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超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪

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超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪相关的论坛

  • 真空镀膜机

    最近需要购买一台热蒸发真空镀膜机,请问哪些厂家的比较好用?另外,有谁知道日立公司在北京的代理的联系方式?

  • 扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决

    随着电镜技术和应用快速发展,越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

  • 真空镀膜机中辅助挡板的作用

    真空镀膜机(DMP450)中有一个辅助挡板,设计的初衷是为了改善镀膜均匀性,但在实际生产过程中,原机辅助挡板并不能最大改善膜厚均匀性。一个半球形工件盘,基片卡槽分三圈排列,相同蒸发功率,相同时间下,相邻两圈的基片膜厚有差异。从理论上来说,如何通过修正挡板改善膜厚一致性和均匀性?

  • 关于真空离子镀膜的问题

    我们公司是做尼龙和塑胶拉链的,最近总是接到客户投诉,说产品在经过真空镀膜后进行水洗测试,表面镀层会脱落的投诉。公司购买了真空镀膜设备,我们按设备供应商提供的工艺流程和试剂做了真空镀膜并进行了水洗测试,存在镀层会脱落的问题。以下是流程:产品表面清洁-去静电-喷底漆-烘烤底漆-真空镀膜-喷面漆-烘烤面漆(120°1m)-出成品。.在此,希望能得到各位老师的帮助:希望各位老师提供一个较成熟的流程,和各工序的参数如果设置?使用什么试剂会更好?希望各位老师解释一下真空镀膜后进行水洗测试,表面镀层会脱落的原因?是否因为没打好底的问题?望各位老师不吝赐教!谢谢!

  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展,主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途,而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用;真空镀膜产品在以后必将形成主流,具有很大的市场空间。 然而,在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少,所以才会出现上马快,下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段,目前所有的真空镀膜厂家,都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性,造成镀膜产品质量不过关,以至于镀膜品质不够好;而且生产效率低,真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多,除了跟设备有关,还与操作人员的水平,技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认,决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性;镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用,因此,镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的,就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法,目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪,它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射,既延长了内容物的保质期,又提高了薄膜的亮度,从一定程度上代替了铝箔,也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜(VMPET)和CPP镀铝膜(VMCPP)。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,通常都是需要使用光密度法来检测。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10(入射光/透射光)或OD=log10(1/透光率)。通常镀铝膜的光密度值为1-3(即光线透过率为10%-0.1%),数值越大镀铝层越厚,美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言,需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪,在真空镀膜生产线上实行连续监测,才能保证真空镀膜产品的质量,同时提高真空镀膜设备的在线生产效率,减少生产成本。

  • 【求购】求购镀膜机

    最近单位要买一台磁控溅射镀膜机,不知国内外哪些厂家的设备比较好,因为镀膜机的部件比较多,又要求真空,出点小问题难免,所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的,指点指点。

  • 用真空镀膜防止光学仪器生雾

    用真空镀膜防止光学仪器生雾:[font=&]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料:[/font][font=&]化学稳定性高;[/font][font=&]且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性;[/font][font=&]与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。[/font][font=&]不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]

  • 用真空镀膜方法防止仪器生雾的原理

    [font=微软雅黑]用真空镀膜方法[/font][font=微软雅黑]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料,化学稳定性高,且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性,与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]

