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化学机

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化学机相关的仪器

  • 化学机械磨抛机 400-860-5168转5919
    SL-1023化学机械磨抛机,适用于 CMP 平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。超平不锈钢抛光盘(平面度为每 25mm×25mm 小于 0.0025mm)。超精旋转轴(托盘端跳小于 0.01mm)。 设有两个加工工位,可分别进行控制。配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。 配置自动滴料器,流量速率可视化调整, 自动研磨和抛光。配置 GPC-100A 精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。 研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。产品名称SL-1023化学机械磨抛机产品型号SL-1023安装条件本设备要求在海拔 1000m 以下,温度 25℃±15℃ , 湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及下排水www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地3、气:无4、工作台:尺寸 800mm×600mm×700mm,承重 200kg 以上5、通风装置:不需要主要参数主机部分GPC-100A 精密磨抛控制仪自动滴料器1、电源:220V2、功率:450W3、磨抛盘转速:10-240rpm4、磨抛工位:2 个5、摆臂调节档位:1-15 档6、托盘端跳:0.008/250mm7、不锈钢磨抛盘: φ300mm8、载样盘 : φ 105mm9、修盘环 : φ 127.5mm1、载样盘直径:Ø 103mm2、载样盘轴向行程:12mm3、数显表精度:0.001mm4、载样盘可调加载压力: 0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程: 1g-5000g6、样品装卡方式:真空吸附7、承载样件尺寸:直径≤103mm、厚度≤12mm8、尺寸:外径 146mm,高 266mmSKZD-2 滚筒滴料器1、容积:1.5L2、流量:0-35ml/min3、尺寸:170×290×350mm; 重量:3kgSKZD-4 自动滴料器1、加液泵:4 个2、料液瓶:600ml/瓶3、计时范围:1-999min4、流量:0.1ml/min-10ml/min5、尺寸:230×370×450mm; 重量:10kg产品规格:尺寸:550mm×700mm×420mm 重量:74Kg序号名称数量图片链接1铸铁磨盘 ( Ф300mm 花盘)1 个2不锈钢磨盘 ( Ф300mm 平盘)1 个3载物盘(陶瓷)1 个4修盘环(陶瓷)1 个www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司5抛光垫(磨砂革、合成革、聚氨酯)各 1 片6磁力片(带背胶)2 片7研抛底片2 片8刚玉研磨微粉0.5kg9石蜡棒4 根10二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.051 瓶www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司客户信息:化学机械磨抛机标准配置单序号产品编号产品名称规格单位数量备注图片(仅供参考)1化学机械磨抛 机SL-1023台1主机2铸铁磨盘Ф300mm 花盘件13不锈钢磨盘Ф300mm 平盘件1441031929载料盘Ф 105mm个1陶瓷541031930修盘环Ф 127.5mm个1陶瓷651020117磨砂革抛光垫Ф300mm片1带背胶751020127合成革抛光垫Ф300mm片1带背胶851020135聚氨酯抛光垫Ф300mm片1带背胶951020226磁力片(带背 胶)Φ300mm片2其中一个 粘在不锈 钢磨盘上1051020232研抛底片Φ300mm片21151020030刚玉研磨粉W14kg0.51251010107石蜡棒Φ8*100mm根4粘接剂1341030436螺丝刀5*75 一字个1www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司1441030049内六角扳手2.5 L 型个11541030070内六角扳手3 L 型个11641030086内六角扳手4 L 型个11741030103内六角扳手5 L 型个11841030119内六角扳手6 L 型个11941030137内六角扳手8 L 型个12041020198增强管φ 14 PVC 纤 维增强m22141020295增强管φ25 PVC 纤 维增强m22241020086喉箍φ 18-32 不 锈钢个22341020211喉箍φ 13-19 不 锈钢个22442010061国标电源线3*1.5 方 /1.5m个12551020576二氧化硅悬浮 抛光液2040 W0.05kg51 瓶2641050004锁扣式夹板箱930*790*590个127合格证份128说明书份1www.vector-tek.com wangyu@vectorer.com.cn深圳市矢量科学仪器有限公司
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  • 化学开封机EliteEtch 400-860-5168转6076
    化学开封机-Elite EtchRKD SYSTEMS是专注于失效分析样品制备和开封的一家美国公司,已成立超过20年。其核心的产品包括化学开封机(Elite Etch)和晶背减薄机(UltraPreplll Model2500)化学开封机EliteEtch规格参数190 x 320 x 305 mm设计更精巧,占地面积更小,1米2的通风柜即可。温度范围发烟硫酸: 20 -250°C /发烟硝酸: 20 - 90C混酸: 20 - 100c/ 混酸(专利): 10 -100C ( 选购)如果客户铜线小于0.8MIL以下时,RKD ETCH Decap可升级为ETCH CU,拥有USA专利的低温冷却系统,混酸最低可达10C(选项)。抽酸流量1-6 ml / minuteRKD ETCH 流量范围大,速度更快。蚀刻头组件固定式碳化硅(保固2年)RKD ETCH 保固2年。N2气体支持2.0 lpm (安全盖子+泵)60-70psiRKD ETCH更节省N2气体。采用自动高低压气体转换系统和安全盖内部安全气压补充。不会有CHECK COVER报警。安全1、自动显示错误信息。2、EMO紧急停止按扭。3、漏酸侦测在设备内部和瓶子BOX里4、采用光纤感应盖子的密合度(不是耗材)5、所有管路一体化设计,双层保护套,并且酸瓶盒配有盖子EMO紧急停止按扭漏酸光纤侦测在设备内部和瓶子BOX里.管路双层保护套,酸瓶盒配有盖子,只有Sesame 707拥有,更安全设计。废酸瓶3个RKD ETCH新设计的退酸冷却系统,可将废酸退入一个瓶子,从而减少了一个退酸阀件的耗材和保养。固定样品方式盖子盖下以后,自动从上到下,直接固定样品固定样品时,样品不会向前少量滑动。定位比较准确。密封圈圆型(不是耗材)密封圈是圆型设计,密度高,无须更换操作方式可在通风柜外手持式操作 (更安全)操作和机台是分体式的。较不易被酸侵蚀。保修期整机保固一年/蚀刻头保修2年/微量泵保修5年保修期更长。自动酸清洗选项0-20秒(可选择硫酸,硝酸,混酸清洗或不清洗)可混酸清洗是RKD ETCH 的一个特别设计。可用在铜线的应用。安全证明CE 、SEMI S3-93 、SEMI S2000 、ROHSRKD ETCH 是更符合世界安全标准。开封垫圈1套可共用蚀刻方式脉冲式和互惠式只有RKD ETCH的独特设计,在操作脉冲式,互惠式或自动酸洗时,可以做相应的参数调整。采用新型泵,速度快30%化学开封机EliteEtch样品图片
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  • 化学机械抛光机 400-860-5168转1329
