离子泵

安捷伦微型 VacIon 泵（通常称为辅助离子泵）有二极离子泵和改进型二极离子泵两种配置，抽速为 0.4 L/s。此类小型离子泵具有重量轻、磁场极低的特点，最高烘烤温度可达 400 °C。自安捷伦（瓦里安）于 20 世纪 50 年代后期发明离子泵以来，安捷伦微型泵已广泛用于国防、航天、电信、科研和医疗器械等应用领域。它们通常可用于确保电子管在较高或超高真空压力下的使用寿命。特性： 0.4 L/s 辅助泵通常用于在密封设备上保持超高真空状态 低漏电流可提供稳定的真空压力读数 可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵单元布局 低磁场可最大程度减少系统干扰 可在 400 °C 的条件下进行真空处理，而且可在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性 可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

VacIon Plus 500 L/s 离子泵可为大型应用提供出色的抽速。该泵在超高和极高真空条件下使用，是粒子加速器和干涉仪的首选。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽除残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 8 英寸非旋转型法兰、额外 8 英寸 ConFlat 孔、双法兰和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

VacIon Plus 1000 L/s 离子泵可为大型系统提供出色的分析速度。可用于需要达到超高和极高真空状态的应用，是用于粒子加速器和重力波干涉仪的理想选择。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽送残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 12 英寸非旋转型法兰、额外 ConFlat 孔、双端和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

VacIon Plus 150 L/s 离子泵体积适中，可提供较高抽速，可用 6 英寸 Conflat 法兰安装，通常用于需要达到超高和极高真空条件的实验室。该离子泵具有三种抽气单元类型。二极离子泵抽气单元适用于通用的超高真空和极高真空应用，在这些应用中对氢气的抽速至关重要，并且系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵抽气单元可处理大量惰性气体（优于惰性气体二极离子泵）和氢气，对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。惰性气体二极离子泵抽气单元适用于需要抽除残留氩气和其他惰性气体的通用应用。特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 6 英寸非旋转型法兰、额外 6 英寸 ConFlat 孔、双法兰和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求SEM 版本具有低漏电流和高稳定性，可将电子干扰降至最低在空间有限的情况下可提供紧凑设计的泵体

Agilent VacIon Plus 75 离子泵抽速为 75 L/s，用于学术和高能物理 (HEP) 研究中的超高和极高真空应用。具有与其他 VacIon Plus 中型离子泵相当的紧凑尺寸而抽速更高，是需要更高抽速的大空间的理想选择。安捷伦专有的三极离子泵元件为惰性气体和氢气提供了一流的抽速，并为甲烷、氩气和氦气提供了最高容量。提供光学挡板、集成加热器和高压 (HV) 真空通导件等选项，可轻松实现系统集成。 特性：可选择三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 6 英寸旋转型或非旋转型法兰、额外 2.75 英寸 ConFlat 孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、SHV 10kV (Safeconn)）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求SEM 版本具有低漏电流和高稳定性，可将电子干扰降至最低可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

安捷伦真空（原瓦里安）提供全套 VacIon 离子泵产品系列，具有多种抽速供选择 (0.4–1000 L/s)。安捷伦离子泵和控制器具有多种可定制配置，以满足您多样化的真空需求。非常适合必须保证稳定的超高或极高真空 (UHV 或 XHV) 条件的应用，例如实验室、大型研究机构、医疗设备、扫描电子显微镜和表面分析设备。配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 非旋转型法兰、额外 ConFlat 孔、双端和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

Agilent VacIon 10 L/s 离子泵具有经惰性气体优化的二极离子泵或改进型二极离子泵配置，对氢气等残留气体的抽除效率较高。这款泵通常用于需要提高抽速和处理惰性气体负荷能力的应用，但由于安装空间有限，因此紧凑尺寸依然非常重要。这款小型离子泵常用于学术和实验室研究环境，可为各种 UHV 和 XHV 应用提供无颗粒、无振动的解决方案。 特性：10 L/s 的泵通常用于在密封设备上保持超高真空状态已针对惰性气体和氢气等残留气体进行了优化，具有出色的 UHV 性能低漏电流可提供稳定的真空压力读数可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵单元布局低磁场可最大程度减少系统干扰可在 400 °C 的条件下进行真空处理，并可在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

