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光解仪

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光解仪相关的论坛

  • 基质辅助激光解吸飞行时间质谱仪

    用基质辅助激光解吸电离的方式产生样品离子,用飞行时间质谱仪对样品进行分析的装置。把样品悬浮在基质中,激光打在基质上,基质吸收并传递激光能量,使基质中的样品解吸并电离,进入飞行时间质谱仪进行检测(参见基质辅助激光解吸电离和飞行时间质谱仪词条)。对不同的样品,改变基质,可以获得更满意的结果。

  • 【讨论】如何防止试样的光解?

    所谓光解是指试样在紫外光的照射下发生化学反应。试样的光解是从事紫外可见分光光度计的分析工作者经常会碰到的一个棘手问题。谈谈你所遇到的问题和解决方法!

  • 【求助】农药的光解实验

    我想问一下,做苯醚甲环唑的光解都需要些什么条件?这个药非常稳定,非常难水解,不知道能否光解呢?谁有这方面的资料呀?!多谢!

  • 使用激光闪光光解测定自由基

    想用激光闪光光解测定水体中的卤素自由基,之前有同学测出来过,但是帮助测样的老师出国后失去联系,并且该仪器坏了,之后学院新买了激光闪光光解仪LP920,就再也测不出来,想问问各位,有人了解怎样测的吗?或是有人知道其他的检测方法吗?求指点

  • 实验分析仪器--基质辅助激光解吸电离源结构原理及特点

    [b]1.基本原理 [/b]基质辅助激光解吸电离源(matrix-assisted laser desorption ionization ,MALDI)需要有基体参与电离过程,其基体一般都是在激光的作用下具有很强的电子吸收能力的有机酸。基体中的样品一般需要高度稀释,以免样品分子之间相互作用。 MALDI可以非常高效地提供生物大分子的分子离子(通常为[M+H][sup]+[/sup]或[M+Na][sup]+[/sup]。一般而言,有机酸(即基体)的酸性越强,离子化过程中产生的碎片就越多。值得注意的是,样品-基体的配合物必须形成晶体,如果形成的晶体不好,则意味着样品和基体之间的作用还不充分,难以获得理想的灵敏度和谱图。激发用的激光一般波长均为308nm,但是也可以用二氧化碳的IR激光器来进行激发。在激光的作用下,基体的分子被很快蒸发,样品分子和基体分子之间的作用力被很快削弱,使得样品分子也解离出来,形成离子而进入[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url],并且具有较大的动能。其工作原理见图1。[b]2.技术分类[/b]基质辅助激光解吸电离源属于光子激发的表面解吸离子源,其能量由激光的光子提供。[b]3.技术特点[/b]基质辅助激光解吸电离源技术具有非常高的灵敏度,需要的样品量一般为pmol~fmol之间,能够用于分子量大于10000Da的生物活性物质分析,还能够很方便地与TOF联用。在成像系统的辅助下,该离子源可以实现样品表面的分子成像。 [img=image.png,500,243]https://i3.antpedia.com/attachments/att/image/20220126/1643167183766409.png[/img]图1 基质辅助激光解吸电离源原理示意图

  • 【求助】光解水的氢气检测

    【求助】光解水的氢气检测

    最近在做光解水的实验,用气相色谱(上海天美GC7900)在线分析生成的氢气(TCD),可是在用外标法标定氢气时,无论注入氢气的量是多少,生成的峰面积都是一样的,都和下面的谱图一样,为什么啊?顺便问下气相色谱测氢气时的温度、电流应该为多少啊?http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/11/201011061604_257735_2178287_3.jpg

