卷对卷柔性薄膜沉积设备

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

柔性材料与器件测试系统--薄膜卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。二、产品特性 大曲率、大面积样品 高稳定性 卷轴可选择(5-100mm) 可扩展性（光学、电学性能测试辅助系统） 三、适用范围 可穿戴电子、柔性电子、可拉伸材料材料与器件的拉伸测试。 四、运行方式 五、产品参数 项目参数样品厚度(mm)0-3样品宽度(mm)0-200缠绕数量（圈）3扭转速度（°）0-1080扭转力(N.m)5.0辊直径(mm)5-100重量(Kg)20 六、产品尺寸

柔性材料与器件测试系统--卷对卷卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 连续卷绕式测试（包含正反转）大曲率、大面积、连续性样品高稳定性（百万次） 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、RFID、可穿戴电子、FPC、柔性印刷电路 等柔性材料与器件的卷绕测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度 (m m)0-3样品宽度(m m)270缠绕数量 (m m)0-15扭转速度( °/s)0-1080扭转力(N.m)5.0重量(Kg)35 六、产品尺寸

柔性材料与器件测试系统--大曲率卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。二、产品特性测试零应力无表面摩擦大曲率、大面积样品（样品尺寸和曲率可调）高稳定性 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、RFID、可穿戴电子、FPC、柔性印刷电路等柔性材料与器件的弯曲测试。四、运行方式 五、产品参数 项目参数样品厚度(mm)0-3样品宽度(mm)200样品长度(mm)270扭转速度(mm/s)0-60扭转力(N.m)5.0卷曲半径 (mm)2.5-50重复次数（次）10000000重量(Kg)20 六、产品尺寸

卷对卷式LB膜分析仪 请通过我们的联系我们！卷对卷式LB膜分析仪仪器用于在较长的柔性基底（如保鲜膜式柔性带状基底）上连续沉积单分子薄膜，也可把大尺寸刚性衬底粘接在皮带上进行镀膜，可进行无限多次LB薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积X,Y,Z多种类型的LB薄膜结构。同时具备垂直镀膜与水平镀膜功能。衬底可以是卷式铝箔、卷式PET塑料薄膜等。设备包含镀膜槽，卷对卷样品传动装置，卷对卷转动滑障与水平移动滑障，表面压探头与镀膜头，自动进样装置：注射泵与蠕动泵，控制器，电脑。卷对卷式LB膜分析仪仪器是一种多功能的LB莫分析仪，具有柔性镀膜，刚性镀膜，垂直镀膜，水平镀膜功能。卷对卷式LB膜分析仪液体界面单分子薄膜镀膜仪器可进行无限多次薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积x、y、z型结构的薄膜。卷对卷式LB膜分析仪技术指标：柔性基底镀膜尺寸范围：长度可达3m，宽度可达16.5cm，柔性基底传送速度范围： 0.4625-117 mm/s，调整步阶0.007725 mm/s。镀膜井尺寸：200x180x200 mm (w-d-h)，侵入液体的zui大基片尺寸不小于170x170x170 mm (w-d-h)，兼容常规片状固体基片。表面压传感器：带2个表面压传感器，分别测量镀膜区域与补样区域的表面压值，表面压传感器灵敏度：0.01 mN/m，测量范围：0-80 mN/m。

1 产品概述: 卷绕式溅射设备，也称为卷绕磁控溅射镀膜机，是一种在真空环境下，利用磁控溅射技术将金属、合金、化合物或陶瓷等材料沉积到连续卷绕的柔性基材（如塑料薄膜、金属带等）上的先进镀膜设备。该设备主要由溅射室、卷绕系统、磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。在溅射过程中，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材上，形成所需的薄膜层。2 设备用途：卷绕式溅射设备具有广泛的应用领域，主要包括但不限于以下几个方面：柔性电子：用于在柔性基材上镀制各种介质膜、导电膜等，如ITO透明导电膜，广泛应用于柔性线路板、柔性显示器件等领域。太阳能电池：在金属带上镀制光学多层膜，用于制作薄膜太阳能电池，提高光电转换效率。包装与防伪：在包装材料上镀制防伪膜层，提高产品的防伪性能和美观度。电容器：在电容器电极上镀制金属薄膜，提高电容器的性能。3 设备特点卷绕式溅射设备具有以下几个显著特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对柔性基材的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：磁控溅射技术具有镀膜温度低、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点，能够制备出高质量的薄膜层。镀膜材料范围广：可适用于多种材料的镀膜处理，包括金属、合金、化合物和陶瓷等。 4 技术参数和特点：可根据工艺或生产性选择各种模组。通过任意、追加选择模组，可实现各种用途。在地面高度可以进行设备操作。优秀的氛围分隔性能和成膜工艺的改善，使高速率生产高品位的薄膜成为可能。触摸屏用配线膜、透明导电膜以及透明薄膜等。FPC用电膜

