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溅射台

仪器信息网溅射台专题为您提供2024年最新溅射台价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括溅射台参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的溅射台您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合溅射台相关的耗材配件、试剂标物,还有溅射台相关的最新资讯、资料,以及溅射台相关的解决方案。

溅射台相关的耗材

  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
  • 金靶溅射靶材Au
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 镍靶溅射靶材Ni
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:镍靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • PVD高纯溅射靶材
    这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料,完全在德国生产,拥有世界一流的产品性能,非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9
  • 金钯合金靶Au/Pd溅射靶材
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金/钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 贵金属溅射靶材(金靶铂金靶)
    金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材,有金靶、铂靶(白金)、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器,Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm,厚度在0.05-6mm之间的厚度靶材,需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材(4-304.8mm之间)。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号( AP60/40)直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0
  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 加热台
    产品简介:加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。
  • X射线样品台配件
    X射线样品台配件是X射线衍射仪高温附件适合多种应用,温度范围高达-196度(液氮)到1500摄氏度,是X射线高温样品台。X射线样品台配件特点结构紧凑,温度可变,温度可选范围高达零下196摄氏度到1500摄氏度,适合所有类型的显微镜,材料科学,光谱测量和电子研究。尺寸仅为13x13x2cm,可用于真空环境或空气以及其他气体环境。温度控制精度高达0.1摄氏度,可编程控制所有类型的时间和温 度。我们还能给X射线衍射仪高温附件提供窗口(包括光学窗口和X射线窗口),用于真空环境,从而使得样品台用于任何显微镜,傅立叶变换红外光谱仪FTIR,烂漫和X射线衍射仪装置。X射线样品台配件应用X射线衍射,拉曼光谱,材料科学,张力测量,热分析,SEM,TEM, FTIR,SAXS。X射线高温样品台配件温度范围范围1: 室温-60摄氏度范围2: -5到99摄氏度范围3:-25到120摄氏度范围4:-40到120摄氏度范围5:-196到420摄氏度范围6:-196到600摄氏度类型7:室温到1000摄氏度类型8:室温到1200摄氏度类型9:室温到1200摄氏度类型10:室温到1400摄氏度类型11:室温到1500摄氏度X射线样品台配件参数尺寸:13x13x2cm电源:115-220V, AC重量: 约800g温度分辨率:0.1摄氏度材料:铝质Felles公司专卖X射线样品台,X射线衍射仪高温附件,X射线高温样品台。
  • 海洋光学反射与透射支架台
    Stage-RTL-T型平台是一种新型采样系统,适用于分析如硅、金属、玻璃和塑料一类的材料。RTL-T与海洋光学的光谱仪和光源有多种组合方式,配合进行反射和传输测量 Stage-RTL-T包括一个附着在基座上的可调轨夹。有三个用螺丝固定在轨夹上的设备,包括一个带 UV-VIS校准镜头的光纤固定器;一个反射和传送的样品盒;一个光阱用来减少背射光和 环境光的影响。 STAGE-RTL-T型平台使用非常广泛:可以将探头放置在样品上或样品下(从下部测量时样品和探头要保持一个固定的距离)完成反射测量; 将光阱放置在适当的位置进行光反射测量;或使用两个光纤进行样品传输的测量。 STAGE-RTL-T型平台规格 尺寸(底座): 206.3 mm 尺寸 (样品区): 直径152.4 mm(样品架) 重: 4,500 g 高: 立杆可调至 400 mm