Agilent VacIon 2 L/s 离子泵提供有效和无振动的 UHV 抽送，可在设备的使用寿命内维护微波和射频管。这些 2 L/s 小型二极离子泵元件广泛应用于灵敏的紧凑型系统或需要低磁场的设备的应用。可对其进行定制，轻松实现系统集成。特性：2 L/s 辅助泵通常用于在密封设备上保持超高真空状态改进的二极例子泵配置，提高了低压启动能力低漏电流可提供稳定的真空压力读数可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵单元布局低磁场可最大程度减少系统干扰可在 400 °C 的条件下进行真空处理，而且可在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

这款泵非常适合粒子物理学和其他低压研究（如表面科学、纳米技术、材料科学），可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵元件。可选择三极离子泵、二极离子泵或惰性气体二极离子泵抽气单元，可达到最高惰性气体 (UHV/XHV) 抽速。配备 ConFlat 非旋转型入口法兰以及采用双法兰或带侧孔配置的额外 ConFlat 孔。低温挡板安装在 ConFlat 法兰上，还包括一个用于安装 TSP 泵的 ConFlat 法兰。低温挡板可为 TSP 的升华钛提供更大的表面积，避免真空系统发生不需要的钛膜沉积。使用液氮冷却时，低温挡板提高了吸气过程的效率和抽除水的速度。也可在水冷下运行，或在超高真空/极高真空下无需冷却地运行。配备已安装的 120 Vac 或 230 Vac 加热器，还有多种真空穿导件可供选择（Fischer、King、DESY、Varian、SHV 10kV (Safeconn)）。

Agilent CombiNEG 150-1000 和 150-2000 吸气剂复合型离子泵在 150 L/s VacIon 泵中集成了大容量 D1000 或 D2000 非蒸散型吸气剂泵芯。三极离子泵或二极离子泵可为氩气和其他残留惰性气体提供较高抽速，而吸气剂泵可为可吸收气体提供较高抽速，因此具有同时处理大量惰性气体、氢气和其他可吸收气体的独特优势。内部防护罩可最大程度延长 NEG 的使用寿命。通用而紧凑的 CombiNEG 150-100/2000 吸气剂复合型离子泵适合要求较高的应用，此类应用中需要在超高和极高真空状态下达到超高抽速。 特性：三极离子泵或二极离子泵抽气单元可快速抽除惰性气体，而吸气剂泵可快速抽除活性气体，二者结合可达到较高的组合抽速，缩短达到超高真空/极高真空状态所需的时间烧结吸气剂泵的设计紧凑，可提供比质量较差的压结末吸气剂泵更出色的解决方案，并消除粉末进入系统的风险配备 ConFlat 6² 英寸非旋转型入口法兰以及用于吸气剂泵的额外 ConFlat 6² 英寸侧孔可以选择不同方向的真空穿导件，实现更高灵活性无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可大幅减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性

三极离子泵或二极离子泵可为氩气和其他残留惰性气体提供较高抽速，而吸气剂泵可为可吸收气体提供较高抽速，因此具有同时处理大量惰性气体、氢气和其他可吸收气体的独特优势。内部防护罩可最大程度延长 NEG 的使用寿命。烧结吸气剂泵的设计紧凑，可提供比质量较差的压结末吸气剂泵更出色的解决方案，并消除粉末进入系统的风险配备 ConFlat 非旋转型入口法兰以及用于吸气剂泵的额外 ConFlat 侧孔可以选择不同方向的真空穿导件，实现最大灵活性无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性

Agilent VacIon Plus 20 离子泵是一款中型 20 L/s 离子泵。它不仅适用于学术和高能物理学 (HEP) 研究领域内的各种超高和极高真空应用，而且还可用于成像和放射医疗设备。这款泵配备通用二极离子泵抽气单元，以及适用于抽除混合气体的三极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元。安捷伦专有的三极离子泵抽气单元可处理大量惰性气体和氢气，对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。多种选项可供客户选择（如抽气单元类型、集成加热器和高压真空穿导件），可帮助客户轻松实现系统集成，获得无颗粒超高真空抽送性能。 特性：可选择三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以使不同气体达到最佳抽速配备 ConFlat 2.75 英寸旋转型或非旋转型法兰，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、SHV 10kV (Safeconn)）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求SEM 版本具有低漏电流和高稳定性，可将电子干扰降至最低可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

