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高精密度板件高频双面探针台

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高精密度板件高频双面探针台相关的仪器

  • CS5000高频红外碳硫分析仪是一款高灵敏度,高精密度,高稳定性的分析仪器。能够实现对固体样品ppm级别到百分含量级别的碳硫含量检测,仪器具有自动化程度高,分析精度好,维护时间短等诸多优点,满足多种材料的检测技术要求,并具有硬软件升级的能力。  CS5000高频红外碳硫分析仪采用整机一体化、模块化设计,细分为可靠的高频炉设计、灵敏高精度的红外检测系统设计、简洁稳定的气路系统设计、可靠耐用的电源设计、先进稳定的电路系统设计等五个独立的硬件模块单元,加上基于Windows7操作系统的强大、简洁、实用、人性的软件分析系统,从而实现满足您更高的工作要求。  CS5000高频红外碳硫分析仪用于分析黑色金属、有色金属、合金、矿石(粉)、陶瓷、水泥、石灰、橡胶、煤、焦炭、耐火材料、碳化物、石墨、油品、催化剂、土壤等金属非金属固体材料中的碳硫含量。CS5000高频红外碳硫分析仪可选型号产品名称型号机型CS5000高频红外碳硫分析仪CS5000-Pro高端型CS5000-E经济型CS5000高频红外碳硫分析仪产品特点  高效可靠的高频感应炉:  固态高频感应控制延长电子管的使用寿命;  特有的燃烧控制功能(程序升温);  先进的吹氧技术可减少粉尘产生和飞溅现象;  炉头加热过滤装置提高了硫的回收率和分析精度;  燃烧效率提高,适合各种样品分析。  炉头设计:  无需任何工具维护的全自动双刷清扫装置;  减少了除尘维护时间和炉头拆装时间;  高压排灰和自动清扫除尘,炉头处无粉尘堆积,硫的分析精度更高。  气路系统:  简洁可靠的气路设计,多级流量压力控制;  气路系统全部采用进口知名品牌元器件;  全自动除尘装置直接将粉尘排至仪器外部积灰箱中,消除环境污染;  可选择催化炉、在线SO3捕集器,将CO、SO2分别转化成CO2和SO3,不仅碳分析精度更高,同时分析尾气无CO、SO2有毒有害气体排放,环保的同时保障实验室人员的健康。  电路设计:  仪器运行控制电路与数据采集均采用模块化设计;  采用32位元精简指令集(RISC)中央处理器架构,即ARM架构(Advanced RISC Machine)   电路系统内部运行uClinux操作系统,系统运行更加快速和稳定;  仪器分析采样次数最高可达每秒20万次。  红外检测系统:  长寿命的红外发射光源;  高质量加厚的镀金气室;  高精度窄带滤光片和红外传感器;  无飘移的电路设计;  气室温度压力流量补偿系统,使结果更准确稳定;  可选择进口窄带滤光片和红外传感器;  可选择碳硫高低双池双量程;  可选择红外池的恒温绝热装置,消除了外界环境温度的干扰。CS5000高频红外碳硫分析仪控制和数据处理  红外碳硫分析软件  自有著作权的碳硫分析软件,基于Windows7操作系统,功能强大、友好人性;  软件支持仪器操作和数据处理,满足不同用户的需求。软件主界面  主要性能  具有现代图形的用户界面软件;  多变量回归校正曲线,真实强度对浓度;  用户自定义的多级授权管理模式;通道分析方法管理  支持不同品牌电子天平的配置模式;  支持批次称重分析,亦支持优先样品分析模式;  特有的通道管理模式,支持用户自定义;用户管理图  只需一次建立分析通道或分析方法、便具永久使用的便利;  样品管理支持一次建立无限的样品库;  通过样品调取直接调用,无须重复输入;  建立不同高频工作模式(程序升温),即实现控制燃烧温度,  满足不同材料的分析;高频工作模式(程序升温)  支持单点、多点校正模式;  方便简洁的仪器自诊断功能;  支持曲线比较、分析结果统计等功能;分析结果处理  支持依据不同条件查询分析结果;  分析结果根据用户的选择自动导出到Excel文件,支持用户自  由编辑实验报告。曲线比较  可选择软件  集成的分析助手以导航模式实现快速准确的分析软件包;  利用网络和串口通讯的结果远程传输软件包;  全面的在线联机帮助和远程诊断软件包。CS5000高频红外碳硫分析仪技术参数分析材料黑色金属、有色金属、稀土金属、合金、矿石、煤、焦炭、水泥、耐火材料等金属非金属固体材料测量范围碳:0.00001%~12%硫:0.00001%~45%灵敏度0.000001%分析精度碳:1.0ppm或RSD≤0.5%硫:1.0ppm或RSD≤1.0%分析时间20~40 s仪器尺寸W650mm*D790mm*H920mm仪器重量150kg电源AC220V±10%,频率50Hz,波动<±0.2%
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  • GTL系列高精密度板件高频双面探针台品牌:GigaTest(一) 设备与工作原理说明 GTL是专门为高性能、高速与高频基板设计的量测平台,除了提供一般基板量测时所需要的基本点针的需要之外,更采用了GTL多年在信号完整性(Signal Integrity)量测上的经验与独自开发出来在高性能基板量测时所需要的特别功能整合而成。 GTL独家提供许多专门为信号完整性量测而设计的功能,例如:可适应各种大小尺寸的基板、可同时做机板双面量测与校准、遥控针座定位等,都是目前设计生产能达到国际化高性能基板所需要的设备能力,且目前国内生产的设备并不具有这些功能。 (二) 设备及配件的图片 除了机台本体机械上的设计须达到各项高性能基板量测的要求,例如板件的固定、下针(X-Y-Z-Planarization)的调整与定位、旋转、稳定、便于观察等,GTL5050系统也整合了特别为高性能基板量测所需要的配件:高精密度可调整高频针座:含X-Y-Z与平面度调整远程控制马达带动高频针座:含整合式的摄像头与光学配件,含远程控制器高频探针头与校准片(三) 设备的特性l GTL的一般特性如下l 直立式双面板件探针台l 可测大到20” x 30”的待测板件l 适用于多种测试结构l 可安装多至8个高频针座l 固定稳固的针座底座l 可移动平台含位置锁定装置l 远程摇杆控制针座l 整合式摄像头,易于观察与点针l 整合式上方观察用显微镜,显微镜光源系统l 高分辨率彩色摄向系统 (四) 设备的主要功能适用于各式高性能基板的设计、建模、侦错、量测、品管等
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  • 加热台/烤胶机High Precision Hot Plates欧洲原装进口HP系列英国原装进口的HP高精密度热板,整个顶部表面提供极其准确的均匀温度,通过将加热元件安装到厚达 22mm的铝板上来实现的。工装板用于提供精细均匀的晶粒结构,最适合精密加工、平坦的表面和温度变化时非常稳定的材料。铝材也经过阳极氧化处理,提供出色的惰性光滑耐用表面,不会污染您的样品。同时带集成控制器,可达到高精度的温度控制,用于实验室或者批量生产前期的预处理。特点:• 整个工作表面上温度均匀性精确到 ±1%,加热均匀,升温快;• 基板尺寸 10 mm - 150 mm;• 温度:基本型 50°C 至 200°C, HT 型 50°C 至 250°C;• 真空端口确保基板和热板之间的紧密接触(半径为 15mm 的真空孔);• 坚固耐用的不锈钢外壳,易于清洁;• 硬质阳极氧化铝的顶面,坚固耐用;• 带数字读数的 PID 温度控制器,控温显示精确到0.1位(℃/℉),可编程定时控制;• 高亮度4位数字LED显示温度;• Delrin 安全防护装置将最大限度地减少外边缘的热损失;产品型号:基础型 HP1000-1 加热台/烤胶机带顶针抬起功能 HP1000-3加热台/烤胶机HP 1000-3 在HP 1000-1 的基础上,增加了提升销的特性(带顶针抬起的功能)。提升销的中心半径为 20 毫米,可使用真空轻松装载和卸载较大的基板。提升销和真空将始终同步,以确保顺利装卸。高温型 HP 1000 HT加热台/烤胶机HP 1000 HT 最高可运行至 250°C,Delrin 安全防护装置在 250°C 时会损坏,因此铝环绕为外壳提供了 Peek(高温塑料)隔热层,有助于最大限度地减少边缘的热量损失。大尺寸型 HP 1200加热台/烤胶机HP 1200 比HP 1000 型号的顶板尺寸更大,其他参数规格和选项一样。与 HP 1000 中的 960W 相比,2kW 的加热元件,可实现的升温速率略高,为 30°C/min。较大的顶板 250 x 250 mm,带来了更多的多功能性和小批量处理的可能性。我们还可以定制顶板以满足您的基板尺寸,包括真空孔位置和升降销能力。
