透射式液晶空间光调制器

求助：学校正写论文，题目是：用于光载无线通信技术的带有窄带滤波器的Mardh-Zehnder调制器研究任务：l 理解Mach-Zeder调制器的工作原理。l 掌握使用OptiwaveFDTD设计Mach-Zeder调制器的方法 l了解Mach-Zeder调制器的制作工艺。大家有资料就多帮忙啦，谢谢啦~~~~

[url=http://www.leadwaytk.com/article/4823.html]MITEQ[/url][font=宋体][font=宋体]调制驱动调制器是种用作衔接计算机和调制解调器的软件系统，它容许计算杋与调制解调器完成通信和数据通讯。[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]调制驱动调制器安装使用是保障计算机可以准确辨别以及与调制解调器完成通讯的关键因素。[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]调制驱动调制器一般用于衔接计算杋和互联网、卫星电视等外部通信系统。[/font][/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]公司创立于[/font][font=Calibri]1969[/font][font=宋体]，是全球射频微波市场领先的制造商，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]以卓越的性能与可靠性，广泛应用于全球航空航天、国防、测试等重要项目。[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]于[/font][font=Calibri]2015[/font][font=宋体]并入美国[/font][font=Calibri]Narda[/font][font=宋体]公司，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]核心技术获得更进一步的提升。目前，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线涵盖：定向耦合器，功分器[/font][font=Calibri]\[/font][font=宋体]合路器，混频器，倍频器，[/font][font=Calibri]3dB[/font][font=宋体]电桥，移相器，振荡器，频率合成器，可编程衰减器，低温放大器，检波对数放大器等。[/font][font=Calibri] [/font][font=宋体]深圳市立维创展科技有限公司，依据加拿大总公司地理优势，针对[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线，无论收购并购如何变化，始终擅长[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线订货渠道和售后服务支持，欢迎与我们的销售代理联络。[/font][font=宋体]详情了解更多[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]请点击：[/font][url=http://www.leadwaytk.com/brand/30.html][font=Calibri]http://www.leadwaytk.com/brand/30.html[/font][/url]

[font=宋体][font=宋体]调制器最基本作用是信号调制功能性。将要视频[/font][font=Calibri]/[/font][font=宋体]数字音频尽量不失帧地调制到载波上，能够满足远距离传输和分配需求。调制器可划分为基带调制和载波调制。[/font][/font][url=https://www.leadwaytk.com/article/4886.html]MITEQ[/url][font=宋体]载波驱动调制器就是将调制信号输送到载波上，方式就是用调制信号来控制载波参数值，使载波的一个参数或者多个参数根据调制信号基本规律改变。[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]公司创立于[/font][font=Calibri]1969[/font][font=宋体]，是全球射频微波市场领先的制造商，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]以卓越的性能与可靠性，广泛应用于全球航空航天、国防、测试等重要项目。[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]于[/font][font=Calibri]2015[/font][font=宋体]并入美国[/font][font=Calibri]Narda[/font][font=宋体]公司，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]核心技术获得更进一步的提升。目前，[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线涵盖：定向耦合器，功分器[/font][font=Calibri]\[/font][font=宋体]合路器，混频器，倍频器，[/font][font=Calibri]3dB[/font][font=宋体]电桥，移相器，振荡器，频率合成器，可编程衰减器，低温放大器，检波对数放大器等。[/font][font=Calibri] [/font][font=宋体]深圳市立维创展科技有限公司，依据加拿大总公司地理优势，针对[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线，无论收购并购如何变化，始终擅长[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]产品线订货渠道和售后服务支持，欢迎与我们的销售代理联络。[/font][font=宋体]详情了解更多[/font][font=Calibri]MITEQ[/font][font=宋体]请点击：[/font][url=http://www.leadwaytk.com/brand/30.html][font=Calibri]http://www.leadwaytk.com/brand/30.html[/font][/url]

固态热调制器（SSM）上使用一根特殊制备的熔融石英调制柱连接一维柱和二维柱，通过电磁阀驱动并利用其良好的弹性在冷热区间来回穿梭，完成调制过程。同时调制柱内特殊涂覆的固定相有助于实现在半导体制冷元件（TEC）正常工作温度下（-50~+80 ˚ C）对低沸点组分的有效补集。针对不同的应用，有不同种类的调制柱，安装在固态热调制器（SSM）上可以对不同沸点范围的化合物进行有效调制。

透射光荧光显徽镜(transmited light fluorescence microscope)可以和暗视野置、干涉装置配合使用。因此目前奥林巴斯显微镜公司仍然出售这类型号的显微镜。但是透射光荧光显微镜的照明光路即激发光束必须通过载物玻片。为了减少激发光线的损失.透射光荧光微镜应该配用石英玻璃载物片。研究工作中大量使用石英载物片和盖玻片是一项昂贵的消耗。因为透射光荧光显微镜的这种缺点，目前愈来愈多的研究工作者欢迎落射光荧光显微镜。经济条件不足的基层研究单位急需使用荧光显微镜时，可以用尼康显微镜配制成简易但仍然很有效的荧光显微镜。例如电影放映机用的碳弧灯或高压汞灯当作光源.自制如所示透光鼓形瓶。瓶内装满5-10%硫酸铜水溶液。该溶液中逐滴加入氢氧化铁水。开始滴加时瓶内出现绵絮状沉淀物.随着铁水的滴加，绵絮状沉淀物愈来愈多。在继续加按水的过程中按水的量达到一定程度时，绵絮状沉淀物开始消融。这时要谨慎地滴加到最后的绵絮状沉淀物消失时停止加铁水。瓶内硫酸铜液由无色变成蓝紫色美丽的溶液.这种溶液可当作激发滤光片完全可以满足荧光显微镜观察的要求.激发光通过标本变成荧光成像光束进入目镜。在目镜上方或目镜体内放置黄色滤光片，以保护观察者的角膜。一般市售照像黄色滤光片可以使用。或者按着本书显微摄影一章中介绍的配方自制黄色滤光片。自制滤光片的方法比起该章介绍的方法还可以简化.例如取一段照像底片不经显影直接定影。通过定影剂将感光胶膜上的澳化银洗掉。胶片变成透明胶膜。将此膜浸泡于上述染液中即可制成滤光片。