1. 产品概述：卷对卷薄膜溅射系统是一种在连续卷材上进行薄膜溅射沉积的设备。它通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、气体供应系统、加热系统（可选）、冷却系统、控制系统等组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在连续移动的卷材表面，形成均匀的薄膜。 2. 设备原理及应用： 电子行业：用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、薄膜晶体管（TFT）、触摸屏的导电层等；还可用于生产柔性电路板（FPC）的金属线路。 太阳能领域：制备太阳能电池的电极、透明导电薄膜等，有助于提高太阳能电池的光电转换效率。 光学领域：制造光学薄膜，如增透膜、反射膜、滤光膜等，可应用于光学镜片、摄像头镜头、显示器件等。 包装行业：在包装材料上沉积阻隔薄膜，提高材料的阻隔性能，如防潮、防氧、防紫外线等，延长产品的保质期。 本设备主要应用于micro phone的生产制造中，通过在其表面沉积一层高质量的金涂层，提升产品的性能和市场竞争力。综上所述，本装置是一款集高精度、高效率和高可靠性于一体的真空溅射设备，为micro phone的4微米金涂层生产而设计3. 设备特点：真空环境工作环境：设备在高度真空的状态下运行，确保涂层过程中不受外界气体分子和杂质的干扰，从而得到纯净且致密的金膜。真空度要求：通常，溅射过程需要较高的真空度来保证溅射原子的自由飞行路径和减少碰撞，从而提高涂层的均匀性和质量。Sputtering技术溅射原理：利用高能粒子（如氩离子）轰击金靶材，使靶材表面的金原子获得足够的能量而逸出，沉积在处于真空室内的micro phone表面，形成所需的金涂层。涂层厚度控制：通过精确控制溅射时间、靶材与产品的距离、溅射功率等参数，可以确保涂层厚度达到精确的4微米。涂层特性金涂层优点：金具有良好的导电性、耐腐蚀性和稳定性，作为micro phone的涂层材料，可以提高其性能和使用寿命。均匀性：由于产品在真空室内进行自转和公转运动，结合精确的溅射控制技术，可以确保金涂层在整个micro phone表面均匀分布。设备功能自动化控制：设备通常配备先进的自动化控制系统，可以精确控制各个工艺参数，实现涂层的自动化生产。高效生产：优化设计的溅射腔体和高效的溅射源，使得设备具有较高的生产效率，能够满足大规模生产的需求。维护方便：设备结构设计合理，易于维护和保养，降低了维护成本和时间。