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  • 双面探针台 400-860-5168转3827
    DSH系列双面探针台产品概要DSH系列探针台是我司自主研发的一款双面探针台,最大可完成12英寸晶圆的正反面点针测试。在具备常规探针台的功能基础上,可用于晶圆和PCB板的测试,对晶圆或者PCB板正面和背面同时扎针以实现各种光/电性能测试需求的测试,或背面点针,正面收集光线等,运用十分丰富。该定制探针台具有优良的机械系统,稳定的结构,符合人体工程学,以及多项升级功能。此设备在激光器,LD/LED/PD的光强/波长测试等方面得到了广泛运用。如果您的产品也有双面点针,或者背面点针的需求,此款产品是首选。技术特点双层设计,可正反面同时点针,可同时加载DC和RF信号 卡盘大手柄双驱动,省时,省力,省心,可升级360度快速移动 加厚级刚性金属框架结构设计,领先的内部防震技术,结构性能稳定。
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  • 产品简介:DN 系列探针台,是一款适用于 4-12 英寸晶圆的精密探针台。 该系列探针台采用高刚性显微镜龙门设计,结构稳定 ,显微镜平移台可进行 X-Y-Z 方向精密位移调节,显微镜放大倍率高,操作方便 , 同时支持多种功能的升级,非常适合晶圆级的测试应用。该产品主要应用于集成电路、 芯片、MEMS 器件、 管芯晶圆、 LED、 LCD、 太阳能电池等行业的测试及研究领域。产品优势: 显微镜具备高刚性龙门支架且搭配气动升降,保证高质量光学成像质量。 卡盘同时具备快速和微调升降,便于样品和探针快速分离,也可以用于探针卡的扎针。 可升级性强,可升级 220G 高频,也可以集成光电流扫描成像或拉曼-瞬态荧光寿命成像系统等。
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  • G-31D6型高精密光刻机产品介绍:设备概述本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。主要构成本设备为板板对准双面曝光主要由双目视场CCD显微显示系统、二台6"LED专用曝光头、PLC电控系统、高精度对准工作台、Z轴升降机构、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、二级防震工作台等组成。span "="" style="box-sizing: border-box padding: 0px font-size: 0.15rem"曝光头部件图CCD显微系统|X、Y、Q对准工作台主要功能特点1.适用范围广适用于150×150mm以下、厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光,双面可同时曝光,亦可用于单面曝光。2.结构Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构,真空吸版,防粘片机构。3.操作简便X\Y移动、Q转、Z轴升降采用手动方式;吸版、反吹采用按钮方式,操作、调试、维护、修理都非常简便。4. 可靠性高采用进口(日本产)电磁阀、按钮、定时器;采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件,使本机运行具有非常高的可靠性。5. 特设功能除标准承片台外,还可以为用户定制专用承片台,来解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题主要技术指标1、曝光类型:版版对准双面曝光2、曝光面积:150×150mm;3、曝光照度不均匀性:≤±3.5%;4、曝光强度:0~30mw/cm2可调;5、紫外光束角:≤3?;6、紫外光中心波长:365nm;7、紫外光源寿命:≥2万小时;8、工作面温度:≤30℃9、采用电子快门;10、曝光分辨率:1μm(曝光深度为线宽的10倍左右)11、曝光模式:双面同时曝光12、对准范围:X:±5mm Y:±5mm13、套刻精度:1μm14、旋转范围:Q向旋转调节≤±5°15、显微系统:双视场CCD系统,物镜1.6X~10X,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;16、掩模版尺寸:能真空吸附6"方形掩板,对版的厚度无特殊要求(1~3mm皆可)。17、基片尺寸:适用于Φ5"mm圆形基片(或3"×3"mm方形基片),基片厚度≤5mm。
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  • 产品简介:Magic-P300e是工程级探针台。配备精密晶圆校准,应用在三温低漏电流DC和高频/射频测试产品特点:精确测量的屏蔽环境全屏蔽室和外壳,降低且最小化AC和频谱噪声,确保低噪声的探测测试低漏电测量能力 精确的定位和移动精密且完全保护的三轴探针操纵手臂显微镜 XYZ针座,提供大范围行程和精确移动应用在同时探测多个操纵手臂的精确精细Z移动
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  • 电子式酒精密度计SDW-011介绍 电子式酒精密度计SDW-011通过测量酒精溶液的密度,经专用软件转换成酒精度进行测量的。根据双U型管内充满不同介质时震荡频率不同的原理进行液体密度测量的。将待测液体泵入谐振筒传感器后,由单片机进行测量数据处理,快速直接,而且灵敏度高。电子式酒精密度计 数显酒精计 功能特点:1.恒温控制:因为液体密度受温度影响大,所以要把实时温度下检测的液体密度换算成20℃时的液体密度。本仪器采用恒温槽控制,把传感器和其所属部件及样液都密封在恒温槽内,通过温度传感器检测振荡管(样液)的温度,经单片机控制电子元件制冷或制热,保证恒温槽内的温度稳定在20℃±0.1℃范围内。2.直接显示液体20℃时的酒精度值,并由温度显示:通过单片机检测出传感器的振荡频率,利用传感器频率和液体密度关系的数学模型,求出液体的密度值,然后进行浮点运算,使在运算过程中不会因运算位数不够带来额外的误差,保证测量结果的精度。通过专用软件把酒精溶液的密度值换算成酒精度值。单片机计算的密度值结果通过数码显示出来,并有温度显示窗口。还可以通过转换键查看相应的酒精溶液的密度值。3.自动采样:采用单片机控制步进电机驱动蠕动泵吸样,提高了产品的自动化程度4.免挂壁处理:液体在流动的过程中会在振荡管内壁留下残液,就会影响测量精度,所以通过对振荡管内壁进行免挂壁处理可以避免振荡管内壁残留液体,保证了仪器的精度。5.数据存贮:内置存贮芯片,能存贮80组检测数据,且可回调和删除。6.校准功能:当仪器长时间不使用时会产生漂移,此仪器可使用20℃纯水作为标准对仪器进行校准。 技术参数 测量范围:0.7892~0.9982g/cm3 精确度:±0.0004g/cm3 分辨率: ±0. 0001g/cm3 酒精度测量范围:q:0~100% 酒精度示值误差:±0.2%恒温控制:20℃±0.1℃(可定做恒温25℃)采样量:2ml/次(自动进样与手动进样)数据存贮:80组环境温度要求:5℃~35℃供电电源:220V±22V,50Hz±1 Hz,50VA外型尺寸:206mm×205mm×200mm仪器重量:3.2Kg 注意事项1. 校准时水要保证其纯度,多冲洗几次,并确认振筒内无气泡,才能使校准数据准确。2. 如测量用液体为酸碱溶液,一定要换上耐酸碱专用管路。3. 试验完要清洗仪器管路,以备下次试验。
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  • 产品介绍TLRH系列精密型基础测试探针台是我司根据高校科研及产业研发需要,而特定设计的一款高精密高稳定探针台,其较高的位移调节精度及优异的漏电精度控制,已成为包括场效应管在内的多端器件IV测试的理想之选。技术优势.模块化设计,可以搭配不同构件完成不同测试;. 最大可用于12寸以内样品测试 .探针台整体位移精度高达3um,样品台精密四维调节;. 兼容多种光学显微镜,可外引光路实现光电mapping测试;. 满足1um以上电极/PAD使用 . 漏电精度可达10pA/100fA(屏蔽箱内) . 探针座采用进口交叉滚珠导轨,线性移动,无回程差设计 . 加宽探针放置架,可放置6个DC探针座/4个RF探针座;. 配显微镜二维精密调节功能,且可选配多种行程及驱动方式。精密型基础测试探针台图片详细模块配置及参数说明选型表相关配件多种精度,多种夹具类型探针座同轴线缆,三同轴线缆各种类型探针真空泵电磁屏蔽箱应用领域半导体材料光电检测、功率器件测试、MEMS测试、PCB测试、液晶面板测试、测量表面电阻率测试、精密仪器生产检测、航空航天实验等。