透射电子显微镜 TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE 利用电子，一般是利用电子透镜聚焦的电子束，形成放大倍数很高的物体图像的设备。 　 电子显微镜（以下简称电镜）属电子光学仪器。由于电子的德布罗意波波长比光波短几个量级，所以电镜具有高分辨成像的能力。首先发明的是透射电镜，由M.诺尔和E.鲁斯卡于1932年发明并突破了光学显微镜分辨极限。透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影像。通常，透射电子显微镜的分辨率为0.1～0.2nm，放大倍数为几万～百万倍，用于观察超微结构，即小于0.2?m、光学显微镜下无法看清的结构，又称"亚显微结构"。透射电镜 (TEM)　样品必须制成电子能穿透的，厚度为100～2000埃的薄膜。成像方式与光学生物显微镜相似，只是以电子透镜代替玻璃透镜。放大后的电子像在荧光屏上显示出来. 透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况： 吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子较少，像的亮度较暗。早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。 衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力，当出现晶体缺陷时，缺陷部分的衍射能力与完整区域不同，从而使衍射钵的振幅分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布。 相位像：当样品薄至100?以下时，电子可以传过样品，波的振幅变化可以忽略，成像来自于相位的变化。 组件 电子枪：发射电子，由阴极、栅极、阳极组成。阴极管发射的电子通过栅极上的小孔形成射线束，经阳极电压加速后射向聚光镜，起到对电子束加速、加压的作用。 聚光镜：将电子束聚集，可用已控制照明强度和孔径角。 样品室：放置待观察的样品，并装有倾转台，用以改变试样的角度，还有装配加热﹑冷却等设备。 物镜：为放大率很高的短距透镜，作用是放大电子像。物镜是决定透射电子显微镜分辨能力和成像质量的关键。 中间镜：为可变倍的弱透镜，作用是对电子像进行二次放大。通过调节中间镜的电流﹐可选择物体的像或电子衍射图来进行放大。 透射镜：为高倍的强透镜，用来放大中间像后在荧光屏上成像。 此外还有二级真空泵来对样品室抽真空、照相装置用以记录影像。 透射电镜衬度（反差）的来源　 　　TEM衬度的形成,物镜后焦面是起重要作用的部位。电子经样品散射后，相对光轴以同一角度进入物镜的电子在物镜后焦面上聚焦在一个点上。散射角越大，聚焦点离轴越远,如果样品是一个晶体,在后焦面上出现的是一幅衍射图样。与短晶面间距（或者说"高空间频率"）对应的衍射束被聚焦在离轴远处。在后焦面上设有一个光阑。它截取那一部分电子不但对衬度，而且对分辨本领有直接的影响。如果光阑太小，把需要的高空间频率部分截去，那么和细微结构对应的高分辨信息就丢失了（见阿贝成像原理）。 　样品上厚的部分或重元素多的部分对电子散射的几率大。透过这些部分的电子在后焦面上分布在轴外的多。用光阑截去部分散射电子会使"质量厚度"大的部位在像中显得暗。这种衬度可以人为地造成，如生物样品中用重元素染色，在材料表面的复形膜上从一个方向喷镀一层金属，造成阴阳面等。散射吸收(指被光阑挡住)衬度是最早被人们所认识和利用的衬度机制。就表面复型技术而言，它的分辨本领可达几十埃。至于晶体样品的衍衬像和高分辨的点阵像的衬度来源，见点阵像和电子衍衬像。 应用 透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量，必须制备更薄的超薄切片，通常为50～100nm。所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品，通常是挂预处理过的铜网上进行观察。

利用电子，一般是利用电子透镜聚焦的电子束，形成放大倍数很高的物体图像的设备。 电子显微镜（以下简称电镜）属电子光学仪器。由于电子的德布罗意波波长比光波短几个量级，所以电镜具有高分辨成像的能力。首先发明的是透射电镜，由M.诺尔和E.鲁斯卡于1932年发明并突破了光学显微镜分辨极限。透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影像。通常，透射电子显微镜的分辨率为0.1～0.2nm，放大倍数为几万～百万倍，用于观察超微结构，即小于0.2?m、光学显微镜下无法看清的结构，又称"亚显微结构"。透射电镜(TEM)　样品必须制成电子能穿透的，厚度为100～2000埃的薄膜。成像方式与光学生物显微镜相似，只是以电子透镜代替玻璃透镜。放大后的电子像在荧光屏上显示出来. 透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况： 吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子较少，像的亮度较暗。早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。 衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力，当出现晶体缺陷时，缺陷部分的衍射能力与完整区域不同，从而使衍射钵的振幅分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布。 相位像：当样品薄至100?以下时，电子可以传过样品，波的振幅变化可以忽略，成像来自于相位的变化。 组件 电子枪：发射电子，由阴极、栅极、阳极组成。阴极管发射的电子通过栅极上的小孔形成射线束，经阳极电压加速后射向聚光镜，起到对电子束加速、加压的作用。 聚光镜：将电子束聚集，可用已控制照明强度和孔径角。 样品室：放置待观察的样品，并装有倾转台，用以改变试样的角度，还有装配加热﹑冷却等设备。 物镜：为放大率很高的短距透镜，作用是放大电子像。物镜是决定透射电子显微镜分辨能力和成像质量的关键。 中间镜：为可变倍的弱透镜，作用是对电子像进行二次放大。通过调节中间镜的电流﹐可选择物体的像或电子衍射图来进行放大。 透射镜：为高倍的强透镜，用来放大中间像后在荧光屏上成像。 此外还有二级真空泵来对样品室抽真空、照相装置用以记录影像。 透射电镜衬度（反差）的来源　 　　TEM衬度的形成,物镜后焦面是起重要作用的部位。电子经样品散射后，相对光轴以同一角度进入物镜的电子在物镜后焦面上聚焦在一个点上。散射角越大，聚焦点离轴越远,如果样品是一个晶体,在后焦面上出现的是一幅衍射图样。与短晶面间距（或者说"高空间频率"）对应的衍射束被聚焦在离轴远处。在后焦面上设有一个光阑。它截取那一部分电子不但对衬度，而且对分辨本领有直接的影响。如果光阑太小，把需要的高空间频率部分截去，那么和细微结构对应的高分辨信息就丢失了（见阿贝成像原理）。 　样品上厚的部分或重元素多的部分对电子散射的几率大。透过这些部分的电子在后焦面上分布在轴外的多。用光阑截去部分散射电子会使"质量厚度"大的部位在像中显得暗。这种衬度可以人为地造成，如生物样品中用重元素染色，在材料表面的复形膜上从一个方向喷镀一层金属，造成阴阳面等。散射吸收(指被光阑挡住)衬度是最早被人们所认识和利用的衬度机制。就表面复型技术而言，它的分辨本领可达几十埃。至于晶体样品的衍衬像和高分辨的点阵像的衬度来源，见点阵像和电子衍衬像。 应用 透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量，必须制备更薄的超薄切片，通常为50～100nm。所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品，通常是挂预处理过的铜网上进行观察。

