超高粘度沉积喷墨打印系统

油墨中Particle测试结果的准确性影响因素及解决方法[color=black][/color][color=black]AMOLED[/color][color=black]对空气中的水汽很敏感，水汽的存在是影响AMOLED器件寿命的主要因素，因此薄膜封装的产量对于柔性AMOLED的实用化具有现实意义。薄膜封装有两个主要步骤，即有机层沉积和无机层沉积。薄膜保护层生长中使用的沉积技术包括：等离子增强化学汽相沉积、原子层沉积、喷墨打印等。喷墨印刷则有望实现对有机层沉积薄膜封装技术的革新。油墨材作为喷墨打印中的重要物料，同时在半导体行业对环境要求比较高，异物对品质的影响约占95%，直接关系到企业效益。故对油墨材料中Particle进行监测可以作为品质监控防止堵塞机台，判断机台维护时间节点；监控过滤器使用寿命；达到材料和时间最大化利用。[/color]液体颗粒计数器提供了一种快速、准确的颗粒尺寸分析手段，具有许多不可拟的优点，但是他本身也有自己的局限性，限于光点转换元件的性能，目前颗粒计数器所能检测的颗粒下限约1μm左右。目前油墨对Particled的要求为0.5μm不大于25ea/mL,故需要定期对仪器传感器进行清洗和校准,以确认仪器实时有最佳的状态。[color=black]Particle[/color][color=black]的监测主要采用液体颗粒计数器进行，原理为经过光感区域的粒子由于大小不同，光强随之产生相应的变化；将探测器收集的光信号转换成电压信号，不同的电压信号对应不同的粒径大小，从而得到微粒的径。[/color][color=black][img=,690,451]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2019/07/201907012156378205_2259_2042772_3.png!w690x451.jpg[/img][/color][color=black] 目前液体颗粒计数器的测试国际及国家标准主要用在医药行业及油品行业，在半导体行业还未制定，油墨粘度高，目前的标准GB/T 29024.3-2012粒度分析　单颗粒的光学测量方法　第3部分：液体颗粒计数器光阻法主要是对仪器性能进行确认，对样品的检测未明确具体的测试条件。因AMOLED对薄膜封装的重要性，故急需开展出油墨中Particle的测试方法和条件。[/color]通过仪器参数对比需要得到可以快速准度的适合油墨中 Prticle的测试条件，同时可以[color=black]作为品质监控防止堵塞机台，判断机台维护时间节点；监控过滤器使用寿命；达到材料和时间最大化利用。[/color]本方法通过对液体颗粒计数器的的影响因素取样体积、工作流速、重合误差极、阈值噪声电、分辨率、校准曲线等参数进行综合分析确认，得出最佳的分析油墨中Particle的测试条件是进样体积：10mL；测试流速：5mL/min 测试次数：四次（取后三次平均值）；校准曲线采用单一尺寸的乳胶球（LATEX）进行校准。同时根据测试经验得出日常检验中一些问题的解决方法。1. 测试时至少进行四次等体积颗粒计数，然后取后三次平均值作为测试结果，以检查颗粒悬浮的均匀性。最小尺寸范围的三次技术之相差需要在10%以内，否则对检测结果不能取平均值，需重新测试。2. 使用液体颗粒计数器分析油墨材时需要确认材料的相容性问题，可能在传感器窗口残留上次分析的液膜或液滴，应使用一系列溶剂冲洗，每种溶剂都应和前次冲洗溶剂相溶。3. 水分对油墨材中Particle的影响，当含水量超过了油墨的饱和极限时油墨中的水分将以游离态出现，导致技术误差。在测试前应严格控制样品中水分及测试环境要求。当怀疑油墨材中含有水分时，可以将油墨样中加入少量洁净的丙酮，然后放入烘箱中在100℃-110℃下烘30min,待水分挥发后进行测试，但处理油墨材的过程应防止二次污染。4. 气泡对油墨材中Particle的影响，仪器同样会将油墨材中的气泡当作颗粒进行计数，从而引起技术误差，测试前可以把样品静止12小时以上，也可以采用超声波法或抽真空法对液样进行除气。