  • 真空技术的应用

    地球上的真空环境 一.在地球上,通常是对特定的封闭空间抽气来获得真空,用来抽气的设备称为真空泵。早期制成的真空泵,抽气速度不大,极限真空低,很难满足生产和科学试验的需要。后来相继制成一系列抽气机理不同的真空泵,抽速和极限真空都得到不断的提高。如低温泵的抽气速率可达60000升/秒,极限真空可达千亿分之一帕数量级。 需要 A.为了保证真空系统能达到和保持工作需要的真空(负压),除需要配备合适的、抽气性能良好的真空泵以外,真空系统或其零部件还必须经过严格的检漏,以便消除破坏真空的漏孔。低(粗)真空、中真空和高真空系统一般用气压检漏 ;对于超高真空系统,在采用一般检漏法粗检以后,还要采用灵敏度较高的检漏仪,如卤素检漏仪和质谱检漏仪来检漏。 应用 B.随着真空获得技术的发展,真空应用日渐扩大到工业和科学研究的各个方面。真空设备应用是指利用稀薄气体的物理环境完成某些特定任务。有些是利用这种环境制造产品或设备,如灯泡、电子管和加速器等。 这些产品在使用期间始终保持真空;而另一些则仅把真空当作生产中的一个步骤,最后产品在大气环境下使用,如真空镀膜、真空干燥和真空浸渍等。 C.真空的应用范围极广,主要分为低真空、中真空、高真空和超高真空应用。低真空是利用低(粗)真空获得的压力差来夹持、提升和运输物料,以及吸尘和过滤,如吸尘器、真空吸盘 。 D.中真空一般用于排除物料中吸留或溶解的气体或水分、制造灯泡、真空冶金和用作热绝缘。如真空浓缩生产炼乳,不需加热就能蒸发乳品中的水分。 E.真空冶金可以保护活性金属,使其在熔化、浇铸和烧结等过程中不致氧化,如活性难熔金属钨、钼、钽、铌、钛和锆等的真空熔炼;真空炼钢可以避免加入的一些少量元素在高温中烧掉和有害气体杂质等的渗入,可以提高钢的质量。 F.高真空可用于热绝缘、电绝缘和避免分子电子、离子碰撞的场合。高真空中分子自由程大于容器的线性尺寸,因此高真空可用于电子管、光电管、阴极射线管、X 射线管、加速器、质谱仪和电子显微镜等器件中,以避免分子、电子和离子之间的碰撞。这个特性还可应用于真空镀膜 ,以供光学、电学或镀制装饰品等方面使用。 G.外层空间的能量传输与超高真空中的能量传输相似,故超高真空可用作空间模拟。在超高真空条件下,单分子层形成的时间长(以小时计),这就可以在一个表面尚未被气体污染前 ,利用这段充分长的时间来研究其表面特性,如摩擦、粘附和发射等。(end)

  • 防止光学仪器生雾的办法2-用真空镀膜方法

    防止光学仪器生雾的办法2-用真空镀膜方法:镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料:化学稳定性高;且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性;与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。

  • 难怪在镀膜上可以看到金颗粒,原来如此

    难怪在镀膜上可以看到金颗粒,原来如此

    如果在镀膜时所用的设备是直流溅射仪或磁控溅射仪而非离子束溅射仪,在放大倍率为几万倍下观察,就会看到镀膜结构。绝大多数用户所使用的离子溅射仪都属于前两种。下面的照片是我对三个文献有关内容的综合。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/01/201301262045_422846_1609375_3.jpg

  • 【求助】这是电镀/真空镀膜前处理共同关心的问题-除油问题

    这是电镀/真空镀膜前处理共同关心的问题. 如何判断在电镀/真空镀膜前,工件的油污被清洗干净? 曾经我们公司是这样检测工件表面油是否除净: 对工件表面喷纯净的水,例如用类似于杀虫剂或是啫喱水的喷桶,然后观察工件表面的水纹状态,如果凝聚成水珠,则代表油未除尽,如果是一层平整的水膜,均匀的覆盖在工件表面,则代表已经无油了! 当时我们认为万无一失,结果其他公司证明: 如果除油基本干净,有水膜等,但如有微量的油粒收缩成很小点,清洗是洗不干净的,镀镍后就会看到如凹下去的小白点了(此经过现场验证). 请问我们该如何解决除油问题?

  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程:气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底(一)与蒸发法相比,溅射沉积的主要特点:①沉积原子能量高,因此薄膜的组织更致密,附着力也可以得到明显改善;②制备合金膜时,其成分的控制性能好;③靶材可以是极难熔的材料;④可利用反应溅射技术,从金属无素靶材制备化合物薄膜;⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量,因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力,降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(二)溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(1)直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图,其典型的溅射条件为:工作气压10Pa,溅射电压3000V,靶电流密度0.5mA/cm2,薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数,它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点:优点:简单缺点:使用的气体压力高,溅射速率较低,这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(2 )射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性,可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射,我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下,采取对其施加一个射频电压的方法,也可以起到对其施加负偏压的作用。(3)磁控溅射相对于蒸发沉积来说,一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一,溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低;第二,溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术:沉积速度较高,工作气体压力较低。工作原理:磁场对电弧运动有一定的约束作用(绕磁场螺旋前进);(1)电子的电离效率高,有效提高了靶电流密度和溅射效率,(2)较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小(三)气体放电是离子溅射过程的基础(1)首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空,充入适当压力的惰性气体,如Ar气,10-1~10Pa;在正负电极间外加电压的作用下,电极间的气体原子将被大量电离;Ar—→Ar++e,Ar+被电场加速后射向靶材,撞击出靶材原子(分子),靶材原子脱离靶时仍具有一定能量,飞向衬底,电子被电场加速飞向阳极;http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大,发生极板两端电压突然降低,电流突然增大,并同时出现带有颜色的辉光,此过程称为气体的击穿;击穿后气体的发光放电称为辉光放电;这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击,即使自然游离源不存大,放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低,且不变,此时电流的增大显然与电压无关,而只与阴极板上产生辉光的表面积有关;正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关;由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小,所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下,固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示,不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时,对于溅射过程来说,比较重要的过程有两个:其一是物质的溅射;其二是二次电子发射:二次发射电子在电场作用下获得能量,进而参与气体分子的碰撞,并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif (四)合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜,比蒸发法易于保证薄膜的化学配比;溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此,溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能,其数值一般可以达到5~20eV;一方面,溅射原子具有很宽的能量分布范围,其平均能量约为10eV左右;另一方面,随着入射离子能量的增加,溅射离子的平均能量也有上升的趋势;溅射过程还会产生很少的溅射离子,它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚,将被靶表面所俘获而不能脱离靶材;由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV,两者相差两个数量级;在溅射沉积中,高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力,另一方面也会引起衬底温度的升高。