样品制备是透射电镜分析中重要的一环，透射样品制备不出来或制备不好，后续的观察与分析就无从谈起。从大方向上讲，透射电镜样品的制备方法已经很明确了，不外乎离子减薄、双喷减薄、捞膜、FIB、复型等。但是，不同的材料又有不同的特点，如适应性、减薄速率、难易程度等。个人的经历和经验是有限的，可众人的智慧是无限的。在这里，我提议大家分享一下各种材料透射样品的制备经验，如各种钢材及铁合金、铜合金、铝合金、镁合金、高温合金、非晶材料、矿物、氧化物、半导体、生物材料，快体材料、界面材料、粉末材料、纤维材料等等。这个小空间若能给广大的透射电镜工作者提供有用的、足够的帮助，岂不是一件善事？本人先来一个小小的“抛砖引玉”。本人在学校里时只做过Beta-Ti合金的透射样品，双喷减薄、离子减薄都做过。做双喷减薄时（上海交大产品），穿孔位置往往不在样品中心，即便是预先凹坑，穿孔也难保证一定在中心。另外，双喷液流速过高时，易导致样品薄区形变，引入位错假象。离子减薄时（国产设备，离子束斑大），我可以将样品预磨至10微米左右，18度大角约4个小时，10度2个小时开孔，6度20分钟抛光，其减薄效果很好，薄区大，且比较均匀。但若样品较厚，因钛合金热导率低，离子减薄易引入位错假象。总体来讲，beta-钛合金透射电镜样品还是比较容易的，

在使用指定的灯箱 LV-LH50PC 时，通过操作位于显微镜左侧的落射／透射选择开关可在落射照明与透射照明之间选择照明光路。每次您推动该开关，照明即切换，同时所选照明的指示器开启。金相显微镜光控制 在将指定的灯箱 LV-LH50PC 用作光源时，用落射／透射选择开关选择的照明光可通过旋转亮度控制手轮进行控制。* 在使用外部光源时，亮度通过外部光源或显微镜上的 ND 滤光片进行控制。金相显微镜开启／关闭灯具 照明可通过亮度控制手轮来开启／关闭。在使用指定灯箱 LV-LH50PC 的情况下，将亮度控制手轮旋转到远侧（逆时针方向）并设置在 OFF 位置时，用落射／透射选择开关选择的卤素灯将关闭。金相显微镜电源指示器 电源指示器的颜色随卤素灯的状态而变化。当卤素灯亮起时，它为绿色。当亮度控制手轮设置在 OFF 位置时，它则为橙色。

紫外可见分光光度计作为化学物质定量分析的常用仪器，广泛应用于科研、生产、国防等各个领域。为了保证仪器测量数值的准确可靠，必须依据JJG178-2007《紫外、可见、近红外分光光度计》检定规程进行检定。然而在使用和检定过程中，常遇到仪器透射比示值发生偏差或检定结果有所不同，对此，笔者从以下三个方面对产生偏差的原因进行分析。一、从仪器和样品在光路上分析分光光度计的基本原理是，溶液中的物质在光的照射激发下，具有选择性吸收现象，可对物质进行定性和定量的分析。它符合朗伯-比耳定律:式中:T——透射比；I——透射光强度；I0——入射光强度；A——吸光度；K——吸收系数；C——溶液的浓度；L——溶液的光径长度。而朗伯-比耳定律应用的条件是:一是必须使用单色辐射光；二是吸收发生在均匀的介质；三是吸收过程中，吸收物质互相不发生作用。在实际工作中，吸光度与浓度之间的线性关系常常发生偏离，其主要因素有以下几点:1.仪器的非单色光影响在紫外可见分光光度计中，使用连续光源和单色器分光，得到的不可能是真正的“单色光”。为了保证足够的光强，分光光度计的狭缝必须保持一定的宽度。因此，由出射狭缝照射到被测物质上的光，并不是理论上要求的单色光，而是一个有限宽度的谱带，称为光谱带宽。来自出射狭缝的光，其光谱带宽大于吸收光谱谱带时，照射在样品上的光中就有非吸收光。随着光谱带宽的增大，吸收光谱的分辨力下降，而偏离朗伯-比耳定律。非吸收光愈强，对测定灵敏度的影响就愈严重，并且随着被测样品浓度的增加，非吸收光的影响增大。当吸收很小时，非吸收光的影响可以忽略不计。2.仪器的非平行光影响当入射光与吸收池的光学面不垂直时，使通过样品的实际光程大于吸收池的厚度。但这种情况对测量影响很小，一般可忽略不计。而此时未通过样品的光在比色架上或样品室内发生反射、散射现象，也会导致偏离朗伯-比耳定律。3.样品的散射影响由于样品的不均匀也会引起对朗伯-比耳定律的偏离。当被测样品中含有悬浮物或胶粒等散射质点时，入射光通过样品就会有一部分光因散射而损失掉，使透射光强度减小，实测吸收光度增大，导致偏离朗伯-比耳定律。4.样品的荧光影响某些物质吸收光以后，会辐射出波长与入射光波长不同的荧光，荧光的存在将导致朗伯-比耳定律失效。5.样品的化学因素在被测样品溶液中，被测组分发生离解、缔合、光化等作用，或与溶剂相互作用，就会使被测组分的吸收曲线明显改变(如吸收峰的形状、位置、强度以及精细结构都会发生变化)，导致偏离朗伯-比耳定律。6.仪器的机械因素仪器生产时比色皿架的安装有微小偏差(不影响正常使用)。仪器比色皿架与比色架底板安装有微小偏移，使光束不能完全透过比色皿射入检测器，而射在比色皿以外部位，造成有效光能的损失，使入射的单色光强度发生变化，从而显示的透射比值偏离了标准值。还有的是仪器光门闭合不良导致漏光，而使透射比值发生偏离。二、从检定所用的标准器上分析检定分光光度计透射比值所用的标准物质，有用于检定可见光区的中性滤光片，以及用于检定紫外光区的标准中性滤光片或标准溶液。1.标准中性滤光片用于检定可见光区的中性滤光片。每片滤光片的证书都给出了可见光区3个波长(通常为440nm、546nm、635nm)及相应光谱带宽下的透射比，其相对不确定度为0.5%，其透射比名义值为10%、20%、30%等。用于检定紫外光区的标准中性滤光片，每片滤光片的证书都给出了紫外光区4个波长(通常为235nm、257nm、313nm、350nm)及相应光谱带宽下的透射比，其相对不确定度为0.5%。滤光片本身的结构原因:以上光谱中性滤光片都是经过长期稳定性考核可作为标准物质使用的，这里要提的是这种标准滤光片其本身结构杂散光、波长误差、样品不均匀等所带来的影响在检定时是不予考虑的，但在引起透射比示值偏差的不确定度分析中是要考虑的因素。另外，标准滤光在加工质量上，因其边缘是由金属外壳包装固定，当外壳出现细微变形(不影响正常检定)，这种情况下的透射比示值就可能脱离实际测量值。同时，当标准滤光片的表面有灰尘或其他脏物时，也直接影响示值准确性，因此在实际工作中对光谱中性滤光片应注意保持清洁。滤光片的方向性问题:有些滤光片是有方向性的，所以检定时应按标准滤光片上所指示的方向放置于比色架中，否则也可能引起偏差。2.标准溶液紫外分光光度标准溶液包括一个空白及一个吸光度(透射比)的标准溶液，GBW(E)130066为K2Cr2O7的溶液。当用液体标准物质作为标准器进行检定时，必须使用标准石英吸收池，其两透光面的垂直距离为(10.00+0.002)mm，且两透光面的平面性和平行性均需严格控制。使用时可用同一吸收池作空白与标准的测量，以便得到溶液的净透射比。如果使用不同的吸收池作空白与标准的测量时，应严格控制吸收池的配套。最好对配套误差进行修正。标准溶液的温度也会影响透射比示值，标准溶液的证书也给出了不同温度下标准溶液的透射比值。而检测室内环境的温度与标准溶液的温度并不完全一致，这一偏差也影响了透射比示值的测量准确性。三、从仪器的样品室及人员操作上分析透射比准确度是指仪器透射比示值与透射比约定真值间的一致程度。透射比重复性是指对仪器透射比示值进行多次测量所得结果之间的一致性。在对透射比示值检定时，除了要按JJG178-2008的要求进行检定外，还应注意:1.有的仪器未达到一定预热时间，会造成光电系统不稳定，透射比值会发生漂移，所以要按说明书的要求，对仪器进行必要的预热。2.有些国产设备中上限位器的作用是由底架的弹珠决定的，即使上面的位置对好了，还要注意弹珠的定位手感，这一点十分重要。尤其是在30%挡，最容易拉过一点点，透射比的偏差是很大的，检测时要给予充分考虑。3.有的仪器由于长时间使用后会使光门组件损坏，使光门的闭合不良，用手轻压盖板，仪器示值会发生明显变化，这会造成透射比值的重复性偏差，此时需对光门组件进行调整方可使用或检定。4.对于有方向性的标准滤光片，检定应按方向把标准滤光片放置于样品室比色架上。四、结束语通过上述对影响分光光度计透射比值偏差的各类原因分析，我们知道透射比示值是分光光度计的一项重要技术指标。我们在检定、检修或使用分光光度计的过程中，当透射比示值发生偏差或超标时，应考虑上述因素的影响，以免作出误判或错误的检测结论。而在对分光光度计透射比偏差的不确定度来源分析中也应视情况考虑上述因素的影响。(选自网络)