1. 产品概述：KaRoll RTR1C 是一种先进的卷对卷薄膜溅射系统，主要用于在柔性基底材料上连续地进行薄膜溅射沉积。它能够将各种金属、合金或化合物材料以精确的厚度和均匀性沉积在卷状的基底上，如聚合物薄膜、金属箔等。该系统通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、镀膜控制系统等部分组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在移动的基底上，从而形成连续的薄膜。 2. 设备应用： 电子领域：可用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、电路等。例如在可折叠手机的屏幕制造中，通过该系统溅射导电薄膜，实现屏幕的导电和信号传输功能。 太阳能领域：用于制备柔性太阳能电池的薄膜电极或光吸收层等。有助于提高太阳能电池的光电转换效率和柔韧性，使其更适用于不同的应用场景，如便携式太阳能充电设备、太阳能屋顶等。 光学领域：可以生产光学薄膜，如增透膜、反射膜等，应用于柔性光学元件、可穿戴光学设备等。比如在智能眼镜的镜片上镀制特定的光学薄膜，改善其光学性能。 包装领域：为一些特殊的包装材料提供功能性的薄膜涂层，如阻隔膜、防静电膜等，提升包装材料的性能和附加值。例如在食品包装中，使用该系统镀制阻隔膜，提高包装对氧气、水分等的阻隔性能，延长食品的保质期。3. 设备特点： 高精度镀膜：具备精确的镀膜控制技术，能够实现薄膜厚度的高精度控制，保证薄膜性能的一致性和稳定性。例如，可将薄膜厚度的误差控制在极小范围内，满足对薄膜厚度精度要求极高的应用场景。 高生产效率：卷对卷的连续生产方式，大大提高了生产效率，能够实现大规模的快速镀膜生产。与传统的间歇式镀膜方式相比，在相同时间内可以处理更多的基底材料，降低生产成本。 良好的膜层均匀性：通过优化的溅射源设计和先进的镀膜工艺，确保在整个基底宽度和长度方向上都能获得均匀的薄膜沉积。这对于需要大面积均匀薄膜的应用非常重要，如大面积的柔性显示屏或太阳能电池板。 适用于多种材料：可以溅射多种不同的材料，包括常见的金属（如铜、铝、银等）、合金以及一些化合物材料，满足不同应用对薄膜材料的需求。能够根据客户的具体要求，选择合适的靶材进行镀膜，提供多样化的薄膜性能。 灵活的工艺参数调节：允许用户根据不同的产品需求，灵活地调整镀膜工艺参数，如溅射功率、沉积速率、基底移动速度等。这使得设备能够适应不同类型的基底材料和薄膜应用，为研发和生产提供了更大的灵活性。 可靠的真空系统：拥有高性能的真空系统，确保在镀膜过程中维持稳定的高真空环境，减少杂质和气体对薄膜质量的影响。可靠的真空系统有助于提高薄膜的纯度和质量，降低薄膜中的缺陷密度。 4. 产品参数（以部分为例）：以下参数仅供参考，实际参数可能因定制化需求和设备型号而有所不同。 基底宽度：常见的基底宽度可能在 100 毫米到 1000 毫米之间，具体取决于设备型号和应用需求。 最大卷径：例如，最大卷径可能达到 500 毫米或更大，以适应不同规模的卷状基底材料。 溅射源数量和类型：可能配备多个溅射源，如直流溅射源、射频溅射源等，数量可能为 2 - 8 个不等，具体根据镀膜工艺和产能要求确定。 镀膜速度：镀膜速度根据不同的材料和工艺要求有所变化，一般在每分钟几米到几十米的范围内。 真空度：能够达到较高的真空度，如 10^-3 帕或更高，以保证溅射过程的顺利进行和薄膜质量。 设备尺寸：设备的外形尺寸根据其设计和产能有所不同，例如长度可能在 3 - 10 米，宽度在 1.5 - 3 米，高度在 2 - 3 米。 电源要求：通常需要三相交流电，电压如 380V，频率 50Hz，整机额定功率根据设备配置而定，可能在 20 - 100kW 之间。

防水卷材低温柔性试验仪是检测仪器，根据中华人民共和国国家标准GB/T328.14-2007建筑防水卷材试验方法，第14部分：沥青卷材—低温柔性，对低温柔性试验装置的要求。防水卷材低温柔性试验仪主机全部采用304材质不锈钢制作，动力源采用永磁低速电机驱动，双动平行排列，可同时作正、反面各五个试样。控制器采用智能温度控制仪、数显时间继电器及相关元器件。控制器和主机相连接部分全部采用航空插头方式连接，该连接方式简单、方便、安全，并且有效的节省了仪器的使用空间。防水卷材低温柔性试验仪是电动数显低温柔性试验仪的改款升级版，仪器采用不锈钢制作，独特的工艺保证了温度控制精度在 ±1℃，降温速度是普通冰柜的几倍，最低温度可达-40℃。测试仪也是采用不锈钢制作，特点：操作简单，工作效率高。仪器功能：1．仪器设有Ф20mm、Ф30mm、 Ф50mm试验用双动辊弯曲轴，可测厚度3，4，5mm的沥青防水卷材的低温柔性。2．数字显示试验温度、时间。3．上下行程限位，传动故障有脱扣保护，不会损坏传动机构。4．试验设置可自动控制温度．时间．计时报警。防水卷材低温柔性试验仪技术指标：1. 功率：1000 ( w) 220 (v) AC2. 试验温度：-20℃；-25℃或自行设定。分辨率0．1℃，精度0．2％。3． 试验样品：厚度3；4；5mm 数量10个（150×25mm）4． 试验速率：360±＜40mm/分钟5． 时间设定：60分钟（1分—99小时可调）6． 90*80*78cm 7． 重量约150kg防水卷材低温柔度仪使用环境要求：1、使用环境温度：15--35℃2、使用环境湿度：小于80%RH