    化学机械抛光机CP-6概述RTEC化学机械抛光机CP-6采用专业的方式研究和表征CMP工艺。 除了抛光晶圆和基板外,测试仪还配有在线表面轮廓仪。这种组合提供了有关表面、摩擦、磨损等变化的原因和方式的信息。测试仪还可以测量几个内联参数,如摩擦力、表面粗糙度、磨损量等,以便详细了解过程。特点l集成的共聚焦3D显微镜,可以用nm分辨率表征抛光垫表面l内联摩擦、声发射研究抛光过程l内联温度传感器l可安装多种晶圆尺寸l可控制的下压力和速度 标准配置有X、Y平台,可在抛光和成像位置之间移动压板。此外,XY平台有助于在抛光过程中振荡晶圆。使用带有XY驱动器的压板允许多轴驱动组合来创建自定义运动,以模拟接近现实生产环境的测试条件。内联传感器扭矩 - 高分辨率内联扭矩传感器可实现端点定位,并实时表征表面;声学 - 声音信号,允许定性终点或帮助检测抛光过程中的碎片、缺陷。温度 - 焊盘和靠近晶圆抛光表面的区域的在线温度监控有助于研究去除机制。 可编程负载、速度 为了优化过程,CP-6允许使用基于配方的软件控制和改变力、速度、流速。 易于使用 摩擦测量仪配有快换载体,可轻松安装晶圆和焊盘。该软件带有预定义的测试标准配方,或者可以轻松创建新的自定义配方。集成在线3D轮廓仪 Rtec化学机械抛光机配有内联集成的3D轮廓仪。经过优化,可以表征具有nm分辨率的抛光垫表面。探测器配有共焦模式+干涉仪模式+暗场和明场模式。 这允许以nm分辨率研究表面变化与时间的关系。该测试仪允许在大表面积上自缝合,以进行体积磨损,粗糙度计算。
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  • 适用于化学和生物实验室液体试剂泄漏吸附。特点:惰性材料,不含有害物质。由大量不可见的气孔组成,具有高效的吸附能力,可吸附强酸强碱。符合欧盟ROHS指令和2011/65/EU修正指令(EU)2015/863限值要求的检测报告。惰性材质,不含任何危险物质,由大量不可见气孔组成,具有高效的吸附能力,能吸附所有液体,尤其对化学品,可安全吸附强酸,强碱,腐蚀性液体及其他危险液体,适用于化学和生物实验室液体试剂泄漏应急处理等一些突发紧急情况。
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  • 高纯化学试剂 400-860-5168转2205
    高纯化学试剂 公司多年来自主研发晶体生长,靶材制备,具有多种高纯化学试剂的供应能力,愿为广大科研工作者提供方便。名 称纯 度名 称纯 度Tm2O35NYb2O34NDy2O34NLaTiO34NDy2O33N5Ni2O34NEr2O34NY2O34NLu2O34N5ZnO4NSm2O33NCuO4NSm2O35NCaCO34NSc2O34NBaCO34NGd2O34NTiO24NMnO23NBi2O34NWO33N5Ni4NV2O53NCu4NTa2O34NFe3NAl2O3(α相)5NMg3NLa2O34NSi4NSnO24NGa2O34N下载附件:
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  • L级光化学反应系统 400-860-5168转1712
    L级光化学合成系统,因其反应处理量的数量级为升,因此命名为L级。L级光化学合成系统是光照下的流动式反应器,主要应用于中小试规模的光化学反应,为后续更大规模的生产设备提供基础支撑,尤其是医药合成、原料药中间体、精细化学品的光合成过程,也可用于实验室内的光催化反应研究。应用领域▲特别适用 ●较为适用 ○可以使用中小试放量生产:▲ 医药分子合成▲ 有机光合成▲ 精细化工品合成▲ 液相光催化反应关键特征● 高功率密度柔性光源,使用寿命长,光谱波段可定制;● 可定制双光源,提高光照效率或用于双波长调控的两步连续反应;● 管釜串联模式,实现半间歇式循环流动体系,提高原料的转化效率;● 内置强化混合的L级连续流管式光反应器,减小因局部浓度过高引发的副反应;● 物料釜和反应管双水浴降温,减少热引发的副反应;● 兼容液-液、液-固、气-液等多种非均相反应体系;● 物料输送过程可监测,便于控制反应进程,调控反应条件;● 反应系统历史运行数据可查阅、可导出。基本参数反应模块● 反应器材质:高硼硅玻璃 ● 光反应管容积:1.2 L ● 光反应管内径:40 mm ● 适用温度:常温 ● 适用压力:常压 光源模块● 光源类型:柔性LED ● 光源波长:标配240 nm,可按需定制 ● 光源功率:标配600 W,可按需定制 常规参数● 循环流量:≤0.65 m/s ● 原料反应釜容积:5 L,可按需定制容积,可增设光源 ● 外观尺寸:930×600×1500 m3
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  • 产品介绍SEED-PM多功能违禁品检测仪是基于离子迁移谱(IMS)探测原理的安全检测设备,可快速、准确地检测并判断痕量化学毒剂种类,产品性能达到同类产品国际先进水平。采用智能算法,快速筛查,提升安检效率,同时,操作简单,导向式维护,便于用户使用。该产品适用于机场、火车站、海关、边防、公安、国防、缉私、消防、军队等部门。技术特点&bull 化学毒剂、工业毒气一机检测,功能齐全;&bull 智能算法,快速报警,分析时间用户可选;&bull 一键式开机就绪,无需人工干预;&bull 通讯接口丰富,支持系统组网;&bull 功耗低,待机时间长,便于长时间使用技术参数探测原理离子迁移谱技术样品采集方式吸气取样 可检测样品军事毒剂:塔崩(GA)、沙林(GB)、梭曼(GD)、维埃克斯(VX) 、维埃斯(VS)、氮芥(HN3)、氢氰酸(AC)、光气(CG)等化学气体。工业毒气:氨气(NH3)、氯气(Cl2)、甲醛(HCHO)、甲苯等有毒有害气体。探测限沙林(GB)0.5mg/m3 预热时间≤10min分析时间2~32秒报警形式声光和可视报警,也可选择隐蔽报警显示4.3英寸彩色液晶触摸屏数据存储可存储不少于300,000条检测记录;通讯方式以太网、USB接口及无线上传数据输入电压输入电压(AC):110V/220V、工作电压(DC):50/60Hz 24V工作温度温度-20℃到+55℃,相对湿度≤95%RHTEL: 182 2118 5243
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  • 化学发光读板机 SpectraMax L Molecular Devices 公司的化学发光读板机 SpectraMax L 根据当今重要实验室的需要提供灵敏、可靠、灵活的检测模式,自动化控制的选项以及验证工具。该系统是检测化学发光中快反应和慢反应包括双荧光素酶报告基因、水母发光蛋白 GPCR 筛选、BRET 和吖啶脂快反应理想的仪器,适用于 96 和 384 孔两种微孔板。针对中通量需求及二级筛查实验室,化学发光读板机 SpectraMax L 可升级至多通道配置,从而使通量提高 6 倍。标准化的 SoftMax Pro 软件能避免导出数据到电子数据表程序的繁琐步骤,可进行对仪器的管理控制以及在 GxP环境下的结果整理。SoftMax Pro GxP 和其软件认证包提供完整的文档和广泛的数据,集合于 CD-ROM 格式可迎合 FCA 21CFR Part 11 条款和 GxP 依从需要。 仪器优势:1.降低检测下限的同时做到对低达 0.2fg 萤火虫荧光素酶(慢反应)或 20amol ATP(快反应)化学发光信号的高灵敏检测。2.在 96 或 384 孔板体系上通过手动或自动切换光学孔径使空间干扰降到尽可能低, 保证信号分辨能力。3.专有的同步模拟和单光子计数能力可以提供超过 9 个数量级的动态检测范围, 确保对所有信号水平的检测。 关键特点:1.出色的灵敏度2.低背景和孔间干扰3.多通道配置提高 6 倍通量4.注射器自动冲洗获得优良表现5.大于 9 个数量级动力学范围6.IQ/OQ,软件和 FDA CFR 21 PART 11 条款7.契合工具标准化的 SoftMax Pro8.数据分析软件 更低的噪音:超快光子计数技术是通过快速脉冲放大器在光电倍增管将信号放大。这种降低噪音的能力使得在实验室检测中获得更高的信噪比和更低的孔间干扰。 大于 9 个数量级动力学范围:专有的同步模拟和光子计数能力可以提供超过 9 个数量级的动力学范围,避免了为维持光微弱样品检测的优异灵敏度而对明亮样品进行稀释。 速度明显提升:化学发光读板机 SpectraMax L 有单通道、双通道(PMT) 配置。对于快反应和慢反应,如水母发光蛋白 GPCR 和双荧光素酶报告基因筛选实验 (Figure 1),选择两通道配置带 4个注射器,通量得到双倍的提高。 双通道配置可带 0、2 或 4 个注射器。对于生物发光共振能量转移的快反应和慢反应实验,带 4 个注射器的反应速度均是传统快反应及慢反应速度的 2 倍;带 2 个注射器,快反应上速度与传统快反应相同,但慢反应比传统速度提高了 2 倍;不加注射器,慢反应速度比传统速度提高了 2 倍。 