  • 高纯单质金属溅射靶材
    KJLS高纯金属材料靶材,已经广泛应用于各种行业,包括半导体、太阳能电池、电子、光学、LED、平面显示、航空航天、军工、装饰等工业用途及科研应用。为满足多领域多样化需求,可根据客户要求定制材料尺寸。
  • 海洋光学单点反射平台
    单点反射测量支架是一个探头支架,用于厚度达150mm的光学层和其它基底的反射测量。 这一探头支架适于固定直径达6.35mm的光学探头和其它取样设备,可以在一个不锈钢支柱上上下滑行,调节高度可达63.5mm。 反射台是电镀台面,表面刻有同心圆以确定直径,用于放置圆形样品。 规格 尺寸(基座): 直径为152.4mm 尺寸(样品区): 直径为101.6mm* 重量: 620 g 高度: 垂直可调高度63.5mm *指带有同心圆刻度的区域,用户也可利用整个基座的区域。
  • 太赫兹元件 太赫兹光栅 太赫兹衍射光栅
    Tydex生产的衍射光栅用于太赫兹频率范围的光谱测量。它们是凸面相位传输光栅。这种光栅的规则结构是通过在透明衬底上切割平行的破折号(凹槽)来实现的。衬底由太赫兹范围内透明的材料制成,如TPX(聚甲基戊烯)和ZEONEX(环烯烃聚合物)。光栅可用于:• 太赫兹光谱 • 太赫兹诊断仪器 • 光电设备 • 天文学和天体物理应用,包括天基 • 材料研究。光栅在0.3-3太赫兹范围内的以下传输频段有四个标准选项:0.28-0.55太赫兹 0.49 - -0.98太赫兹 0.87 - -1.75太赫兹 1.56 - -3.12太赫兹。其他频段0.3-3太赫兹范围内的光栅可根据客户要求生产。TPX和ZEONEX板在切割槽前的两侧抛光后的透射光谱如下图所示。 太赫兹光栅通常做成方形,一面35毫米到70毫米。其他形状和尺寸可根据需要提供。根据预期的应用,衍射光栅可以用于各种光学安排,有或没有聚光透镜。用夫琅禾费近似法计算了单色波的光栅参数、衍射波强度和一阶最大角。为了验证操作,并比较计算和实际参数,测量了光栅在不同太赫兹辐射源下的各种光学排列方式下的特性。使用了两个光源。第一种是远红外激光,这是一种亚毫米的甲醇蒸汽激光,由可调谐的CO2激光(Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University)泵浦。第二个是自由电子激光器(FEL),一种自由电子激光器(Siberian Synchrotron and THz Radiation Center, Budker Institute of Nuclear Physics, RAS)。图3和图4描绘了使用FIR激光器作为辐射源时,间距d=250 μm的TPX和ZEONEX光栅的单色波强度(λ=118 μm)与衍射角的关系。图5和图6给出了单色波的强度(λ=141 μm)对衍射角的影响。在第二种情况下,一个会聚透镜被放置在光栅和辐射传感器之间。这些图的比较表明,在第一种情况下,零阶和一阶极大值比透镜排列更宽。这是由会聚透镜使平行光束聚焦的结果。用户在根据自己的意图设计实验时,必须考虑到这一点。当光栅用于研究辐射源的特性(功率、光束形状、能量分布等)时,透镜是多余的。但当光谱线需要分辨时,透镜就变得必不可少。对于使用瑞利准则确定特定透射带的衍射光栅,衍射单色波的强度与波长有关。它在山脉中部达到最大值,在边界附近下降。例如,数据3-6结果表明,对于间距为250 μm的TPX和ZEONEX衍射光栅(透射波段为1.56 ~ 3.12 THz或96 ~ 192 μm), λ=141 μm单色波的一阶最大光强是λ=118 μm单色波的几倍。(第一个在传输带的中间,而第二个更接近边缘。)它与用夫琅和费近似计算的单色波理论衍射波强度和一阶最大角相匹配。由于测试光栅时使用的辐射源和光学安排不同,下面的强度以任意单位给出。研究数据表明,该方法具有较高的光学效率和运算最大值的分辨率。因此,这种光栅可以有效地用于研究辐射源的光谱,包括低功率源,这是研究太赫兹频率范围的一个重要能力。
  • X射线μ XCT加热台配件
    X射线μXCT加热台配件是高级温控加热平台,提供环境温度到600℃的温度范围,非常适合X射线μXCT和X射线衍射仪等应用,高效率加热样品。 X射线μXCT加热台配件是操作方便,可以在长时间的实验中连续使用。它设计紧凑和简单,确保可以轻易地安装到任何μXCT系统并完全适应市场上现有的μXCT系统。 X射线μXCT加热台配件具有高精度数字MTDC600可编程温度控制器。 MTDC600温度控制器可以通过软件或手动操作。增加了系统的适应性和灵活性。 X射线μXCT加热台配件特点 ? 温度控制范围宽 从室温到600°С ? 可编程温度控制器 ? 高精确度和高分辨率的温度测量和控制 ? 软件(通过USB2.0端口)或手动控制 ? 可移动盖子,方便样本进入 ?水制冷架 ? r循环水冷却器 ? 