  • 应用在UV光解空气净化器中的紫外线传感器

    应用在UV光解空气净化器中的紫外线传感器

    UV光解空气净化器是利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、三甲,胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫,醚、二甲,二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子键,使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物,如CO2、H2O等。[img=,514,424]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/12/201812120951291658_9073_3332482_3.jpg!w514x424.jpg[/img]利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有极强的清除效果。恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。UV光解空气净化器是由等离子分解废气净化器+UV光解除臭废气净化器两种设备的完美结合,综合采用了等离子废气净化器和紫外光触媒除臭废气净化器两种设备的优点组合而成,利用等离子分解技术和UV紫外光解技术相结合,对废气和臭气进行高效协同净化处理![img=,393,390]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/12/201812120951444183_313_3332482_3.jpg!w393x390.jpg[/img]接下来说说可以应用到UV光解空气净化器中的紫外线传感器,小编推荐一款由工采网从国外进口的紫外线传感器 - GUVC-T21GH,这款传感器芯片大小0.4mm,TO 5封装,尺寸小,可以单一电源电压操作,具有高灵敏度和良好的日盲。广泛应用于:紫外线强度检测和控制,UV指数检测,户外检测UV指数设备等,还可以用于紫外线消毒和UV固化,用来监测紫外线强度,UV火焰探测器等。UV光解空气净化器的性能特点:1、高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率最高可达99%以上,脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93)。2、无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。3、适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。4、运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,(每处理1000立方米/小时,仅耗电约0.2度电能),设备风阻极低50pa,可节约大量排风动力能耗。5、无需预处理:恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃-95℃之间,湿度在30%-98%、PH值在2-13之间均可正常工作。6、设备占地面积小,自重轻:适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,设备占地面积1平方米/处理10000m3/h风量。7、优质进口材料制造:防火、防爆、防腐蚀性能高,设备性能安全稳定,采用不锈钢材质,设备使用寿命在十五年以上。8、环保高科技专利产品:采用国际上最先进技术理念,通过专家及工程技术人员长期反复的试验,开发研制出的,具有完全自主知识产权的高科技环保净化产品,可彻底分解恶臭气体中有毒有害物质,并能达到完美的脱臭效果,经分解后的恶臭气体,可完全达到无害化排放,绝不产生二次污染,同时达到高效消毒杀菌的作用。

  • 流通池的光洁度和洁净度

    流通池在高效液相色谱中是一个非常重要的部件,它在仪器的灵敏度和检测稳定性中起着极为关键的作用。流通池的光洁度、洁净度如能得到保证,检测基线会很稳,背景吸收也相对较低、较稳。

  • 【求购】油漆干层测试和光洁度测试

    现在公司需要买油漆干层测试和表面光洁度(Dry film thickness / Gloss meter)测试仪各一台。我们的设计部门提出要TQC的。请问各位国内有TQC这个公司的代理吗?怎么联系?谢谢

  • 含有巯基的生物小分子化合物的基质辅助激光解吸离子化质谱分析方法的研究

    [align=left][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【序号】:1[/back][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【作者】: 郭黎明[/back][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【题名】:含有巯基的生物小分子化合物的基质辅助激光解吸离子化质谱分析方法的研究[/back][/color][/font][/align][align=left][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【期刊】:吉林大学 博士论文[/back][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【年、卷、期、起止页码】:2022[/back][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][/color][/font][font='微软雅黑',sans-serif][color=black][back=white]【全文链接】:[/back][/color][/font][url=https://kns.cnki.net/kcms2/article/abstract?v=3uoqIhG8C447WN1SO36whLpCgh0R0Z-ia63qwICAcC3-s4XdRlECrTIkXoHr2EdHtSPC6BwqSJe8khappK2KsrLiQjj7VhBT&uniplatform=NZKPT]含有巯基的生物小分子化合物的基质辅助激光解吸离子化质谱分析方法的研究 - 中国知网 (cnki.net)[/url][/align][align=left] [/align]

  • 基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪(MALDI-TOF MS)操作规程(sop)