应用：卷对卷ALD薄膜流程－很高的防潮性为了柔性OLED显示，柔性OLED照明， quantum dots, 柔性太阳能电池等等. : Al2O3, TiO2在研究和试制品使用宽度: 600mm特点：最先进的流程KIT为了缩短气周期聚合物薄膜的高阻隔性能可以使用多种物质在ALD系统很容易的控制流程

中图仪器NS系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。NS系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。 产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能NS系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。典型应用部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

卷对卷涂敷设备/镀膜机/涂膜机/涂层机卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用R2R设备可提供：Coating 150mm 和 300宽度可选 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计在工艺中可选配slot die 或 微凹版新刷（micro gravure）slot die小型化可节约材料损失，确认经济化使用hot air干燥, IR Heater, UV 固化, Laminator 等Option可供选择卷对卷涂敷设备（实验型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于卷对卷涂敷设备（实验型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

量产型 薄膜封装用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体（（Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生产的薄膜封装（TFE）.可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷（R2R）封装.在OLED Panel厂产线有广泛应用！主要应用：-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。应用尺寸：370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....

主要应用：-适用于半导体用薄膜（Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO ……）-CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积-晶硅太阳能电池表面钝化层沉积-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、钙钛矿LED、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：-可用于 LTPO TFT IGZO薄膜沉积特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。

FOM sigmaR2R是一种紧凑的卷对卷槽模涂布机，集成了适用于特定涂布程序的工业级组件，具有用户友好的界面。选择烤箱模块和其他预涂层和后涂层附加组件的灵活性和便捷性使FOM sigmaR2R适用于用于研发和工业应用的各种功能材料的槽模涂层。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

FOM sigmaR2R是一种紧凑的卷对卷槽模涂布机，集成了适用于特定涂布程序的工业级组件，具有用户友好的界面。选择烤箱模块和其他预涂层和后涂层附加组件的灵活性和便捷性使FOM sigmaR2R适用于用于研发和工业应用的各种功能材料的槽模涂层。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

1 产品概述: 卷绕式真空蒸镀设备主要由真空系统、蒸发源、基材传送系统、控制系统等部分组成。在真空环境下，通过加热蒸发源（如电阻加热、感应加热、电子束加热等），使金属或氧化物材料蒸发成气态，随后沉积在连续卷绕的基材表面，形成所需的薄膜层。该设备具有高效、连续、自动化程度高等特点，广泛应用于各种材料的表面镀膜处理。2 设备用途：卷绕式真空蒸镀设备的用途广泛，主要包括以下几个方面：包装材料：在塑料薄膜、纸张等包装材料表面蒸镀金属或氧化物薄膜，提高材料的阻隔性、美观性和附加值。例如，在食品包装材料上蒸镀铝膜，形成金属化包装，提高食品的保鲜效果。电容器：在电容器电极上蒸镀金属薄膜，提高电容器的性能。例如，在铝电解电容器中蒸镀铝膜作为阳极，提高电容器的容量和稳定性。磁带：在磁带基材上蒸镀磁性材料，制备录音或录像磁带。光学膜：在光学材料表面蒸镀增透膜、反射膜等，改善材料的光学性能。3 设备特点卷绕式真空蒸镀设备具有以下特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对带状材料的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：在真空环境下进行镀膜处理，避免了外界污染对膜层质量的影响，同时蒸发源的高精度控制也保证了膜层的均匀性和一致性。自动化程度高：设备配备先进的控制系统，实现了对镀膜过程的自动化控制，降低了人工操作难度和劳动强度。 4 技术参数和特点：基板传送采用全新的卷绕控制技术，可根据不同的材料和尺寸实现稳定运行。根据蒸镀的目的，可以选择匹配的蒸发源（感应加热方法，电阻加热方法，EB加热方法）。各种预处理/后处理的机制达到良好的工艺条件。可提供能够在线测量的穿透式膜厚监视仪，涡流式膜厚监视仪，电阻值监视仪等。