  • 【原创】分享真空镀膜设备的网销技巧

    曾有那么一段时间,做网络营销N月,单子数量提不上去,所以,和其他人比起来,挺失败的。而,领导衡量一个销售人员的成与败,标准是唯一的——业绩。 静静的回想了这N月的工作,总结了以下几点不足,希望可以给大家一点借鉴: 1、关于注册平台 我们公司是专业生产真空镀膜设备,所以,我需要注册的平台,最主要的分三大类 一、机械行业平台;如真空镀膜网、设备网、真空镀膜门户、机械网等; 二、综合类的B2B平台;像阿里、慧聪、环球资源、Tradekey等; 三、其他B2B平台;就是所有可以用到流量计的行业的网站等。 平台注册了一大堆,但是,每天更新的数量有限,由于前期没经验,没有做好分类工作,注册时候的用户名、密码也不统一,更新起来比较耽误时间(因此,后续总结所有注册的用户名及密码尽量统一公司名。)2、关于博客推广 博客其实是一个很好的平台,可一直都没有利用好。博客中可以写产品信息、机械产品相关知识、写每天工作中遇到的事情、写一些当下流行的话题等等,都是很好的选择,可以提高流量,从而促进推广。小编现在也学会了在阿里博客、新浪播客、天涯博客等写产品的有关文章,因为文章水准有限,由此导致博文更新的速度也有限了。3、关于论坛 喜欢阿里论坛,所以逛的时间是最长,以至于忽略了其他的论坛,所以,要学会平衡,要多逛各种论坛,多学习,这样也可以把其他论坛的好东西引进阿里,自己的产品信息才会被更广泛的认知。4、关于写软文 一篇好的软文,可以带来很多的外链。还可以被百度等搜索引擎收录。可小编我只会写点散文,不能把产品和文章自然的联系起来,很郁闷,这个真的得多写、多练。我现在的体会是,你得爱你的产品,然后你才能对产品有感而发,才会写出有感情的产品软文。5、关于产品图片 把最基础资源与素材做好:产品图片一定要清晰、详细,产品样本什么的一定要准备齐全,这些都是自己的门面。网销中,我们看不到对方,即使真诚的微笑,也是被忽略的,只有你发过去的产品图片是真实的。 因此企业形象能第一时间体现了企业精益求精的精神面貌与企业文化。要懂得将制造品质升华到一个更高的层次,抓住访客对你网站的需求。 以上几点,做网销的你们也要注意咯。虽然,那段时间里没有好的业绩,但继续努力的我找到了原因。一切的一切,用平常心去面对,不断总结自己,然后去提高。你觉得呢?以上经验由振华真空网销员经验分享!

  • 旋转蒸发仪+冷却循环水浴真空泵RE-5205+SHZ-III

    环境检测,买了台[font=宋体][size=16px][font=宋体]旋转蒸发仪+冷却循环水浴真空泵RE-5205+SHZ-III。不知道是用在什么地方的。。请问大家用这个设备一般是做哪些项目或者哪些过程中需要用??[/font][/size][/font][font=宋体][/font]

  • 超高温材料冲击测试装置蒸发器冷冻油多怎么处理?

