应用包括焊接，钻孔，激光烧蚀和光纤耦合。复眼聚光阵列我们的复眼聚光镜阵列有5mm和10mm的方形配置，并且设计用于具有±5°，±10°或±14°发散角的平顶世代。聚光镜阵列是双表面圆柱形微透镜的单片组件，创造完全无需调节的电容器。这些微透镜通常用于需要较短工作距离的大照明场的应用中，例如医疗激光用途，太阳能模拟，UV固化，半导体仪器和荧光显微镜。技术数据订购信息标题产品号Microlens Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 0.5° Divergence#64-478Microlens Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 1° Divergence#64-477Microlens Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 1.6° Divergence#64-476Microlens Array 10 x 10mm, 500μm Pitch, 0.25° Divergence#64-483Microlens Array 10 x 10mm, 500μm Pitch, 0.5° Divergence#64-482Microlens Array 10 x 10mm, 500μm Pitch, 1° Divergence#64-480Microlens Array 10 x 10mm, 500μm Pitch, 1.2° Divergence#64-479Fly' s Eye Array 5 x 5mm, 250μm Pitch, 5° Divergence#64-488Fly' s Eye Array 5 x 5mm, 300μm Pitch, 13° Divergence#84-132Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 250μm Pitch, 5° Divergence#64-489Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 10° Divergence#64-490Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 13° Divergence#83-910Microlens Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 2° Divergence#86-745微透镜阵列 10 x 10mm, 300μm Pitch, 0.5° Divergence库存#64-478技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)18.8间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±0.5半径 R (mm)8.60基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 300μm Pitch, 1° Divergence库存#64-477技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)8.7间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±1半径 R (mm)4.00基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 300μm Pitch, 1.6° Divergence库存#64-476技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)5.1间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±1.6半径 R (mm)2.35基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 500μm Pitch, 0.25° Divergence库存#64-483技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)46.7间距 (μm)500间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±0.25半径 R (mm)20.00基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 500μm Pitch, 0.5° Divergence库存#64-482技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)32.8间距 (μm)500间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±0.5半径 R (mm)15.00基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 500μm Pitch, 1° Divergence库存#64-480技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)15.3间距 (μm)500间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±1半径 R (mm)7.00基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 500μm Pitch, 1.2° Divergence库存#64-479技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.20厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)13.8间距 (μm)500间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±1.2半径 R (mm)6.30基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准Fly' s Eye Array 5 x 5mm, 250μm Pitch, 5° Divergence库存#64-488技术参数与相关资料光学类型Double-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)5.0 x 5.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)2.25厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)1.6间距 (μm)250间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±5半径 R (mm)0.75基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准Fly' s Eye Array 5 x 5mm, 300μm Pitch, 13° Divergence库存#84-132技术参数与相关资料光学类型Double-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)5.0 x 5.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)0.9厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)0.6间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±13半径 R (mm)0.293基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 250μm Pitch, 5° Divergence库存#64-489技术参数与相关资料光学类型Double-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)2.25厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)1.6间距 (μm)250间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±5半径 R (mm)0.75基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 10° Divergence库存#64-490技术参数与相关资料光学类型Double-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)1.2厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)0.8间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±10半径 R (mm)0.39基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准Fly' s Eye Array 10 x 10mm, 300μm Pitch, 13° Divergence库存#83-910技术参数与相关资料光学类型Double-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)0.9厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)0.6间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±13半径 R (mm)0.293基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准微透镜阵列 10 x 10mm, 300μm Pitch, 2° Divergence库存#86-745技术参数与相关资料光学类型Plano-Convex透镜剖面Parabolic尺寸 (mm)10.0 x 10.0尺寸容差 (mm)±0.05厚度 (mm)0.9厚度容差 (mm)±0.05有效焦距 EFL (mm)4.8间距 (μm)300间距容差 (μm)±0.25发散角 (°)±2.0半径 R (mm)2.2基底Fused Silica涂层Uncoated类型Lens Array波长范围 (nm)200 - 2200RoHS符合标准

