搜索
我要推广仪器
下载APP
首页
选仪器
耗材配件
找厂商
行业应用
新品首发
资讯
社区
资料
网络讲堂
仪课通
仪器直聘
市场调研
当前位置:
仪器信息网
>
行业主题
>
>
射频等离子磁控溅射镀膜仪
仪器信息网射频等离子磁控溅射镀膜仪专题为您提供2024年最新射频等离子磁控溅射镀膜仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括射频等离子磁控溅射镀膜仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的射频等离子磁控溅射镀膜仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合射频等离子磁控溅射镀膜仪相关的耗材配件、试剂标物,还有射频等离子磁控溅射镀膜仪相关的最新资讯、资料,以及射频等离子磁控溅射镀膜仪相关的解决方案。
射频等离子磁控溅射镀膜仪相关的资料
双靶磁控溅射镀膜机及镀膜工艺
双靶磁控溅射镀膜机及镀膜工艺
SYS的(非)平衡磁控溅射镀膜机磁场模拟
SYS的(非)平衡磁控溅射镀膜机磁场模拟
磁控溅射ITO薄膜的低温等离子退火研究
磁控溅射ITO薄膜的低温等离子退火研究
磁控溅射放电等离子体模拟研究进展
磁控溅射放电等离子体模拟研究进展
CJ_500型磁控溅射多弧两用镀膜机的研制
CJ_500型磁控溅射多弧两用镀膜机的研制
平面直流磁控溅射放电等离子体模拟研究进展
平面直流磁控溅射放电等离子体模拟研究进展
有开放约束磁场磁控溅射系统等离子体引出
有开放约束磁场磁控溅射系统等离子体引出
小型磁控溅射仪/离子溅射仪简介
小型磁控溅射仪/离子溅射仪简介
小型磁控溅射仪喷镀Au,Pt薄膜
小型磁控溅射仪喷镀Au,Pt薄膜
二级溅射与磁控溅射原理对比
二级溅射与磁控溅射原理对比
CLDA_700磁控溅射离子镀设备
CLDA_700磁控溅射离子镀设备
碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究
碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究
闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究
闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀离化特性研究
非平衡度和闭合状态对磁控溅射离子镀过程的影响
非平衡度和闭合状态对磁控溅射离子镀过程的影响
磁控溅射ZAO薄膜的磁场研究
磁控溅射ZAO薄膜的磁场研究
磁控溅射成膜机理的计算机模拟研究
磁控溅射成膜机理的计算机模拟研究
磁控溅射ITO薄膜的退火处理
磁控溅射ITO薄膜的退火处理
磁控溅射对薄膜附着力的影响
磁控溅射对薄膜附着力的影响
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响
中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能_英文_
中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能_英文_
离子溅射镀膜法-原理
离子溅射镀膜法-原理
磁控溅射Si-Co多层膜的X射线小角衍射测试研究
磁控溅射Si-Co多层膜的X射线小角衍射测试研究
薄膜的磁控溅射沉积研究
薄膜的磁控溅射沉积研究
ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象
ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象
89摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究
89摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究
非平衡磁控溅射技术在薄膜制备中的应用研究
非平衡磁控溅射技术在薄膜制备中的应用研究
北京英格海德:薄膜的磁控溅射沉积研究
北京英格海德:薄膜的磁控溅射沉积研究
反应磁控溅射的进展
反应磁控溅射的进展
非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究
非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究
塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究
塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究
相关专题
核磁共振仪器导购专刊
锂电检测技术系列专题之成分分析
帕纳科革命性新品Zetium X射线荧光仪
防辐射服成“皇帝新装”——标准缺失,监管缺位
与时俱进 波谱仪器新技术/应用进展
食品中重金属污染的检测及应对方案
2013赛默飞色谱质谱光谱新品在行动
齐二药走出的杀手——亮菌甲素注射液追踪
国产离子色谱三十周年
马尔文帕纳科超级品牌日
厂商最新资料
相关方案
伯东 Pfeiffer 真空泵 HiPace 80 应用于磁控离子溅射镀膜仪
北京英格海德:薄膜的磁控溅射沉积研究
磁控溅射沉积扫描电镜SEM样品贵金属导电膜
上海伯东德国普发Pfeiffer 涡轮分子泵成功应用于磁控溅射
KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜
纳米颗粒与磁控溅射综合系统在1纳米颗粒膜制备中的应用
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
贵金属电极材料/喷金喷碳薄膜制备方案
天津兰力科:ZRNx快离子导体薄膜的制备及其Cr掺杂性能的研究
等离子清洗仪处理TEM透射电镜样品清洗和活化