    基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪操作规程一. 开机1. 开主机总电源至ON(此时分子泵启动)。2. 开机诫泵电源至ON,必要时振气30分钟。3. 开主机正面有钥匙的开关至ON(顺时针)。4. 开计算机及显示器,启动FLEXcontrol软件。5. 等待源高真空达到3×10-6mbar,如达不到该数值,检查是否有漏气发生。6. 打开高纯氮气(纯度99.999%以上)钢瓶,使激光器内氮气压力为1700mbar左右并保持稳定。7. 进入日常操作。二. 关机1.将靶退出。2.在FLEXcontrol界面的Spectrometer关掉高压HV(按“OFF”)。3.关闭所使用的软件,关闭计算机。4.关主机正面有钥匙的开关至OFF(逆时针)。5.关机诫泵电源至OFF。6.关主机总电源至0FF。三.日常操作1. 打开FLEXcontrol进入仪器控制界面。2. 确认真空度为10-7mbar或稍低。3. 通过界面Carrier▲或主机正面的Load EJECT开关,将样品靶放入仪器,等待约2分钟,调整好靶位。在此过程中不应操作软件或硬件,以确保仪器通讯畅通。4. 根据测量目的选择测量方法⑴. 分子量测定:根据分子量大小选择相应的线性测量方法和仪器校正方法。疲?nbsp 肽质量指纹谱测量:根据所需测量的肽谱范围选择相应的反射测量方法和仪器校正方法。⑶. 根据需要选择正离子或负离子测量方法和仪器校正方法。⑷. 酌情选择FAST方法。5. 选择适当的仪器参数6. 测量⑴. 手动测量a. 选择好待测样品的靶位及相应参数后,按 Start开始测量。b. 根据图谱的质量按Add添加或按Clear Sum删除图谱。c. 按Save As保存图谱。注:在测量过程中可随时调整激光能量和靶位置以获得最佳信噪比和分辨率。⑵. 自动测量a. 按菜单AutoXecute,再按Select选择一个Sequence文件名。b. 按Edit编辑待测样品,用Sample position 的Sample依次选定靶位后按Add添加到Edit AutoXecute Sequence中。c. 按AutoXecute Method选择Calibration或样品测量方法。d. 按Edit设定激光能量、靶位移动、累加方法等参数并保存该参数。e. 按Start Automatic Run开始自动测俊?7.处理图谱(1) 打开XTOF进入图谱处理界面。(2) open 菜单选择待处理的图谱。(3) 标峰:a)反射模式标单同位素峰;b)蛋白质线型测量模式时标平均峰。(4) 打印图谱。四.注意事项1. 关机时氮气可不关,可将压力适当调低,以免仪器受潮。2. 手动测量过程中随时注意仪器的漂移,若有漂移需用标肽或标准蛋白校正仪器。3. 一定注意氮气的纯度不低于99.999%。4. 换氮气钢瓶时应先将激光器的电源关闭,将气管吹干净后方可接入激 光器。5. 要得到一张满意的图谱,必须调整合适的激光能量。6. 关机时应先关高压后再退出FLEXControl。7. 须等待样品靶点完全干燥后才能将靶放入仪器,且不宜过夜。

  • 表面粗糙度仪(光洁度)的国家标准主要术语及定义

    本资料给出的参数符合GB/T3505-2000《产品几何技术规范表面结构 轮廓法 表面结构的述语、定义及参数》 、符合GB/T6062-2002《产品几何量技术规范(GPS)表面结构 轮廓法接触(触针)式仪器的标称特性》。表面粗糙度关键技术术语: (1)表面粗糙度: 取样长度L 取样长度是用于判断和测量表面粗糙度时所规定的一段基准线长度,它在轮廓总的走向上取样。 (2)表面粗糙度: 评定长度Ln 由于加工表面有着不同程度的不均匀性,为了充分合理地反映某一表面的粗糙度特性,规定在评定时所必须的一段表面长度,它包括一个或数个取样长度,称为评定长度Ln。 (3)表面粗糙度: 轮廓中线(也有叫曲线平均线)M 轮廓中线M是评定表面粗糙度数值的基准线。 评定参数及数值: 国家规定表面粗糙度的参数由高度参数、间距参数和综合参数组成。 表面粗糙度高度参数共有三个: (1)轮廓算术平均偏差Ra : 在取样长度L内,轮廓偏距绝对值的算术平均值。 (2)微观不平度十点高度Rz 在取样长度L内最大的轮廓峰高的平均值与五个最大的轮廓谷深的平均值之和。 (3)轮廓最大高度Ry 在取样长度内,轮廓峰顶线和轮廓谷底线之间的距离。 表面粗糙度间距参数共有两个: (4)轮廓单峰平均间距S 两相邻轮廓单峰的最高点在中线上的投影长度Si,称为轮廓单峰间距,在取样长度L内,轮廓单峰间距的平均值,就是轮廓单峰平均间距。 (5)轮廓微观不平度的平均间距Sm 含有一个轮廓峰和相邻轮廓谷的一段中线长度Smi,称轮廓微观不平间距。 表面粗糙度综合参数: (6)轮廓支承长度率tp 轮廓支承长度率就是轮廓支承长度np与取样长度L之比。 另附: 中美表面粗糙度对照表中国旧标准( 光洁度)中国新标准( 粗糙度)Ra美国标准(微米 )Ra美国标准( 微英寸),Ra▽46.38.003206.30250▽53.25.002004.001603.20125▽61.62.501002.00801.6063▽70.81.25501.00400.8032▽80.40.6325[/al

  • 【分享】基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪(MALDI-TOF MS)操作规程(sop)