请问各位，市场上有基于空间调制干涉仪的傅里叶变换红外光谱仪吗？我看各家公司的产品都是在迈克尔逊干涉仪基础上进行改进的，需要动镜进行扫描，但是空间调制型的如sagnac干涉仪可以避免这种情况，而且体积更小，但是市面上为什么没有看到这类产品呢？

一、分析信号1、扫描电镜扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的相互作用。当一束高能的入射电子轰击物质表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。同时，也可产生电子-空穴对、晶格振动（声子）、电子振荡（等离子体）。原则上讲，利用电子和物质的相互作用，可以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。扫描电子显微镜正是根据上述不同信息产生的机理，采用不同的信息检测器，使选择检测得以实现。如对二次电子、背散射电子的采集，可得到有关物质微观形貌的信息；对X射线的采集，可得到物质化学成分的信息。2、透射电镜根据德布罗意（De Broglie,20世纪法国科学家）提出的运动的微观粒子具有波粒二象性的观点，电子束流也具有波动性，而且电子波的波长比可见光要短得多（例如200千伏加速电压下电子波波长为0.00251纳米），显然，如果用电子束作光源制成的显微镜将具有比光学显微镜高得多的分辨能力。更重要的是，由于电子在电场中会受到电场力运动，以及运动的电子在磁场中会受到洛伦兹力的作用而发生偏转，这使得使用科学手段使电子束聚焦和成像成为可能。二、功能 1、扫描电镜1）扫描电镜追求固体物质高分辨的形貌，形态图像（二次电子探测器SEI)-形貌分析(表面几何形态，形状，尺寸） 2）显示化学成分的空间变化，基于化学成分的相鉴定——化学成分像分布，微区化学成分分析1)用x射线能谱仪或波谱（EDS or WDS）采集特征X射线信号，生成与样品形貌相对应的，元素面分布图或者进行定点化学成分定性定量分析，相鉴定。 2)利用背散射电子(BSE）基于平均原子序数(一般和相对密度相关）反差，生成化学成分相的分布图像；3)利用阴极荧光，基于某些痕量元素（如过渡金属元素，稀土元素等）受电子束激发的光强反差，生成的痕量元素分布图像。4)利用样品电流，基于平均原子序数反差，生成的化学成分相的分布图像，该图像与背散射电子图像亮暗相反。5)利用俄歇电子，对样品物质表面1nm表层进行化学元素分布的定性定理分析。3）在半导体器件（IC)研究中的特殊应用：1）利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究2）利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。3）利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。4）利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构（原子在晶体中的排列方式），晶体取向分布分析，基于晶体结构的相鉴定。2、透射电镜 早期的透射电子显微镜功能主要是观察样品形貌，后来发展到可以通过电子衍射原位分析样品的晶体结构。具有能将形貌和晶体结构原位观察的两个功能是其它结构分析仪器（如光镜和X射线衍射仪）所不具备的。透射电子显微镜增加附件后，其功能可以从原来的样品内部组织形貌观察（TEM）、原位的电子衍射分析（Diff），发展到还可以进行原位的成分分析（能谱仪EDS、特征能量损失谱EELS）、表面形貌观察（二次电子像SED、背散射电子像BED）和透射扫描像（STEM）。结合样品台设计成高温台、低温台和拉伸台，透射电子显微镜还可以在加热状态、低温冷却状态和拉伸状态下观察样品动态的组织结构、成分的变化，使得透射电子显微镜的功能进一步的拓宽。透射电子显微镜功能的拓宽意味着一台仪器在不更换样品的情况下可以进行多种分析，尤其是可以针对同一微区位置进行形貌、晶体结构、成分（价态）的全面分析。三、 衬度原理1、扫描电镜1）质厚衬度质厚衬度是非晶体样品衬度的主要来源。样品不同微区存在原子序数和厚度的差异形成的。来源于电子的非相干散射，Z越高，产生散射的比例越大；d增加，将发生更多的散射。不同微区Z和d的差异，使进入物镜光阑并聚焦于像平面的散射电子I有差别，形成像的衬度。Z较高、样品较厚区域在屏上显示为较暗区域。图像上的衬度变化反映了样品相应区域的原子序数和厚度的变化。质厚衬度受物镜光阑孔径和加速V的影响。选择大孔径（较多散射电子参与成像），图像亮度增加，散射与非散射区域间的衬度降低。选择低电压（较多电子散射到光阑孔径外），衬度提高，亮度降低。支持膜法和萃取复型，质厚衬度图像比较直观。 2）衍射衬度衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布拉格反射条件不同和结构振幅的差异。例如电压一定时，入射束强度是一定的，假为L，衍射束强度为ID。在忽略吸收的情况下，透射束为L-ID。这样如果只让透射束通过物镜光阑成像，那么就会由于样品中各晶面或强衍射或弱衍射或不衍射，导致透射束相应强度的变化，从而在荧光屏上形成衬度。形成衬度的过程中，起决定作用的是晶体对电子束的衍射。2、透射电镜晶体结构可以通过高分辨率透射电子显微镜来研究，这种技术也被称为相衬显微技术。当使用场发射电子源的时候，观测图像通过由电子与样品相互作用导致的电子波相位的差别重构得出。然而由于图像还依赖于射在屏幕上的电子的数量，对相衬图像的识别更加复杂。非晶样品透射电子显微图象衬度是由于样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的，即质量厚度衬度（质量厚度定义为试样下表面单位面积以上柱体中的质量），也叫质厚衬度。质厚衬度适用于对复型膜试样电子图象作出解释。质量厚度数值较大的，对电子的吸收散射作用强，使电子散射到光栏以外的要多，对应较安的衬度。质量厚度数值小的，对应较亮的衬度。四、对样品要求1、扫描电镜SEM制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度极小的薄层来说，造成的误差更大

西安交通大学电信学院国际电介质中心透射电镜实验室是正在建设的世界一流电镜实验室，负责人为“千人计划”学者贾春林教授。实验室所配置的透射电镜有一台FEI Titan G2物镜球差校正电镜，一台JEOL ARM200F聚光镜球差校正电镜，以及一台JEOL2100常规电镜，另外扫描电镜有FEI Helios600i FIB，FEI Quanta250FEG ESEM以及全套的透射电镜，扫描电镜样品制备系统。目前我们希望招两名技术人员一名会制备透射电镜样品，以及可以熟练使用Gatan公司样品制备系统；一名会使用扫描电镜，负责两台电镜的日常维护，使用以及学生的培训。本科学位，并有相关经验者优先考虑。请发送简历至tem@mail.xjtu.edu.cn请注意，目前两个岗位是劳务派遣，合同3年一签。

请教各位：树脂胶液（酚醛树脂中分散有纳米材料）的透射电镜样品怎么制备啊？能否直接抹到铜网上观测？一般透射电镜能直接观测液体吗？据说场发射电镜可以观测吧，而且制样相对简单一些，不知道是不是真的？

透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术，它对能否得到好的ＴＥＭ像或衍射谱是至关重要的．投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的，这要求制备出对电子束＂透明＂的样品，并要求保持高的分辨率和不失真．　　电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压，样品的厚度以及物质的原子序数．一般来说，加速电压愈高，原子序数愈低，电子束可穿透的样品厚度就愈大．对于１００～２００ＫＶ的透射电镜，要求样品的厚度为５０～１００ｎｍ，做透射电镜高分辨率，样品厚度要求约１５ｎｍ（越薄越好）．　　透射电镜样品可分为：粉末样品，薄膜样品，金属试样的表面复型．不同的样品有不同的制备手段，下面分别介绍各种样品的制备．　　（１）粉末样品　　因为透射电镜样品的厚度一般要求在１００ｎｍ以下，如果样品厚于１００ｎｍ，则先要用研钵把样品的尺寸磨到１００ｎｍ以下，然后将粉末样品溶解在无水乙醇中，用超声分散的方法将样品尽量分散，然后用支持网捞起即可．　　（２）薄膜样品　　绝大多数的ＴＥＭ样品是薄膜样品，薄膜样品可做静态观察，如金相组织；析出相形态；分布，结构及与基体取向关系，错位类型，分布，密度等；也可以做动态原位观察，如相变，形变，位错运动及其相互作用．制备薄膜样品分四个步骤：　　ａ将样品切成薄片（厚度１００～２００微米），对韧性材料（如金属），用线锯将样品割成小于２００微米的薄片；对脆性材料（如Ｓｉ，ＧａＡｓ，ＮａＣｌ，ＭｇＯ）可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割，或用超薄切片法直接切割．　　ｂ切割成φ３ｍｍ的圆片　　用超声钻或ｐｕｎｃｈｅｒ将φ３ｍｍ薄圆片从材料薄片上切下来．　　ｃ预减薄　　使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至１０μｍ厚．用研磨机磨（或使用砂纸），可磨至几十μｍ．　　ｄ终减薄　　对于导电的样品如金属，采用电解抛光减薄，这方法速度快，没有机械损伤，但可能改变样品表面的电子状态，使用的化学试剂可能对身体有害．　　对非导电的样品如陶瓷，采用离子减薄，用离子轰击样品表面，使样品材料溅射出来，以达到减薄的目的．离子减薄要调整电压，角度，选用适合的参数，选得好，减薄速度快．离子减薄会产生热，使样品温度升至１００～３００度，故最好用液氮冷却样品．样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的，否则材料会发生相变，样品冷却还可以减少污染和表面损伤．离子减薄是一种普适的减薄方法，可用于陶瓷，复合物，半导体，合金，界面样品，甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄（把他们用树脂拌合后，装入φ３ｍｍ金属管，切片后，再离子减薄）．也可以聚集离子术（ＦＩＢ）对指定区域做离子减薄，但ＦＩＢ很贵．　　对于软的生物和高分子样品，可用超薄切片方法将样品切成小于１００ｎｍ的薄膜．这种技术的特点是样品不会改变，缺点是会引进形变．　　（３）金属试样的表面复型　　即把准备观察的试样的表面形貌（表面显微组织浮凸）用适宜的非晶薄膜复制下来，然后对这个复制膜（叫做复型）进行透射电镜观察与分析．复型适用于金相组织，断口形貌，形变条纹，磨损表面，第二相形态及分布，萃取和结构分析等．　　制备复型的材料本身必须是＂无结构＂的，即要求复型材料在高倍成像时也不显示其本身的任何结构细节，这样就不致干扰被复制表面的形貌观察和分析．常用的复型材料有塑料，真空蒸发沉积炭膜（均为非晶态物质）　．　　常用的复型有：ａ塑料一级复型，分辨率为１０～２０ｎｍ；ｂ炭一级复型，分辨率２ｎｍ，ｃ塑料－炭二级复型，分辨率１０～２０ｎｍ；ｄ萃取复型，可以把要分析的粒子从基体中提取出来，这种分析时不会受到基体的干扰．　　除萃取复型外，其余复型只不过是试样表面的一个复制品，只能提供有关表面形貌的信息，而不能提供内部组成相，晶体结构，微区化学成分等本质信息，因而用复型做电子显微分析有很大的局限性，目前，除萃取复型外，其他复型用的很少．

透射电子显微镜实验课讲义第一部分：仪器介绍透射电子显微镜用高能电子束作为照明源。利用从样品下表面透出的电子束来成像。原理上及结构上与透射式光学显微镜一样。世界上第一台透射电子显微镜是德国人鲁斯卡1936年发明的。他与发明扫描隧道显微镜的一起获得1982 年的诺贝尔物理奖。目前透射电子显微镜的生产厂家有日本的日立（HITACHI）、日本电子（JEOL）、美国的（FEI）、德国的（LEO）。我校的这台是1985年购买的。型号是日本电子的JEM—2000EX。透射电子显微镜主要由电子光学系统、真空系统、电源系统（包括高压系统）、附件系统组成。电子光学系统一般就是指镜筒。从上到下依次为电子枪、聚光镜、样品台、物镜、中间镜、投影镜、荧光屏、照相室。电子枪的功能是产生高速电子。它由灯丝（阴极，处于负高压，即加速电压）、栅极（电位比灯丝还要负几百到几千伏，数值可调）、阳极（处于0电位）组成。根据加速电压的数值，透射电子显微镜一般分为低压电镜（小于120KV）、中压电镜（200~300KV）、高压电镜（大于400KV）。低压电镜主要用在医学和生物学方面。后面的两种主要用在材料科学上。电子枪发出的电子束的亮度和尺寸与灯丝的类型有关。从钨灯丝到六硼化镧单晶灯丝再到场发射电子枪，电子束的质量越来越好。但价格及使用成本也同样越来越高。由电子枪发出的电子束接着进入聚光镜系统。它包括两个聚光镜和一个活动聚光镜光阑。它们的作用是调节即将照到样品上的电子束的尺寸和亮度。聚光镜是电磁透镜。简单地讲，它的构造就是在铁筒外面绕线圈，线圈中有电流。于是在筒内产生磁场。该磁场能使电子偏转并聚焦，好比光学中的凸透镜。光阑是在中央有小孔的钼片。根据小孔的直径（100微米、200微米、400微米），从小到大依次称为小号、中号、大号。现代高性能电镜可以将电子束斑最小聚到小于1nm。电镜的样品台是用来放置装有样品的样品杆的。为了不破坏镜筒的真空。样品台都带有进样间。它有内门和外门。装样品杆时，内门关闭，外门开。样品杆到一定位置时，关外门。对样品间抽气。待样品间抽完气，再开内门，把样品杆送到底。电镜的样品台和样品杆是非常精密的装置。因为电镜的放大倍数很高，外界对样品杆的微小干扰反映到荧光屏上就会很可观。所以使用时要非常小心。电镜的样品杆有单倾和双倾之分。所谓单倾是指样品只能绕X轴旋转，双倾则既可绕X轴又可绕Y轴旋转。双倾杆是非常有用的东西，因为它可以让你从不同的方向观察样品。另外还有加热台、低温台、拉伸台。关于透射电子显微镜样品的制备见下一章。现在假设样品已制备好并已装入电镜中。从聚光镜来的电子束打到样品上。与样品发生相互作用。如果样品薄到一定程度，电子就可以透过样品。透过去的电子分成两类。一类是继续按照原来的方向前进，能量几乎没有改变。我们称之为直进电子。另一类是方向偏离原来的方向。我们称之为散射电子。这些电子中有的能量有比较大的改变。我们称之为非弹性散射电子。有的电子能量几乎没有改变。我们称之为弹性散射电子。所有这些电子通过物镜后在物镜的后焦面上会形成一种特殊的图象。我们称之为夫琅禾费衍射花样。如果被电子束照射的区域是非晶，则花样的特点是中央亮斑加从中央到外围越来越暗的光晕。如果被电子束照射的区域是一块单晶，则花样的特点是中中央亮斑加周围其它离散分布、强弱不等的衍射斑。如果被电子束照射的区域包括许多单晶，则花样的特点是中央亮斑加周围半径不等的一圈圈亮环。至于为什么会形成这些花样。可以从入射电子的散射来解释。对非晶样品，从不同原子上散射出的同一方向上的电子波之间没有固定的相位差，且随着散射角的增大，散射的电子数量少，能量损失大，它们通过物镜后，直进的电子形成中央亮斑。散射的电子形成周围的光晕。越往外，光晕越来越弱。对晶体样品，由于原子排列的规律性，不同原子的同一方向的散射波之间存在固定的相位差。某些方向上相位差为2π的整数倍。根据波的理论，在这些方向上的散射波会发生加强干涉。我们称之为衍射。同一方向的衍射波在物镜后焦面上形成一个亮斑。我们称之为衍射斑。直进的电子形成中央的透射斑。整个后焦面的图象称之为电子衍射花样。至于哪些方向上会出现衍射波，这可由布拉格公式决定。详细内容见教材。由于电子衍射花样与晶体的结构之间存在对应关系，如果我们记录下衍射花样，就可以对晶体结构进行分析。这正是透射电子显微镜能够进行晶体结构分析的原因之一。对多晶样品，每个单晶形成自己的衍射花样。由于各个单晶的取向不同，每个单晶上相同指数的衍射波出现在以入射电子方向为中心线的圆锥上，它们通过物镜后形成衍射圈。通过分析这些衍射圈的半径和亮度，也可以对多晶样品进行结构分析。把透射电镜的工作方式切换到衍射模式，则在物镜后焦面上形成的花样在荧光屏上可以观察到，也可以用底片或相机记录下来。仪器在物镜的后焦面位置有一个活动光阑。我们称之为物镜光阑。它是上面开有不同直径小孔的钼皮。小孔的直径从小到大依次是50微米、100微米、200微米。这个光阑的作用是控制到物镜像平面参与成像的电子束。我们可以不插入物镜光阑，让所有电子束到像平面成像。也可以插入光阑，让一束或多束电子到像平面成像。这里就涉及到透射电子显微镜的两种成像模式。只让一束电子通过物镜后焦面进而到像平面成像的模式称为衍射衬度（又称振幅衬度）模式。让一束以上通过物镜后焦面进而到像平面成像的模式称为高分辨模式（也称相位模式）。在衍射衬度模式中，如果让透射束到像平面成像，则称为明场像。如果让衍射束到像平面成像，则称为暗场像。对非晶样品，由于没有衍射束，所以一般也只有明场像之说。对晶体样品，不但有暗场，根据光路的不同，还有中心暗场与弱束暗场之分。中心暗场是让强衍射束通过。弱束暗场是让弱衍射束通过。通常观察样品的形貌、颗粒大小、组织结构、晶体缺陷等采用衍射衬度模式。如果需要观察晶体的原子排列特征，如晶格像、原子结构像等，就要采用高分辨模式。在衍射衬度模式中，像平面上图象的衬度来源于两个方面。一是质量、厚度因素；一是衍射因素。所谓质量因素，是指由于样品的不同部位的密度不同（其它都相同），同样强度的电子束打到该样品后，密度高的区域透过去的直进电子束弱于密度低的区域。于是到达荧光屏上的效果是密度高的区域暗，密度低的区域亮。这就形成了衬度。所谓厚度因素，是指由于样品的不同部位的厚度不同（其它都相同），同样强度的电子束打到该样品后，厚区域透过去的直进电子束弱于薄的区域。于是到达荧光屏上的效果是厚区暗，薄区亮。这也形成了衬度。所谓衍射因素，是指由于样品上不同的部位产生电子衍射的情况不同（其它都相同），同样强度的电子束打到该样品后，产生强衍射的区域透过去的直进电子束弱于产生弱衍射的区域。于是到达荧光屏上时，产生强衍射的区域暗，弱衍射的区域亮（明场像）。利用衍射因素，加上电子衍射花样，可以对材料中的许多内容进行研究，如晶界、位错、层错、孪晶、相界、反相畴界、析出相、取向关系等。

1、透光率(%T)转化为吸光度：吸光度=2-log(%T)2、常用吸光度(A)表示物质对光的吸收程度，其定义为: A=lg(1/T)=lg(I0/It) 则A值越大，表明物质对光吸收越强。T及A都是表示物质对光吸收程度的一种量度，透射比常以百分率表示，称为百分透射比，T％；吸光度A为一个无因次的量，两者可通过上式互相换算。 标准滤光片的透光率转化为吸光度的计算方法如1，但是在以前化学分析的课本中学到的吸光度与透射比的转化方式如2，我想问的是透光率与透射比不是同一个概念吗？怎么计算方法会不一样，已经被弄晕了，希望大家能够多多指教。

最近发现用TU-1800SPC在800-1100nm做近红外透射分析很好用。只要对样品室稍加改动，就可以测定固体样品的近红外透射光谱。这类仪器价格非常低，且又有紫外-可见光谱的功能。希望有这方面经验和兴趣的朋友一起交流交流，提高仪器使用的效率。

请问您知道用于全二维GCXGC-MS的固态热调制器（Solid State Modulator）吗？效果任何？有什么优点？

某人误将参比溶液的透射比调至98%,而不是100%, 在此条件下测得有色溶液的透射比为36%,则该有色溶液的正确透射比应为？

《计量技术》2011年第三期发表王崇华、王文光老师如下文章，很想学习一下，可惜我们所里没有该杂志，恳请有该杂志的版友扫个描上传一个。谢谢！紫外光区透射比中性标准滤光片的研制王崇华 王文光（哈尔滨白光光电技术研究所，哈尔滨 150036）　【摘 要】： 研制一种紫外光区透射比标准滤光片，在全国不同地域的不同使用条件下，经许多老用户多年试用证明，滤光片克服了在不同高端仪器上测量结果不尽相同的技术上的难关。可以作为执行国家规程《JJG 178—2007紫外-可见-近红外分光光度计》的标准器。

如题分光光度计可以测试薄膜反射率和透射率吗？要光谱反射和透射的，其中透射需要可以测试漫透射材料，求推荐仪器，波长范围为400到1100

某同学进行吸光光度分析时，误将参比溶液调至90%而不是100%，在此条件下，测得有色溶液的透射比为35%，该有色溶液的正确透射比是多少？A 36.0% B. 34.5% C.38.9% D. 32.1%答案是C，请问这是怎么算出来的？

总结了一下透射电镜目前的液氮制冷Si（Li）晶体的能谱仪存在的不足，如下：1.需要消耗液氮，每周两次，透射的能谱位置较高，添加液氮非常不方便。2.由于透射能谱大都水平安装，大家都知道能谱加满液氮重量非常大，因此能谱底座需要支架支撑。3.Si（Li）探测器对于输入信号有严格要求，信号强了一般10000cps，快门会自动关闭，因此做透射电镜能谱的时候需要寻找薄区，套光阑，往往做一个样需要话很长的时间去调整测试条件。4.快门装置易损坏，不是很稳定。5.死时间，透射电镜一般信号都很强在能谱分析的时候会死时间很大效率低。6.对于高分辨电镜，液氮灌里的极小的冰块也会产生很大的噪音，造成图象震颤。7.分辨率，Si（Li）的分辨率一般在1k~3kcps的低输入计数下测量，分辨率标准是138ev,好一点的晶体可以达到133的标准。如果能有一款电制冷的SDD透射电镜能谱，那好处是显而易见的，如下：1.无需液氮消耗，无需任何消耗品，当然电是需要的2.电制冷的SDD探测器仅2.5公斤左右，小巧，美观，无需支架，不会造成镜筒倾斜。3.最大的好处是SDD电制冷能允许高达700，000cps的输入计数，因此在做能谱分析的时候无需苦苦寻找适合分析的薄区。4.因为允许700000cps的输入计数，因此无需快门自动保护，减少了易损的机械部件，当然也就更稳定了。5.由于采用SDD晶体加上专门定做的高速信号处理器，死时间大大减少，效率提高很多。6.无需任何冷媒和机械制冷装置，因此不会产生震动，非常适合高分辨电镜。7.分辨率，SDD电制冷透射能谱的分辨率保持在133ev以内，测试条件是150,000cps以内的任何计数下。综上，如果价格相差不是特别悬殊的情况下，您还会选择液氮制冷的能谱吗？

大家好，我是刚刚接触Tecnai G2透射电镜的新手，想问一下一般的光路调解步骤，包括电子束调整，合轴及消象散之类的调解。现在我觉得我光路没调好，只能在低倍下观察，一旦转换到高倍就看不清了，调焦距时，物相好像在一个哈哈镜的成像，另外就是放大倍数增大，光斑会移动，甚至移动到屏幕外边，找不到光斑。请高手指点，谢谢！

到目前为止，投影机主要通过三种显示技术实现，即CRT投影技术、LCD投影技术以及近些年发展起来的DLP投影技术。1、CRT是英文Cathode Ray Tube的缩写，译作阴极射线管。作为成像器件，它是实现最早、应用最为广泛的一种显示技术。这种投影机可把输入信号源分解成R（红）、G（绿）B（蓝）三个CRT管的荧光屏上，荧光粉在高压作用下发光系统放大、会聚、在大屏幕上显示出彩色图像。光学系统与RT管组成投影管，通常所说的三枪投影机就是由三个投影管组成的投影机，由于使用内光源，也叫主动式投影方式。CRT技术成熟，显示的图像色彩丰富，还原性好，具有丰富的几何失真调整能力；但其重要技术指标图像分辨率与亮度相互制约，直接影响CRT投影机的亮度值，到目前为止，其亮度值始终徘徊在300Lm以下。另外CRT投影机操作复杂，特别是会聚调整繁琐，机身体积大，只适合安装于环境光较弱、相对固定的场所，不宜搬动。2、LCD是Liquid Crystal Device的英文缩写。LCD投影机分为液晶板和液晶光阀两种。液晶是介于液体和固体之间的物质，本身不发光，工作性质受温度影响很大，其工作温度为-55℃~+77℃。投影机利用液晶的光电效应，即液晶分子的排列在电场作用下发生变化，影响其液晶单元的透光率或反射率，从机时影响它的光学性质，产生具有不同灰度层次及颜色的图像。下面分别说明两种LCD投影机的原理。A、液晶光阀投影机它采用CRT管和液晶光阀作为成像器件，是CRT投影机与液晶与光阀相结合的产物。为了解决图像分辨率与亮度间的矛盾，它采用外光源，也叫被动式投影方式。一般的光阀主要由三部分组成：光电转换器、镜子、光调制器，它是一种可控开关。通过CRT输出的光信号照射到光电转换器上，将光信号转换为持续变化的电信号；外光源产生一束强光，投射到光阀上，由内部的镜子反射，能过光调制器，改变其光学特性，紧随光阀的偏振滤光片，将滤去其它方向的光，而只允许与其光学缝隙方向一致的光通过，这个光与CRT信号相复合，投射到屏幕上。它是目前为止亮度、分辨率最高的投影机，亮度可达6000Lm，分辨率为2500×2000，适用于环境光较强，观众较多的场合，如超大规模的指挥中心、会议中心及大型娱乐场所，但其价格高，体积大，光阀不易维修。主要品牌有：休斯-JVC、Ampro等。B、液晶板投影机它的成像器件是液晶板，也是一种被动式的投影方式。利用外光源金属卤素灯或UHP（冷光源），若是三块LCD板设计的则把强光通过分光镜形成RGB三束光，分别透射过RGB三色液晶板；信号源经过模数转换，调制加到液晶板上，控制液晶单元的开启、闭合，从而控制光路的通过断，再经合光棱镜合光，由光学镜头放大，显示在大屏幕上。目前市场上常见的液晶投影机比较流行单片设计（LCD单板，光线不用分离），这种投影机体积小，重量轻，操作、携带极其方便，价格也比较低廉。但其光源寿命短，色彩不很均匀，分辨率较低，最高分辨率为1024×768，多用于临时演示或小型会议。这种投影机虽然也实现了数字化调制信号，但液晶本身的物理特性，决定了它的响应速度慢，随着时间的推移，性能有所下降。3、DLP是英文Digital Light Processor的缩写，译作数字光处理器。这一新的投影技术的诞生，使我们在拥有捕捉、接收、存储数字信息的能力后，终于实现了数字信息显示。DLP技术是显示领域划时代的革命，正如CD在音频领域产生的巨大影响一样，DLP将为视频投影显示翻开新的一页。它以DMD（Digital Micormirror Device）数字微反射器作为光阀成像器件DLP投影机的技术关键点如下：首先是数字优势。数字技术的采用，使图像灰度等级达256-1024级，色彩达2563-10243种，图像噪声消失，画面质量稳定，精确的数字图像可不断再现，而且历久弥新。其次是反射优势。反射式DMD器件的应用，使成像器件的总光效率达60%以上，对比度和亮度的均匀性都非常出色。在DMD块上，每一个像素的面积为16μm×16μm，间隔为1μm。根据所用DMD的片数，DLP投影机可分为：单片机、两片机、三片机。DLP投影机清晰度高、画面均匀，色彩锐利，三片机亮度可达1000lm以上，它抛弃了传统意义上的会聚，可随意变焦，调整十分便利；只是分辨率不高，不经压缩分辨率为800×600（有些机型的最新产品的分辨率已经达到1280×1024）。但由于是新技术，维修的难度及费用并不低。

新手求助，我想用lamda 950测YAG晶体镀膜在1000-1200nm波段的透射率，但测量几次下来在1100nm波段以上透射率一直是负的（正常应该是比0稍大一点），不知道是什么原因。我先说一下我的测量流程（仪器属于借用，仪器所有者也对950一知半解，另外他们买950是用来测溶液的，无法提供更多帮助）：最开始的时候我是在他们指导下测的，设置好参数，当时根本不知道两条光路是有区别的，一直认为只用外面的光路就行。光路上什么都不放，测了一遍空白，再重新走一遍，测的一条直线，然后外侧样品光路放上晶体，测到一条曲线。第二次测得时候，我在外侧样品光路的出光孔与样品位置之间放一块光阑，因为我的晶体尺寸是3*3的，远远小于光路的截面积，但我不确定是否要放，在那之后我都是会在光路中准备一个圆孔光阑的。第三次的时候那边实验室另一个老师又跟我讲了一遍流程，增加了对测空白的认识，认识到里面的光路是参考光路，原理上就是要两条光路对比的。所以我在里面的参考光路也加了一块光阑，还准备了未镀膜的YAG晶体作为参考。我放完两块光阑后测了一次空白，然后在参考光路上放未镀膜的YAG晶体，样品光路上放镀膜的YAG晶体，测得一条曲线。第四次的时候，我在放完光阑后，两边各方一块未镀膜的YAG晶体测量一遍空白，然后样品光路替换成镀膜的YAG晶体，测的曲线。最近我上网查lamda950的操作流程，看到还有一个"autozero"背景校准步骤，但也有人说调零是针对某一特定波长来说的，整的我也蒙了。请各位大神帮我看看我的测量步骤有什么不对的地方。