    超高温材料冲击测试装置中配件比较多,大到压缩机小到电气元器件都是很重要的,冠亚超高温材料冲击测试装置如果发现蒸发器冷冻油比较多的话,建议及时处理比较好。  超高温材料冲击测试装置蒸发器中冷冻油太多,也能引起制冷量不足而导致降温缓慢。超高温材料冲击测试装置蒸发器中存油,可直接通过其油面的冷热分界线来判断,如超高温材料冲击测试装置油位过高应及时放出。  有些氟利昂与冷冻机油互相溶解,因此,超高温材料冲击测试装置制冷系统里的制冷剂在循环流动时,就免不了会有冷冻机油残留于各部件。超高温材料冲击测试装置冷冻油残留在换热器内会影响传热系数。特别是当冷冻机油进入超高温材料冲击测试装置蒸发器后,若结构设计或安装不合理时,超高温材料冲击测试装置冷冻机油就会只进不出或多进少出,使蒸发器里残留的冷冻机油愈来愈多,严重影响其吸热效果,出现制冷量不足的情况,到这地步不处理的话温度就降不下去,因此,必须进行超高温材料冲击测试装置放油工作。  如何判断超高温材料冲击测试装置蒸发管内留有较多的冷冻机油而影响制冷是件较困难的事情。若遇到超高温材料冲击测试装置这种情况,则会出现一个明显的反常现象,即蒸发管上的白霜是稀稀拉拉的,结得不完全,并且呈浮霜,若无其他故障的话,那很可能是蒸发管内残留冷冻机油太多的缘故。清除超高温材料冲击测试装置蒸发器内冷冻机油,必须将它拆下来,进行吹洗再烘干。对排管式蒸发器,因拆卸很不方便,可将超高温材料冲击测试装置蒸发器的进口用压缩空气吹,然后用喷灯烘蒸发管。  超高温材料冲击测试装置的蒸发器种类也是比较多的,一旦存在冷冻油比较多的话,就需要我们及时解决。

  • 关于旋转蒸发仪的真空泵(水环真空泵)

    本来使用的好好的,后来关闭仪器,去换下一个蒸发样品后,再打开真空泵就不抽真空了。排风扇还在转,真空泵里的液体也好好的滚动着,就是不抽真空。用手堵住抽真空的口,真空泵的压力表有显示。这是怎么回事呢?求高人指点~~~~~

  • 用真空镀膜方和非硫化硅橡胶密封腻子防止仪器生雾

    [font=微软雅黑]用真空镀膜方法[/font][font=微软雅黑]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料,化学稳定性高,且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性,与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font][font=微软雅黑] [/font][font=微软雅黑]采用非硫化硅橡胶密封腻子 [/font][font=微软雅黑]光学仪器密封性好,对于防霉防雾都有重要作用,非硫化硅橡胶密封腻,是一种非硫化醚硅橡胶,加入填充剂、着色剂、结构控制剂所组成,其密封腻高、低温性能显著优于原来的密封蜡,其他指标均不低于密封蜡。[/font]

  • 旋转蒸发仪真空泵

    用旋转蒸发仪的旋蒸乙腈,沸点比较高为80℃,想买一台机械真空泵给旋转蒸发仪抽真空,想问一下这样的真空泵一般对抽真空的要求是多少啊?以及抽气效率是多少?

  • 【原创大赛】磁控溅射原理及TEM样品的制备

    当前,制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法,适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点,下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下,在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞,使其电离出氩离子和一个新的电子,电子飞向基片,氩离子在电场作用下飞向阴极靶,并以高能量轰击靶的表面,使靶材发生溅射。在溅射的过程中,溅射离子,中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态,并束缚和延长原子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm,厚为20μm,网格间距为80μm,最底下一层铜或者钼,上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上,为了减少非弹性散射对衍射数据的影响,在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度,约为15nm-20nm,这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

  • 【分享】蒸金一角:

    [font=宋体][size=3][/size][/font][size=3][font=KaiTi_GB2312]蒸金方法现在普遍使用的是离子镀膜法,通常使用性能稳定,导电性好,镀膜颗粒较细的金,铂,金-靶等材料作为金属镀膜,将其放在上方的阴极上,样品放在下方的阳极上,真空抽至10[sup]-1[/sup]mmHg左右时,早两电极间加直流电压,电子从负偏压的靶中放射出来,在飞向阳极的途中与残余的气体分子相撞,产生离子和额外电子,再距靶面一定距离处呈现辉光放电现象(如样品不够干燥,辉光呈蓝色),电离出的正离子飞向阴极靶,靶中那些已获得足够能量的靶原子,断开与周围原子的键合,从原靶面被溅射来,飞向阳极,以温散的方式覆盖样品表面,用这种方法镀膜,膜层厚度易于控制,均匀性好,操作简单可靠,已逐渐取代真空镀膜法。一般,样品表面较平整时,较薄的镀层就形成连续膜,而且不致掩盖表面细节;如果表面不平整,则需要较厚的镀层才能保证所有边缘,孔洞和凸肩处的满膜连续。生物样品的制备视具体的样品而异,有的可以直接镀膜观察,有的需要干燥(临界点干燥或冷干燥)后在镀膜,有的还需要先固定甚至双固定。[/font][/size]

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