CombiTSP 500 集成了 VacIon 500 L/s 离子泵、TSP 泵芯和 TSP 低温挡板，可在体积不变的情况下提高抽速。TSP 泵芯的吸气特性可快速达到超高和极高真空状态 (UHV/XHV)，从而降低最终极限真空。低温挡板可进一步提高可吸收气体的抽除效率。三极离子泵元件对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。这款泵非常适合粒子物理学和其他低压研究（如表面科学、纳米技术、材料科学），可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵元件。 特性：该离子-TSP 复合泵为 VacIon Plus 500，带有一个附加侧孔或底部安装的 8 英寸 ConFlat 孔可选择三极离子泵、二极离子泵或惰性气体二极离子泵抽气单元，可达到最高惰性气体 (UHV/XHV) 抽速配备 ConFlat 8 英寸非旋转型入口法兰以及采用双法兰或带侧孔配置的额外 8 英寸 ConFlat 孔低温挡板安装在外径 8 英寸的 ConFlat 法兰上，还包括一个用于安装 TSP 泵的 2.75 英寸 ConFlat 法兰包括 TSP 泵芯，但未安装在泵内低温挡板可为 TSP 的升华钛提供更大的表面积，避免真空系统发生不需要的钛膜沉积使用液氮冷却时，低温挡板提高了吸气过程的效率和抽除水的速度。也可在水冷下运行，或在超高真空/极高真空下无需冷却地运行。配备已安装的 120 Vac 或 230 Vac 加热器，还有多种真空穿导件可供选择（Fischer、King、DESY、Varian、SHV 10kV (Safeconn)）电缆和控制器单独提供

离子捕集泵可以创造超高真空环境。GAMMA离子泵消除了机械振动，并且具有抗辐射性强，耐高温等特点。几乎不需要日常维护，且初始成本和运营成本低。

GAMMA推出了具有体积小、重量轻、灵活且抽速强劲的离子泵和NEG泵的复合泵 HyTan，满足您对超高真空的需求！该系列复合泵具有强劲的抽氢气和惰性气体能力，特别适用于各种超高真空≤1E-11mbar下的应用。产品优势该系列复合泵采用离子泵和NEG的抽气原理，无振动、耐高温、耐辐射、更稳定，无需电源也可正常抽空。超高真空用复合泵离子泵和NEG复合，可以获得=1E-11mbar极限真空轻便重量：0.65-0.89kg抽速精悍离子泵和NEG完全浸入真空腔内，对氢气抽速高达520L/S模块化设计灵活拆卸，可单独升级离子泵或NEG，无需整套更换提供空间利用率几乎不占系统的外部安装空间多种选择该产品系列有48钟不同型号，您可以根据您的应用，从一系列NEG模块、离子泵模块和馈通件中进行选择。

VacIon Plus 500 L/s 离子泵可为大型应用提供出色的抽速。该泵在超高和极高真空条件下使用，是粒子加速器和干涉仪的首选。该离子泵具有三种元件类型。二极离子泵元件适用于通用的 UHV 和 XHV 应用，在此应用中氢气抽速至关重要，系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵元件可处理大量惰性气体（优于改进型二极离子泵）和氢气（与二极离子泵相当），对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。改进型二极离子泵元件适用于需要抽除残留惰性气体的通用 UHV 和 XHV 应用。 特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 8 英寸非旋转型法兰、额外 8 英寸 ConFlat 孔、双法兰和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

VacIon Plus 150 L/s 离子泵体积适中，可提供较高抽速，可用 6 英寸 Conflat 法兰安装，通常用于需要达到超高和极高真空条件的实验室。该离子泵具有三种抽气单元类型。二极离子泵抽气单元适用于通用的超高真空和极高真空应用，在这些应用中对氢气的抽速至关重要，并且系统很少排气或发生空气泄漏。三极离子泵抽气单元可处理大量惰性气体（优于惰性气体二极离子泵）和氢气，对甲烷、氩气和氦气具有最高的抽速和容量。惰性气体二极离子泵抽气单元适用于需要抽除残留氩气和其他惰性气体的通用应用。特性：配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 6 英寸非旋转型法兰、额外 6 英寸 ConFlat 孔、双法兰和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求SEM 版本具有低漏电流和高稳定性，可将电子干扰降至最低在空间有限的情况下可提供紧凑设计的泵体

