膜厚计

光声无损膜厚仪随着电子和纳米科学时代的兴起，电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级，可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中非常必要，以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。我们使用的光声技术设计了光声无损测量系统。 技术源自法国CNRS 和波尔多大学的技术转让，它依靠激光、材料和声波之间的相互作用深入物质的核心。我们的非破坏性和非接触式技术将光转换为声频超过100GHz 的声波。 目的在于表征涂层，例如不同类型材料的厚度和附着力。特别适用于测量从几纳米到几微米的薄层，无论是不透明的（金属、金属氧化物和陶瓷），还是半透明和透明的。 这种光学技术不受样品形状的影响。 产品特点非破坏性和非接触式技术薄膜的表征：厚度、附着力、热性能快速且可重复的测量超精密测量许多材料可用能检测的膜厚度从 2纳米～20微米扫描方式：单点、XY扫描、表面声波测样样品种类： 不透明、半透明、透明均可测试。平坦和弯曲的样品均可 系统构成：仪器使用两个同步的超快激光器。会产生大约100飞秒的不同波长的激光脉冲。使用这些脉冲进行非破坏性和非接触式测量。这些都集中在所研究的样品表面。 能使用的材料广泛的材料及其在许多应用中的使用使这一材料方面变得非常必要。自产品问世以来，我们的技术已证明其有能力测量许多金属材料。也适用于陶瓷和金属氧化物，并且不受外形因素的影响。 无损检测 (NDT) 具体应用案例半导体行业半导体行业为我们周围遇到的大多数电子设备提供了基本组件。它的制造需要在硅晶片上进行多次薄膜沉积。 问题？在任何工艺过程中，不透明薄膜的沉积，无论是单层还是多层，都需要质量控制。无论是检测还是计量，厚度测量和界面表征都是确保其质量的关键问题。 我们的解决方案？- 高速控制。- 非破坏性和非接触式测量。- 单层和多层厚度测量。 显示器行业今天，不同的技术竞争主导显示器的生产，而显示器在我们的日常使用中无处不在。事实上，由于未来UHD-8K 标准以及新兴柔性显示器的制造工艺，这个不断扩大的行业存在技术限制。问题？一个像素仍然是一堆薄层有机墨水、银、ITO… … 在这方面，控制薄层厚度的问题仍然存在。这些问题可能会导致最终产品出现质量缺陷。 我们的解决方案？- 对此类层的独特检查。- 提取厚度的可能性。- 非破坏性和非接触式厚度测量。 薄层沉积无论是在航空工业还是医疗器械制造领域，技术涂层都可用于增强高附加值部件中的某些功能。这些涂层的厚度随后成为确保目标性能的关键因素。问题？无论是法律限制还是技术限制，破坏性测试的采样方法通常提供不完整的答案。此外，由于形状因素、曲率等原因，很难控制3D作品。 我们的解决方案？- 非破坏性和非接触式测试- 快速测试厚度数据- 现在可以进行在线生产控制

仪器简介：8500 Basic (标准型)：μm/mil 单位、自动背光、上 / 下限警示、100 笔记忆、统计功能 (平均值 / 极大值 / 极小值 / 标准差)、1 组自定校正曲线、自动关机技术参数：测量范围:0...2000 μm (标准) 0...5000 μm (选配) 分辨率:0.1 / 1 μm, 0.01mm 适用底材:Fe 磁性底材, 钢, 铁 NFe 非磁性底材, 铝, 锌, 铜, 黄铜 测量区域:20x20mm2 底材厚度:Fe 0.2mm min. NFe 0.05mm min. 搭配测头8500 磁性／非磁性／两用测头 可任意换装为内建／外接式 内存:100 笔 主要特点：测量前素材归零即可，测头永久免校正 符合 ISO / DIN / BS / ASTM 国际标准 5 种模块化测头，可依测量范围选配 内附专属连接线，测头可内建或外接 可自行设定 1 组单／双点校正曲线 超大型液晶高解析屏幕、附背光照明 读值可翻转 180° 显示、操作便利性高 红／绿双色 LED 显示操作／错误讯息 4 向功能键附照明、单手操作极简便 均附德国 PTB 国家标准可追溯证书 可选配：QuaNix 软件、USB 传输线

该仪器设计原理是利用了软X射线的透射吸收特性，通过传感器测量透过介质的射线衰 减度，按一定算法转换为薄膜和板材的厚度数值，测量精度与用户提供的样片有关系，平均值精度可精确到0.1UM，是一种板材在线厚度检测仪器的高科技产品。 为确保仪器的精度，必须保证有三大要素 1.仪器机械结构的加工精度 2.信号的采集处理精度 3.好的算法和准确的采样