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  • G-33D4型高精密光刻机产品介绍:设备概述本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位,主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产,由于本机找平机构 ,找平力小,使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光, 这是一台双面对准单面曝光的光刻机,它不仅能完成普通光刻机的任何工作,同时还是一台检查双面对准精度的检查仪。主要构成主要由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜或双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、4″PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。曝光头及部件图 CCD显微系统|X、Y、Q对准工作台主要功能特点1.适用范围广适用于110mm×110mm以下、厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。2.套刻精度高、速度快采用版不动,片动的下置式三层导轨对准方式,使导轨自重和受力方向保持一致,自动消除间隙;承片台升降采用无间隙滚珠直进导轨、气动式Z轴升降机构和双簧片微分离机构,使本机片对版在分离接触时漂移特小,对准精度高,对准速度快,从而提高了版的复用率和产品的成品率。4.可靠性高采用PLC控制、进口(日本产)电磁阀和按钮、独特的气动系统、真空管路系统和经过精密机械制造工艺加工的零件,使本机运行具有非常高的可靠性且操作、维护、维修简便。5. 特设功能除标准承片台外,我公司还可以为用户定制专用承片台,来解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。主要技术指标(1)4″LED紫外专用曝光头(2)曝光面积:110mm×110mm;(3)曝光强度:0~30mw/cm2可调;(4)紫外光束角:≤3°;(5)照明不均匀性: ±3%;(6)紫外光中心波长:365nm;(7)紫外光源寿命:≥2万小时;(8)工作面温度:≤30℃(9)采用电子快门;(10)曝光分辨率:1μm(曝光深度为线宽的10倍左右)(11)曝光时间采用0~999.9秒(日本OMRON生产)时间继电器控制。(12)套刻精度:1μm(13)观察系统为上下各两个无级变倍、高分辨率单筒显微镜上装四个CCD摄像头通过视屏线连接计算机到19″高清液晶显视屏上。a、 单筒显微镜为1.6X~10X连续变倍显微镜;b、CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3″;c、 采用19″液晶监视器,其数字放大倍率为19÷1/3=57倍;d、观察系统放大倍数为:1.6×57=91倍( 小倍数)10×57=570倍( 大倍数);
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  • 电极探针精密抛光仪 400-860-5168转6172
    一、仪器介绍MT-PM100电极探针精密抛光仪是一款满足石英及玻璃材质探针以及超微电极抛光需求的精密抛光仪,配备高精密电动直线滑台控制探针(或超微电极)的上下移动,通过可调速微型电机驱动磨盘均匀且稳定地旋转,实现探针(或超微电极)针尖的精密抛光。还配备了电子显微镜和高清显示器,实时监控抛光过程,确保针尖抛光的精确性。另外,配置了高灵敏度阻抗检测单元,可以用来原位监测玻璃封装(尖端绝缘)的金属纳米电极的导电暴漏。二、主要参数抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调 阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极(≥20 nm);空心管(≥1 um)步进速度0.001~30 um/s可调显微镜HDMI接口,含位置测量软件,可观测10 um的物体三、仪器构成及使用方法电极探针精密抛光仪整体构成如上图所示,主要由以下部分构成:电子显示屏(1);电源开关(2);磨盘正反向旋转按钮(3);磨盘转速显示器(4);磨盘转速调节器(5);磨盘停止旋转按钮(6);触屏显示器(7);皮带(8);光源(9);步进电机(10);电动直线滑台(11);探针固定器(12);抛光磨盘(13);滤纸(14);滤纸固定器(15);电极夹(16);电子显微镜(17)。电极探针精密抛光仪的触屏显示器页面如上图所示,包括手动模式和阻抗模式两种模式。“手动模式”使用系统配备的测量工具,手动测量探针需抛光的长度,设定步进距离控制探针的抛光,主要用于空心石英管/玻璃管的抛光。“阻抗模式”使用系统检测并响应阻抗的变化以控制超微电极的抛光,主要用于玻璃封装的金属电极、碳纳米电极的抛光。“Z轴回原”使探针/超微电极回到系统设定的初始高度。手动模式的使用方法:打开仪器和灯源开关,通过按钮使磨盘开始正向旋转,将配套的滤纸用去离子水润湿(通过虹吸作用在磨盘上形成一层水膜,并阻拦抛光过程中产生的碎屑),再通过按钮使磨盘停止转动以便于后续观察。将探针尾部插入通有氩气的通气管,固定在探针固定器凹槽内,设置步进距离,通过高精密电动直线滑台控制探针向下移动,直到在显微镜下观察到探针针尖及其在磨盘上的影像。使用显微镜工具页面中的“测量工具”测量并计算步进距离,下移探针至探针尖端与磨盘接触。启动磨盘转动,根据需求调节磨盘转速、探针移动速度以及步进距离,开始抛光。待剩余距离和时间归零,探针停止下移,抛光结束。阻抗模式的使用方法:打开仪器和灯源开关,将待抛光的超微电极和镍丝固定并连接电极夹,设置步进距离,步进电机向下移动,直到在显微镜下可以观察到超微电极尖端及其在磨盘上的影像。当超微电极尖端与其影像的距离接近5 um时,滴加KCl电解质溶液以覆盖超微电极和镍丝尖端。根据需求调节磨盘转速、超微电极移动速度以及步进距离,开始抛光。当仪器检测到超微电极阻抗时,会立即停止抛光并自动回原。
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  • 产品介绍TLRH系列精密型基础测试探针台是我司根据高校科研及产业研发需要,而特定设计的一款高精密高稳定探针台,其较高的位移调节精度及优异的漏电精度控制,已成为包括场效应管在内的多端器件IV测试的理想之选。技术优势.模块化设计,可以搭配不同构件完成不同测试;. 最大可用于12寸以内样品测试 .探针台整体位移精度高达3um,样品台精密四维调节;. 兼容多种光学显微镜,可外引光路实现光电mapping测试;. 满足1um以上电极/PAD使用 . 漏电精度可达10pA/100fA(屏蔽箱内) . 探针座采用进口交叉滚珠导轨,线性移动,无回程差设计 . 加宽探针放置架,可放置6个DC探针座/4个RF探针座;. 配显微镜二维精密调节功能,且可选配多种行程及驱动方式。精密型基础测试探针台图片详细模块配置及参数说明选型表相关配件多种精度,多种夹具类型探针座同轴线缆,三同轴线缆各种类型探针真空泵电磁屏蔽箱应用领域半导体材料光电检测、功率器件测试、MEMS测试、PCB测试、液晶面板测试、测量表面电阻率测试、精密仪器生产检测、航空航天实验等。
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  • 产品说明: 桌式主动减振台是一个具有多项国家专利的高精密隔振平台。此平台由蜂窝内芯光学台面、隔振器以及台架所组成。隔振器采用精密金属弹簧实现被动隔振,由洛仑兹电机实现主动减振。平台提供六自由度、高精度、带地基反馈的隔振。相比传统的主动减振方案,本系统采用三个速度传感器来实现地基前馈控制,能在50Hz频率范围内使隔振效果达到最佳水平。 系统运行时不需提供压缩空气,安装方便、即插即用。能自适应调节地基前馈,实现6自由度减振。具有极佳的性/价比。 桌式主动减振台由洛仑兹电机、速度传感器以及控制器构成闭环伺服控制系统,在0.7Hz—50Hz范围内实现主动减振。超过50Hz频率的振动由被动的金属弹簧隔离。减振台的隔离弹簧在3个平动方向的固有频率为3Hz—5Hz。由于实施反馈控制,减振台在六个自由度上最低隔离频率可达0.7Hz。 可根据用户要求定制各种不同尺寸、不同材质的工作台面。公司负责系统的安装与调试,三年免费维修。免费为用户培训设备维护和使用人员,随时解答用户提出的技术问题。 产品特点:1.洁净室环境:10000级以上净化;环境噪声小于65dB;2.测试工具:LMS SCADASIII型数据采集系统,32通道输入模块,2通道输出模块;LMS Test.Lab数据分析系统;3.PCB型加速度传感器;GS速度传感器(经低频扩展);4.测试方法:将减振系统置于地基上,手动推动工作平台观察洛仑兹电机,确保定子与动子之间无接触,并合理调整气隙间距。5.开启速度控制环。由地基随机激振,用PCB型加速度传感器测试X、Y、Z方向的振动传递率。6.由LMS SCADASIII进行数据采集,用LMS Test.Lab进行数据分析,以确定共振点传递率和高频衰减率;选型表:
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  • 酒精密度计DE-120ET 400-860-5168转3623
    酒精密度计DE-120ET可快速测量工业酒精、医药酒精、食用酒精、无水酒精、蒸馏酒等各类酒精溶液中的酒精度,即乙醇含量。本产品由宏拓研发生产,一个测量步骤,测量精准度与可靠性高于任何型号的酒精密度计,德国进口传感器,保修3年,可送货上门。方法:采用阿基米德原理密度法,依据GB/T394.2、GB/T4928、GB/T15038、GB/T 10345、GB/T13662、GB/T11856、GB/T11857、GB/T11858等9项国家标准规范中的酒精度测定方法,内置酒精水溶液密度与酒精度对照表,可自动读取酒精密度值、酒精度(乙醇含量)。注:酒精度(乙醇含量):100mL酒精溶液中含有乙醇(酒精)的毫升数,即体积(容量)的百分数,或100g酒精溶液中含有乙醇(酒精)的克数,即质量百分数。本产品与传统密度瓶法、折光率法、酒精计等相比,不必人工标定密度瓶的容积,不必人工计算密度值,不必人工对表查找乙醇含量;精准度高、操作简便、可靠性、清洗更方便快捷,具有空气浮力补偿等特点功能。测量种类:工业酒精、医药酒精、食用酒精、无水酒精、蒸馏酒、白酒、米酒、谷酒、白兰地、威士忌、伏特加、俄得克、朗姆酒、杜松子酒、奶酒、发酵酒、酿造酒、啤酒、葡萄酒、果酒、黄酒、米酒、谷酒、保健酒、配制酒、露酒等酒精度分析。技术参数:1、酒精度测量范围:0.00~100.00 %2、最小解析度:0.01%( V / V )3、酒精度精度:0.1%( V / V )4、密度精度0.0001 g/cm3主要特点:1.直接读取:乙醇含量 %( V / V )、密度SG2.测量时间:5~30S,测量速度快,适合实验室快速检测3.高精准度:不受人为因素影响,精度可达0.1%4.清洗方便:开放式清洗,快速方便5.具有空气浮力补偿功能与砝码体积热膨胀系数补偿功能6.仅需50ml或更少的样品,测量精度高、操作简便、稳定耐用等特点7.配置DE-20A标准液体测量组件8.含RS-232C通信接口,选购DE-40A数据连接线可连接PC终端,选购DE-40打印机可打印测量数据9.配置专用防风防尘罩,组合方便、坚固耐用测量步骤:①将盛有样品的测量杯放于测量放置板上,扣除挂钩的重量。②用挂钩将标准砝码悬挂并完全浸没在待测液体中,显示乙醇含量 %( V / V )、密度SG标准附件:①主机、②测量放置板、③DE-20A标准液体测量组件、④镊子、⑤温度计、⑥100G砝码、⑦防风防尘罩、⑧测量支架、⑨电源变压器一个选购附件:①DE-40打印机、② DE-20B防腐蚀性液体测量组件、③DE-20A标准液体测量组件防伪打假说明:当今市场良莠不齐,换牌换标产品、空壳品牌产品、伪劣仿真产品、兜转售后服务产品等令广大客户深受其害,,为保障您的权益,请在选购产品时,准确识别Daho Meter『达宏美拓』产品。品牌识别方法如下:方法1、开机时会依次显示:商标标示、型号标示(例如:Daho、DE-120ET)。方法2、开机后,同时按ZERO键+B键,依次显示品牌,型号,出厂机身编号,并对应与机身上粘贴的品牌、型号、机身编号。方法3、查看由机身编号自动生成的防伪码。编辑:lcl 15.9
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  • 压电三轴纳米探针台实现了三维空间上的准确定位,它具有分辨率高,尺寸紧凑,行程大,操作简单,能在真空下使用等优点,可应用于在SEM真空腔体内完成各种纳米精度运动操作。压电三轴纳米探针台使用压电陶瓷驱动,运动无需润滑,真空兼容,并可在很广的温度范围内工作。运动分辨率达到纳米级。步进和扫描双模式工作,在宏观行程范围内达到亚纳米分辨率的定位。三轴纳米探针台由三个单轴运动台组合而成。一个SEM腔体内可安装多个三轴探针台。平台上可安装电学探针、光纤探针、纳米镊子、金刚石纳米力压头、显微注射器等各类操纵和测量头,实现微纳操纵和测量的目的。 压电三轴纳米探针台应用案例:通过压电纳米位移台的纳米精度定位,两个探针通过与样品接触,完成在SEM里实现对二维材料的电学测量。同样的,通过压电纳米位移台也可以在更多领域完成高精度实验,例如可应用于纳米材料操纵、纳米器件电学光电等物性测量、生物细胞DNA操作等。同时产品可以适配市面上绝大多数的SEM,例如:日本电子,日立,FEI,TESCAN等。 压电三轴纳米探针台尺寸参数探针台外形尺寸(长*宽*高)107.0*75.6*43.3mm三轴外形尺寸(长*宽*高)48.6*33.2*38.6mm样品台面平面度10 μm探针台总重量225g运动参数三轴X行程±10mm三轴Y行程±10mm三轴Z行程15.7mm运动分辨率0.05nm以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的压电三轴纳米探针台的介绍,了解更多直接咨询: 原文: 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展,精密定位不仅在实验室用途广泛,工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上,发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品,填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块,通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移,可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前,在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内,团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。安徽泽攸科技有限公司为您提供压电旋转纳米位移台RF-5950A的参数、价格、型号、原理等信息,压电旋转纳米位移台RF-5950A产地为安徽、品牌为泽攸科技,型号为旋转纳米位移台,价格为面议,更多相关信息可来电咨询,公司客服电话7*24小时为您服务
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  • 一款适用于8英寸及以下晶圆测试的标准探针台,台面加宽设计,便于摆放更多探针座,实现复杂灵活的测试应用。常用于对器件的 IV、CV、脉冲/动态 IV 等参数进行测试;接口兼容主流测试仪器。应用场景,如研发阶段的芯片测试,生产中芯片或晶圆的抽样检测,或是器件可靠性测试等。灵活的载物台载物台可灵活升级为定制夹具,实现不同产品种类的测试应用。可根据测试器件大小,独立控制吸附气路。设计上为了兼顾大、小器件的不同测试要求,真空吸附气路分成了吸附孔式和吸附环式,附环大小包括了2寸、4寸、6寸等,可以实现向下兼容。在实际使用时可灵活控制。 加宽型光滑台面台面经过几十道工序精密机加工,分上下层设计,下层是整块铝合金材质,通过机床多次加工打磨成型。上层为不锈钢材质,坚固耐磨。 精密电镀手柄调节载物台水平面移动,采用丝杆传动的方式,移动精密度更高。手柄采用铝合金加工而成,手感舒适。 多功能显微镜基座设计上考虑到市场上不同显微镜的差异,做了特殊的设计。兼容金相显微镜或者体式显微镜、单筒显微镜等。方便客户显微镜的更换。设计了X、Y、Z方向的调节旋钮。能在平面内任意移动位置。成都测芯科技有限公司(CHIPTEST)主要产品:探针台(Probe Station)。包括4寸、6寸、8寸、12寸常规探针台、高低温真空探针台、RF / mmW测试探针台、高压探针台、磁场探针台以及红外探针台等。可以按照特殊要求进行设计定制。代理美国GGB探针:GGB探针有ST系列硬探针、T-4系列柔性探针、Model系列微波探针(频率可到500GHz,分波导接口类型和同轴接口类型两种)、有源高阻探针、差分探针、定制探卡等,欢迎咨询。地址:成都高新西区合作路89号19栋5楼电话:曹经理 (weixin)邮箱:网站:
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  • 低温液氦探针台特征1.真空腔体:真空度优于6×10-3Pa。降温后优于6×10-4Pa。留有2个用户法兰接口(可接入气体或者额外的电缆);2. 探针控制:标配4个探针臂。调节范围50mm*50mm*30mm,调节精度优于10um。每个探针臂配备一根Triax三同轴低漏电线缆及探针。样品台底座配备额外一根Triax三同轴低漏电线缆; 3. 显微镜模块:连续变倍单筒显微镜,光学放大倍率:0.58X~7X(使用1X附加物镜时),视频放大倍率约280倍。可选2X附加物镜。分辨率优于2um。全高清数字摄像头,带同轴照明和环形照明,带机械调焦和光学调焦;4. 变温样品台:50mm直径。变温范围:80K~400K。控温稳定性优于±0.5K;5. 可选配接入光纤,可将一根或几根电学探针替换为光纤;6. 系统直流漏电低于1pA。7. 产品含进口分子泵机组、全量程真空规和智能温控仪。 低温液氮探针台产品参数 型号LTZ-4H-06外形650*650*1260系统功率1KW电压220V交流X-Y轴行程定位精度±0.01mm探针调节精度±0.01mm腔体真空度1.0*10^-4pa重量150kg测试直径6/8/12寸探针轴行程110mm 探针XY行程50mm制冷方式液氮制冷X-Y轴额定速度手动调节腔体直径245mm探针臂数量4(可选6个)温度下限77K探针臂每个探针臂配备一根Triax三同轴低漏电线缆及探针,样品台底座配备额外一根Triax三同轴低漏电线缆显微镜倍率0.58X~7X(使用1X附加物镜时)地脚底部塑胶减震地脚 探针频率26GHz—100GHz(可选)以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的低温液氦探针台的介绍,了解更多直接咨询: 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展,精密定位不仅在实验室用途广泛,工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上,发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品,填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块,通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移,可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前,在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内,团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台。
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  • 探针台 400-860-5168转6076
    PXB-S系列探针台 PXB-S系列探针台主要特点●可选配高温测试环境●可选直筒显微镜和体式显微镜●载物台可Z轴升降●载物台Theta可粗调360°, 微调±7 °●载物台XY移动分辨率为1um。●可选配高压高流测试环境●快速装片并可任意位置锁定功能●显微镜支架万向杆PXB-S系列探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD&TDR testing ESD和TDR测试 ●Microwave probing 微波量测(高频测试)●Solar太阳能领域检测分析●LED 、OLED 、LCD领域检测分析●PCB领域检测分析●VESEL DFB,COC,硅光等光电器件测试PXB-M系列探针台 PXB-M系列探针台主要特点●可选配高温测试环境●可选直筒显微镜, 体式显微镜或金相显微镜●载物台可Z轴升降●载物台Theta可粗调360°, 微调±7 °●载物台XY移动分辨率为1um●可选配高压高流测试环境●快速装片并可任意位置锁定功能●稳定型显微镜桥架, 移动分辨率为2um, 显微镜气动升降PXB-M系列探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD& TDR testing ESD和TDR测试●Microwave probing 微波量测(高频测试)●Solar太阳能领域检测分析●LED 、OLED 、LCD领域检测分析●PCB领域检测分析●VESEL DFB,COC,硅光等光电器件测试PXB-E系列探针台 PXB-E系列探针台主要特点●可选配高温测试环境●可选直筒显微镜, 体式显微镜或金相显微镜●载物台气浮快速移动●可选配高压高流测试环境●快速装片并可任意位置锁定功能●稳定型显微镜桥架, 移动分辨率为2um, 显微镜气动升降●Platen 三阶抬杆, 微调移动行程为40mm,抬杆重复性精度为2umPXB-E系列探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD&TDR testing ESD和TDR测试●Microwave probing 微波量测(高频测试)●Solar太阳能领域检测分析 ●LED 、OLED 、LCD领域检测分析●PCB领域检测分析●VESEL DFB,COC,硅光等光电器件测试PXB-BE系列探针台PXB-BE系列探针台主要特点●可选配高温测试环境●可选直筒显微镜, 体式显微镜或金相显微镜●载物台气浮快速移动, 三档控制,X轴独立控制,Y轴独立控制,XY同步控制,XY同步控制●可选配高压高流测试环境●快速装片并可任意位置锁定功能●稳定型显微镜桥架, 移动分辨率为2um, 显微镜气动升降●Platen 二阶抬杆, 微调移动行程为60mm,抬杆重复性精度为1um●配置独立控制压力阀PXB-BE系列探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD&TDR testing ESD和TDR测试●Microwave probing 微波量测(高频测试)●Solar太阳能领域检测分析●LED 、OLED 、LCD领域检测分析●PCB领域检测分析●VESEL DFB,COC,硅光等光电器件测试PXB-BET系列探针台 PXB-BET系列高低温探针台主要特点●搭配高低温系统, 最大范围-65℃到300℃●可选直筒显微镜, 体式显微镜或金相显微镜●载物台气浮快速移动, 三档控制,X轴独立控制,Y轴独立控制,XY同步控制,XY同步控制●可选配高压高流测试环境●装片拉出装置, 定位锁住●稳定型显微镜桥架, 移动分辨率为2um, 显微镜气动升降●Platen 二阶抬杆, 一次性行程为6mm, 抬杆重复性精度为1um, 四点同步●配置独立控制气流阀PXB-BET系列高低温探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD&TDR testing ESD和TDR测试●Microwave probing 微波量测(高频测试)●Solar太阳能领域检测分析●LED 、OLED 、LCD领域检测分析●PCB领域检测分析●VESEL DFB,COC,硅光等光电器件测试 PXB-D系列探针台PXB-D系列探针台主要特点●可选配高温测试环境●可选直筒显微镜,体式显微镜 ●载物台气浮快速移动 ●可选配高压高流测试环境●platen上下结构,可正反面同时扎针 ●载物台双面镂空,可替换,一个镂空夹具,一个 载物台(两个吸附孔)●背置式直筒显微镜,zoom为0.58-7.5x ●Platen 微调行程为40mm,移动分辨率为1um, 四点同步PXB-D系列探针台应用领域●Failure analysis 集成电路失效分析●Wafer level reliability 晶元可靠性认证●Device characterization 元器件特性量测●Process modeling 塑性过程测试(材料特性分析) ●IC Process monitoring 制成监控●Package part probing IC封装阶段打线品质测试●ESD&TDR testing ESD和TDR测试●Microwave probing 微波量测(高频测试)●PCB领域检测分析 PXB-W系列探针台PXB-W系列探针台主要特点●可选配110Ghz,220Ghz等测试环境 ●搭配高低温系统,最大范围-65℃到300℃ ●可选直筒显微镜,体式显微镜或金相显微镜 ●载物台气浮快速移动,三档控制,X轴独立控制, Y轴独立控制,XY同步控制,XY同步控制 ●装片拉出装置,定位锁住 ●稳定型显微镜桥架,移动分辨率为2um,显微镜 气动升降 ●Platen 二阶抬杆,一次性行程为6mm,抬杆重复 性精度为1um,四点同步 ●配置独立控制气流阀PXB-W系列探针台应用领域●Microwave probing 微波量测(高频测试)PXB-PL系列探针台 PXB-PL系列探针台(定制型)针对PCB&LCD&OLED&MINI-LED研发的测试探针台主要客户:英业达,沪利,深南电路,美维,奥克斯,大金,龙腾光电,群策等PXB-VL系列探针台 PXB-VL系列探针台产品简介PXB- VL高低温真空探针台是我司自主研发的一款在极端环境下给样品加载电学信号的设备。