薄膜多层挤出各层测厚测试系统

多层吹膜生产线K系列XTR挤出机提供Eur.Ex.Ma共挤出吹塑薄膜生产线，螺杆直径为20至35 mm，具有不同的螺杆轮廓，从而能够加工不同的聚合物。所有挤出机均配有后螺杆抽取系统，以加快清洁和螺杆更换过程。在多层配置中，挤出机可以组装在单个平台上以具有更紧凑的尺寸，也可以在独立的高度可调结构上组装以允许更灵活的生产线配置。筛网有两个版本：挤出机法兰/手动杆中的筛网组件和两个位置的筛网，以实现更快的筛网更换。

K3A，K5A，K7A，D系列适用于挤塑LDPE，HDPE，LLDPE，EVA，生物聚合物，采用PA，EVOH，TPU，PP，PET的阻隔膜的管状薄膜或箔 带单螺杆挤出机XTR系列（标准）或XTR-WR系列（螺杆和圆筒由特殊钢制成，具有更好的耐磨性），螺杆直径为40至65 mm，模头为100至300 mm的固定机头 或仅在最小直径为180 mm的模具，双流冷却环，固定或旋转压料辊，宽度为600至1200 mm的单或双络筒机中才能使用IBC（内部气泡冷却）。 生产能力为250公斤/小时。设计用于生产宽度从600毫米到1200毫米（根据组装的模具和所用材料而定）的多层吹膜，它可以配备重力进料器，自动厚度调节，电晕处理，在线迷你打印机。

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

注射器针与针座连接力测试仪 多层共挤膜输液袋剥离试验机注射器针与针座连接力测试仪 多层共挤膜输液袋剥离试验机测试原理医药包装性能测试仪的核心工作原理在于通过模拟实际使用过程中可能遇到的各种物理挑战，如拉伸、压缩、穿刺、撕裂等，来评估包装材料的性能。具体来说，测试仪采用精密的机械系统和特殊设计的夹具，将待测包装样品放置在测试区域，并施加相应的力或位移，以模拟包装在实际使用中的受力情况。测试过程中，仪器内置的测力系统和位移监测装置会实时记录和分析数据，包括力值变化、位移变化等，从而得出包装材料的性能参数。注射器针与针座连接力测试仪 多层共挤膜输液袋剥离试验机技术参数力量感应精度：≤0.0001 g，确保极高的测量精度。误差范围：小于0.001%，保证测试结果的准确性。力值传感器：提供多种规格，适应不同测试需求。试验模式：支持拉伸、压缩双向试验，适用于不同类型的测试。软件兼容性：配备最新操作软件，具有人性化的界面和智能化数据处理能力，支持USB、WIFI数据传输。注射器针与针座连接力测试仪 多层共挤膜输液袋剥离试验机主要应用热合强度测试：评估药包铝箔、复合膜的密封强度。拉伸强度与变形率：测试薄膜、软包装材料的物理强度。剥离强度：如铝塑组合盖的开启力，确保包装易于打开但不轻易泄露。穿刺力：模拟注射器针头穿透包装的能力，确保安全性和密封性。特殊应用：包括安瓿瓶折断力、胶塞拔出力、注射器滑动性能等，覆盖广泛的医药包装测试需求。注射器针与针座连接力测试仪 多层共挤膜输液袋剥离试验机设备特点高精度测试：集成高精度传感器，确保测试结果的可靠性。多功能性：配置超过100种试样夹具，满足1000多种材料的测试需求。定制服务：针对特殊需求提供定制化生产，如特殊附件或夹具的改制。智能保护：限位保护、过载保护等智能配置，保障操作安全。标准兼容：符合GB、ISO、ASTM、JIS等国内外多项标准，确保测试的国际通用性。实际应用药品包装盒：测试其抗压和抗弯强度，确保在运输中不受损。注射器：评估针管与针座的连接强度，以及滑动性能，确保使用安全。软包装袋：热封强度测试，防止药物泄露。瓶盖与瓶身：开启力测试，确保消费者能轻松打开，同时保持密封性。