Figure 1. Multi-channel GPCR agonist screening AqueoZen H1 cells expressing histamine H1 receptor. EC 50 curves are shown for histamine (blue) and HTMT (red). Read on a 6-channel SpectraMax L Reader. Figure 2. Multi-channel precisionPMT to PMT RLU precision on four wells ranging in brightness from 8,000 to 1,600,000 RLU read on a 2-channel SpectraMax L Reader using the automatic internal LED PMT calibration method. Figure 3. User-friendly softwareSoftMax Pro Software has user-friendly graphing functions and spreadsheet capabilities. Figure 4. Integrated stacker OptionThe SpectraMax L Reader is easily integrated with the optional StakMax Microplate Stacker from Molecular Devices for automated multiplate assays. 自动和手动校准 PMT化学发光读板机 SpectraMax L 的多通道配置提供了两种用来校正 PMT 光谱敏感度的方法。自动 PMT 校准方法是基于 4 个内部的 LED 分别在 395 nm、470 nm、527 nm和 570 nm 的读数。Figure 2 显示出基于 LED 方法校准的 2 个独立 PMT 在不同密度孔中读值的精确度。手动 PMT 校准方法是基于实验本身的 4 孔读数。 可选配精准和可靠、可自动冲洗的注射器化学发光读板机 SpectraMax L 可选配的新一代注射器在现有的平台中可获得更佳的结果和更优异的仪器表现。例如,为了避免沉淀物对注射器管路的堵塞,当仪器过夜待机的时候注射器管路中的试剂必须被冲洗干净。化学发光读板机 SpectraMax L 拥有自动清洗的功能特质,可在每次仪器使用过后设定程序自动清洗注射器,并且可反向设定液流方向以便在清洗开始前把管路中未使用的试剂倒流回瓶中。而且当辅助注射器维护程序应用时,每 7.5×107 μL被注入后自动注射计数器会发出一次警告。 容易操作,标准化的软件仪器控制、数据收集和数据优化分析可以通过 SoftMax Pro 软件集于一体,进行一步管理。数据可以通过应用预设的公式和用户定义的公式进行分析。结果显示在微孔板的每孔中。可很方便的绘制图表并使用图表公式做标记 ( 见 Figure 3 )。 整合堆板机和机械臂配套Molecular Devices 提供 StakMax 微孔板堆板机与 化学发光读板机 SpectraMax L进行配套 ( 见Figure 4 )。可选横向和纵向两种置板方式进行读板,为与第三方液流处理机械臂的整合及优化实验台空间使用提供了灵活方便的设置。
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  • 申贝科学仪器化学泄露应急处置箱是公共卫生应急事件处理预案中所必须具备的个人防护装备之一,适用于疾病预防控制中心、卫生监督所、卫生健康局等卫生系统,化学泄露应急处置箱可以保障现场工作基本需求,提高卫生应急现场工作的机动能力和工作效率及规范。 配置物品数量 简要技术规格 备注半面型呼吸防护套装1套能配合各种滤盒、滤棉,能有效过滤颗粒性病菌.有机气体等卫生装备参考目录防护服1套符合国家技术规范要求卫生装备参考目录护目镜1副飞溅、灰尘或研磨颗粒防护,镜片防雾卫生装备参考目录手套2副胶料制成,防酸碱卫生装备参考目录口罩2个符合国家技术规范要求卫生装备参考目录防化靴套1双无纺布材质,带防化涂层卫生装备参考目录免洗手消毒液1瓶大于50ml卫生装备参考目录皮肤洗消罐1瓶对多种化学腐蚀剂的喷溅均可有效清洗,避免灼伤卫生装备参考目录洗眼器1套针对氢氟酸喷溅与灼伤事故的紧急救助卫生装备参考目录吸附棉1包可吸收大部分酸性、碱性和其他性质未知的液体卫生装备参考目录吸收颗粒1包可吸收大面积遗撒的酸性、碱性和其他性质未知的液体卫生装备参考目录活性炭吸附剂2包略卫生装备参考目录折叠式工具铲1个略卫生装备参考目录
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  • UNIPOL-1203化学机械磨抛机,适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。 1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm)。2、超精旋转轴(托盘端跳小于0.01mm)。3、设有两个加工工位,可分别进行控制。4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。产品名称 UNIPOL-1203化学机械磨抛机产品型号 UNIPOL-1203安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地3、气:无4、工作台:尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上5、通风装置:不需要主要参数 主机部分1、电源:220V2、功率:450W3、磨抛盘转速:10-240rpm4、磨抛工位:2个5、摆臂调节档位:1-15档6、托盘端跳:0.008/250mm7、不锈钢磨抛盘:φ300mm8、载样盘:φ105mm9、修盘环:φ127.5mmGPC-100A精密磨抛控制仪1、载样盘直径:Ø 103mm2、载样盘轴向行程:12mm3、数显表精度:0.001mm4、载样盘可调加载压力: 0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程:1g-5000g6、样品装卡方式:真空吸附7、承载样件尺寸:直径≤103mm、 厚度≤12mm8、尺寸:外径146mm,高266mm自动滴料器SKZD-2滚筒滴料器1、容积:1.5L2、流量:0-35ml/min3、尺寸:170×290×350mm; 重量:3kgSKZD-4自动滴料器1、加液泵:4个2、料液瓶:600ml/瓶3、计时范围:1-999min4、流量:0.1ml/min-10ml/min5、尺寸:230×370×450mm; 重量:10kg产品规格 1、外形尺寸:550mm×700mm×420mm2、重量:74Kg序号名称数量图片链接1铸铁磨盘(Ф300mm花盘)1个2不锈钢磨盘(Ф300mm平盘)1个3载物盘(陶瓷)1个4修盘环(陶瓷)1个5抛光垫(磨砂革、合成革、聚氨酯)各1片6磁力片(带背胶)2片7研抛底片2片8刚玉研磨微粉0.5kg9石蜡棒4根10二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.051瓶序号名称功能类别图片链接1YJXZ-12搅拌循环泵(可选)2精密测厚仪(可选)3陶瓷研磨盘(可选)4玻璃研磨盘(可选)5磁性树脂金刚石研磨片(可选)