可以实现器件及材料表征的IV/CV特性测试,射频测试 ,光电测试等。通过液氮或者压缩机制冷 ,可以在防辐射屏内营造一个稳定的测试环境。在特殊材料 ,半导体器件等研究方向具有广泛运用。一般用于相关单位实验室。 PXB-SA系列探针台PXB-SA系列探针台产品简介PXB-SA 系列探针台是一款在非真空条件下实现高低温环境的测试探针台。该产品采用气冷制冷 ,自动控温 ,设备配置非常丰富。自带屏蔽暗室 ,一方面可以屏蔽无线电磁干扰 ,另外一方面也可以保持氮气正压环境下样品在低温时无结霜。该产品多数用于相关单位实验室。PXB-SA系列探针台产品优势可搭配高低温温控系统,温度范围为-60-300℃可实现半自动测试微腔屏蔽
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  • 西安高精密仪表厂高精度音叉密度计音叉密度计特点:音叉密度计是根据不同介质中频率不同,根据频率和密度之间关系,测量出频率的变化,从而检测密度的变化,目前市场上的音叉密度计均采用频率自动追踪技术,此技术实现较为容易,但频率变化小,理论精度低,不能满足高精度测量场合的需求,西安市高精密仪表厂音叉式密度计采用创新技术,从根源上解决了频率变化小的问题,增加频率的变化范围,保证了较高精度。音叉密度计参数:测量范围:0–2g/cm3 (0 – 2000 kg/m3)测量精度:± 0.001 g /cc (± 1 kg/m3)操作温度范围 :-50℃ ~ +120℃最大工作压力:20Mpa流体粘度范围 :0 – 20000 cP内置温度传感器: PT1000接液材质:不锈钢,哈氏合金 C22,锰合金 400,钛合金等叉体涂层:标准型,PTFE 或电解抛光供电电源:20 – 28 VDC,35 – 45 mA模拟信号输出:4 – 20 mA输出精度(20℃):读数的± 0.1%或± 0.05% FS输出重复性(-40 ~ +85℃)过程连接:法兰连接 型号与规格:GM-801 法兰式音叉密度计(默认法兰DN50)GM-802 卫生型音叉密度计(默认DN50卫生卡套)GM-803 分体式音叉密度计(默认螺纹G1 1/2)选型事项:音叉密度计订货前需和销售支持联系,核实现场情况,音叉密度计对现场要求比较高,符合音叉密度计的使用要求才能保证较高精度。 网址:
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  • 室温自动探针台是卓聚科技专为较低预算客户研发的高可靠性探针台系统,主要应用在半导体/微电子,电子,机电,物理,化学,材料,光电,纳米,微机电/MEMs,生物芯片,航空航天等科学研究领域,以及IC设计/制造/测试/封装、LED、LCD/OLED、LD/PD、PCB、FPC等生产制造领域。旨在预算与高测量可靠性之间寻求平衡点,该平台配备高精度位移台,可实现X、Y、Z、R等方向自动调整,各移动轴可实现±0.005mm以下的精度定位,对阵列型测量特征可实现快速准确的测量。经济实用,稳定性强,可升级扩展,操作方便是本产品的核心价值,在各大高校、研究所及半导体行业应用广泛。 室温自动探针台产品特征1.标配4个探针臂,可提供4-8个探针臂。调节范围50mm*50mm*30mm,调节精度优于10um。每个探针臂配备一根Triax三同轴低漏电线缆及探针。样品台底座配备额外一根Triax三同轴低漏电线缆;2. 显微镜模块:连续变倍单筒显微镜,光学放大倍率:4X~9X(使用1X附加物镜时),视频放大倍率约700倍。可选2X附加物镜。分辨率优于2um。全高清数字摄像头,带同轴照明和环形照明,带机械调焦和光学调焦3. 样品座采用电机驱动,可实现快速于目镜下寻找样品,调节范围:80mm*80mm*10mm。 室温自动探针台产品参数型号TZ-H-06外形444*607*646重量40kgX-Y轴行程定位精度±0.01mmZ轴行程定位精度±0.01mmR轴行程定位精度±0.05?测试直径6/8/12寸X-Y轴行程110mmZ轴行程15mmR轴行程360?X-Y轴额定速度100mm/sZ轴额定速度10mm/sR额定速度20?/s探针臂调节行程X-50mm,Y-50mm,Z-30mm探针臂调节精度10um探针臂每个探针臂配备一根Triax三同轴低漏电线缆及探针,样品台底座配备额外一根Triax三同轴低漏电线缆显微镜倍率4X~9X(使用1X附加物镜时)地脚底部塑胶减震地脚探针频率26GHz—100GHz(可选)以上就是东莞市卓聚科技有限公司提供的室温自动探针台的介绍,了解更多直接咨询: 随着微电子、纳米科技和人工智能等领域的进一步发展,精密定位不仅在实验室用途广泛,工业界的应用也越来越多。该团队在以往研究基础上,发展出一系列具有自主知识产权的超精密定位产品,填补了国产空白。一个火柴盒大小、外壳包覆金属的小方块,通过电压控制能够实现纳米级别的精密位移,可以用于对精密度要求超.高的科学实验、精密制造和半导体工业等领域。日前,在松山湖材料实验室高.端科研设备产业化团队的实验室内,团队负责人许智展示了该团队拥有核心技术的压电驱动纳米位移台
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  • 产品介绍TLPH系列精密型光电测试探针台是基于TLRH系列升级激光显微镜而来,实现高分辨率成像的同时兼顾外引激光光路,实现光电流与IV的双功能检测,是光电芯片/器件测试的理想之选。技术优势. 模块化设计,可以搭配不同构件完成不同测试;. 最大可用于12英寸以内样品测试 . 探针台整体位移精度高达3μm,样品台精密四维调节;. 激光显微镜,5档物镜转盘,可引入激光完成光电流测试;. 满足1μm以上电极/PAD使用 . 漏电精度可达10pA/100fA(屏蔽箱内) . 探针座采用进口交叉滚珠导轨,线性移动,无回程差设计 . 加宽探针放置架,可放置6个DC探针座/4个RF探针座;. 配显微镜三维精密调节功能,且可选配多种行程及驱动方式。模块介绍 详细模块介绍及参数说明选型表相关配件多种精度,多种夹具类型探针座同轴线缆,三同轴线缆各种类型探针真空泵电磁屏蔽箱应用领域半导体材料光电检测、功率器件测试、MEMS测试、PCB测试、液晶面板测试、测量表面电阻率测试、精密仪器生产检测、航空航天实验等。
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  • 中图仪器NS200探针纳米级表面测量台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器,其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。NS200探针纳米级表面测量台阶仪通常使用2μm半径的金刚石针尖来测量这些小特征。一个精密的xy载物台联合扫描轴R和转台θ,在测针下移动样品,测针中的垂直位移被转换为与特征尺寸相对应的电信号。然后将这些电信号转换为数字格式,在其中它们可以显示在计算机屏幕上并进行操作以确定有关基材的各种分析信息。可以微调扫描长度和扫描速度,以增加或减少分析时间和分辨率。此外,测力可调以适应硬质或软质材料表面。结构主要组成部分1、测量系统(1)单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。(2)线性可变差动电容传感器(LVDC),具有亚埃级分辨率,13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差,使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。(3)传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调,以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台 (1)精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台,可以对样品的位置以及角度进行调节,三维位置均可以调节,利于样品调整。