micro-VROC微量样品粘度计使用极少量样品就能够精确测量超高高剪切率范围的剪切粘度。可以测量仅在50~100微升的样品。会给如温度，粘度的剪切速率，剪切应力，迅速的测量结果。因为你可以很容易地更换传感器粘度，一台低粘度也可用于测量高粘度样品测量。测量精度（％）±1％（满量程），读数精度的2%再现性（％）±0.5流动速率（微升/分钟）0.5-450工作温度范围（℃）15~50测量精度的温度（℃）±0.07电源电压（VDC）8移液器填充体积（微升）400 低粘度 对于中等粘度， 高粘度，传感器盒 HA01-01 HB02-01 HC02-01测量范围粘度：（mpa.s） 0~100; 4~600 10~2,000 2000~80,000剪切速率范围：（SEC-1） 6.5~5,850 1.7~1,453 1.7~1,453最大压力（Pa） 12,000 42,000 200,000可选件：温度控制器：http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/11/201611021042_615591_0_3.png温度控制器为μVISC开发这是一个温度控制器，空气冷却的珀尔帖式。为了实现准确的在规定的温度，粘度测量专用软件温度控制和数据输出是可能的。电源100V-240VAC50/60HZ75W尺寸330（W）×381（L）×190（高）mm温度范围18~50℃温度控制系统的：±0.7控制器PID控制PC接口USB连接（1.5×2.5英寸）的液晶显示Pt100温度传感器用途：应用：生物医药油墨润滑剂涂料有机物石油聚合物m-VROC微流体流变仪微观尺度上利用经典的狭缝口模测量原理，结合专利的MEMS（微机电系统）传感器技术，开拓了在剪切速率范围测量低粘度样品独特功能。m-VROC微流体流变仪使用注射器装载样品，并将其和微流体流动池连接。通过高精度传动系统准确控制样品体积流量，使用嵌入式MEMS压力传感器测量样品通过微流体流动池时的压力变化来确定粘度，灵敏度高。软件能够自动生成流动曲线，即将剪切粘度与剪切速率的关系曲线，还可以做全面的非牛顿性校正。样品在全密闭的环境中测量，消除了溶剂损失对测试的影响，能够在宽温度范围（18-50°C）内测定高挥发性样品。- 表征低粘度样品的在实际加工工艺下的流动行为- 高灵敏度和高分辨率的粘度测量- 得到验证的微流体尺度上的流变测量原理- 对于非牛顿流体，具有数据校正功能- 针对高挥发性样品，采用全密闭环境测量，消除了溶剂损失对测试的影响- 所需的样品量非常少- 采用注射器加载，操作简便- 所有接触样品的部件都具有耐化学腐蚀性检测范围宽，精度高粘度测量范围最低可达0.2cP，最高80,000cP，检测范围内的精度不会有任何改变。检测快速、便捷进样及检测时间仅几分钟。样品量少采用先进的微流体/MEMS(微机电系统)传感器，可以使检测样品量减少至50 μL。无蒸发效应不同于椎板粘度计，由于样品完全包裹，因此溶剂的蒸发对精确性无影响。提高效率 增强软件可快速、便捷地完成多次重复测试。可区分牛顿及非牛顿力学样品 可确保检测结果为“真实”粘度，即使对具有非牛顿力学行为的样品，如假塑性体(剪切稀化)。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/11/201611021044_615594_0_3.png

压力试验机安装打印机的目的主要是用于数据结构的打印，试验机其不同打印机的安装方法也不相同，目前应用于试验机上最常见的两种打印机主要有针式和台式，我们今天就主要介绍这两种打印机的安装方法。针式打印机 该系列打印机是一种微型的打印机，类似于超市里面打印小票的打印机，两种安装方法都是类似的，操作步骤是将打印纸剪成三角状，并把打印纸压入卷纸仓，打开电源开关，连续按二下打印键打印头运转，这时用手把打印纸头插入打印头进纸口，打印纸就会徐徐进入机头，直到机头正前方露出有5-8mm时，按复位键停止打印机运转，把露出的打印纸头从盖板的出纸口穿出，盖好盖板打印纸安装完成。主要适用于数显式压力试验机。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/09/201209241616_392694_2608569_3.jpg台式打印机 该系列打印机有喷墨式和激光式，不管哪种方式，其安装的方法都是一致的。首先将电源接通，然后根据打印机提供的驱动光盘，在压力试验机上安装打印机的驱动，安装驱动安装的提示，一步一步的完成安装，待驱动完成后就可以使用压力试验机打印机，打印机里面的设备一般可以先不设定，带需要时再根据说明书详细处理。该系列打印机比针式安装更简单，而且功能也较多。有的机器甚至一条机器和实现打印、复印、扫描、传真等多项功能。适用于微机控制式压力试验机。

hj1080-2019土壤和沉积物 铊的测定石墨炉法，其中要求基体改进剂先进硝酸钯再进抗坏血酸，再进样品，这个过程是依次进三个东西，然后点击测试吗？没有做过这种方式的，之前都是基改直接加样品里边[img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/03/202003250956537479_9450_3536169_3.png[/img]

溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。