1. 产品概述AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量。此外，可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø 4英寸的晶片。2. 设备用途/原理用于下一代功率器件的栅氧化膜和钝化膜。在3D结构上形成均匀的薄膜，如MEMS。激光表面的沉积。碳纳米管的钝化膜。3. 设备特点成膜效率高，通过提供几十毫量的脉冲，减少了原材料的损耗，提高了沉积效率。真空清洁，温度不均匀性小，通过紧贴反应室内壁的内壁加热器，抑制反应室的温度不均匀，可获得清洁的真空。无针孔成膜，由于多种驱体在反应室中没有混合，因此可以防止颗粒，形成无针孔的薄膜。

PLD技术在薄膜制备方面的优势和特点:脉冲激光沉积技术是目前火热薄膜制备技术, 利用PLD技术制备薄膜具有很好的可控性和可设计性, 可通过控制材料成分、激光能量密度、气压、气体、基底材料、沉积角度等, 来实现薄膜的各种功能和结构. 另外, PLD 可以在室温下进行沉积 然而, 目前PLD还有一些技术和工程上的难题需要解决, 例如, PLD会出现相爆炸等效应, 引起大颗粒飞溅, 从而增大薄膜的表面粗糙度, 降低薄膜质量 另外, 大面积均匀沉积也是目前PLD实现大规模工业化生产的一大瓶颈 芬兰Pulsedeon的ColdAb技术基于皮秒, 飞秒短脉冲激光薄膜沉积技术, 可从源头遏制引起薄膜不均匀的微粒及飞溅效应, 且配合独特的设计和功能配置, 从而被证实在制备大面积高质量薄膜方面有优势, 且可实现全自动产业化.凭借这些技术特点, Pulsedeon受邀成为欧盟LISA锂硫电池, PulseLion全固态电池项目中PLD薄膜沉积工艺参与者.PLD制备高性能薄膜拥有很多的优势，总结如下:1）PLD制备的薄膜材料类型非常广泛。由于高能量密度的激光可以烧蚀大多数材料，包括难融材料和特殊材料，并且材料之间还可以组合成复合材料，这又提高了可制备材料体系的丰富度，因此脉冲激光制备的薄膜材料不受材料类型的限制，拥有庞大的材料体系。2）PLD制备的薄膜结构和形貌可控。PLD可以通过控制激光能量密度、背景气压、背景气体种类、基底材料种类、基底温度、沉积倾斜角度等参数实现对产物结构和形貌的控制，实现不同晶体结构、不同疏松度形貌、不同颗粒形状尺寸薄膜的制备，这使得薄膜性能具有很好的可调控性。3）利用PLD的保组分性能够很容易地实现薄膜成分控制，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，有利于制备多元复杂化合物和合金薄膜。4）薄膜生长所需的基底温度相对较低，且与基底结合力强。由于高能量密度的脉冲激光轰击的原子(离子)具有很高的能量，不需要很高的基底温度就可以在基底表面自由迁移，因此与传统方法相比，PLD的薄膜生长温度更低，甚至可以在室温下沉积高质量的薄膜，在不耐高温的柔性基底上沉积薄膜以制备柔性器件。5）沉积效率高。文献中所报道的PLD沉积效率可达10 μm/min以上。欧盟PulseLion全固态锂电电池应用案例：PulseLion项目获得了欧盟地平线及欧盟研究与创新计划的资助, 并联合全欧固态电池行业中知名的15个研究单位及企业, 致力于解决行业技术瓶颈并将第四代全固态电池技术大规模制造产业化 该项目中PLD作为工艺关键一环, 其应用是薄锂金属阳极、高离子导电率固态电解质及隔膜层和缓冲膜等关键技术解决方案均由Pulsedeon公司供应. 除了PLD薄膜沉积工艺外, 其高品质靶材也由Pulsedeon制备供应.欧盟LISA锂硫电池应用案例：欧盟LISA新型固态锂硫电池项目, 致力于解决固态锂硫电池稳定产业化瓶颈, Pulsedeon作为薄膜沉积技术参与者, 提供了从实验级到产业级的PLD相关技术工艺和材料, 其中包括 “集流体及隔膜上多个工艺多层薄膜沉积” “金属锂阳极制备沉积” “陶瓷薄膜沉积层的制备” “固态电解质的制备及优化工艺” “用于R2R PLD中试涂层生产的SSE” “锂硫电池实验级到产业化大面积薄膜沉积制备工艺”等环节.