(2)超高直线度导轨,有效避免运动中的细微抖动,提高扫描精度,真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机,即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上,使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响,使实验数据更加准确。NS200探针纳米级表面测量台阶仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC,具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率,同时,其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3)应力测量:可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1)单区域测量模式:完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度,即可开始测量。2)多区域测量模式:完成Focus后,根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式,一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3)3D测量模式:完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置,一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机,在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径,在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能采用了磁吸式测针,当需要执行换针操作时,可现场快速更换扫描测针,并根据软件中的标定模块进行快速标定,确保换针后的精度和重复性,减少维护烦恼。磁吸针实物外观图(330μm量程)应用场景介绍部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动,360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)尺寸(L×W×H)mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W使用环境相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动:6.35μm/s(1-100Hz)音频噪音:≤80dB空气层流:≤0.508 m/s(向下流动)恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 安徽格楠智能科技有限公司深耕研磨机行业十多年,拥有多项研磨机专利,格楠牌研磨机在用户中有良好的口碑,研发有数控单双面研磨机,数显陶瓷平面研磨机等多种智能研磨机。  安徽格楠智能科技有限公司是专业生产研磨机、单双面研磨机、数显精密双面研磨机、平面抛光机、金钢石平面磨床、超声波清洗机、内外圆倒角机、小内圆磨床等产品的企业。本公司引进最先进的生产设备和质量检测设备,从原材料的购入、生产、检测、销售全过程的管理均采用严格的质量标准。本公司从创建伊始即以稳定可靠的产品质量、高效科学的管理、诚信优质的服务深受业内关注,在业内拥有良好的口碑,被称为研磨专家。   格楠公司拥有先进的生产设备及专业技术工程人员。产品由设计、生产到交付使用,均有经验丰富的技术员直接参与,确保质量,务求精益求精。本公司在全国的销售网络不断拓展和延伸的同时,在同行业中较早采用区域特许经营的模式,本着“务实,诚信,创新,高效”的企业精神和“互利互惠,共同发展”的经营理念,开拓创新,精工细作,铸造高品质品牌研磨机械。我公司以品质为尊、不断拓展、出精品、创名牌,立足国内,走向世界,我们愿以更精湛的技术,更优良的质量,更先进的管理,更满意的服务与您精诚合作共创美好未来。  格楠公司对外加工陶瓷磨片、瓷管外圆抛光、工程塑料、汽车油泵密封件等。
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  • 产品详情G-30D4型高精密单面光刻机产品介绍:设备概述:本设备为我公司专门针对各大、中、小型企业的使用特性而研发的一种高精密双面光刻机,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产,它具有生产效率高、结构简单、操作维护方便等优势,本机不仅适合4英寸以下各型基片的曝光,也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。主要构成主要由防震工作台、LED专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。1. 适用范围Φ100mm以下,厚度(包括非圆形基片2. 结构3. 操作简便4. 设备运行稳定、可靠5. 特设功能 的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题主要技术指标span "="" style="box-sizing: border-box padding: 0px font-size: 0.15rem line-height: 22.5px"1、曝光类型:双面,一次同时曝光(配置4″LED专用曝光头)2、曝光面积:110×110mm;3、曝光照度不均匀性:≤±3%;4、曝光强度:0~30mw/cm2可调;5、紫外光束角:≤3?;6、紫外光中心波长:365nm;7、紫外光源寿命:≥2万小时;8、工作面温度:≤30℃9、采用电子快门;10、曝光分辨率:2μm(曝光深度为线宽的10倍左右)11、曝光方式:接触式曝光;12、掩模版尺寸:≤127×127mm;13、基片尺寸:≤ Φ100mm 14、基片厚度:≤5 mm;15、曝光定时:0~999.9秒可调;
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  • 高频红外碳硫仪对特殊材料的检测 高频红外碳硫仪对特殊材料的检测技术参数:1、应用范围:黑色金属、有色金属、合金、碳化物、非金属、有机物、矿物质、煤(焦炭)、催化剂等原材料中的碳硫质量分数。2、测量范围:碳:0.00001%~10.0000%(可扩至99.999%) 硫:0.00001%~0.5000%(可扩至99.999%) 3、分析精度:碳RSD ≤0.5% 硫RSD ≤1.0% 灵敏度(读数) 0.1ppm4、分析时间:25-60秒(可调)5、分析标准:碳、硫均符合GB/T20123-2006/ISO15350:2000标准6、电子天平称样精度:0.0001g 7、高频炉:功率:2.5KVA 频率:18~20MHz客户案例:2021年4月份,南京麒麟科学仪器集团有限公司技术工程师从哈工大学校调试培训圆满结束归来,该公司从南京麒麟科学仪器集团引进QL-HW2000B型高频红外碳硫仪等检测设备,用高频红外碳硫仪主要用来检测特殊材料中的碳硫含量。工程师培训化验员及技术指导,检测碳硫元素采用红外精密吸收法,现场检测数据精度客户非常满意。这款检测设备对高铁部件企业起到质量控制。矿石检测仪 南京麒麟 QL-HW2000B型红外碳硫分析仪产品特点:1、高频炉采用射频升温技术,保证了每次燃烧的一致性,确保了测试的稳定性;2、碳硫分析技术,采用高性能窄带滤光片,避免了高碳对硫的干扰;3、高精度红外热释电探测器,高碳和超低碳测量的精密度和准确度;4、红外碳硫吸收装置采用航空同步电机,10万小时连续使用无故障;5、主板设计和模块化应用,结合温度压力流量补偿技术,分析结果的一致性;6、高精度流量控制和10万次打开无故障的台湾亚德客电磁阀应用,确保气路的可靠运行。