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  • 仪器简介:核化应急检测箱 突发事件应急检测箱 标准配置 ⑴检测管、⑵气体采集器AP-20(2支)、⑶远距离采集管SH-5N(5m)、⑷切割器、⑸使用后检测管收集容器、⑹核辐射检测判断仪,检测可包括x射线,r射线,阿尔法射线和贝塔射线。⑺使用说明书、定型作业图、铝合金箱体。防毒面具一个。 ⑴检测管: 是一种使用简便、价格低廉的气体检测工具,可以定量、定性、定值地检测有害的气体先用定性检测管判断那种物质存在,再用定量检测管判断该有害气体的含量。 1.检测管适用行业 煤矿和石油化工行业的安全防护应急检测;突发事件的应急检测;生产设备动火和进入密闭设备前的安全分析;用于检查生产设备管道泄漏情况;用于大气、水质等环境监测和工业设备废水污染监测;用于各种地质勘探和矿山开采中地下溢出的气体和污染分析 2.特点: (1)对大多存在可燃性易爆气体、有毒气体及窒息性气体,放射性物质的放射性都可定量测量 ①操作简便:将检测管插在手动气泵上抽(100ml)定量气体即可。 ②分析速度快:一般仅需几十秒至几分钟即可得知结果,其分析速度是任何化学分析和仪器方法不能比拟的。 ③测量精度高:该方法准确度误差一般有效量程为7%~15%, ④适应性好:每种检测管都有1种到几种不等的大小范围的选择。 ⑤使用安全:使用时手动操作,无需要电源、热源,在有易燃易爆气体存在的场所能安全使用。 ⑥价格低廉、携带方便:该产品虽然是一次性使用,但与其它化学和仪器方法测量的总价格比起来,还是便宜,而且又不需要维护修理,则更显得低廉。检测 管体积小,重量轻,便于操作人员在各种环境下使用。 ⑦识别性强。可以测定各种有害气体,并可实现在一定程度上的选择性识别。 ⑵气体采集器:配合检测管使用 ⑶远距离采集管:连接采集器,可以使操作人员不用到危险区域就能将检测管伸到那里而进行检测。 ⑷切割器:检测管为真空玻璃管,切割器用来打开检测管两端,才能检测。 ⑸收集容器:收集废管 ⑹使用说明书:内含中/日文说明书。 ⑺铝合金箱体:上面的东西都会装在一个箱子中,便于携带。技术参数:核化应急检测箱 突发事件应急检测箱 标准配置 ⑴检测管、⑵气体采集器AP-20(2支)、⑶远距离采集管SH-5N(5m)、⑷切割器、⑸使用后检测管收集容器、⑹核辐射检测判断仪,检测可包括x射线,r射线,阿尔法射线和贝塔射线。⑺使用说明书、定型作业图、铝合金箱体。防毒面具一个。 ⑴检测管: 是一种使用简便、价格低廉的气体检测工具,可以定量、定性、定值地检测有害的气体先用定性检测管判断那种物质存在,再用定量检测管判断该有害气体的含量。 1.检测管适用行业 煤矿和石油化工行业的安全防护应急检测;突发事件的应急检测;生产设备动火和进入密闭设备前的安全分析;用于检查生产设备管道泄漏情况;用于大气、水质等环境监测和工业设备废水污染监测;用于各种地质勘探和矿山开采中地下溢出的气体和污染分析 2.特点: (1)对大多存在可燃性易爆气体、有毒气体及窒息性气体,放射性物质的放射性都可定量测量 ①操作简便:将检测管插在手动气泵上抽(100ml)定量气体即可。 ②分析速度快:一般仅需几十秒至几分钟即可得知结果,其分析速度是任何化学分析和仪器方法不能比拟的。 ③测量精度高:该方法准确度误差一般有效量程为7%~15%, ④适应性好:每种检测管都有1种到几种不等的大小范围的选择。 ⑤使用安全:使用时手动操作,无需要电源、热源,在有易燃易爆气体存在的场所能安全使用。 ⑥价格低廉、携带方便:该产品虽然是一次性使用,但与其它化学和仪器方法测量的总价格比起来,还是便宜,而且又不需要维护修理,则更显得低廉。检测 管体积小,重量轻,便于操作人员在各种环境下使用。 ⑦识别性强。可以测定各种有害气体,并可实现在一定程度上的选择性识别。 ⑵气体采集器:配合检测管使用 ⑶远距离采集管:连接采集器,可以使操作人员不用到危险区域就能将检测管伸到那里而进行检测。 ⑷切割器:检测管为真空玻璃管,切割器用来打开检测管两端,才能检测。 ⑸收集容器:收集废管 ⑹使用说明书:内含中/日文说明书。 ⑺铝合金箱体:上面的东西都会装在一个箱子中,便于携带。 最低成交价格RMB15500.00 产品因为技术性能的升级和更新,恕不通知。 如有什么问题,请您及时的联系我们。 Email: 主要特点:核化应急检测箱 突发事件应急检测箱 标准配置 ⑴检测管、⑵气体采集器AP-20(2支)、⑶远距离采集管SH-5N(5m)、⑷切割器、⑸使用后检测管收集容器、⑹核辐射检测判断仪,检测可包括x射线,r射线,阿尔法射线和贝塔射线。⑺使用说明书、定型作业图、铝合金箱体。防毒面具一个。 ⑴检测管: 是一种使用简便、价格低廉的气体和放射线检测工具,可以定量、定性、定值地检测有害的气体先用定性检测管判断那种物质存在,再用定量检测管判断该有害气体的含量。
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  • 简介电化学腐蚀摩擦磨损试验机主要用于测定材料在特殊腐蚀环境下的摩擦磨损性能。根据美国ASTM 199关于腐蚀磨损的标准,配有腐蚀检测腔体,特殊设计夹具, 三电极系统以及集成电化学工作站,具有特殊设计的液池,可适用于润滑油、体液、海水等腐蚀性液体介质。可模拟多种腐蚀环境进行摩擦磨损的检测,同步集成电化学工作站数据。 参数说明l测试系统可用载荷范围:0.1N-5KN可提供传感器组选项:0.5N-50N、1N-100N、2N-200N、10N-1000N、20N-2000N、50N-5000N金属、陶瓷材料和润滑油宏观力学性能测试仅供往复模块,往复频率70Hz,往复行程max=25mml加载模式多种施力模式:恒力模式、线性增量模式、动态加载模式等 通过伺服机械系统动态加载,这种加载方式不但可以对曲面实现动态恒力加载,而且还能有效地消除高速状态下加载所引起的误差。并且动态加载对同一区域进行几次测试,得到的曲线具有良好的可重复性。l数据采集原位检测:摩擦力、摩擦系数、负载、扭矩、临界载荷、表面接触电阻、电容、表面声波、磨损量、环境温度,腐蚀次电位,腐蚀电流等多个实验数据信息的实时监测记录,并配备相应软件,可直接对实验数据进行图像化处理,方便观察。l其他参数静态和动态摩擦载荷范围:1 mN 至 1 KN可控温度范围:-25 to 150℃可控湿度范围:10 to 95% RHpH值可测超低速(0.1微米/秒)粘滑测试摩擦磨损测试线性运动:运动频率范围0.1 to 60 Hz,运动范围:50 μm to 25 mm旋转运动:顺时针旋转速度:0.1 to 3000 rpm 逆时针旋转速度:0.001 to 100 rpm电化学模块,电气绝缘防飞溅腔室三电极系统(参考电极、反电极、工作电极)动态和被动的液体循环
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  • 大面积光化学太阳光模拟光化学是研究光与物质相互作用所引起的化学效应的化学分支学科。光化学*定律仅被物质吸收的光才能引起光化反应的定律,亦称作光化活性原理(principle of photochemical activation)或格络塞斯、德雷珀定律(Grotthuss Draper’s law,1818)。事实表明,光化学*定律在生物的光化反应上也是成立的,如视觉中暗适应周围视觉的相对光谱亮度曲线与视紫红质的吸收波谱相一致,光合作用波谱与叶绿素之类的吸收波谱甚相对应等说明了这个问题。光化学第二定律爱因斯坦在1905年提出,在初级光化学反应过程中,被活化的分子数(或原子数)等于吸收光的量子数,或者说分子对光的吸收是单光子过程(电子激发态分子寿命很短,吸收第二个分子的几率很小),即光化学反应的初级过程是由分子吸收光子开始的,此定律又称为Einstein光化当量定律。E=hv= hc/λλ——光量子波长h ——普朗克常数c——光速E=N0hv= N0hc/λN0——阿伏加德罗常数Λ=400nm,E=299.1kJ/mol  Λ=700nm,E=170.9kJ/mol由于通常化学键的键能大于167.4kJ/mol,所以波长大于700nm的光就不能引起光化学离解。分类美国ace glass 光化学反应系统光化学过程可分为初级过程和次级过程。初级过程是分子吸收光子使电子激发,分子由基态提升到激发态,激发态分子的寿命一般较短。光化学主要与低激发态有关,激发态分子可能发生解离或与相邻的分子反应,也可能过渡到一个新的激发态上去,这些都属于初级过程,其后发生的任何过程均称为次级过程。例如氧分子光解生成两个氧原子,是其初级过程;氧原子和氧分子结合为臭氧的反应则是次级过程,这就是高空大气层形成臭氧层的光化学过程。分子处于激发态时,由于电子激发可引起分子中价键结合方式的改变,使得激发态分子的几何构型、酸度、颜色、反应活性或反应机理可能和基态时有很大的差别,因此光化学反应比热化学反应更加丰富多彩。光化学反应已经广泛用于合成化学,由于吸收给定波长的光子往往是分子中某个基团的性质,所以光化学提供了使分子中某特定位置发生反应的*佳手段,对于那些热化学反应缺乏选择性或反应物可能被破坏的体系,光化学反应更为可贵。大气污染过程也包含着极其丰富而复杂的光化学过程,例如氟里昂等氟碳化物在高空大气中光解产物可能破坏臭氧层,产生臭氧层“空洞”。区别光化学过程是地球上*普遍、*重要的过程之一,绿色植物的光合作用,动物的视觉,涂料与高分子材料的光致变性,以及照相、光刻、有机化学反应的光催化等,无不与光化学过程有关。近年来得到广泛重视的同位素与相似元素的光致分离、光控功能体系的合成与应用等,更体现了光化学是一个极活跃的领域。但从理论与实验技术方面来看,在化学各领域中,光化学还很不成熟。研究内容●烯烃光化学●芳烃光化学●羰基化合物光化学●共轭烯酮光化学●偶氮化合物光化学●重氮化合物光化学●叠氮化合物光化学●有机硫化物光化学●光敏氧化反应●光催化●超分子光化学●光电化学●生物光化学大面积光化学太阳光模拟1光谱范围 350nm-2500nm,可选配延长*14μm2光斑面积30cm-10米(可定制)3空间不均匀度为+/- 5%(ASTM E927)。4照度6万lux-10万lux可调(可以做道20万lux)5光功率:1000w/m²-2000 w/m²6.光谱匹配度:除700-800nm以外在400-1100nm范围内均为A即7 增大光照强度可以直接更换大功率灯泡无需更换电源8 电源采用特殊设计可以有效延长灯泡使用寿命