Kurt J. Lesker Company 的 SPECTROS&trade 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球拥有100多台设备，是一种成熟、坚固和多功能的设计。SPECTROS建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能，这些都是这种创新的设计提供的一些关键优势。® SPECTROS 150与以下技术兼容：1cc 或 10cc LTE 信号源（除热源外，最多 10 个信号源）4 英寸热源（除 LTE 源外，最多 4 个源）TORUS 磁控溅射源（最多 8 个 2“ 或 3” 源）® 电子束蒸发源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）上述技术的组合也可用可根据要求提供定制配置SPECTROS&trade 150 的工艺室提供两种类型的高真空泵：标配 Pfeiffer 790 L/s 涡轮分子泵或可选的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低温泵。SPECTROS 150的任何沉积配置都可以选择这两种泵。Pfeiffer 790 L/s 是总体成本效益、高质量泵送的理想选择，尤其适用于低温和热蒸发。Brook CTI-8F 可用于需要尽可能低真空度的应用，特别是热蒸发和电子束应用。右边的图表显示了配备的 SPECTROS 150 工艺室按泵类型划分的平均预期泵送性能，该工艺室清洁干燥，安装了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺长的 1.5 英寸金属柔性波纹管粗加工线。

卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用mini型R2R设备可提供：Coating 140mm 和 290mm宽度两种.速度：0.1 ~ 5 M/min 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计可通过储存Recipe进行数据管理，对于重现性好的工艺可进行反复实验控制可实现1um自动高度调整多种精密pump可选laminating等多种option可供选择

价格货期电议Europlasma 卷绕式无氟等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 2400上海伯东代理比利时 Europlasma 卷绕式等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 2400, 卷尺寸 2400mm x ?1000mm , 接受客户定制, 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 无氟纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 超薄等离子涂层设备, 可在非织造, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄涂层, 通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard® , 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐等功能, Europlasma 满足消费电子产品, 锂电池隔膜, 医疗用品, 户外运动装备等产品 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生

有机EL，是（Organic Electro-Luminescence：OEL、有机EL）的简称，意思是有机发光的电子版。定义虽然很笼统，但是包含范围非常广，比如有机发光二极管，发光聚合物等等利用物理发光现象的所有有机物的统称。 其原理跟LED大致相同，只不过使用的是具有二极管功能的有机化合物。详细介绍MHL-50有机薄膜热卷压合机 ，尺寸紧凑节约空间的型号，带卷式加热，适合放在手套箱里! 是有机薄膜器件验证应用的好选择。 该设备以其良好的气泡消除对策，对提高试样研发的精度很有帮助。MHL-50是一款紧凑的热辊复合机，可装入250毫米的方形盒子中，可加热至120℃。可在手套箱等特殊环境设备中，用于有机薄膜器件的研发和样件生产。MHL-50有机薄膜热卷压合机特点温度可在50～120℃之间调节。节约空间，尺寸为250(W)×250(D)×180(H)mm附送20mm～40mm内尺寸的样品架。MHL-50有机薄膜热卷压合机规格胶片尺寸：详细情况待讨论决定工作尺寸：20mm～40mm。卷材尺寸：φ30mm、L50mm温度控制范围：样品台和辊子(50～120℃±3℃)平台速度：0～15mm/秒压紧压力：压紧压力可以通过改变三个不同的弹簧来调整。其他：附带小型真空泵设备尺寸：250(W)×250(D)×180(H)mm。电源：100V/AC