多层共挤膜袋水蒸气透过量测试仪 应用范围 薄膜： 适用于各种塑料薄膜、复合膜水蒸气透过率的定量测定，如：铝箔复合膜、镀铝膜、PVC 硬片、药用铝箔、 共挤膜、流延膜、太阳能背板等。 容器： 适用于各种瓶、盒、袋等包装容器水蒸气透过率的定量测定，如：各种口服及外用液体瓶、各种药用固体 瓶等药品包装容器；包装盒、酸奶杯等各种食品包装容器。 主要特点 1．电解法测试原理 2．三腔独立测试 3．计算机控制，试验全自动，一键式操作 4．智能模式等多种试验模式可选择，可满足各种标准、非标测试 5．可支持容器测试 （选购） 6．三腔循环介质控温，各自独立温度传感器实时监控试验温度 7．试验湿度可自行设置、调节 8．数据审计追踪、溯源；系统日志记录 9．5 级用户权限管理 10．温度、流量、湿度、透过率等曲线显示 11．支持 DSM 实验室数据管理系统，可实现数据统一管理。（选购）测试原理 薄膜： 将待测试样装夹在恒温的干、湿腔之间，使试样两侧存在一定的湿度差，由于试样两侧湿度差的存在，水 蒸气会从高湿侧向低湿侧扩散渗透，在低湿侧，水蒸气被干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电 信号的分析计算，从而得到试样的水蒸气透过率和透湿系数。 容器： 容器的外侧是高湿气体，内侧则是流动的干燥气体，由于容器内外湿度差的存在，水蒸气将穿透容器壁进 入容器内部，进入容器内部的水蒸气将由流动的干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电信号的分 析计算，可得到容器的水蒸气透过率等结果。

菲希尔金镍测厚仪，无损多层镀层测厚仪金镍测厚仪用途 该设备适用于多层镀层厚度测量及材料分析，可用来定量和定性分析样品的元素组成，也可用于镀层和镀层系统的厚度测量，最多可同时测定24种元素，广泛应用于电路板、半导体、电镀、珠宝等工业中的功能性镀层及电镀槽液中的成分浓度分析。 金镍测厚仪特点：1、无论是镀层厚度测量，还是镀液分析，复杂的多镀层应用，一个软件程序就可以完成所有测量应用2、X射线管有带玻璃窗口和钨靶的X射线管或带铍窗口和钨靶的微聚焦X射线管多种选择3、X射线探测器PC（比例接收器）、PIN（硅PIN接收器）、SDD（硅漂移接收器）4、可自动切换的准直器和多种滤片可以灵活地应用不同测量。X射线荧光镀层测厚及材料分析仪测量方向产品型号应用范围检测器射线管基本滤片准值器数量/尺寸(mm)C型开槽从下往上XUL一款适合电镀厂测量镀层厚度的性价比高的仪器，它配备了一个固定的准值器和滤，射线管出射点稍大，非常适合测量点在1mm以上的应用。对于测量典型电镀层厚度的应用，如Cr/Ni/Cu等，非常合适。PC标准11（Φ0.3）是XULM多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层（如50nm Au或100um Sn）都通过选择好的高压滤片组合很好的测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100um的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XAN110/120专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较XAN而言，只有一个固定的准直器和固定的滤片，特别适合贵金属分析。XAN 110配备比例接收器，适于几种合金元素的简单分析。XAN120配备了半导体接收器，更可以应用于多元素的复杂分析。PC(XAN 110)PC(XAN 120)标准11（Φ0.3XAN110）1(Φ1XAN120)否XAN分析专用仪器，测量方赂从下到上。用途广泛。测量室全封闭，可以使作大准直器分析，高计数康可也可被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质衡量分析的理想仪器。PINSDD微聚焦3/64（Φ0.2-Φ2）否从上往下测量XDL适合镀层厚度测量的耐用仪器，即使大测量距离也可以测量（DCM，范围0-80mm）配备一个固定的准值器和固定的滤片。适合测量点在1mm以上的应用；跟XUL类似。可选 用自动测量的可编程工作台。PC标准11（Φ0.3）是XDLM比XDL适用面更广，配备微聚焦管，4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头与XULM想似；适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板，也可以测量大的工作（DCM,范围0-80mm）PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XDAL与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可能可以分析元素和测量超薄层（基于良好的信噪比）。比较适合测量结构较大的样品。PIN微聚焦34（Φ0.1-Φ0.6）是XDC-SDD适合于全部应用的高端机型。根据测量点大小和光谱组成，激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器，即使强度高达100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ0.3）否SDV-U专用微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件的不同，可以分析小到100um或更小的结构。强度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层，测量不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量表面平整或接近平整的样品。SDD微聚焦4多毛细管系统是XDV-Vacuum具备综合测量能力的通用高端机型。与XDV-XDD相当。但可外配备了可抽真空的测量室，这样就使得分析从原子序数Z=11(Na)开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以精确定位样品位置和测量细小部件。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ3）否在线测量X-RAY 4000用于生产过程中薄膜，金属带或穿孔带的连续测量。测量头可以装配与样品传送方向的直角的位置。操作方便，启动迅速。数据接口可集成到质量管理或控制系统X-RAY54000用于生产线上连续测量的法兰式测量头。测量带状物，薄膜或玻璃的金属元素。在空气和真空都可以测量。提供水冷版本仪器。