    [b][size=3][color=#0000ff]基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪(MALDI-TOF MS)操作规程(sop)[/color]  一.开机[/size][/b][size=3]  1.开主机总电源至ON(此时分子泵启动)。[/size][size=3]  2.开机诫泵电源至ON,必要时振气30分钟。[/size][size=3]  3.开主机正面有钥匙的开关至ON(顺时针)。[/size][size=3]  4.开计算机及显示器,启动FLEXcontrol软件。[/size][size=3]  5.等待源高真空达到3×10-6mbar,如达不到该数值,检查是否有漏气发生。[/size][size=3]  6.打开高纯氮气(纯度99.999%以上)钢瓶,使激光器内氮气压力为1700mbar左右并保持稳定。[/size][size=3]  7.进入日常操作。[/size][size=3][b]  二.关机[/b][/size][size=3]  1.将靶退出。[/size][size=3]  2.在FLEXcontrol界面的Spectrometer关掉高压HV(按“OFF”)。[/size][size=3]  3.关闭所使用的软件,关闭计算机。[/size][size=3]  4.关主机正面有钥匙的开关至OFF(逆时针)。[/size][size=3]  5.关机诫泵电源至OFF。[/size][size=3]  6.关主机总电源至0FF。[/size][size=3][b]  三.日常操作[/b][/size][size=3]  1.打开FLEXcontrol进入仪器控制界面。[/size][size=3]  2.确认真空度为10-7mbar或稍低。[/size][size=3]  3.通过界面Carrier▲或主机正面的Load EJECT开关,将样品靶放入仪器,等待约2分钟,调整好靶位。在此过程中不应操作软件或硬件,以确保仪器通讯畅通。[/size][size=3]  4.根据测量目的选择测量方法[/size][size=3]  ⑴.分子量测定:根据分子量大小选择相应的线性测量方法和仪器校正方法。[/size][size=3]  疲?nbsp 肽质量指纹谱测量:根据所需测量的肽谱范围选择相应的反射测量方法和仪器校正方法。[/size][size=3]  ⑶.根据需要选择正离子或负离子测量方法和仪器校正方法。[/size][size=3]  ⑷.酌情选择FAST方法。[/size][size=3]  b.根据图谱的质量按Add添加或按Clear Sum删除图谱。[/size][size=3]  c.按Save As保存图谱。[/size][size=3]  注:在测量过程中可随时调整激光能量和靶位置以获得最佳信噪比和分辨率。[/size][size=3]  ⑵.自动测量[/size][size=3]  a.按菜单AutoXecute,再按Select选择一个Sequence文件名。[/size][size=3]  b.按Edit编辑待测样品,用Sample position 的Sample依次选定靶位后按Add添加到Edit Auto Xecute Sequence中。[/size][size=3]  c.按Auto Xecute Method选择Calibration或样品测量方法。[/size][size=3]  d.按Edit设定激光能量、靶位移动、累加方法等参数并保存该参数。[/size][size=3]  e.按Start Automatic Run开始自动测俊?7.处理图谱[/size][size=3]  (1) 打开XTOF进入图谱处理界面。[/size][size=3]  (2) open 菜单选择待处理的图谱。[/size][size=3]  (3) 标峰:a)反射模式标单同位素峰 b)蛋白质线型测量模式时标平均峰。[/size][size=3]  (4) 打印图谱。[/size][size=3][b]  四.注意事项[/b][/size][size=3]  1. 关机时氮气可不关,可将压力适当调低,以免仪器受潮。[/size][size=3]  2. 手动测量过程中随时注意仪器的漂移,若有漂移需用标肽或标准蛋白校正仪器。[/size][size=3]  3. 一定注意氮气的纯度不低于99.999%。[/size][size=3]  4. 换氮气钢瓶时应先将激光器的电源关闭,将气管吹干净后方可接入激 光器。[/size][size=3]  5. 要得到一张满意的图谱,必须调整合适的激光能量。[/size][size=3]  6. 关机时应先关高压后再退出FLEXControl。[/size][size=3]  7. 须等待样品靶点完全干燥后才能将靶放入仪器,且不宜过夜。[/size]

