自动胡佛式色散特性研磨机

现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，主要特点，咨询热线，15300030867,010-82752485-815，张经理，欢迎您的来电咨询！? 水性或胶性的物质可通过加入水，将其磨碎；? 可选用A 11.4 250 ml研磨杯；? 随机配A 11.5 80ml的研磨杯，研磨杯为Tefel材质（PTFE，经玻璃纤维固化）和高级不锈钢(1.4571)制成，可用于需要液氮的研磨。现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，技术参数A11 分析研磨机工序类型分批处理工作原理剪切/冲击电机输入功率160 W电机输出功率100 W最大转速28000 rpm最大圆周速度53 m/s最大使用容积80 ml最大给料硬度6 Mohs最大给料颗粒10 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034研磨室材料不锈钢1.4571工作时间 开1 min工作时间 关10 min研磨室，可用水冷却不研磨物料可在研磨室用干冰冷却是研磨物料可在研磨室用液氮冷却是外形尺寸85 x 240 x 85 mm重量1.5 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 43电压220 - 240 / 100 - 115 V频率50/60 Hz仪器输入功率160 W

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

MultiDrive MT 150.5 Milling tube, autoclavableMT150.5研磨杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于样品干磨。该塑料研磨杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 MT150.5研磨杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该研磨杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加研磨杯的使用次数。研磨杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：150mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该研磨杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。MultiDrive TC 1 Protective housing组合MultiDrive MT 150和BT 250使用的防护罩MultiDrive BT 250.5 Blending tube, autoclavableBT 250.5 匀浆杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于湿磨工艺。该塑料匀浆杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 BT250.5匀浆杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该匀浆杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加匀浆杯的使用次数。匀浆杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：250mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该匀浆杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC 1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。

产品介绍：　　2.0ml螺帽管，平底带单独旋盖，螺旋盖已旋上，无菌；带O环，防泄漏的螺帽管盖，可承受离心力达20000Xg，可121℃的高压灭菌。可与MP fastprep-24研磨机配套使用。 　　离心管在全球范围内被广泛使用，并已经成为所有实验室、工业和研究领域及日常工作的一个不可缺少的部分。安全的带O形密封圈螺帽管和结实的聚丙烯试管，使该产品成为一个用于离心、运输和存储高质量合成低聚核苷酸、酶、缓冲液等的理想多功能的工具。 产品规格：2.0ml/支，100支/包

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

研磨适配器是应用于高通量组织研磨仪的研磨容器，形状类似离心管，专用于少量多批次样品的研磨。研磨时，将样品和研磨珠放入适配器中，然后盖上盖子，即可放入研磨机中进行研磨。

玛瑙研磨球 玛瑙球磨珠产品具体规格为：3-60mm之间，如需特殊规格可按照客户需求加工任意规格研磨球。玛瑙球：（agate　ball）是由进口玛瑙为原料制成的，不仅具有高强度和高韧性，而且兼备高耐磨性。可用于各种球磨机使用，寿命长且可降低成本、减少生产加工中的球的磨损，对环境的影响也小。采用纯天然的玛瑙石经切割、打磨和抛光等工艺制成。具有结构致密。色泽通透、高弹性模量和优异的耐磨型。适合球磨机对电子材料、陶瓷材料、油墨材料、化工材料、电池材料、稀土材料、等的粉体研磨产品。比重：2.65kg/L, 散重：1.58kg/L,莫氏硬度：7， 颜色：奶白或深蓝；粒径：7-30mm。 比重大、强度高、粉碎效率高、可缩短处理时间。真球度高、表面光滑、直径分布小、可进行高精度产品的破碎和分散。因使用高纯度原料，使其具有高耐磨性、可以最小限度地限制杂质的混入。耐磨性能好、寿命长、不需频繁的补充玛瑙研磨球，减少生产成本。对粘性和比重大的被粉碎物的湿式粉碎和分散、也可发挥较大的威力。使用在搅拌球磨机的粉碎过程中、不需担心球的生锈的腐蚀问题。用途：压电陶瓷、绝缘材料等电子材料、磁性材料的粉碎和分散颜料、油墨（墨水）、涂料等的粉碎和分散药品、食品的粉碎和分散精密陶瓷的粉碎和分散其他：化工、电子、陶瓷、油墨、涂料等多种研磨机械配套的理想研磨介质。