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  • 创升 化学镀精密过滤机 HFG系列全过滤量:30-520 L/min主要材质:GFRPP耐温范围:0~75℃滤芯支数:10”×4支,20”×(1-18)支,30”×18支应用于电镀、表面处理、金属精饰、PCB蚀刻设备、制药环保等创升 化学镀精密过滤机 HFG系列型号说明 HFG - 206 1 P F E B J 1 2 3 4 5 6 7 8 1、HFG-机型编号 2、202-20"x2支 104-10"x4支 212-20"x12支 318-30"x18支 3、配泵功率 0-1/2HP 1-1HP 2-2HP 3-3HP 5-5HP 4、配泵泵体材质 P-FRPP K-PVDF 5、出入口方式 F-法兰式 U-由任式 6、橡胶材质 V-VITON E-EPDM N-NBR 7、B-滤芯锁帽式 P-滤纸式 U-滤袋式 8、出入口规格 J-JIS(日规JP) D-DIN(德规) A-ANS(美规) PCB耐碱过滤机产品特点:1、采用磁力驱动防腐泵或轴封式离心泵作液体输送动力可选。2、整机全PP或PVC可选。3、自吸能力强,抗腐蚀性强、耐强酸、强碱。4、滤心式设计,高精密过滤,过滤面积大,效率高,操作简单,清洗容易。5、马达防护罩,确保马达在酸气中不易受腐蚀。6、同一型可做不同之滤材变化使用:滤心螺帽式、滤低压盘式、滤布压盘式, 可加装 自己循环回路,活性碳处理装置,使用性碳中心可再加装一支滤芯,操作简单
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  • pBD5CWA2290-106AH化学毒剂侦检仪,化学毒剂检测仪,人防毒剂报警器便携式化学毒剂战剂探测仪CWD2290 传感器性能:型号106AH测试气体电离势10.6eV 的气体离子化能量10.6eVz低探测限5ppb线性量程50ppmz大测试值1000 ppm重复精度±1%FS预热时间/分钟15使用温度-40~+40oC,max to 60oC使用湿度0-90%,无结露响应时间/秒3秒安全指标IECEx Ex ia IIC T4 ATEXEEx ia II 1G -40oC +40oC灯泡使用寿命18 个月*表中浓度以异丁烯/isobutylene 为标准。*灯泡可以更换。仪器制造标准规范: 作业环境气体检测报警仪通用技术要求 GB 12358-90便携式化学毒剂战剂探测仪BD5 分析器技术指标 Specifications显示 器:2×16 LCD电源:9V充电 电池响应时间: 1ms电池连续工作:10 hr/掉压报警环境温度:-30℃~70℃(处理器)处理器尺寸:98W×180H×35D环境湿度:0%~90%R(处理器)分析器分辨率:24位(FS=+/-1280mV)CWD2290 传感器规格:ND扩散式可选ND+Wxm投入式扩散式与电缆组合作成投入式,便于测试人员不可及的位置 x 代表要订几米导线 SP泵吸式采样SP+Pxm导引式用气管和泵组合,可以将人员不可及的位置的气体抽入测试 x 代表要订几米管 CWD2290 探测技术指标:Gas NameGas NameformulaMolecular weight探测限Phorate (ISO)甲拌磷C7H17O2S3P260Phosphine磷化氢PH334WMD ArsineWMD 胂AsH378100ppbWMD CKCK 氯化氰 ClCN6260ppbWMD Lewsite路易氏剂C2H2AsCl320750ppbWMD Mustard GasHS 芥子气C4H18SCl215955ppbWMD N-Mustard GasHS n-芥子气C4H18SCl217255ppbWMD PhosgeneWMD 光气COCl299WMD SarinGB 沙林C4H10PO2F140155ppbWMD SomanGD 索曼C7H116P02F182160ppbWMD TabunGA 塔崩C5H11PN20216260ppbWMD VXC11H26PNS0226750ppbWMD GFC7H14P02F180165ppbWMD DMMPC3H9P03124250ppbWMD Triethyl hosphate WMD 磷酸三乙酯C6H15P03182175ppbWMD Methyl alicylateWMD 甲基水杨酸C8H19O415250ppbjun事毒剂战剂探测仪特点:本仪器能保证所列常见毒气都被定量报警,但无法识别特定气体。不能排除气体气体干扰。内置单片机微机任何温度只需插入样品,即刻读出浓度值惰性气体调零,标准样品,或替代品标定全部操作键盘设置,窗口提示可以量化单纯气体的浓度,同时提供8个标定表供用户自行建立没有提供数据库的气体的标定数据。可用键盘选择要测试的气体种类。 应用 Application:jun事毒剂,战剂等探测 用途:消防/反恐防爆/人防仪器简介:BD5 测试仪系智能系统,内置单片微机,系统设计有先进的硬件系统。所有数据可以掉电保存。每种仪器都提供专业的分析/测试技术。具有现场总线支持能力和RS232/485通信接口。可以刷新程序。BD5测试仪使大多数仪器将能提供全范围测试,省去量程选型的麻烦。北斗星手持式传感器,巧妙地设计,即可以雷同一般仪器使用,又可以直接用于磨口瓶,也可以用管螺纹连接于管线进行临时连续检测。
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  • 货号适用仪器型号说明参数分析方法包装量程2125825-CNDR6000 紫外-可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,低量程,HW,pk/25化学需氧量化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L 低量程;化学需氧量(COD) 8000 20-1500mg/L;化学需氧量(COD) 8000 20-1,500mg/L25/pk3-150mg/L,COD2125825-CNDR3900 可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,低量程,HW,pk/25化学需氧量化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L 低量程;化学需氧量(COD) 8000 20-1500mg/L;化学需氧量(COD) 8000 20-1,500mg/L25/pk3-150mg/L,COD2125825-CNCOD-60A 高锰酸盐指数分析仪rr化学需氧量(COD)消耗试剂,低量程,HW,pk/25化学需氧量化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-150mg/L;化学需氧量(COD) 8000 3-150mg/L 低量程;化学需氧量(COD) 8000 20-1500mg/L;化学需氧量(COD) 8000 20-1,500mg/L25/pk3-150mg/L,COD
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  • CMP化学机械抛光机 400-860-5168转3282
    第一、产品简介:韩国CTS公司的AP300型CMP化学机械抛光机是一款科研级的CMP系统,采用CTS公司工业级的设计理念,为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的化学机械抛光高端设备,可兼容4寸,6寸,8寸,12寸样品。第二、产品主要特色:1、CMP抛光头:采用气囊加载模式,5区压力独立控制,可得到良好的工业级抛光效果;2、自动上下片,自动抛光,干进湿出;3、抛光垫修整器:摆臂式设计,由13个传感器分别控制13个区域的下压力,可保证抛光垫高水平修整;4、抛光垫修整器:具有在线修整与离线修整两种模式;5、工艺数据可实时监测;6、可存储多个Recipe.第三、核心技术参数:抛光头兼容4寸,6寸,8寸,12寸抛光头摆动范围±15mm抛光头转速0-200rpm 抛光头加压方式气囊柔性加压背压功能(-区加压)抛光头压力范围0.14-14 psi抛光盘尺寸20英寸抛光盘转速0-200 rpm蠕动泵2个抛光液流速20-500 cc/min抛光垫修整器分区13区抛光垫修整器在线扫描速度10sweeps/min抛光垫修整器下压力3-20lbs抛光垫修整器转速0-150rpmCMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma,去边5mm 5%CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma,去边5mm 3%仪器尺寸1000×2030×2100(W× L× H, mm)冷却系统包含四,应用实例:CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜,STI等工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发