柱面微透镜阵列1）产生非高斯型的线性模式2）适用于进行光均匀化3）可在193nm到2.5μm范围之间提供卓越性能柱面微透镜阵列主要用于均匀化各种光源，其中包括激光或高功率LED。有别于形成斑点模式的矩形微透镜阵列，柱面微透镜阵列会产生非高斯型的线性模式，适用于焊、钻或激光烧蚀应用，范围从UV到IR。另外，这些透镜还能用作为快速轴平行光。订购信息:标题产品号10 x 10mm, 250μm Pitch, 6° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-83910 x 10mm, 300μm Pitch, 1.1° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-84010 x 10mm, 300μm Pitch, 10.1° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-84110 x 10mm, 500μm Pitch, 2.2° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-84210 x 10mm, 500μm Pitch, 1.3° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-84310 x 10mm, 500μm Pitch, 3.2° Divergence, Cyl. Microlens Array#86-844

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

光电二极管阵列检测器灯Flexar系列/200/200 EP系列光电二极管阵列检测器可提供真正的紫外/可见光检测以及高分辨率质谱数据。卓越的信噪比特征使其特别适合低体积或低浓度样品。光电二极管阵列检测器灯订货信息：组件部件编号Flexar/200 EP系列氘灯N2925030钨灯N2922011200系列氘灯（第2相）N2922046钨灯N2922011LC-135C/235检测器灯N2351285

这款欧洲设计的大面积闪烁探测器阵列是一种高性能闪烁体列阵探测器。这款闪烁探测器阵列可采用YAP:Ce, YAG:Ce, LuAG:Ce, BGO等闪烁体材料，获得最佳效率，可广泛用于大面积中子探测，中能(10-100MeV/u)重离子核反应前角度测量等应用。这款进口的闪烁探测器阵具有全球最佳的紧凑设计，像素之间距离可控制到小于0.05mm， 最大像素可达到0.3mm x 0.3mm, Detection matrices and bars can be used for position sensitive detection. YAP:Ce, YAG:Ce, LuAG:Ce, BGO, CRY19 and others are the scintillation materials used for this purpose. The size of detection elements ranges from several tenths of mm up to several mm depending on the scintillation material and on the design of the array. Our special production technology enables very compact designs with distance between pixels of less then 0.050 mm. The minimum pixel size is 0.3 mm x 0.3 mm我们根据用于的要求进行特别设计，请联系我们：

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

Multichannel systems 电生理学系统及耗材/多通道微电极阵列 Multi Channel Systems MCS GmbH 成立于 1996 年，总部位于德国西南部罗伊特林根的科技园。MCS 成为 Harvard Bioscience， Inc. 的一个部门。Multi Channel Systems 专注于为大学和制药行业的研究小组开发电生理学领域的精密科学测量仪器和设备。我们为体外和体内微电极阵列的细胞外记录以及电刺激提供解决方案。此外，我们还提供用于自动RNA注射和非洲爪蟾卵母细胞的自动双电极电压钳记录的设备。由于其模块化原理，我们的产品可以根据您的特定实验需求进行扩展和调整。我们的产品还因其尺寸而适合您的实验室。1、 微电极阵列带60个电极的MEA, 带120个电极的MEA， 256个电极的MEA, 用于多孔膜电极系统的多孔板，用于CMOSMEA 5000系统的CMOS-MEA，2、配件MCS 提供广泛的配件，使您系统更加高效和方便使用。配件都非常适合与其他 MCS 产品一起使用，但也很容易适应定制系统。包括Roboo cyte 配件，HiClamp 配件，USB-MEA 系统配件，USB-MEA256 系统配件，MEA2100-Mimi-system 附件，MEA 2100 系统附件，Multiwell-MEA 系统附件

氘灯（二极管阵列检测器），用于岛津液相SPD-M10Avp检测器

产品名称：光电二极管阵列检测器灯仪器厂商：PerkinElmer/美国 珀金埃尔默价格：面议库存：是Flexar系列/200/200s系列视差检测器灯的偏转式设计允许在保证化合物检测灵敏度的同时，获得低噪声和低漂移性能。部件零件编号Flexar系列/200EP系列氘灯N2925030钨灯N2922011200系列氘灯(第2相)N2922046钨灯N2922011LC-135C/235检测器灯N2351285