  • 【资料】熊猫分享-柱后紫外光解荧光衍生液相色谱法测定蔬菜中残留的15种苯脲除草剂

    [img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=107606]柱后紫外光解荧光衍生液相色谱法测定蔬菜中残留的15种苯脲除草剂[/url]建立了蔬菜中15种苯脲除草剂残留的固相萃取-在线柱后紫外光分解和衍生化的高效液相色谱荧光检测分析方法。样品用乙腈提取,弗罗里硅土固相萃取柱净化,目标化合物由反相C18柱分离,经柱后紫外光分解和衍生化后进行荧光检测。对样品的前处理条件、液相色谱分离、柱后紫外光分解和衍生条件等进行了详细的研究。15种苯脲除草剂的高效液相色谱分离在乙腈-水梯度洗脱下完成,目标物的保留时间为9~31m in,线性范围内线性关系良好,相关系数为0.998 6~1.000 0 在洋葱、菠菜、黄瓜等样品中3个加标水平的平均回收率(n=3)为75.3%~121.6%,相对标准偏差为0.4%-11.6% 15种苯脲除草剂在蔬菜中的检出限为0.005~0.05m g/kg。该方法操作简便、灵敏度高、选择性好,符合多种农药残留分析的要求。【作者单位】:中国水稻研究所农业部稻米及制品质量监督检验测试中心 浙江杭州310006【关键词】:高效液相色谱 在线柱后紫外光解 荧光衍生 固相萃取 苯脲除草剂 蔬菜【基金】:国家科技基础条件平台工作专项资金(2004DEA70870) 中央级公益性科研院所基本科研业务专项资金(CNRRI10023)资助【分类号】:TS255.7【DOI】:CNKI:SUN:SPZZ.0.2008-01-018【正文快照】:  苯脲除草剂作为光合作用的抑制剂广泛应用于不同农作物芽前和苗后的阔叶与一年生杂草的控制[1]。它能持久存在环境中,其代谢产物有一定的毒性和致癌性,不仅污染了土壤、地表水和地下水,又通过污染水灌溉农田污染了农作物。

  • 表面粗糙度仪(光洁度)的国家标准主要术语及定义

    表面粗糙度仪(光洁度)的国家标准主要术语及定义 本资料给出的参数符合GB/T3505-2000《产品几何技术规范表面结构轮廓法表面结构的述语、定义及参数》、符合GB/T6062-2002《产品几何量技术规范(GPS)表面结构轮廓法接触(触针)式仪器的标称特性》。 图一:放大n倍后的工件截面/表面粗糙度及轮廓: /uppic/11-08/30/30121811.jpg图二:各种加工方法能得到的表面光度: /uppic/11-08/30/30121920.jpg图三:常见的表面粗糙度仪的工件测量: /uppic/11-08/30/30122201.jpg表面粗糙度关键技术术语: (1)表面粗糙度:取样长度L 取样长度是用于判断和测量表面粗糙度时所规定的一段基准线长度,它在轮廓总的走向上取样。 (2)表面粗糙度:评定长度Ln 由于加工表面有着不同程度的不均匀性,为了充分合理地反映某一表面的粗糙度特性,规定在评定时所必须的一段表面长度,它包括一个或数个取样长度,称为评定长度Ln。 (3)表面粗糙度:轮廓中线(也有叫曲线平均线)M /uppic/11-08/30/30122607.jpg 轮廓中线M是评定表面粗糙度数值的基准线。 评定参数及数值: 国家规定表面粗糙度的参数由高度参数、间距参数和综合参数组成。 表面粗糙度高度参数共有三个: (1)轮廓算术平均偏差Ra : /uppic/11-08/30/30122654.jpg 在取样长度L内,轮廓偏距绝对值的算术平均值。 (2)微观不平度十点高度Rz /uppic/11-08/30/30122743.jpg 在取样长度L内最大的轮廓峰高的平均值与五个最大的轮廓谷深的平均值之和。 (3)轮廓最大高度Ry /uppic/11-08/30/30122822.jpg 在取样长度内,轮廓峰顶线和轮廓谷底线之间的距离。 表面粗糙度间距参数共有两个: (4)轮廓单峰平均间距S 两相邻轮廓单峰的最高点在中线上的投影长度Si,称为轮廓单峰间距,在取样长度L内,轮廓单峰间距的平均值,就是轮廓单峰平均间距。 (5)轮廓微观不平度的平均间距Sm 含有一个轮廓峰和相邻轮廓谷的一段中线长度Smi,称轮廓微观不平间距。 表面粗糙度综合参数: (6)轮廓支承长度率tp [align=lef

  • 基质辅助激光解吸电离

    利用对使用的激光波长范围具有吸收并能提供质子的基质(一般常用小分子液体或结晶化合物),将样品与其混合溶解并形成混合体,在真空下用激光照射该混合体,基体吸收激光能量,并传递给样品,从而使样品解吸电离。MALDI的特点是准分子离子峰很强。通常将MALDI用于飞行时间质谱,特别适合分析蛋白质和DNA。

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