灵活的管道和电缆,安装方便 ? 样本夹持器基座的高度可以根据工作台要求的夹持器不同长度来设定 ? 最大制冷/加热率 100°C每分钟? 工作电压 115V or 230V X射线μXCT加热台配件规格 温度范围 环境温度至 600°C (其他根据要求) 温度分辨率 0.1°C 温度温度性 0.2°C 温度控制方法 切换 PID-PID 温度控制传感器RTD 样本区域 ? 6.3…40mm (每个需求) MTDC 温度控制器&软件 MTDC600是一款高性能温度控制器,分辨率为0.1℃和精确度为0.2°C。控制器MTDC600有一个内置电源,可以手动或通过一个USB2.0通信端口进行控制。软件为所有可能的实验提供了一个方便的平台。通过相应菜单,轻松选择PID参数,温度限制和控制要点。
  • 太赫兹源、探测器和元器件 TYDEX/BATOP
    Tydex公司专业订制生产THz光学镜片,可以提供太赫兹专用离轴抛物镜、滤波片、偏振片、窗片、透镜、棱镜、波片、分束片、反射镜和菲涅尔透镜等,同时还提供太赫兹衰减器、太赫兹宽带相位变换器。BATOP从事的专业领域包括:低温分子束外延技术,介质溅射镀膜,晶圆加工和芯片安装技术。在过去几年里, BATOP 已成为一个用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的世界领先的供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件,从可饱和吸收镜(SAM&trade ),到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止,可饱和吸收产品已经覆盖了800nm2.6µ m的常用激光波长范围。另一个产品系列是用于太赫兹发射和探测的太赫兹光电导天线(PCA)。BATOP不仅提供单带隙天线,还包括整合了微透镜的高能大狭缝交叉天线阵列和整套的太赫兹光谱仪。 本公司为您提供太赫兹光源、太赫兹探测器及各种太赫兹元器件: 01、太赫兹探测器 THz Golay cell 02、太赫兹低通滤波片 THz Low Pass Filter 03、太赫兹带通滤波片 THz Band Pass Filters 04、太赫兹偏振片 THz Polarizers 05、太赫兹衰减器 THz Attenuators 06、太赫兹窗片 THz Windows 07、太赫兹透镜 THz Lenses 08、太赫兹棱镜 THz Prisms 09、太赫兹波片 THz Waveplates 10、太赫兹宽带相位变换器 THz Board-band Phase Transformers 11、太赫兹光谱分光片 THz Spectral Splitters 12、太赫兹分束镜 THz Beam Splitters 13、太赫兹平面反射镜 THz Mirrors 14、太赫兹衍射光学器件THz Diffractive Optical Elements 15、太赫兹增透镀膜 THz AR Coatings 16、离轴抛物镜 OAP 17、太赫兹晶体 ZnTe 18、太赫兹光电导天线 PCA
  • 激光反射镜
    双线激光反射镜又名双激光谱线反射镜,是英文Dual Laser Line reflecting mirrors 的翻译。双线激光反射镜用于在两个不同的波带上实现进行高反或高透应用,入射角一般为45度。百分之百进口,质优价廉。双激光谱线反射镜采用多层镀膜,当可以在两个激光波长上实现最高的激光反射率。双线激光反射镜采用了离子束溅射技术(Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜,这些镀膜技术非常成熟,并且采用多层镀膜技术可以保证双线激光反射镜高功率应用。双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 技术指标基片尺寸公差:+0/-0.1mm基片波前畸变:基片表面质量:20/10 SD 40/20SD(曲面)镀膜粘附性和耐久性:Per MIL-C-675A净孔径: 90%镀膜反射率:R99,5% @ 0o Rs99,3% and Rp98,5% @ 45deg激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm进The measured transmission curve for dual wavelength HR coating (HR @ 515+1030 nm)双线激光反射镜,双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 询问服务:请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数,然后复制后直接通过Email发送给我们,您会收到及时的报价回复。