多层共挤膜袋水蒸气透过量测试仪 应用范围 薄膜： 适用于各种塑料薄膜、复合膜水蒸气透过率的定量测定，如：铝箔复合膜、镀铝膜、PVC 硬片、药用铝箔、 共挤膜、流延膜、太阳能背板等。 容器： 适用于各种瓶、盒、袋等包装容器水蒸气透过率的定量测定，如：各种口服及外用液体瓶、各种药用固体 瓶等药品包装容器；包装盒、酸奶杯等各种食品包装容器。 主要特点 1．电解法测试原理 2．单腔测试 3．计算机控制，试验全自动，一键式操作 4．智能模式等多种试验模式可选择，可满足各种标准、非标测试 5．支持容器测试 （选购） 6．支持循环介质控温（选购） 7．试验湿度可自行设置、调节 8．数据追踪、溯源；系统日志记录 9．5 级用户权限管理 10．温度、流量、透过率等曲线显示 11．支持 DSM 实验室数据管理系统，可实现数据统一管理。（选购）测试原理 薄膜： 将待测试样装夹在恒温的干、湿腔之间，使试样两侧存在一定的湿度差，由于试样两侧湿度差的存在，水 蒸气会从高湿侧向低湿侧扩散渗透，在低湿侧，水蒸气被干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电 信号的分析计算，从而得到试样的水蒸气透过率和透湿系数。 容器： 容器的外侧是高湿气体，内侧则是流动的干燥气体，由于容器内外湿度差的存在，水蒸气将穿透容器壁进 入容器内部，进入容器内部的水蒸气将由流动的干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电信号的分 析计算，可得到容器的水蒸气透过率等结果。

W3/062多层共挤输液用膜水蒸气透过性测试仪 水蒸气透过率检测仪适用于塑料薄膜、复合膜等膜、医疗、建筑领域等多种材料的水蒸气透过率的测定。通过对水蒸气透过率的测定，达到控制与调节包装材料等产品的技术指标。技术特征：1、专业——W3/062基于杯式法测试原理，是一款专业用于薄膜试样的水蒸气透过率（WVTR）测试系统，可检测最低至0.1g/m2&bull 24h的水蒸气透过量；配置的高分辨率称重传感器，在保证了高精度的前提下，提供了优秀的系统灵敏性。2、高效——W3/062采用精密的圆形托盘设计，可以同时容纳6个透湿杯，同时测试6种不同的试样；一台主机可以扩展连接9台卫星机，轻松实现60个试样并行测试。3、智能——W3/062搭配了Labthink新一代的操作软件，具有人性化的操作界面和智能化的数据处理功能；同时，在局域网的环境中，还支持LystemTM实验室数据管理系统，统一管理试验结果和试验报告。测试原理：W3/062多层共挤输液用膜水蒸气透过性测试仪 水蒸气透过率检测仪采用透湿杯称重法测试原理，在一定的温度下，使试样的两侧形成特定的湿度差，水蒸气透过透湿杯中的试样进入干燥的一侧，通过测定透湿杯重量随时间的变化量，求出试样的水蒸气透过率等参数。减重法时测试腔为干燥侧，增重法时测试腔为湿润侧。执行标准：GB 1037、GB/T 16928、ASTM E96、ASTM D1653、TAPPI T464、ISO 2528、DIN 53122-1、JIS Z0208、YBB00092003W3/062多层共挤输液用膜水蒸气透过性测试仪 水蒸气透过率检测仪技术指标：测试范围：0.1～10,000 g/m224h（减重法）；0.1～2,500 g/m224h（增重法）试样数量：1～6件 （数据各自独立）测试精度：0.01 g/m224h系统分辨率：0.001 g （非标可定制）控温范围：15℃～55℃（常规）控温精度：±0.1℃（常规）控湿范围：减重法：90%RH～70%RH；增重法：10%RH~98%RH控湿精度：±1%RH吹扫风速：0.5～2.5 m/s （非标可选）试样厚度：≤3mm （其他厚度要求可定做）测试面积：33 cm2试样尺寸：Φ74 mm试验箱容积：45 L气源：空气气源压力：0.6 MPa接口尺寸：Φ6mm 聚氨酯管外形尺寸：660mm(L)×580mm(W)×580mm(H)电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz净重：80kg仪器配置：标准配置：主机、计算机、专业软件、透湿杯、气体干燥装置、湿度发生装置、校验砝码、通信电缆、取样器、供气阀门管件选购件：卫星机、标准膜、空压机、干燥剂备注：本机气源进口为Φ6mm聚氨酯管；气源、蒸馏水用户自备