啁啾反射镜作为色散补偿元器件近期，筱晓光子在国内率先成功引进出可以获得6.2fs量级脉冲的钛宝石激光谐振腔内用两种啁啾镜对国内超快激光补偿的应用带来了福音。（如附件图）　　与传统的色散补偿器件光栅和棱镜对相比，啁啾镜具有损耗低、对光路不敏感、结构简单紧凑等优点，可支持高重复频率飞秒激光振荡器，被越来越广泛的应用到飞秒激光研究中，成为获得亚10fs超短脉冲激光不可缺少的色散补偿元件。由于色散镜在提供高反射率的同时须提供一定量的群延迟色散(Group delay dispersion，GDD)补偿，但随着补偿带宽的增加，色散振荡也愈加明显，因此必须通过啁啾镜对的形式加以补偿抑制。同时，因为啁啾色散介质膜的设计为啁啾结构，所以这种非规整膜系在制备上对膜层厚度误差非常敏感，1nm的误差都会导致制备结果与设计结果的偏离，这都给啁啾镜的设计和制备带来一系列的挑战。　　相对于腔外的色散补偿，激光腔内对色散的振荡波纹要求更加苛刻，需要严格控制配对使用的啁啾镜，使其色散振荡的周期性波纹具有互补性以相互抵消，为此分两次完成的啁啾镜对的两个镜片的中心波长相对偏移量要控制在1nm左右，这对制备厚度的控制精度及工艺稳定性的掌控要求极高。该两种啁啾镜对的成功引进及应用实验结果，能够有助于实现在高性能色散镜研制方面的技术突破，性能指标达到国际同类研究的先进水平。

Allied 金刚石复合研磨剂是专门为金相学样品制备设计的。精确的金刚石颗粒使研磨效果更均匀。它与水、乙二醇、酒精等润滑剂兼容，而且用水就可轻易清除

色散棱镜用于将光束分离成不同分量波长，或将色散添加到系统中。 通常以最小偏差角度使用，使得入射角和出射角相等，棱镜放大倍数为1，反射损耗低。 色散棱镜用高品质表面抛光的N-BK7，紫外级熔融石英，N-F2和Suprasil 1等材料，适合高功率使用。 等边棱镜具有更多的分散性， 等腰棱镜具有更好的p偏振透射。可以定制尺寸，材料和涂层。 Pellin Broca棱镜用于90°的波长分离。 将单波长相对于输入光束偏离90°，多波长偏离90°左右。表面质量10-5，通光孔径大于85%。损伤阈值15 J/cm2, 20 nsec, 20 Hz @ 1064 nm，面形精度λ/10 p-v at 633 nm ，角度误差：α: ±30 arc min，β: ±2°。

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

GTI色散压缩镜：材质：主要材质为UVFS。规格：12.7x5mm，25.4x5mm。GTI色散压缩镜用途：主要用于Yb:YAG, Yb:KGW飞秒激光器的脉冲压缩，也可用来优化其他波长，如Ti:Sapphire激光系统，反射率可达到99.9%, 中心波长误差可控制在1% 左右。

棱镜：包括色散棱镜和直角棱镜等。材质：主要材质有BK7色散棱镜，UVFS，规格：尺寸可支持定制。色散棱镜用途：用于波长分离，光路调整等，Altechna公司1996年成立于立陶宛，是一家光电和激光器研究的公司，主要致力于提供激光高能光学配件，激光光路设计解决方案，同时代理当地知名光电工业品牌，并提供高品质的检测保证以及激光器相关配件的制造。产品和服务涵盖DPSS激光器，DPSS飞秒激光器，激光系统制造和整合，光学系统设计生产以及研究机构的建立，备有常规库存，可在最快时间内提供相关光学元件，已与四十多个国家的科研机构和公司保持良好的合作关系，主要的市场如欧洲，美国，日本，中国，韩国等。