基于silica V-Groove 2D 光纤阵列定制筱晓光子提供不同光纤类型的光纤阵列定制。我们目前支持的光纤类型包括single-mode, multi-mode, polarization maintaining与此同时我们也接受不用光纤长度的光纤阵列定制。得益于我们多年的加工经验，目前我们可以提供高精度光纤研磨对轴，我们也可以光纤胶合到一起在一起研磨抛光 。我们高精度对轴设备可以现实一个优于0.5deg角度偏差的保偏光纤对轴，我们端面观察仪可以保证端面研磨质量满足特殊应用领域，譬如干涉仪。同时我们的加工精度可以达到间距小至5um。同时我们还为客户不同的应用需求定制不一样的接头，欢迎联系我们加工定制光纤阵列。产品特点● 支持光纤类型SM, MM, PM Fibers● 任意光纤长度以及间距● 高精度高可靠性● 低 PDL低插入损耗● 紧凑结构产品应用● 光纤传感器● 光开关● 干涉仪● 分路器 / 合束器● 集成器件● 波导耦合器件● 多路复用器/解复用器技术参数* 光纤阵列是用于不同应用场合的光纤与其波导连接的关键部件，筱晓提供独特的组装/切割/抛光工艺，以获得具有最佳抛光表面的光纤纤芯位置精度。2D光纤V槽阵列订购信息FAC - A□-G□□□-S○-Material▽-☆-△-XXA□：Polished Angle0:0°8:8°G□□□:光纤间距1:1mm2:2mmS○：Fiber Array Structure12:1x222:2x265:6x556:5x6Material▽： Q: QuartzS:SiO2R:半圆管F:方型管☆ ：Pigtail Length05:0.5m1：1m10:10m△：Loose TubeB:Bare Fiber9:900um Loose Tube20:2mm Loose Tube30: 2mm Loose TubeXX: Fiber and Connector TypeSA=SMF-28E+ FC/APCSP=SMF-28E+ FC/PCPA=PM Fiber+ FC/APCPP=PM Fiber+ FC/PC咨询电话：021-64149583、021-56461550、021-65061775公司邮箱：info@microphotons.com公司网址：http://www.ideal-photonics.com公司地址：上海市杨浦区黄兴路2077号蓝天大厦21F

蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器，是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器，在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程，采用了先进的线性伺服电机技术，在X，Y方向实现高达500nm的分辨率，在Z轴方向实现250nm分辨率，并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统，具有方便用户操作的软件，可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备，除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板，位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料：DNA，蛋白质，抗体，小分子，肽核酸（PNA），碳水化合物，以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效，经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号：纳米打印机LM60有384个微孔，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片；纳米打印机LM210有384个微孔，最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。General SpecificationsDimensions (L x P x H, cm)LM60 (110 x 85 x 56 cm)LM120 (164 x 85 x 56 cm)WeightLM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg)Positional resolution (X,Y-Axis)500 nanometersPrinting speed48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technologyPrinting technologyArrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheadsNumber of pinsConfigurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or1 to 192 at 2.25mmSpot diameter65 microns or larger to meet all applicationsMinimum spot spacing50 micronsPre-printingUser definableWash/dry stationUltrasonic with 2 wash positions and a dry stationNumber of microplatesThree standard 384-well sample microplates, customizable on the worktableMicroplates to be printed into :- 15 96-wells microplates (LM60)- 45 96-wells microplates (LM120)Number of slides60 glass slide substrates (LM60)120 glass slide substrates (LM120)Microplate coolingCool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applicationsEnvironment controlFully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity controlNanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracyThe X, Y - axis positional resolution is 500 nm.The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission.NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology.NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed.Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology.The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set :Z Profile: High speedZ Extend: Printing speedZ Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run.The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation and microbial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.

正交阵列，2μm孔 - 2μm间隔， 300M 镍网

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正交阵列，1.2μm孔 - 1.3μm间隔， 200M 铜网

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