安捷伦真空（原瓦里安）提供全套 VacIon 离子泵产品系列，具有多种抽速供选择 (0.4–1000 L/s)。安捷伦离子泵和控制器具有多种可定制配置，以满足您多样化的真空需求。非常适合必须保证稳定的超高或极高真空 (UHV 或 XHV) 条件的应用，例如实验室、大型研究机构、医疗设备、扫描电子显微镜和表面分析设备。配备三极离子泵、二极离子泵和惰性气体二极离子泵抽气单元，以为不同气体提供最佳抽速配备 ConFlat 非旋转型法兰、额外 ConFlat 孔、双端和侧孔，可选不同方向的真空穿导件（Fischer、King、DESY、Varian、Safeconn）无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可定制不同的高压真空穿导件、泵体几何形状、额外孔和抽气单元布局，还可配备光学挡板、外部加热器和屏蔽磁体，满足您的需求

Agilent VacIon 2 L/s 离子泵提供有效和无振动的 UHV 抽送，可在设备的使用寿命内维护微波和射频管。这些 2 L/s 小型二极离子泵元件广泛应用于灵敏的紧凑型系统或需要低磁场的设备的应用。可对其进行定制，轻松实现系统集成。特性：2 L/s 辅助泵通常用于在密封设备上保持超高真空状态改进的二极例子泵配置，提高了低压启动能力低漏电流可提供稳定的真空压力读数可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵单元布局低磁场可最大程度减少系统干扰可在 400 °C 的条件下进行真空处理，而且可在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性可以根据您的具体需求添加特殊测试程序

这款泵非常适合粒子物理学和其他低压研究（如表面科学、纳米技术、材料科学），可根据您的需求定制不同的高压真空通导件、泵体几何形状和泵元件。可选择三极离子泵、二极离子泵或惰性气体二极离子泵抽气单元，可达到最高惰性气体 (UHV/XHV) 抽速。配备 ConFlat 非旋转型入口法兰以及采用双法兰或带侧孔配置的额外 ConFlat 孔。低温挡板安装在 ConFlat 法兰上，还包括一个用于安装 TSP 泵的 ConFlat 法兰。低温挡板可为 TSP 的升华钛提供更大的表面积，避免真空系统发生不需要的钛膜沉积。使用液氮冷却时，低温挡板提高了吸气过程的效率和抽除水的速度。也可在水冷下运行，或在超高真空/极高真空下无需冷却地运行。配备已安装的 120 Vac 或 230 Vac 加热器，还有多种真空穿导件可供选择（Fischer、King、DESY、Varian、SHV 10kV (Safeconn)）。

三极离子泵或二极离子泵可为氩气和其他残留惰性气体提供较高抽速，而吸气剂泵可为可吸收气体提供较高抽速，因此具有同时处理大量惰性气体、氢气和其他可吸收气体的独特优势。内部防护罩可最大程度延长 NEG 的使用寿命。烧结吸气剂泵的设计紧凑，可提供比质量较差的压结末吸气剂泵更出色的解决方案，并消除粉末进入系统的风险配备 ConFlat 非旋转型入口法兰以及用于吸气剂泵的额外 ConFlat 侧孔可以选择不同方向的真空穿导件，实现最大灵活性无活动部件，确保在高灵敏度应用中无振动运行低漏电流可提供稳定的真空压力读数低磁场可最大程度减少系统干扰在 400 °C 的条件下进行真空处理，并在真空下夹止，确保安装前的清洁度和真空密封性