产品详情DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台： DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。DENTON 薄膜沉积平台• R & D• 批量生产• 在线生产• 蒸发• 溅射• PE-CVD DENTON 的区别你们的过程就是我们的过程。我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。• 我们的系统规模可以满足您的生产需求• 我们永远相信客户• 全球支持网络 在DENTON，我们关心你的成功• 工厂验收测试• 个性化培训• 远程、实时支持• CE / UL / CSA兼容系统 能溅射电、磁、复合材料。柔性阴极，调整到冲击角也可用。 强大的控制系统可在半手动模式或全自动模式与一个推动自动化，以减少系统停机时间。 Processpro升级提供:1.所有登顿真空产品的一致性控制。2.标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。3.源代码为您的程序，以便您可以自定义您的程序。4.网络功能使资源管理器网络上支持实时、远程支持和升级的节点。 灵活的室大小可容纳多达10英寸的衬底。 多个泵配置多种扩散、低温和涡轮泵配置可用于满足您的预算和工艺。后方或底部安装的泵提供方便的访问服务，根据您的工作场所的需要。典型的应用PE-CVD• 材料研究• 小批处理系统• 3 d对象• 覆盖各种材料 溅射• 材料研究• 产品质量控制和质量保证• 半导体失效分析• CD掌握• 纳米技术• 化合物半导体• oled 蒸发• 材料研究• 离子辅助沉积(IAD)• 医疗设备• 电信• CD掌握• 发射• 保护涂层选项：

柔性材料与器件测试系统--薄膜扭转一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 高可靠性（百万次）样品自适应性 （过程中受拉力相同，无弯折）可扩展性（光学、电学性能测试辅助系统） 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、平面可穿戴产品、柔性印刷电路、扁平电缆等柔性材料与器件的扭转测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度(mm)0-1样品大小(mm2)Max(210* 300)弯曲角度（° )0-90°弯曲力(N)5.0弯曲速度( ° /s)0-1080重复次数（次）10000000重量（Kg)16 六、产品尺寸

FOM nanoRC是开始功能薄膜和器件的可扩展涂层的理想切入点。FOM nanoRC的设计目的是复制在大型卷对卷机器上实现的复杂涂层工艺，同时只需要一小部分成本和物理占地面积。通过利用多年的材料研究和槽模涂层经验，FOM nanoRC为用户提供了一种简单的方法，可以从任何溶液或浆液基前驱体中进行精确，可重复和可扩展的薄膜生产。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

FOM nanoRC是开始功能薄膜和器件的可扩展涂层的理想切入点。FOM nanoRC的设计目的是复制在大型卷对卷机器上实现的复杂涂层工艺，同时只需要一小部分成本和物理占地面积。通过利用多年的材料研究和槽模涂层经验，FOM nanoRC为用户提供了一种简单的方法，可以从任何溶液或浆液基前驱体中进行精确，可重复和可扩展的薄膜生产。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

一、特点：满足GB/T 38001.61-2019 柔性显示器第6-1部分：机械应力试验方法；模块化设计，兼容五类模式（折、弯、扭、拉、卷），11个基础模拟测试动作；可扩展性（力学、光学、电学性能测试辅助系统）；复杂环境（恒温环境、温度循环环境、恒湿环境、光辐射环境、电磁辐射环境、气压循环环境、盐雾环境、霉菌环境、淋雨环境、砂尘环境）下的柔性测试，让产品更接近产业化要求。二、适用范围：石墨烯、导电高分子、水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、透明导电薄膜、光刻胶、反射膜、功能涂层等柔性材料的标准化柔性测试；薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、FPC电极电路、RFID、传感器、固体电容器、柔性触控屏、柔性穿戴器件、柔性拉弹器件、电子皮肤、OLED等柔性器件的标准化柔性测试。三、亮点：模块化设计、让柔性测试标准化；更接近产业化环境。四、技术参数：【温度范围（℃）】：-40℃--+150℃【温度波动度（℃）】：±0.5℃【温度均匀度（℃）】：≤±2.0℃【湿度范围（%RH）】：20%R.H~98%R. ±2.5%RH【湿度波动度（%RH）】：±2.5%RH【湿度均匀度（%RH）】：A）＞75%RH：≤+2,-3%RH，B）＜75%RH：≤±5%RH【升温时间（℃）】：约3~4℃/min空载时（可按需定制，快速温变类试验箱可做5~25℃/min）【降温时间（℃）】：约0.7~1℃/min空载时（可按需定制，快速温变类试验箱可做5~25℃/min）【温变速率】：1℃/min、3℃/min、5℃/min、10℃/min、15℃/min、20℃/min、25℃/min（选购）【冷却方式】：风冷【电源功率】：AC 220V【整机尺寸（mm）】：1285*1242*1500

一、特点：模块化设计，前处理单元（超声清洗）、涂布单位（狭缝涂布、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，基材宽度可达150mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤200mm【基材幅宽】：≤150mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：100mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.4m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：1.5KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm