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真空磁控离子溅射镀膜仪

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真空磁控离子溅射镀膜仪相关的耗材

  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 真空镀膜陶瓷垫
    真空镀膜陶瓷/氧化铝陶瓷/精密陶瓷垫片/带孔陶瓷垫19.5×10×5孔×5厚3.0氧化铝陶瓷Al203作为应用最广泛的先进陶瓷材料,氧化铝陶瓷具有优异的电绝缘性、耐腐蚀性、耐磨损性和良好的机械性能,被广泛应用于电子医疗行业及机械工业零件等。材料性能表:氧化铝(A-95)氧化铝(A-99)密度:≥3.63 g/cm3≥3.9 g/cm3颜色:白色象牙白导热率:18 W/m..K27 W/m..K抗弯强度:≥280 Mpa≥360 Mpa体电阻率:>10∧14 Ω.cm>10∧14 Ω.cm热膨胀系数:7.2 (10-6/℃)8(10-6/℃)最高使用温度:1200℃1200℃0.1:材料解决方案电绝缘,热膨胀,硬度,导热系数等。对于任何其他要求,我们建议将材料与加工各种材料的经验相匹配。0.2:支持产品开发从提供样品到批量生产,我们将为您提供服务,我们还可以提供有关设计,交货日期的建议,以使客户的产品更好。0.3:快速交货我们内部拥有各种各样的材料和工具,这使得我们能够快速加工并交付给您。0.4:质量保证XMCERA的技能是通过严格的质量保证来控制和建立的,基于ISO9001:2015,我们承诺提供满足客户需求的产品。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铱靶
    我公司可订做多种靶材,如:金靶(Au),银靶(Ag),铂靶(Pt),镍靶(Ni)等高纯(99.99%)单质金属溅射靶材。主要适用:扫描电镜样品制备(小型离子溅射仪、镀膜机)、真空镀膜等。
  • 铱靶
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  • 金属镀膜反射镜
    美国CVI laser optics 设计和生产紫外到近红外波段的高性能光学器件,主要应用在激光的光束调节和传输方面,在业内有很高的知名度。金属镀膜反射镜:通过复合镀膜能实现在紫外波段到中红外波段的反射率和起保护作用的金属膜层。美国CVI laser optics生产的反射镜有超过350种镜片可供选择;设计入射角为0°或45°,覆盖波段从190nm 到 2000nm 提供金、银、铝等金属镀膜,用于提高反射率、起保护作用等;使用BK7或UVFS材料,能够实现λ/10表面质量的镜片;提供具有高反射率的镀膜镜片,如MaxMirror 和MaxBRlte 能在宽波段内实现大于98%的反射率。若是单面镀膜,会在未镀膜面用箭头指向镀膜面,方便使用。
  • 钨篮(真空镀膜靶材)
    钨篮(Tungsten Wire Basket)金属钨具有高熔点和低蒸汽压的特点,在1650°C时仍具有很好的机械性能;耐腐蚀性也很强。所以,钨是真空镀膜领域使用最为普遍的金属材料之一。 性能参数: Chemical symbol:WAtomic Radius:2.02?Atomic Volume, cm3/mol:9.53Covalent Radius:1.3 ?Crystal Structure: Body centered cubeNumber of Electron (with no charge): 74Atomic Number of Protons:74Number of Neutrons (most common/stable nuclide):110Ionic Radius: 0.62?Cross Section:18.5 barns ± 0.5真空级别钨丝,提供三种钨篮式样:参数:Basket TypeTurnsI.D. mmHeight mmWire Lead cmWire Dia. InchesA9473.50.020B8795.00.020D89144.00.030订购信息:货号产品名称规格73830钨篮Tungsten Wire Basket A50/包73832钨篮Tungsten Wire Basket B50/包73834钨篮Tungsten Wire Basket D50/包
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
  • 光纤镀膜_AR Coating_增透膜_筱晓光子
    UBC实验室专业莱宝镀膜机光纤端面镀膜(低功率)一.关于我们的设备 2008年12月16日加拿大UBC光纤通信实验室的高端真空镀膜设备正式投入试生产使用,满足科研需求的同时,我们也对外承接镀膜的业务。我们专注于光纤端面镀膜,以及中远红外波长晶体镀膜。光纤端面镀膜是我们的擅长,尤其是针对高反膜1550nm光通信光纤镀膜我们的成品率可以达到98%以上,反射率高达99%以上。我们也能够镀一定波段范围内增透膜或者高反膜。目前在国内,我们的典型客户有很多:华为技术有限公司,广州天赋人财有限公司,优脉管业股份有限公司。我们的产品在他们实验的方案系统中性能卓越,得到了客户的广泛认可。我们的镀膜设备分为两种:一种小锅炉:每次镀膜200根左右,另一种镀膜炉为大锅炉单次镀膜在1800根左右。小锅炉适合于两类客户群体:第一是小项目需求量比较少节约成本。第二类是第一次购买,需要验证镀膜质量的客户。大锅炉适合:小锅炉验证通过,但是需求量很大,希望节约成本的客户,镀膜同样的数量的光纤,大锅炉会节约一半的成本。 二.我们镀膜的产品:二.光谱图二.订购信息
  • PVD高纯溅射靶材
    这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料,完全在德国生产,拥有世界一流的产品性能,非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金属靶材(银靶)
    我公司可订做多种靶材,如:金靶(Au),银靶(Ag),铂靶(Pt),镍靶(Ni)等高纯(99.99%)单质金属溅射靶材。主要适用:扫描电镜样品制备(小型离子溅射仪、镀膜机)、真空镀膜等。
  • 铁靶
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  • 铁靶 91124
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  • 国产金靶
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  • 金属靶材(铂靶)
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  • 铁靶
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