瑞士Swiss Cluster公司介绍：Swiss Cluster起源于EMPA瑞士联邦材料科学与技术实验室孵化的高科技公司, 通过特有技术开发出全Qiu 首台ALD和PVD原位多层复合薄膜沉积系统, 并取得了非凡的成就和成熟的应用案例 其位于瑞士EMPA的工厂集合了具有薄膜沉积背景的专业人士, 包括物理学、机械工程、软件工程、材料科学、自动化等, 优秀专业团队加之核心技术和瑞士高品质优良工艺保障了给客户提供行业内下一代尖端的先进的薄膜沉积设备 Swiss Cluster凭借其特有的原位集成ALD+PVD+PECVD工艺可以将传统ALD应用扩展到更深层次和更高维度, 使科学家轻松创造具有新结构和新性能的创新材料, 原位复合超多层纳米薄膜等.传统复合薄膜需不同腔室真空互联, 流程复杂且成本高昂, 因样品需在不同腔室移动因此工艺繁琐操作耗时且无法原位制备多层复合薄膜 而Swiss Cluster突破常规, 无需多个腔室和输送臂等昂贵互联部件,极大减少互联设备成本和占地面积, 其腔体垂直布置且中部巧妙设计一个自动化闸阀从而实现在无需破坏真空时将ALD和PVD两工艺无缝原位组合, 且不同工艺切换时样品一直保持原位固定, 结合实时原位计量学可以轻松高效低成本实现超高质量数十到数百个ALD/PVD/PECVD多层复合纳米薄膜 ALD+PVD原位复合薄膜沉积技术介绍：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---1：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---2：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---3：产品型号介绍：可选具有功能优势的配件：