三为科学致力于液相色谱泵的研发生产，并提供peek泵头高压色谱泵OEM方案，广泛用于液相色谱系统，离子色谱系统，凝胶色谱系统，柱后衍生系统，液相原子荧光，糖化血红蛋白仪，氨基酸分析仪，体外诊断仪器设备（IVD）等装置中。三为高压色谱泵采用高耐磨密封圈、高精密柱塞传动系统和浮动柱塞设计组合可最大程度提高使色谱泵用寿命与稳定性；开放的I/O接口，可定制化的通讯协议，方便与各种检测器无缝对接，反控操作。 该系列产品流量范围包含：0.001—10ml/min 0.01—50ml/min 0.01—100ml/min 0.01—200ml/min 0.01—300ml/min 0.01—600ml/min 0.1—1000ml/min。AP0013高压输液泵(10ml泵头30Mpa)产品特点：硬件功能 精准输送多点流量校正：实现全量程范围内的高准确度及高重复性流体输送流量脉冲抑制：凸轮曲线补偿与流量脉冲电子抑制，有效控制压力脉冲压力设定修正：流路的保护压设定、零点值修正排除环境干扰柱塞清洗功能：柱塞后清洗，减少密封圈磨损，延长泵的使用寿命减重称量控制：定制反应器及化工装置入口称重闭环控制系统 通讯功能 系统集成多种通讯模式：一对一控制、一对多控制、多对多控制多种通讯端口：RS232/485/422、USB、有线/无线网络多种通讯协议：自定义、Modbus RTU/ASCII、ProfibusDP、Profinet支持系统集成：并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用模拟数字控制：模拟量输入控制、开关量启停控制 软件功能 扩展应用输送单位切换：切换流速单位，选择按体积输送或按重量输送流速变化控制：恒定、线性、梯度流速输送，可任意组合衍生读数实时显示：流速压力曲线实时绘制、程序运行进度条显示数据记录导出：实时记录流量压力数据，以表格图形形式导出方法保存调用：保存调用多种流速程序，控制方法间便捷切换校准维护功能：自定义流量校准满足特定工况、恢复出厂参数远程控制功能：选配远程软件，远程实时操作和监控流体设备AP0013peek高压输液泵(10mlpeek泵头30Mpa)技术参数： 序号描述指标1输液方式双柱塞串联模式，浮动柱塞设计，peek泵头2流量范围0.001-9.999ml/min3增量0.001ml/min4流量准确度± 0.1%5流量重复性≤ 0.1%6压力范围≤ 30Mpa7压力脉动≤ 0.1Mpa8流路材料peek、红宝石、PTFE、陶瓷9管路链接1/16"标准管路链接10显示参数256*64点液晶显示，自发光显示屏11通信功能RS232，USB(标配）；RS485/422(选配)；支持三为公司协议和 Modbus协议12电源85 ～ 264VAC,50Hz13尺寸370×240×152 mm3

Sanotac高压计量泵用于新能源电池、氢能源电池、氢燃料电池制造工艺中纯水、去离子水输送和循环，电解液等化学物料输送，公司生产的高压计量泵系内置流量计量和在线压力显示，智能数字输入即可准确输送物料，无需外接流量计、PLC、压力表，具有流量精度高、压力脉冲低，重复性好，质量优异等特点，广泛应用于氢能源电池、燃料电池、锂电池等新能源电池工艺领域。Sanotac高压计量泵具有Modbus RTU、 Modbus TCP、Profinet等通讯协议，同时有小体积泵和微型泵设计，支持系统集成并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用 ，有利于新能源电池制造工艺集成设计。 该系列产品流量范围包含：0.001—10ml/min 0.01—50ml/min 0.01—100ml/min 0.01—200ml/min 0.01—300ml/min 0.01—600ml/min 0.1—1000ml/min；0.1-3000ml/min。 该系列产品按泵头材料分类包含：不锈钢泵、哈氏合金泵、高压四氟泵、peek泵产品特点：多点流量校正：实现全量程范围内的高准确度及高重复性流体输送流量脉冲抑制：凸轮曲线补偿与流量脉冲电子抑制，有效控制压力脉冲压力设定修正：流路的保护压设定、零点值修正排除环境干扰柱塞清洗功能：柱塞后清洗，减少密封圈磨损，延长泵的使用寿命压缩补偿技术：在高压力环境中实现液体的准确输送 远程端口：RS232、RS485、USB、开关量通讯协议：Modbus RTU/ASCII支持系统集成：并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用 可通讯扩展功能 通讯协议：Modbus TCP、ProfibusDP、Profinet远程端口：有线/无线Ethernet、模拟量输入（0-5V/4-20mA） 软件功能（选配）输送单位切换：切换流速单位，选择按体积输送或按重量输送流速变化控制：恒定、线性、梯度流速输送，可任意组合衍生读数实时显示：流速压力曲线实时绘制、程序运行进度条显示数据记录导出：实时记录流量压力数据，以表格图形形式导出方法保存调用：保存调用多种流速程序，控制方法间便捷切换校准维护功能：自定义流量校准满足特定工况、恢复出厂参数远程控制功能：选配远程软件，远程实时操作和监控流体设备仪器参数表：型号S0140NS1040流量范围0.001-10.000ml/min0.01-100.00ml/min流量准确度±0.5%流量重复性 ≤0.1%压力范围≤40MPa压力脉动≤0.1MPa流路材料316L不锈钢、红宝石、PTFE、陶瓷通讯功能USB,RS232；RS485/422(选配）；Modbus协议电源85~264VAC,50Hz功耗75W外形尺寸260×110×110 mm3370×240×152 mm3