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  • NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪,既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪技术特点常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的完美结合。双模式操作(针尖扫描和样品台扫描),即使在长程测量时也可以得到最优化的小区域三维测图。针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10&mu m X 10&mu m 到500&mu m X 500&mu m。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。针尖扫描采用双光学传感器,同时拥有宽阔测量动态范围(最大至500&mu m)及亚纳米级垂直分辨率 (最小0.1nm )软件设置恒定微力接触。简单的2步关键操作,友好的软件操作界面。应用 三维表面轮廓测量和粗糙度测量,即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。薄膜和厚膜的台阶高度测量。划痕形貌,磨损深度、宽度和体积定量测量。空间分析和表面纹理表征。平面度和曲率测量。二维薄膜应力测量。微电子表面分析和MEMS表征。表面质量和缺陷检测。北京亿诚恒达科技有限公司:
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  • 产品简介LVHT系列恒温加热探针台是我司根据高校科研及产业研发需要,而特定设计的一款高精密控温探针台,系统兼顾位移调节精度及控温精度,实现测量芯片在不同温度下的电学性能变化,广泛应用于光电半导体等相关领域。产品优势模块化设计,可以搭配不同构件完成不同测试最大可用于12英寸以内样品测试探针台整体位移精度高达3μm,样品台精密四维调节兼容多种光学显微镜,可外引光路实现光电mapping测试PID控温,可加热至300℃,精度±0.1℃,均匀性±5℃ 满足1μm以上电极/PAD使用漏电精度可达10pA/100fA(屏蔽箱内)探针座采用进口交叉滚珠导轨,线性移动,无回程差设计加宽探针放置架,可放置6个DC探针座/4个RF探针座显微镜可二维精密调节,且可选配多种行程及驱动方式模块介绍通用参数常规选型相关配件多种精度,多种夹具类型探针座 同轴线缆,三同轴线缆各种类型探针真空泵电学测试夹具电磁屏蔽箱应用领域半导体材料光电检测,功率器件测试,MEMS测试,PCB测试,液晶面板测试,测量表面电阻率测试,精密仪器生产检测,航空航天实验等。谱量光电可根据客户实际应用需求,定制配套探针台系统,已达到更好的测试效果及性价比,具体信息可联系详询。
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  • 中图仪器NS系列国产探针式膜层厚度表面粗糙度台阶仪可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。样品适应面广,对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求,数据复现性高、测量稳定、便捷、高效,是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。台阶仪测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列国产探针式膜层厚度表面粗糙度台阶仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。NS系列国产探针式膜层厚度表面粗糙度台阶仪广泛应用于大学、研究实验室和研究所、半导体和化合物半导体、高亮度LED、太阳能、MEMS微机电、触摸屏、汽车、医疗设备等行业领域。典型应用部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动,360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)尺寸(L×W×H)mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W使用环境相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动:6.35μm/s(1-100Hz)音频噪音:≤80dB空气层流:≤0.508 m/s(向下流动)恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 西安市高精密仪表厂差压密度计差压式密度计: 差压式密度计是根据已知液位的压力和密度成正比的原理制造的,目前市场上的差压式密度计均采用电容式压力传感器,为了提高精度我厂生产的差压密度计均采用单晶硅压力传感器,差压密度计的理论可达0.05%,远远高于行业平均水平。差压密度计特点:1. 一体化两线制变送器,无活动部件2. 侧壁式安装方便特殊工况3. 4位半数字液晶显示4. 两线制密度仪表5. 数字化输出控制6. 在线远程重新校验7. 适用于流动和静止的液体8. 接液部分全不锈钢或其他材质,卫生耐腐蚀9. 本安防爆差压密度计参数:输出信号两线制 4-20mA 带HART供电电源24VDC就地显示4位半数字或5位母液晶显示仪表精度0.1%(20℃时)重复精度0.2%防爆性能防爆放水密封外壳,本质安全型防爆温度范围环境:-40~85℃;过程:-20~150℃贮存:-40~100℃;数显:-10~60℃启动时间电源接通后5秒启动静压范围7Mpa湿度范围0~100%RH电气接口M20*1.5过程连接法兰连接或快装卡盘(卫生性)接液材质316L不锈钢;HC22;PTFE等(可根据实际工况定制)安装形式垂直安装或罐体侧装介质流向自下而上或静态测量防护等级IP65外壳材质铝合金差压密度计的型号与规格:XY-901 插入式密度计 适合从顶端插入式安装(罐体)XY-902 测装式密度计 适合管壁安装,或较大管道安装XY-903 管道式安装,直接夹装在2个管道之间 注意:我们会提高安装设计图纸,需要此类产品的可以和我们的销售工程师联系获取更多建议
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  • NANOMAP D光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪集白光干涉非接触测量法和大面积SPM扫描探针接触式高精度扫描成像于一个测量平台。是目前功能最全面,技术最先进的表面三维轮廓测量显微镜。既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。由于采用独特的缝合技术,无论怎样的表面形态、粗糙程度以及样品尺寸,一组m× n图像可以被缝合放大任何倍率,在高分辨率下创造一个大的视场,并获得所有的被测参数。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。随着微细加工技术的不断进步,微电路、微光学元件、微机械以及其它各种微结构不断出现,对微结构表面形貌测量系统的需求越发迫切, NanoMap-D所具备的双模式组合,结合了白光干涉非接触测量及SPM扫描探针高精度扫描成像于一体,克服了光学测量及扫描探针接触式的局限性,并具有操作方便等优点成功地保证了其在半导体器件,光学加工以及MEMS/MOEMS技术以及材料分析领域的领先地位。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪经过广泛严格的检测,确保其作为测量仪器的标准性和权威性,并保证设备的各种功能完好,各个部件发挥出色。用NIST标准可以方便快捷地校验系统的精度,所校准用的标样为获得美国国家标准局( NIST) 的计量单位的认可。NanoMap-D配备的软件提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪主要功能及应用:多种测量功能精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。薄/厚膜材料薄/厚膜沉积后测量其表面粗糙度和台阶高度,表面结构形貌, 例如太阳能电池产品的银导电胶线蚀刻沟槽深度, 光刻胶/软膜亚微米针尖半径选件和埃级别高度灵敏度结合,可测量沟槽深度形貌。材料表面粗糙度、波纹度和台阶高度特性分析软件可轻易计算40多种的表面参数,包括表面粗糙度和波纹度。计算涵盖二维或三维扫描模式。表面光滑度和曲率可从测量结果中计算曲率或区域曲率薄膜二维应力测量薄膜应力,能帮助优化工艺,防止破裂和黏附问题表面结构和尺寸分析无论是二维面积中的坡度和光滑度,波纹度和粗糙度,还是三维体积中的峰值数分布和承载比,本仪器都提供相应的多功能的计算分析方法。缺陷分析和评价先进的功能性检测表面特征,表面特征可由用户自定义。一旦检测到甚至细微特征,能在扫描的中心被定位和居中,从而优化缺陷评价和分析。其他仪器选择请点击亿诚恒达官方网站:
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