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  • 货号适用仪器型号说明参数分析方法包装量程2415925-CNDR6000 紫外-可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程+,pk/25-化学需氧量(COD) 8000 200-15,000mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-15,000mg/L-200-15,000mg/L2415925-CNDR3900 可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程+,pk/25-化学需氧量(COD) 8000 200-15,000mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-15,000mg/L-200-15,000mg/L2415925-CNCOD-60A 高锰酸盐指数分析仪rr化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程+,pk/25-化学需氧量(COD) 8000 200-15,000mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-15,000mg/L-200-15,000mg/L
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  • 货号适用仪器型号说明参数分析方法包装量程2415825-CNDR6000 紫外-可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,超低量程,pk/25COD(化学需氧量)8000消解比色-0.7-40.0mg/L2415825-CNDR3900 可见光分光光度计rr化学需氧量(COD)消耗试剂,超低量程,pk/25COD(化学需氧量)8000消解比色-0.7-40.0mg/L2415825-CNCOD-60A 高锰酸盐指数分析仪rr化学需氧量(COD)消耗试剂,超低量程,pk/25COD(化学需氧量)8000消解比色-0.7-40.0mg/L
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  • 便携式化学毒剂检测仪PGas200-CWAD-4S是一款总体构成全覆盖的毒剂报警检测仪器。pGas200 便携式化学毒剂检测仪采用多探头组合结构,实现对多样气体快速检测。可以在1分钟内获取气体的基本成分信息,用于巡回检查,也可以长时间连续监测。接长采样管,可以在掩体中监测外面的气氛毒性。充电电池供电,每次充电可连续工作供电15-30Hr.连接电源,可以连续运行。PGas200-CWAD-4S化学毒剂检测仪测试参数:Dominical Sensitive Gas安装的传感器Sensors Insallted传感器输入Range/ppm测试范围Tech.技术LifeInformation4sCl2 氯气3E 500-5 / 0–50EC2yAlso sensitive to I2 and Br2,and ClO2( 对I2、Br2和ClO2有响应)√COCl2 光气 3E 10.02–1EC12m√HCN 氰化氢3E 30F0.3–30EC18m√CWA 化学毒剂有毒气体0.005-50PID1y响应含磷毒剂和常见毒气√便携式化学毒剂检测仪特点优势:内置单片机微机快速检测参数和温度值,并进行温度矫正和交叉矫正24组数据记录,可设置自动或手动记录RS232/485双工接口,可与微机联机采样惰性气体软件调零,标准样品或替代品标定全部操作键盘设置,窗口提示化学毒剂检测仪应用:含磷毒气快速安全检测含磷营地连续安全监测 掩体内检测或外部环境毒性检测公共安全检测/监测测试仪功能:现场LCD 4×16字符式轮换显示多项环境参数越限报警,报警限可设置RS232/RS485通信接口支持串行通信,可与计算机联机数据记录24组。可阅读泵采样取样用户也可以自行标定或校准便携式化学毒剂检测仪PGas200-CWAD-4S技术指标: BD4主机测试ADC分辨率: 0.025%FS 电化学探头准确度: ±1-2%读数(一般) 长期稳定性: +/-10% /年 (一般) 分析器响应时间: 100ms 探头预热时间:1min 仪器使用环境: 温度:-30℃~60℃ 湿度: 0%~95%R(无结露) 仪器保存环境: 温度: 0℃~50℃ 湿度:10%~80%R(无结露) 供电: 5-12V充电;充电器接220V AC 连续使用时间: 24Hr/每次充电 电池置放时间1周。电气功能及性能:请参考〖BD4/BD5智能变送器/测控器简介〗机箱耐候: IP10;可以订做 IP54.机箱尺寸: W240xH132xD300便携式化学毒剂检测仪 PGas200-CWAD-4S化学毒剂毒气检测仪厂家 含磷毒剂侦检仪,北京市北斗星工业化学研究所研制出品。
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  • 货号适用仪器型号说明参数分析方法包装量程2125925-CNDR6000 紫外-可见光分光光度计化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程,HW,pk/25COD(化学需氧量)8000 DR800低量程, 中量程, 高量程25/pk0-150mg/L,COD2125925-CNDR3900 可见光分光光度计化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程,HW,pk/25COD(化学需氧量)8000 DR800低量程, 中量程, 高量程25/pk0-150mg/L,COD2125925-CNCOD-60A 高锰酸盐指数分析仪化学需氧量(COD)消耗试剂,高量程,HW,pk/25COD(化学需氧量)8000 DR800低量程, 中量程, 高量程25/pk0-150mg/L,COD
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  • 北斗星在线式化学毒剂探测仪,CPT2312-CWD化学毒剂报警器专业厂家【适用环境】 1) 毒气探测、报警2) 环境督察3) 泄露探测4) 毒pin等危险品探测5) 毒气探测6) 农药,杀虫剂等探测7) 多种单气毒剂浓度测试 CPT2312-CWD(适用化学毒剂探测)技术参数:仪器型号CPT2312-CWD 在线式化学毒剂探测仪探测气体1) 有机磷气体:0.1-100ppm2) HD:0.02-20ppm3) L:0.02-20ppm4) GA,GB,GD,GF,GE,Vx,Ve,VG, VS,VR,HS,HD,HT,HN,Lewisite,M-1,MD , ED, DA, CDA, BZ, CN, CNS,PS, CN-PS/CNB,Adamsit, CN-DM,BA, CA, CD,传感器技术指标1) 检测量程:1-30ppm2) 响应时间: 10ms3) 重复精度:£ ±3%F4) 毒剂检测(比PID方法的优点是只响应有毒气) 缺点:对CO不灵敏 北斗星在线式化学毒剂探测仪名称在线式化学毒剂探测仪信号输出0-20MA或4-20MA准确度≦±1%FS重复性≦1%报警方式声光二重报警工作电压12-24V直流电源工作温度-40℃~70℃工作湿度0-95%RH传感器寿命1-2年防爆等级Ex dⅡCT6产品照片
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  • 飞安级电化学工作站 400-860-5168转6172