设备优点总结★ Epsion数据处理系统，高效预警毒气泄漏★抗干扰性能：抗强磁干扰/抗杂质气体干扰 ★多级校准：带有自动校正功能、故障率低、稳定可靠，多达 6 级目标点校准功能★支持液晶中英文双语显示，操作简单；★进口传感器：高抗干扰性和高稳定性；★USB1.1接口：可连接电脑显示存储日期、气体名称、浓度值；★高容量尺寸：可储存80000条数据，并连接电脑进行打印；★2700毫安大容量锂电池，连续工作时间大于20小时；★本安型电路壳设计：电路按本安型要求设计符合国家要求；★内置高性能气泵，流速稳定，可开可关； 设备参数检测方式 泵吸式测量气体 TVOC测量范围 0-50PPM/0-100PPM/0-200PPM/0-500PPM(未列出量程可选）检测原理 电化学原理/PID光离子原理检测单位%VOL、%LEL、mg/m3、ppm、多种单位可选择；分 辨 率 0.01PPM/0.1PPM/1PPM（视量程而定）精度 3%F.S 1.5%F.S（视传感器而定）重复性 1%F.S显示方式 2.5寸点阵显示屏数据记录 高达80000条，可设置1次/1s、1次/10s、1次/60s响应时间 30S自动诊断 电池电量/显示/传感器/硬件故障等功能防爆类型 本质安全型设计重 量 0.26kg工作条件 0~90%RH［无凝露］ 常压0.1MPA 温度：-20-50度尺寸 长135mm×高65mm×宽35mm数据恢复 方便快捷，一键恢复出厂设置标准GB 12358-2006、GB 3836.1-2010、GB 3836.4-2010出厂配件说明书、充电器、包装铝盒、测试报告、保修卡、合格证

上海伯东美国考夫曼离子源离子枪成功应用于离子刻蚀 (IBE) 上海伯东美国考夫曼离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) RFICP 成功应用于离子刻蚀 (IBE).上海伯东是美国考夫曼大中国区总代理,Kaufman & Robinson, Inc 美国考夫曼公司离子源 离子枪 RFCIP系列已广泛应用于离子刻蚀 (IBE) 工艺. 考夫曼离子源具有高离子浓度 (High beam currents) 及低离子能量 (Low beam energies). 此两个特殊条件对于刻蚀效率及刻蚀中避免伤害到工件表面材质可以达到优化. 并且可以依客户之工件尺寸选择所对应之型号: RFICP40, RFICP100, RFICP140, RFICP200, RFICP300. 上海伯东主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。

上海伯东美国考夫曼霍尔离子源于离子刻蚀 (IBE) 应用 Kaufman & Robinson,Inc (KRi) End Hall 上海伯东为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中华总代理.美国霍尔离子源 离子枪 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不仅广泛应用于生产单位,且因离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性,单次使用长久, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 所以美国考夫曼霍尔离子源目前广泛应用于许多蚀刻制程及基板前处理制程. 客户案例: 国内某大学天文学系小尺寸刻蚀设备1. 系统功能: 对于 Fe, Se, Te , PCCO及多项材料刻蚀工艺. 2. 样品尺寸: 2吋硅芯片.3. 实际安装:刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼霍尔离子源 EH400HC 离子源 EH400HC 安装于刻蚀腔体内. 离子源 EH400HC 控制单元操作 离子源 EH400HC 实际点燃 (氩气) 对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 20 A/Sec 对于 FeSeTe 刻蚀应用, 离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 17 ?/Sec霍尔离子源 EH400HC 优点:- 高离子浓度 (High density), 低能量(Low energy) - 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp) - 镀膜均匀性佳- 提高镀膜品质- 模块化设计, 保养快速方便- 增加光学膜后折射率 (Optical index) - 全自动控制设计, 超做简易- 低耗材成本,安装简易 KRI离子源简介： 美国考夫曼公司 离子源 离子枪发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士将此授权 VEECO 生产.于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司, 历经40年离子源 离子枪之改良及研发,目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD(离子镀膜)等等应用大量使用.上海伯东为美国考夫曼公司离子源 离子枪 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 中国总代理 上海伯东主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。

溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀技术指标:离子能量25eV - 5keV总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)工作距离100 mm (typically)等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)气体进气口径CF-16 (1.33“OD)气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)安装口径CF-35 (2.75“OD)枪直径34mm (真空端)泄露阀需要气体质量流量计第二代等离子体源，可以提供离子源，原子源，离子/原子混合源原子源主要用途：制备氮化物， e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.氢原子清洗，氢原子辅助MBE.制备氧化物， e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 掺杂， e.g. ZnSe离子源用途:离子束辅助沉积(IBAD) for both UHV and HV processes溅射沉积，双离子束溅射，Sputter deposition and dual ion beam sputtering溅射清洗/表面科学中的样品表面处理，Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.原位刻蚀， e.g. Chlorine 技术参数：真空兼容性：完全UHV兼容可烘烤：200°C微波功率：最大250W，2.45GHz磁铁类型：永久稀土。可在不破坏真空的情况下进行烘烤安装：NW63CF（4.5“OD）真空长度：300mm（可定制长度）：真空直径最大值=57mm光束直径：源处约25mm（较窄的光束也容易产生）等离子杯：氧化铝孔径：氧化铝或氮化硼气体流速：0.01-100sccm，取决于所选孔径工作压力：约10-7托至5x10-3托，取决于孔径、泵和应用-请联系tectra讨论您的应用。提供差动泵选项工作距离：50mm-300mm。150mm（典型值）冷却：全水冷（包括磁控管）电源：微波炉电网供电**仅限离子源和混合源19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz主要特点：无灯丝适用于大多数气体，包括反应性气体，如氧气、氯气、氢气、氮气等。无微波调谐出厂设置，只需打开和关闭等离子。用户可配置提取光学器件设计为可快速方便地更换，允许用户自定义其来源，以适应样本大小、工作压力和电流密度的特定组合。易于更换的孔径使光束直径、气体负载和原子通量得以优化。简单烘烤制备新的可烘烤ECR磁体只需松开4个螺钉，即可进行简单的烘烤准备。磁体不需要移除，但仍位于封闭冷却回路的空气侧。因此，没有烧结材料暴露在真空中。Al2O3等离子区氧化铝等离子杯作为标准，具有更高的二次电子产量、更好的抗腐蚀性气体（如氧气）和理想的等离子打击能力从法兰（刀口侧）到外壳端，空气侧环境坡度的最小值仅为258mm

等离子清洗机 HWPC-100型仪器简介等离子清洗机是一种小型的非破坏性表面处理设备，它是采用能量转换技术，在一定真空负压的状态下以电能将气体转化为活性极高的等离子体，等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。应用领域等离子清洗技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。仪器构造正面示意图 背面示意图1—机箱；2—耐热玻璃清洗舱；3—清洗舱门；4—总电源开关5—五寸触摸屏；6—流量调节阀Ⅰ；7—流量调节阀Ⅱ8—选配清洗气源进气口Ⅲ、Ⅳ；9—散热风扇；10—电源输入插孔11—真空泵抽气口；12—真空泵接线口；13—清洗气源进气口Ⅰ、Ⅱ技术指标1、功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏操作界面，人机交互操作方便，界面友好；1.2微电脑控制整个清洗过程，全自动进行；1.3手动、自动两种工作模式；1.4采用电子流量计+手动微调阀的气路控制模式，标配双气路，最多可配置四气路；1.5可选择气体质量流量计（选配，最多4路气体）1.6弧形等离子激发板，等离子激发能力更强；1.7安全保护，气压阈值，切断高压；2、技术参数2.1舱体尺寸：D270*ø 150mm2.2舱体容积：5L2.3射频电源：40KHz2.4激发方式：电容式2.5射频功率：10~300W 2.6气体控制：电子流量计+旋钮式微调阀2.7产品尺寸：L460*W455*H237mm2.8真空泵抽速：2.9真空度：100Pa以内2.10电源：AC220V50-60Hz