低群延迟色散镜片/分光镜波长：375nm-1100nm反射/透射比:50%-50%、30%-70%等 GDD = 0 ± 10 fs2低群延迟色散镜片标准尺寸：25.4 mm x 3.0 mm 不支持定制

800nm色散补偿光栅对脉冲展宽器800nm色散补偿光栅对包含两个透射光栅，用于在800nm波长处的光纤色散补偿。 PS-800应用：可以将脉冲展宽器放置在光纤前面，以补偿超短脉冲的光纤色散，以便光纤输出端的脉冲具有与入射脉冲展宽器之前大致相同的脉冲宽度。脉冲展宽器引入一个负色散值，用于补偿800 nm波长处长度介于2 m和5 m之间的标准光纤色散。 为了调整脉冲展宽器的色散，可以微调两个透射光栅之间的距离。局限： 该PS-800仅补偿二阶色散，不能补偿三阶色散。因此使用衍射光栅的光纤色散补偿不完整。例如，脉冲宽度为100fs的光脉冲经过脉冲展宽器和2m光纤，光纤末端脉冲宽度约为120fs。光纤中的脉冲能量必须限制在一个较低值以避免导致较长脉冲的非线性效应。因此，在脉冲重复频率为?100 MHz的情况下，光纤中的平均光功率必须保持在10 mW以下。 规格参数：波长： ~ 800 nm 光纤色散补偿长度：2 m and 5 m输入：自由空间输出：自由空间，可配合准直器使用透射率： 70 %尺寸：12 cm x 8 cm x 4 cm (LXHXW) 可根据客户的需求，将PS-800预先调整好光纤长度在1.5米至5米之间的色散补偿。更多产品：1、太赫兹光电导天线2、飞秒光纤激光器

低色散（GDD）超快反射镜：材质：主要材质为UVFS。规格： GDD值可控制在-10fs2-10fs2，波长范围250-1060nm，反射率大于99%。低色散超快反射镜用途：主要用于飞秒应用，可同时兼顾高反射率和低GDD。

低群延迟色散反射镜（Low GDD Ultrafast mirror)是欧洲进口的低群延迟色散超快反射镜，它专业为飞秒激光应用而设计，通过精心选择镀膜膜系，提供高反射率和低GDD性能，非常适合Ti:S激光，钕玻璃激光，而玻璃激光，掺Yb激光使用。 Low GDD Ultrafast mirrors are designed for femtosecond applications to provide an optimized performance at certain wavelength and angle of incidence (AOI). This is achieved by careful selection of coating stacks to combine high reflectivity and low GDD value (from -10 fs2 to 10 fs2 at design bandwidth) at the same time. Such coatings are used for external beam manipulation applications where pulse broadening effect is undesirable. Low GDD Ultrafast mirrors are intended for Ti:Sapphire, Nd:Glass, Er:Glass or Ytterbium doped host based lasers working in femtosecond regime. Variety of catalogue components allows to choose the right mirror for fundamental wavelength as well as for harmonics. Other dimensions and wavelengths are available in small and mass production quantitiesGDD values ranges from -10 fs2 to 10 fs2 at design bandwidth

产品名称：ShakIR Sample Grinder-For Optimized Sample Mixing品牌：美国PIKE公司产品价格：面议(RMB) PART NUMBERDESCRIPTION161-1070ShakIR, Heavy Duty Sample Grinder, 110/220VSample Grinder Vials161-1035Stainless Steel Vial with Ball, 1" long x 0.5"Options and Replacement Parts for Sample Grinders161-1037Spare Stainless Steel Ball160-8010KBr Powder, 100 g

UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 负色散 UV 超快反射镜&bull -145 fs2 的负 GDD&bull 255 - 277nm 之间 5° 的入射角&bull 非常适合 UV 超快激光束的脉冲压缩或色散补偿&bull 独特的 UV 负色散超快镀膜产品介绍UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 负色散 UV 超快反射镜采用熔融石英基板，具有出色的热稳定性和 25.4 毫米直径，便于集成到 UV 应用中。基于色散光学干涉，超快啁啾镀膜为这些反射镜提供 -145 fs2 的负 GDD。这些反射镜旨在提供对光束稳定性的高度控制，并在 255 - 277nm 之间具有 80%（P 偏振）的反射率。在设计入射角 (AOI) 为 5° 时，这些反射镜可最大限度地增加一对超快反射镜之间的反射次数，同时保持较小的占地面积。UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 负色散 UV 超快反射镜允许压缩 UV 超快激光脉冲，例如由 Ti:sapphire 激光器的 3 次谐波和 Yb:doped 激光器的 4 次谐波产生的脉冲。如果您的激光系统需要定制尺寸、波长或脉冲波形，请联系我们。订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码255 - 277 266 25.40 +0.00/-0.05 6.35 ±0.20517-066

热透镜效应更低的 UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 高色散超快反射镜&bull 热透镜效应更低的超快高色散镀膜&bull 5° 入射角时的负 GDD 高达 -1000 fs2&bull 50nm 带宽内的最低反射率（P 偏振）99.5%&bull 非常适用于产生高功率超快激光脉冲产品介绍UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 高色散超快反射镜可减少热透镜效应，提供 -1000fs2 的 GDD 和低损耗，热效应可忽略不计。如果有源增益介质在光束轴上比其余介质更热，导致产生横向折射率梯度，就会出现热透镜效应。这可能会引起激光腔错位，导致出现不同的激光模式轮廓，并导致光束指向出现漂移。这些反射镜旨在提供对光束稳定性的高度控制，并且在 1010 - 1050nm 之间具有 99.5%（P 偏振）的反射率。在设计入射角 (AOI) 为 5° 时，这些反射镜可最大限度地增加一对超快反射镜之间的反射次数，并在限制热透镜效应的同时允许脉冲压缩。UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 高色散超快反射镜具有减少的热透镜效应，是腔内应用、超快高能振荡器和放大器（如 Yb:YAG 薄盘激光系统）的理想选择。如果您的激光系统需要定制尺寸、波长或脉冲波形，请联系我们。订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码1010 - 1050 1030 25.40 +0.00/-0.056.35 ±0.20517-070

UltraFast Innovations (UFI) 三阶色散 (TOD) 超快反射镜&bull 7° AOI 下高达 -2500fs3 的高负三阶色散 (TOD)&bull 非常适合在不引入额外 GDD 的情况下补偿 TOD&bull 0fs2 的低群延迟色散 (GDD)&bull 另外提供 II-VI LightSmyth&trade 透射衍射光栅产品介绍超快创新（UFI）三阶色散（TOD）超快镜像提供高吞吐量、零群延迟色散（GDD）和高度负的三阶色散。这些TOD反射镜补偿了光栅压缩器在脉冲持续时间低于50飞秒时通常引入的色散。在7°的入射角下，这些反射镜的p偏振反射率高达99.9%以上，以限制激光压缩器中的损耗。超快创新（UFI）三阶色散超快反射镜是补偿TOD而不引入额外GDD的理想选择。如果您的激光系统需要定制尺寸、波长或脉冲轮廓，请联系我们。订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°) 产品编码740 - 860 800 25.40 +0.00/-0.056.35 ±0.207 17-065