    一、仪器介绍MT-FAEC100飞安级电化学工作站是一款满足电化学测量需求的通用电化学工作站,集成了多种电化学测试技术,主要用于研究电极与电解质界面之间的电化学反应机制、动力学特性以及材料的电化学性能。通过精确控制电位、电流和时间等参数,电化学工作站能够解决从基础电化学研究到材料开发、能源存储与转换、腐蚀防护等多个领域中的关键问题。二、主要参数电位范围±5 V槽压±15 V恒电位仪上升时间0.8 s恒电位仪带宽(-3分贝)1 MHz电流分辨率0.01 pA电流量程5 pA~200 mA,共12档参比电极输入阻抗1000 T || 1 pF输入偏置电流<150 fA通道数2(可定制)三、电化学工作站技术电化学技术支持(√)选配(●)电位扫描循环伏安(CV)√多扫速循环伏安(MVCV)√分段循环伏安(MSCV)√线性扫描伏安(LSV)√塔菲尔曲线(TAFEL)√电位阶跃/脉冲阶梯波伏安(SCV)√计时电流(CA)√计时电量(CC)√差分脉冲伏安(DPV)√常规脉冲伏安(DNPV)√方波伏安(SWV)√多电位阶跃(ESTEP)√恒电流技术计时电位(CP)√电流扫描计时电位(CPCR)√多电流阶跃(ISTEP)√电位溶出分析(PSA)√基于时间电流-时间曲线(i-t)√差分脉冲电流检测(DPA)√双差分脉冲电流检测(DDPA)√三脉冲电流检测(TPA)√积分脉冲电流检测(IPAD)√扫描-阶跃混合方法(SSF)√开路电位-时间曲线(OCPT)√交流技术交流(含相敏)伏安(ACV)√二次谐波交流(相敏)伏安(SHACV)√傅里叶变换交流伏安(FTACV)√交流阻抗测量(IMP)●交流阻抗-时间曲线(IMPT)●交流阻抗-电位测量(IMPE)●其他技术电化学噪声测量(ECN)√外部信号记录√任意波形输入√外部电位输入√第三方开发√
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  • 化学毒剂检测报警仪是我们自主设计制造的基于离子迁移谱(IMS)技术的一款探测痕量化学毒剂及工业有毒气体的专用设备,具有在线、快速、准确地探测痕量化学毒剂及工业有毒气体的功能,具有性能稳定、易于使用、耗材成本低、维护方便等优势。化学毒剂检测报警仪通过对人员密集场合的大气进行吸气取样分析,仪器定性报警来锁定军事毒剂及工业有毒气体的存在和种类。随着当前国内国际反恐形势的日益严峻,成为军事反恐、人群聚集场所安全监测不可或缺的产品。功能特点灵敏度高,可区分化学毒剂种类彩色液晶触摸屏,界面直观易用设备维护简单,无需定期维护分析速度快,只需2~10秒即可检出便携、灵活性强可检测种类沙林(GB)、索曼(GD)、维埃克斯(VX)、芥子气(HD)、甲醛等有毒有害气体并能根据需要随时添加新样本应用领域交通部门安检:机场、火车站、汽车站、地铁站、高速公路检查站、港口等大型活动,重要人物、建筑物的安保消防、特警大队反恐和突发事件的应急响应等执法部门:公安局执法,司法局取证违禁品检测:监狱、看守所、海关、边防、法庭、邮局、检验检疫、快递公司等
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  • 在线式化学毒剂检测仪 ,W-BD5-CWA-106AH化学毒剂探测仪,化学毒剂报警器生产厂家在线式化学毒剂监测报警器(人防用)W-BD5-CWA-106AH 一、化学毒剂检测仪适用环境:1) 毒气探测、报警2) 环境督察3) 泄露探测4) 毒pin等危险品探测5) 毒气探测6) 农药,杀虫剂等探测7) 多种单气毒剂浓度测试 二、在线式化学毒剂检测仪检测气体如下:M如下G106AH传感器技术参数 Detection Specifications型号106AH测试气体电离势10.6eV的气体离子化能量10.6eVzui低探测限5ppb线性量程50ppmzui大测试值1000 ppm重复精度±1%FS预热时间/分钟15使用温度-40~+40oC,max to 60oC使用湿度0-90%,无结露响应时间/秒3安全指标IECEx Ex ia IIC T4 ATEX EEx ia II 1G -40oC Ta +40oC灯泡使用寿命18个月探测气体1) 有机磷气体:0.1-100ppm2) HD:0.02-20ppm3) L:0.02-20ppm4) GA,GB,GD,GF,GE,Vx,Ve,VG, VS,VR,HS,HD,HT,HN,Lewisite,M-1,MD , ED, DA, CDA, BZ, CN, CNS,PS, CN-PS/CNB,Adamsit, CN-DM,BA, CA, CD,传感器技术指标1) 检测量程:1-30ppm2) 响应时间: 10ms3) 重复精度:£ ±3%F4) 毒剂检测(比PID方法的优点是只响应有毒气) 缺点:对CO不灵敏 三、在线式化学毒剂检测仪技术参数:名称在线式化学毒剂监测报警器信号输出0-20MA或4-20MA准确度≦±1%FS重复性≦1%报警方式声光二重报警工作电压12-24V直流电源工作温度-40℃~70℃工作湿度0-95%RH传感器寿命1-2年防爆等级Ex dⅡCT6产品照片分体式: 一体式 四、标准规范:作业环境气体检测报警仪通用技术要求 GB 12358-90。
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  • 得利特化学试剂结晶点测定仪A2103适用标准:GB/T618,主要用于化学试剂结晶点的分析测定。 得利特化学试剂结晶点测定仪A2103仪器特点1、 数码控温、操作方便2、 采用**压缩机Danfoss(Secop),制冷快速、稳定可靠3、 自动搅拌,大大降低工作强度4、 双层真空玻璃浴,控温精zhun,便于观察5、 德国**温度传感器(PT100)得利特化学试剂结晶点测定仪A2103技术参数&bull 冷槽控温: -35~30℃&bull 分辨率: 0.1℃&bull 加热功率: 600W&bull 制冷功率: 800W&bull 试样搅拌: 60次/分钟&bull 浴液搅拌: 自动搅拌(功率6W,1200r/min)&bull 环境温度: ≤30℃&bull 相对湿度: ≤85%&bull 储运温度: (-25~55)℃&bull 供电电源:交流220V±10% 50Hz±10%&bull 功 率: 2kw&bull 外形尺寸:400mm x530mm x650mm(主机)外形尺寸:500mm x570mm x600mm(主机)
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  • 如同当年的JetEtch一样,Nisene公司最新一代的全自动湿法化学芯片开封系统JetEtch Pro再一次以杰出的安全性与性能引领行业。 美国Nisene科技集团有限公司从事集成电路失效分析的自动开封装置研发超过40年,拥有多项电化学及微波等离子开封机技术的专利。CuProtect工艺 - 美国专利8,945,343 B2-用施加的电压解封装。 TotalProtect Process - 美国专利9,543,173 B2-用施加的电压和冷却系统解封装。 PlasmaEtch Process - 美国专利9,548,227 B2 - 使用等离子体放电管的微波诱导等离子体。引领行业的化学芯片开封系统----JetEtch Pro 美国 Nisene Technology Group 生产的 JetEtch 自动开封机,可采用双酸刻蚀,并利用负压喷雾技术进行刻蚀。根据不 同的器件封装材料和尺寸,可设定不同的试验条件,进行定位刻蚀。主要可设置的试验参数包括:采用刻蚀酸的种 类、刻蚀酸的比例、蚀刻温度、蚀刻时间、酸的流量(酸的用量)、清洗的时间等。同时采取漩涡喷酸的方式,可大 大降低用酸量,从而能够比较精确地去除掉芯片表面的封装材料,达到较好的开封效果。根据器件的不同封装形式, 可选取不同封装开口模具,可控制开口的位置和大小,目前配有的开口模具有多种,基本满足目前的封装需要,如 适用 DIP/SIP,PLCC,OFP,PBGA,芯片倒装 BGA 和 S0 小外型封装。 Nisene 是世界领先的专注从事失效分析自动开封、IC 芯片去层、塑封蚀刻技术研究和设备制造的美国公司,有着 28 年的自动开封和蚀刻研发制造历史, Nisene 科技公司很荣幸的介绍我们的新一代性酸液自动化开封 机 (Decapsulator)。我们命名为 JetEtch pro,正如其名,一个符合当今 IC 封装之开封机设计要求,新型 Jetetch 第二代的开封机秉持着我们对半导体去除处理的一贯的承诺证明了 Nisene 科技公司为符合现在直至来失效分析专业需求而 提供创新,高质量设备产品的传统; 今日 JetEtch pro 硬件,操作系统和软件完全重新设计并保留了以前熟悉的、精 密的设计以呈现比以往更灵活设计的开封机。 