Substrate material 基片材料 Shape 基片形状RectangularRound 请选择圆形或方型Dimensions 尺寸mm 如果是圆形就填写直径大小Thickness 厚度mm Type 类型Plano-ConcavePlano-ConvexOtherFlat/Flat如果您选择曲面镜片,请填写曲率半径 eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mmSurface figure L/4 L L/2 L/8Surface quality 20/1040/2060/40Parallelism error10arcsec1arcmin3arcminWedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3degCentral wavelenghs: eg. 1064nm+532nm Angle of incidence (AOI)deg Comments
  • 激光谱线反射镜
    这款欧洲进口激光谱线反射镜/(HR Laser Line mirrors )是一种高功率激光反射镜,比较适合关于中心波长百分之十范围内的激光高反使用。激光谱线反射镜,高功率激光反射镜在窄带上提供绝佳的高反性能,而且比较适合对反射要求较高的应用。这款激光谱线反射镜,高功率激光反射镜比较适合关于中心波长10%范围浮动的激光的高反应用,比如,HR@800nm, 比较适合反射的激光范围为760-840nm, 由于激光谱线反射镜适合的激光波段较窄,因此高功率激光反射镜常常被称为激光谱线反射镜Laser Line mirrors 或单波长激光高反镜。 这种激光谱线反射镜常常用于腔外激光束的操作应用,对激光束的反射要求非常严格,不允许存在透过激光的问题产生,常常使用这种单波段激光谱线反射镜,高功率激光反射镜,但是它只适合固定的入射角(常用45度),而且最好是单波长激光或对波带宽度要求很窄的激光。 单波长激光谱线反射镜,高功率激光反射镜采用了离子束溅射技术(Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜,这些镀膜技术非常成熟。 基片尺寸公差:+0/-0.1mm 基片波前畸变:基片表面质量:20/10 SD 40/20SD(曲面) 镀膜粘附性和耐久性:Per MIL-C-675A 净孔径: 90% 镀膜反射率:R99,6% @ 0o Rs99,8% and Rp99,3% @ 45o 激光损伤阈值:5-7J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm激光谱线反射镜,高功率激光反射镜问询: 根据如下格式填写您的要求,复制后发邮件给我们,我们将及时回复报价 Substrate material ShapeRectangularRoundElliptic Dimensionsmm Thicknessmm TypePlano-ConvexFlat/FlatPlano-ConcaveOther Radius of Curvature (ROC) for curved substrates only eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mm Surface quality20/1040/2060/4020/5 Central wavelengthnm Angle of incidence (AOI)deg Surface figure L/4 L L/2 L/8 Parallelism error10arcsec1arcmin3arcmin- WedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3deg Comments
  • 宽带激光反射镜
    这款宽带激光反射镜,HR Broad Band mirrors是欧洲进口的宽波段激光反射镜,非常适合宽范围波段的激光反射应用,比较适合大于关于中心波长10%范围浮动的激光的高反应用,比如,对用中心波长为800nm的激光,HR@800nm, 这种宽带激光反射镜就比较适合反射的激光范围为750-850nm 甚至更大的范围。 这种宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜常常用于腔外激光束的操作应用,对激光束的反射要求非常严格,不允许存在透过激光的问题产生,常常使用这种宽波段激光反射镜 ,但是它只适合固定的入射角(常用45度)。宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜采用了离子束溅射技术(Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜,这些镀膜技术非常成熟。 基片尺寸公差:+0/-0.1mm 基片波前畸变:基片表面质量:20/10 SD 40/20SD(曲面) 镀膜粘附性和耐久性:Per MIL-C-675A 净孔径: 90% 镀膜反射率:R99% @ 0o Rave99% @ 45o 激光损伤阈值:2-3J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜垂询格式: 如下是镜片的标准参数格式,请阁下仿照如下格式把您对镜片及其镀膜的要求发邮件给我们,我们会及时回复报价。