UltraFast Innovations (UFI) 正色散超快反射镜&bull 5° AOI 时高达 100fs2 的正 GDD&bull 对 S 偏振和 P 偏振具有 99.5% 的高反射率&bull 700 - 1100nm 的宽带性能&bull 另外提供产品介绍UltraFast Innovations (UFI) 正色散超快反射镜提供正 GDD，其 GDD 符号与该波长范围内最常见的材料相同。这些正啁啾反射镜可用于脉冲压缩和啁啾脉冲放大器系统，例如混合棱镜/反射镜压缩器。对于 700 - 1100nm 之间的 S 和 P 偏振，这些反射镜具有 99.5% 的高反射率。在设计入射角 (AOI) 为 5° 时，这些反射镜可最大限度地增加一对超快反射镜之间的反射次数，同时保持较小的占地面积。UltraFast Innovations (UFI) 正色散超快反射镜采用熔融石英基板，具有出色的热稳定性和 25.4 毫米直径，便于集成到 NIR 应用中。如果您的激光系统需要定制尺寸、波长或脉冲波形，请联系我们。 订购信息波长范围 (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码700 - 1100 25.40 +0.00/-0.056.35 ±0.20517-069

MultiDrive BL 2000 Blender vesselBL 2000匀浆杯与IKA MultiDrive basic 配合使用，特别适用于各类样品的湿磨处理，如肉类、香肠、大豆、青贮饲料、蔬菜等。 该容器所有零件均可用洗碗机清洗。匀浆刀头易于拆卸，以方便对其进行彻底清洁。 该匀浆杯标准不锈钢刀头。技术参数工序类型分批处理工作原理混合速度范围3000 - 20000 rpm最大圆周速度78.5 m/s最大使用容积2000 ml最大给料颗粒30 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034材料(其他)不锈钢、PCTG、聚四氟乙烯、硅胶、碳化硅工作时间 开30 min工作时间 关10 minFDA合规性是多次使用是可洗碗机清洗是数据传输驱动器/容器无线射频识别监控维护时间是温度测量是温度测量精度0.1 K温度测量精确性±1 K最低温度限制。-50 °C最高温度限制。80 °C刀头/刀具直径75 mm外形尺寸180 x 280 x 220 mm重量1.25 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %

产品简介：- 研磨罐：为了混合及粉碎陶瓷粉，需将粉末，媒介（研磨球），水或溶剂，粘合剂等放入的容器（放到研磨设备上使用）- 罐体：材质分类（氧化铝，氧化锆，磁质，EP，HDPE，SUS......）*罐体材质的选择取决于原料的特性材质容量（L）备注矾土0.5- 夹具型- 内部材质：AL2O3 99.7%- 外部材质：E-P Nylon- 规格可订制1235氧化锆0.5- 夹具型- 内部材质：ZrO2-Y2O3- 规格可订制12工程塑料（罐体）0.5- 夹具型- 材质：工程塑料1235物料罐（瓷器罐）0.5- 材质：瓷器1235塑料罐125ml宽嘴（螺旋盖型）250ml宽嘴（螺旋盖型）0.5L宽嘴（螺旋盖型）1L宽嘴（螺旋盖型）1L窄嘴（螺旋盖型）2L窄嘴（螺旋盖型）4L窄嘴（螺旋盖型）20L窄嘴（螺旋盖型）*根据不同型号货期稍有差异

UltraFast Innovations (UFI) 3200nm 高正色散超快反射镜&bull 5° AOI 下的正 GDD 为 500 fs2 at 5° AOI&bull 99.9% 最小反射（P 偏振）&bull 宽带中红外镀膜设计，覆盖2800–3600nm&bull 中红外锁模激光器的理想选择产品介绍UltraFast Innovations (UFI) 3200nm 高正色散超快反射镜提供高正 GDD，与该波长范围内大多数材料的 GDD 符号相同。这些正啁啾反射镜可用于脉冲压缩和啁啾脉冲放大器系统，例如混合棱镜/反射镜压缩器。在设计入射角 (AOI) 为 5° 时，这些反射镜可最大限度地增加一对超快反射镜之间的反射次数，同时保持较小的占地面积。UltraFast Innovations (UFI) 3200nm 高正色散超快反射镜采用熔融石英基板，具有出色的热稳定性和 25.4mm 直径，有助于集成到中红外超快激光装置中。如果您的激光系统需要定制尺寸、波长或脉冲波形，请联系我们。 订购信息波长范围 (nm)DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码2800 - 3600 3200 25.40 +0.00/-0.056.35 ±0.20517-063