JetEtch pro 操作简易、直觉的软件透过简单编程的顺序逐步引导操作 员。一但设定完成,只以二个击键便使软件能完成一整个蚀刻程序。?JetEtch Pro自动解封装置作用和特点:基于以下原因,我们需要将IC塑封材料进行去除: 1. 检查IC元件为何失效; 2. 执行质量控制检测和测试; 3. 为了研发的要求对芯片的设计进行修订。 最初出现的是手动开封,为了检查芯片的一些缺陷而手动去除芯片外面包裹的塑封材料。但是手动开封存在着安全性不够高,重复性较差,精度控制非常低,开封速度不够快等问题。为此在这个基础上NISENE研制出自动开封机JetEtch Pro,以解决手动开封存在的问题。JetEtch Pro系统通过用酸腐蚀芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装内的芯片。去处塑料的过程又快又安全,并且产生干净无腐蚀的芯片表面。整个腐蚀过程是在一定压力下的惰性气体中完成的,不但能降低金属氧化而且降低了产生的废气。这套系统被设计成在极少培训的条件下安全并易于使用。 JetEtch pro CuProtect 一些特性和优点表现如下: 1. 铜线开封技术,专利的离子保护铜线技术。2. 一条高亮度六线字母数字的显示在所有情况排烟柜的照明下保证绝佳的可见性;3. JetEtch pro CuProtect 为不同的构装类型可充分地编辑程序和存放 100 组蚀刻程序。JetEtch pro CuProtect 在产业呈 现的准确性和功能性无可匹敌;4. 温度选择和自动精确温度检测;升降温时间快,硝酸与硫酸的切换使用只需很小的时间;5. JetEtch pro CuProtect 酸混合选择:JetEtch pro CuProtect 软件可以使用硝酸、硫酸或混合酸,另含 13 组混酸比率;6.具有专利技术的泵浦可以达到精准酸的配比和最快的腐蚀效率7. 蚀刻剂混合选择确保准确性及重复率,1ml~6ml/sec 的酸量选择能提供更好的腐蚀效果;8. 专利 JetEtch pro CuProtect 电气泵和蚀刻头配件组;9. 蚀刻剂流向选择:涡流蚀刻和脉冲蚀刻,JetEtch pro CuProtect 废酸分流阀;10. 不会有机械损伤或影响焊线;不会有腐蚀性损伤或影响外部引脚;可以选择硝酸、冷硫酸进行冲洗或不冲洗;11. 无需等待,完全腐蚀一颗样品最多只要 1~2 分钟;12. 通常使用的治具会与设备一同提供;通常情况不需要样品制备;13. 酸和废酸存储在标准化的酸瓶中;14. 设备小巧,只需很小的空间摆放;安全盖净化:安全、简单、牢靠。例子:详细参数:尺寸主机(mm/英寸) 290 高 x 290 宽 x 419 深 / 11.5 高 x 11.5 宽 x 16.5 深瓶柜(mm/英寸) 230 高 x 110 宽 x 110 深 / 9 高 x 4.25 宽 x 4.25 深 重量 (KG/磅)17 / 38 (包含瓶柜和附件) 电源350 W @ 95 - 130 VAC or 350 W @ 210 - 250 VAC 压缩空气/氮气要求压缩空气 4.2 kg/cm2 / 60 –100 psi氮气供应 2.8公升/分钟 / 0.1 立方英尺/分钟 可用的蚀刻液蚀刻液流量:脉冲模式1、2、5或1-10mL/min 涡流模式1-6mL/min烟硝酸烟硫酸硫酸(浓缩试剂)硝酸:硫酸混合比例:6:1, 5:1, 4:1, 3:1 硫酸:硝酸混合比例 6:1, 5:1, 4:1, 3:1 温度范围硝酸 20 – 90(°C)硫酸 20 – 250(°C)混合酸 20 – 100(°C) 蚀刻时间和方式(用户可选)1–1800秒可调,1秒的增量脉冲蚀刻模式, 涡流蚀刻模式程序容量: 100,用户自定义 升温时间(用户可选)0 – 120 秒可调,1秒的增量 清洗硫酸、硝酸,无须清洗 储液器500mL或1升瓶33/38/40/45mm盖的尺寸4个瓶子: 2个装酸, 2个装废液 证书CE证书, SEMI S-2-93, SEMI S-2-2000
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  • 货号适用仪器型号说明参数分析方法包装量程2565125-CN化学需氧量(COD)消耗试剂,化学需氧量(COD)2,高量程,pk/25-化学需氧量(COD) 8000 20-1500mg/L;化学需氧量(COD) 8000 0-1,500mg/L25/pk20-1,500mg/L
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  • NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统:NPE-4000 计算机控制的独立式PECVD系统NRP-4000 计算机控制的独立式RIE/PECVD双系统NSP-4000 计算机控制的独立式 Sputter/PECVD双系统NPE-3500 计算制控制的紧凑型独立式PECVD系统NPE-3000 计算机控制的台式PECVD系统NPE-1000 简化型台式PECVD系统NANO-MASTER的NPE-4000 PECVD等离子增强化学气相沉积系统可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。根据不同的应用,可以使用射频淋浴头、中空阴极、ICP或微波等离子源进行沉积镀膜。分别通过增加ICP电感耦合等离子源升级为ICPECVD电感耦合等离子增强化学气相沉积系统,增加远程微波源升级为MPECVD微波等离子增强化学气相沉积系统。基板可以容纳8英寸晶圆,可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压,可通过热电阻或者红外灯加热到800°C。使用260l/s涡轮泵和5cfm机械前级泵可使腔体真空达到5×10-7Torr(该系列PECVD等离子增强化学气相沉积系统也可以升级分子泵和机械泵达到更高的真空能力)。通过不同的样品台偏压,样品台温度和等离子源的组合,NANO-MASTER那诺-马斯特的PECVD等离子增强化学气相沉积系统可以满足用户非常广泛的需求应用。同时我们可以支持用户大尺寸基片的PECVD沉积或者批处理沉积的量产应用。 系统使用LabView可视化用户界面,触摸屏监控屏幕的计算机控制,可实现全自动化操作。特点:** 13"铝腔或14"不锈钢立方腔体** 可支持大基片或批处理应用(腔体和离子源等均需要升级)** 涡轮分子泵组可达到5×10Torr极限真空** 独家直连设计,提供最佳真空传导率,8小时达到极限真空** 等离子源:根据应用可选射频淋浴头/ICP/中空阴极/微波** 配套气体环用于前驱体和气体** 样品台:200-950°C温度旋转RF/低频RF/DC/Pulse DC偏压** MFC配套电抛光气体管道和气动截止阀** 基于PC的全自动控制,菜单驱动** Labview可视化用户交互界面** EMO保护和安全联锁选配:** ICP源用于高密度等离子,升级为ICPECVD** 远程微波等离子源,升级为MPECVD** 基片脉冲直流偏压** 低频偏压用于薄膜应力控制** 旋转样品台用于涂覆3D元件** 单片自动上下片,或Cassette-to-Cassette自动上下片** 大尺寸基片镀膜或批处理能力** 样片手动或自动翻转,用于双面镀膜** 前级泵升级为干泵** 带加热管路的鼓泡器用于有机金属化合物** 带毒气监控气体柜用于有毒气体** 终点监测** 各种掺杂物(磷化氢、乙硼烷)应用支持应用:** 封装,绝缘** 硅的化合物** 光子结构** DLC类金刚石薄膜** CNT碳纳米管—储存器件** SiC薄膜** 表面钝化层—太阳能电池** 石墨烯—纳米级电子元件** 其它类型薄膜
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  • 电化学仪器PH计S-621 400-860-5168转6062
    电化学仪器PH计S-621电化学仪器PH计S-621 适用于各种实验室高精度的测量,涵盖 pH 值 /mV 值 / 电导率 / 电阻率 /TDS/ 盐 度 / 溶解氧浓度 / 溶解氧饱和度 / 温度 / 多种常规的离子如 :H+、Ag+、Na+、K+、 NH4+、CI-、F-、NO3-、BF4-、CN-、Cu2+、Pb2+、Ca2+、Mg2+ 等多种电化学参数。 一机多用 : 内置 pH 模块,电导模块,溶解氧模块,常规离子模块,根据检测项目选购 测量模块。● 超大彩色引导式用户界面,具有丰富的测试参数信息,不但让您的操作简便, 而且查看结果更加直观清晰。
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