Substratematerial 基片材料 CaF2, FS, ZnSe, UVFS, IRFSShape 形状Rectangular Round (方形还是圆形)Dimensions 尺寸 mm Thickness 厚度 mm Type 类型Other Flat/Flat Plano-Concave Plano-Convex Radius of Curvature (ROC) 曲率半径(对曲面镜而言) for curved substrates only eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mm Surface figure L/4 L L/2 L/8 Surface quality 表面质量20/10 40/20 60/40 Parallelism error 平行误差10arcsec 1arcmin 3arcmin Wedge No wedge 30arcmin 1deg 2deg 3deg Coatings on Side1 S1面镀膜例如. PR(R=80+/-2%)@1064nmCoatings on Side2 S2 面镀膜例如. AR(R0,2%)@1064nmAngle of incidence (AOI) 入射角Comments 评论订购数量
  • 锂影 多位样品台 其他X射线仪配件
    苏州锂影科技有限公司 X射线衍射仪用多位粉末样品架 产品信息X射线衍射仪用多位粉末样品架为锂影科技为日本理学smartlab衍射仪开发的一种部件,已经获得专利授权(201922379738.4)。也可以针对其它公司的各种衍射仪进行改造。 该样品架配合衍射仪的XY样品台使用,可以实现5个粉末样品的自动位置切换、高度对准以及XRD的测试,大大提升了仪器操作的便捷性。尤其是可以用其在夜间进行多个样品的自动连续测试,可以提高仪器测试效率。 耗材配件售后服务1、免费上门安装:否 2、保修期:1年 3、是否可延长保修期:是4、保内维修承诺:免费维修或更换5、报修承诺:24小时内响应,7日内解决问题6、免费仪器保养:无7、免费培训:1人次网上培训8、现场技术咨询:有 苏州锂影科技有限公司为您提供高端衍射仪个性化定制服务
  • 太赫兹衍射光栅,太赫兹光栅,THz Diffraction Gratings
    产品简介:Tydex推出的新产品太赫兹衍射光栅用于太赫兹频率范围的光谱测量。它们是凸面相位透射型光栅。这种光栅的规则结构是通过在透明衬底上切割平行的凹槽来实现的。衬底由太赫兹波段的透明材料制成,如TPX(聚甲基戊烯)和ZEONEX(环烯烃聚合物)。太赫兹衍射光栅应用:• 太赫兹光谱 • 太赫兹诊断仪器 • 光电设备 • 天文学和天体物理应用,包括天基 • 材料研究。太赫兹衍射光栅性能特点:在0.3-3THz范围内,我们有四个太赫兹光栅的标准产品选项:0.28-0.55THz 0.49 - -0.98THz 0.87 - -1.75THz 1.56 - -3.12THz。其他频段0.3-3THz范围内的光栅可根据客户要求生产。TPX和ZEONEX板在切割槽前的两侧抛光后的透射光谱如下图所示。太赫兹光栅通常做成方形,变长一般为35mm到70mm。其他形状和尺寸可根据需要提供。根据预期的应用,太赫兹衍射光栅可以用于各种有或没有聚焦透镜的太赫兹光学实验。我们用夫琅禾费近似法计算了单色波的光栅参数、衍射波强度和一阶最大角。为了验证操作,并比较模拟计算和实际测量参数,我们测量了太赫兹光栅在不同太赫兹辐射源下de特性。使用了两个光源。第一种是远红外激光,这是一种亚毫米的甲醇蒸汽激光,由可调谐的CO2激光(Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University)泵浦。第二个是自由电子激光器(FEL),一种自由电子激光器(Siberian Synchrotron and THz Radiation Center, Budker Institute of Nuclear Physics, RAS)。图3和图4描绘了使用FIR激光器作为辐射源时,间距d=250 μm的TPX和ZEONEX光栅的单色波强度(λ=118 μm)与衍射角的关系。图5和图6给出了单色波的强度(λ=141 μm)对衍射角的影响。在第二种情况下,一个会聚透镜被放置在光栅和辐射探测器之间。这些图的比较表明,在第一种情况下,零阶和一阶极最大值比有透镜的光路更宽。这是由会聚透镜使平行光束聚焦的结果。用户在根据自己的意图设计实验时,必须考虑到这一点。当光栅用于研究辐射源的特性(功率、光束形状、能量分布等)时,透镜是多余的。但当光谱线需要分辨时,透镜就变得必不可少。对于使用瑞利判据确定特定透射带的衍射光栅,衍射单色波的强度与波长有关。它在曲线中部达到最大值,在边界附近下降。例如,数据3-6结果表明,对于间距为250 μm的TPX和ZEONEX衍射光栅(透射波段为1.56 ~ 3.12 THz或96 ~ 192 μm), λ=141 μm单色波的一阶最大光强是λ=118 μm单色波的几倍。(第一个在传输带的中间,而第二个更接近边缘。)它与用夫琅和费近似计算的单色波理论衍射波强度和一阶最大角相匹配。由于测试光栅时使用的辐射源和光学实验配置不同,下面的强度以任意单位给出。研究数据表明,该方法具有较高的光学效率和运算最大值的分辨率。因此,这种光栅可以有效地用于研究辐射源的光谱,包括低功率源,这是研究太赫兹频率范围的一个重要能力。