不干胶标签剥离强度测试仪 180度电子剥离试验机 多层共挤膜剥离力检测仪仪器名称：DBL-01电子剥离试验机制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达不干胶标签剥离强度测试仪 180度电子剥离试验机 多层共挤膜剥离力检测仪不干胶标签剥离强度测试仪 180度电子剥离试验机 多层共挤膜剥离力检测仪是专门用于测量不干胶标签从不同基材上剥离时所需的力量的设备。这种测试对于确保标签在各种应用中的粘附性和质量控制至关重要。用途不干胶标签剥离强度测试仪广泛应用于石油化工、航空航天、汽车制造、橡胶塑料、电线电缆、光伏能源、电子电器、工程建材、纺织纤维、包装材料、医疗器械、陶瓷石墨、金属制品，光学等行业以及大学院校和质检、科研单位进行多种材料力学试验。不干胶标签剥离强度测试仪 180度电子剥离试验机 多层共挤膜剥离力检测仪产品特点传动部件：采用进口无间隙精密滚珠螺杆以及同步皮带，确保测试的精确性。导向光轴：采用高硬度钢经加硬化处理，表面光亮，耐磨，不生锈，不变形。机身：采用高质铝型材及高级烤漆特别处理，美观耐用不变色，不脱色。夹具结构：采用专用配套设计的万能快速连接夹具接头，安装夹具快捷、方便、准确。不干胶标签剥离强度测试仪 180度电子剥离试验机 多层共挤膜剥离力检测仪技术参数容量：50kg（任选）单位切换：g，kg，N，LB（提供国际标准制、公制、英制三种，自行切换使用）荷重分解度：1/250,000荷重精度：≤0.25%最大行程：600mm（不含夹具）测试速度：0.1～500 mm/min（电脑任意调节）胶带胶纸位移分解度：0.1 mm显示装置：电脑和触摸屏（可显示及打印试验次数、测试值、最高值、断裂值等）动力系统：伺服电机+驱动传动方式：高精度滚珠丝杆电源：1∮，220V，15A 或指定应用范围不干胶标签剥离强度测试仪在生产制造工业中用于检测产品上的标签剥离力，确保标签的贴附牢固性，避免在运输和使用过程中标签脱落或损坏。在食品和药品行业中，用于测试包装上的不干胶标签剥离力，确保产品包装和标签的完整性，保证产品质量和安全性。此外，也应用于物流和仓储行业，测试运输包装箱或容器上的标签剥离力，确保标签在运输过程中不易脱落，方便管理和追踪货物。

一、产品简介　　超声波多层时差法流量计是依据国内外“超声波管道式流量计”原理研发而成的一款适合明渠测流的设备，通过对超声波管道式流量计设计结构的延伸，应用到明渠测流中。其具备多层测流方式，可根据渠道类型分布换能器层结构设计，通过测量不同水层的流速，从而提高测量精度测流设备。　　二、组成部分　　超声波多层时差法测流系统主要有以下设备组成：　　1.三对流速传感器　　3.一个超声波液位传感器　　3.采集系统　　4.太阳能供电系统　　5.立杆与支架　　三、工作原理　　超声波时差法是采用声学时差法流速仪测流，其原理是在河道两岸与流速方向成一定的夹角(通常45度)安装一对或多对换能器，一个换能器发射超声波，另一个换能器接受超声波(超声波传输路线称为声路)，通过声学时差法流速仪测得顺、逆流方向的超声波传输时间差计算出测线平均流速，可实现多层流速监测，通过数据建模形式计算平均流速，再通过流速面积法计算出瞬时流量。　　四、监测站特点　　1.测量优势：　　1.1依据超声波管道式流量计设计标准与标定规范研发而成，具有极高的精确性和稳定性，明渠测量精度能达到95%以上 　　1.2流量计安装在明渠河流的渠道内，可设置多层换能器，对不同层流速进行实时测量，采用多次采样不同水层的流速 　　1.3由于本测流系统采用多层传感器结构，运行一段时间后可建立层流速分布模型，即：即使只有一层传感器仍能正常工作，本系统设备依旧可以高效的工作 　　1.4采用IP68防护等级：本系统中的磁致伸缩水位计(或双级磁编码水位计)、流速换能器均具备IP68防护标准，即使在渠道水势较高，淹没全部设备时，依旧可以正常工作 　　1.5可修正：随着时间的推移，渠道结构的变化，可通过人工率定方式，在一体化积算仪中输入率定参数，可进一步校正本系统的精准度。　　2.安装方式特性　　2.1嵌入式结构：多层流速仪和水位计均以嵌入式的安装在渠道两次，不阻水、避免水草、漂浮物等附着，大大减少了维护工作量 　　2.2换能器层数、高度可根据水位高程设定：由于渠道结构多样性，换能器科根据渠道的特性对应设置高度(如：0.3H、0.6H、0.9H三层结构) 　　2.3无阻水特性：设备采用嵌入式安装方式，几乎无水头损失、阻水等情况的发生，提高了灌溉效率。　　3.干扰因素　　3.1设备适用于渠道宽度在0-50米范围之内的，有一定规则断面的明渠 　　3.2设备应用在泥沙含量较高的水系中时，测量精度受一定的影响 　　3.3设备对渠道的淤积情况无法实时监测，需定期查看渠道淤积并予以清淤或率定。　　五、技术参数　流速传感器三对测量原理时差法连续测量测量声道3声道适应能力可测量含有固体物质的污水测量精度5%流速范围0.01-30m/s测量渠道宽度时差法0.5-15米环境温度-20-70℃工作温度-20-70℃介质温度-20-80℃防护等级IP68液位传感器一个，超声波测量精度1.0%测量范围0.01m-10m分辨率1.0mm环境温度-20-70℃工作温度-20-70℃介质温度-20-80℃防护等级IP68