瀚文HWPC-100型等离子清洗机仪器简介等离子清洗机是一种小型的非破坏性表面处理设备，它是采用能量转换技术，在一定真空负压的状态下以电能将气体转化为活性极高的等离子体，等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。应用领域等离子清洗技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。仪器构造正面示意图 背面示意图1—机箱；2—耐热玻璃清洗舱；3—清洗舱门；4—总电源开关5—五寸触摸屏；6—流量调节阀Ⅰ；7—流量调节阀Ⅱ8—选配清洗气源进气口Ⅲ、Ⅳ；9—散热风扇；10—电源输入插孔11—真空泵抽气口；12—真空泵接线口；13—清洗气源进气口Ⅰ、Ⅱ技术指标1、功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏操作界面，人机交互操作方便，界面友好；1.2微电脑控制整个清洗过程，全自动进行；1.3手动、自动两种工作模式；1.4采用电子流量计+手动微调阀的气路控制模式，标配双气路，最多可配置四气路；1.5可选择气体质量流量计（选配，最多4路气体）1.6弧形等离子激发板，等离子激发能力更强；1.7安全保护，气压阈值，切断高压；2、技术参数 2.1舱体尺寸：D270*ø 150mm2.2舱体容积：5L2.3射频电源：40KHz2.4激发方式：电容式2.5射频功率：10~300W2.6气体控制：电子流量计+旋钮式微调阀2.7产品尺寸：L460*W455*H237mm2.8真空泵抽速：2.9真空度：100Pa以内2.10电源：AC220V50-60Hz

伯东公司是美国考夫曼公司 Kuafman & Robinson,Inc（KRI) 中国总代理. KRI 考夫曼公司是由离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士于 1978年在美国创立. KRI 考夫曼离子源历经 40 年改良及发展, 受到各领域的肯定. KRI 离子源离子枪系列产品融合一系列等离子技术,提供了独一无二的操作与运行方式。KRI 离子源主要分为以下几类：无栅式端部霍尔离子源 eh eH 系列离子源离子枪可输出高离子流和低能源束。离子流达到高速运行需求的同时低能源束能够减少对设备外表面与内表面的伤害。有栅极射频感应耦合等离子体离子源 RFICP RFICP 系列离子源可以在无灯丝的情况下提供高密度离子流.从离子流中提取的离子束能够被精确的控制以便提供设定的形状,电流密度以及离子能。有栅极离子源 KDC KDC 系列离子源离子枪是根据典型的考夫曼离子源加强设计的。传统的离子源工艺使其能够输出高质、稳定的离子束。电源与控制器 我们的电源与控制器操作不同种类的离子、等离子以及电子源。这些产品能够为等离子流程中的动荷作用输出平稳、连续的电源。电子源与离子源离子枪中和器 这些电子源低能量、高电流源。它们一般应用于中和剂或阴极材料，以便控制离子源与等离子源的产量。PTIBEAMTM 离子透镜 我们的离子束源采用耐融金属或石墨的多孔径网格。这些网格或是平的，或是中凹的，它们与多孔模式一同控制离子轨迹。离子轨迹的聚集产生了离子束，离子电流的分布塑造了该离子束的形状特征。KRI 考夫曼离子源 EH1010F , EH1020F …系列广泛用于镀膜之前处理 (ISSP) 及离子辅助镀膜 (IBAD)且有助于提高光学成膜之沉淀速率, 附着度, 可靠度, 增加折射率, 穿透率等. KRI 考夫曼离子源 整体设计低耗材, 安装简易, 维护简单广泛应用在生产企业和科研单位KRI 考夫曼离子源 EH1010F, EH1020F, EH3050F, EH5050F…系列, 目前被广泛应用于 AR, IR, 分光镜, 光学蒸镀镀膜制程, 多层膜光学镀膜制程, 低温度膜制, PVD 制程, 材料分析等等… KRI 考夫曼离子源 EH1020F 蒸镀制程设备应用 伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。