上海新诺 玛瑙研钵 天然A级玛瑙乳钵 研磨碗 研磨棒 研钵产品介绍：玛瑙乳钵主要适用于实验室内部对少量样本的研磨与分析实验仪器，用于研磨固体物质或进行粉末状固体的混合。玛瑙研钵适应于化验室、制药厂、化工实验室的研磨用，耐压强度高、耐酸碱。研磨后不会有任何乳钵本体物质混入被研磨物中。 玛瑙研钵技术特点：① 产品无裂痕、无杂质、抗耐磨性强。② 产品光泽度、抗腐蚀性强，可在酸性研磨材料中使用。③ 选用巴西进口原材料加工制成，纯度、硬度高。 玛瑙研钵化学组成：成分SiO2MgO/CaO/Mn2O3wt%97.262.74 玛瑙研钵物理性质：比重散重莫氏硬度弹性模量颜色2.65kg/dm31.5kg/L7.2-7.5〉70Gpa灰白或灰色

氧化铝刚玉陶瓷研磨球 氧化铝研磨球 陶瓷研磨球 高铝球5m-50mm各种规格齐全，外观为白色球状，滚轴球磨机 大小型球磨机 行星式球磨机配套用高强度氧化铝，陶瓷球，瓷球，研磨球，刚玉球，耐磨瓷球，高铝球，抛光球，陶瓷微球。用途：1.配套行星球磨机2.耐磨陶瓷微珠主要应用于非金属矿产品粉料（如硅酸锆、高岭土、重质碳酸钙等）及涂料、油漆、食品等行业的物料研磨与分散以及金属件的抛光使用，适用于各种球磨、研磨和抛光设备。也可以在浇筑时加在橡胶里增加耐磨系数。特点：（1）主要成分为氧化铝（≥92%）， 对被研磨物料的品质没有影响。（2）产品比重大（≥3.60g/cm3)，能大幅度提高研磨效率，降低研磨时间，节省能耗，降低成本；同时有效增加球磨机有效容积,从而增加研磨物料的加入量。 （3）产品硬度高，磨耗低，能大大延长研磨体的使用寿命。（4）产品白度高，不会对被研磨物料的颜色产生影响。氧化铝陶瓷球化学成分成分Al2O3Na2OMgOSiO2CaOOtherWt%94%210.51.51物理性质比重散重维氏硬度挤压强度软化点包装3.7kg/dm32.2kg/L1300kg/mm220000＞1400℃25kg/包

低色散飞秒反射镜Designed for lasers with femtosecond pulse widthsMulti-layer dielectric design minimizes wavelength dispersionManufactured by plasma deposition method to provide use over a wider wavelength bandAvailable in two types, high damage or broad wavelengthOffered in 25.4 and 30.0mm diameters, custom sizes are available on requestDiameter (mm)Thickness (mm)MaterialLaser TypeWavelength Range(mm)Reflectance (%)Angle of Incidence (deg)FlatnessSurface QualitytoleranceThickness toleranceParallelsim toleranceAOIClear Aperture25.45BK7Ti:Sapphier750-850≥99.845 ± 3λ/1020 - 10+0, -0.1mm±0.1mm≤ 5arcsec45 ± 5 degrees≥ 80%305BK7Ti:Sapphier750-850≥99.845 ± 3λ/1020 - 10+0, -0.1mm±0.1mm≤ 5arcsec45 ± 5 degrees≥ 80%25.45BK7Ti:Sapphier730-870≥99.845 ± 3λ/1020 - 10+0, -0.1mm±0.1mm≤ 5arcsec45 ± 5 degrees≥ 80%305BK7Ti:Sapphier730-870

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