  • Tydex 太赫兹衍射光学器件
    Tydex公司专业订制生产THz光学镜片,可以提供太赫兹专用离轴抛物镜、滤波片、偏振片、窗片、透镜、棱镜、波片、分束片、反射镜和菲涅尔透镜等,同时还提供太赫兹衰减器、太赫兹宽带相位变换器。 太赫兹衍射光学器件THz Diffractive Optical ElementsBeam handling is required in many THz applications. Currently it is carried out by parabolic mirrors and refractive optics. However diffractive optics opens up new, basically different opportunities of beam handling since it allows realizing spatial transformation of THz beam.To satisfy needs in diffractive optics for THz range we have developed calculation methods and manufacturing technology of the following diffractive optical elements (DOE):- THz Fresnel lenses,- THz beam dividers.Commom Specification: 类型太赫兹菲涅尔透镜太赫兹分光器 材料 HRFZ-Si HRFZ-Si 机械直径 to 55 mm to 55 mm 光学直径 to 50 mm to 50 mm 厚度 1 mm 1 mm 波长范围 60-250 µ m 60-250 µ m 衍射效率 40% 80% 镀膜 双面减反射膜 双面减反射膜
  • 太赫兹光电导天线太赫兹天线THz antennas PCA
    太赫兹光电导天线太赫兹天线THz antennas PCA产品简介 光电导天线是目前THz时域光谱仪中常用的THz产生与探测器件,生产工艺已经趋于成熟。上世纪 80 年代,太赫兹之父 D.Grischkowsky 等人利用光电导天线产生了 THz 辐射。这种方法发展到现在,已经成为一种较为普遍的实验方法。如下图,偶极天线结构被制作在低温生长的GaAs 上,利用光子能量大于 GaAs 禁带宽度的超短脉冲激发天线装置,是半导体内部产生电子-空穴对,这些载流子再外加电场的作用下将会加速运动形成一个瞬态电流,从而辐射出 THz 脉冲。Batop公司简介 BATOP GmbH成立于2003年,是一家曾隶属于德国耶拿大学的私人创新型公司。BATOP从事的专业领域包括:低温分子束外延技术,介质溅射镀膜,晶圆加工和芯片安装技术。Batop的一个主要的产品系列是用于太赫兹发射和探测的太赫兹光电导天线(PCA)。BATOP不仅提供单带隙天线,还包括整合了微透镜的高能大狭缝交叉天线阵列和整套的太赫兹时域光谱仪。 太赫兹光电导天线的激发波长为800nm到1550nm之间。BATOP借助强大的研发能力来不断提高自己的产品, 我们始终和客户在一起,很好的满足他们的需求。 光电导天线选型推荐天线类型 发射探测低频段高频段低激发光强高激发光强蝴碟形天线++ ++ +--+平行形天线+ ++-+ ++-领结形天线++ +++ +-天线阵列+ ++ + -+ +-+ +领结指间形天线 +++++ +-螺旋形天线+ ++ ++ +-+-PCA 产品列表激发光波长 530 nm ... 860 nm激发光波长 800 nm ... 1100 nm激发光波长 1000 nm ... 1550 nm光导天线封装形式以及相关附件:
  • 实验级THz-TDS
    太赫兹时域光谱系统BATOP GmbH是一家创新型公司,从事的专业领域包括:低温分子束外延技术,介质溅射镀膜,晶圆加工和芯片安装技术。BATOP的一个主要产品系列是用于太赫兹发射和探测的太赫兹光电导天线(PCA)。BATOP不仅提供单带隙天线,还包括整合了微透镜的高能大狭缝交叉天线阵列和整套的太赫兹光谱仪。?TDS10XX台式太赫兹时域光谱仪 产品特性: 光谱范围最高可至3.5THz 带透射测试样品仓,可充氮气 针对小样品可选聚焦太赫兹光束 有额外端口,适用于外部光纤耦合测试 可选x-y-z样品位移台,用于3D扫描透反射测试 T3DS软件支持?FC TDS 1550nm光纤耦合太赫兹时域光谱系统 主要参数: ?FS TDS 1060nm自由空间太赫兹时域光谱系统产品特性: 光谱范围最高可至2.5THz 太赫兹发射和探测模块 780nm自由空间可选 T3DS软件支持主要参数:
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