一、产品简介超声波多层时差法流量计是依据国内外“超声波管道式流量计”原理研发而成的一款适合明渠测流的设备，通过对超声波管道式流量计设计结构的延伸，应用到明渠测流中。其具备多层测流方式，可根据渠道类型分布换能器层结构设计，通过测量不同水层的流速，从而提高测量精度测流设备。二、组成部分超声波多层时差法测流系统主要有以下设备组成：1.三对流速传感器3.一个超声波液位传感器3.采集系统4.太阳能供电系统5.立杆与支架三、工作原理超声波时差法是采用声学时差法流速仪测流，其原理是在河道两岸与流速方向成一定的夹角（通常45度）安装一对或多对换能器，一个换能器发射超声波，另一个换能器接受超声波（超声波传输路线称为声路），通过声学时差法流速仪测得顺、逆流方向的超声波传输时间差计算出测线平均流速，可实现多层流速监测，通过数据建模形式计算平均流速，再通过流速面积法计算出瞬时流量。四、监测站特点1.测量优势：1.1依据超声波管道式流量计设计标准与标定规范研发而成，具有极高的精确性和稳定性，明渠测量精度能达到95%以上；1.2流量计安装在明渠河流的渠道内，可设置多层换能器，对不同层流速进行实时测量，采用多次采样不同水层的流速；1.3由于本测流系统采用多层传感器结构，运行一段时间后可建立层流速分布模型，即：即使只有一层传感器仍能正常工作，本系统设备依旧可以高效的工作；1.4采用IP68防护等级：本系统中的磁致伸缩水位计（或双级磁编码水位计）、流速换能器均具备IP68防护标准，即使在渠道水势较高，淹没全部设备时，依旧可以正常工作；1.5可修正：随着时间的推移，渠道结构的变化，可通过人工率定方式，在一体化积算仪中输入率定参数，可进一步校正本系统的精准度。2.安装方式特性2.1嵌入式结构：多层流速仪和水位计均以嵌入式的安装在渠道两次，不阻水、避免水草、漂浮物等附着，大大减少了维护工作量；2.2换能器层数、高度可根据水位高程设定：由于渠道结构多样性，换能器科根据渠道的特性对应设置高度（如：0.3H、0.6H、0.9H三层结构）；2.3无阻水特性：设备采用嵌入式安装方式，几乎无水头损失、阻水等情况的发生，提高了灌溉效率。3.干扰因素3.1设备适用于渠道宽度在0-50米范围之内的，有一定规则断面的明渠；3.2设备应用在泥沙含量较高的水系中时，测量精度受一定的影响；3.3设备对渠道的淤积情况无法实时监测，需定期查看渠道淤积并予以清淤或率定。五、技术参数流速传感器三对测量原理时差法连续测量测量声道3声道适应能力可测量含有固体物质的污水测量精度5%流速范围0.01-30m/s测量渠道宽度时差法0.5-15米环境温度-20-70℃工作温度-20-70℃介质温度-20-80℃防护等级IP68液位传感器一个，超声波测量精度1.0%测量范围0.01m-10m分辨率1.0mm环境温度-20-70℃工作温度-20-70℃介质温度-20-80℃防护等级IP68

产品简介：SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪，是与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。产品型号SGC-10薄膜测厚仪主要特点1、非接触式测量，用光纤探头来接收反射光，不会破坏和污染薄膜；2、测量速度快，测量时间为秒的量级；3、可用来测薄膜厚度，也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k；4、可测单层薄膜，还可测多层膜系；5、可广泛应用于各种介质，半导体，液晶等透明半透明薄膜材料；6、软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数，可供用户参考；7、内嵌微型光纤光谱仪，结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。8、强大的软件功能：界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。9、仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。技术参数1、厚度范围： 20nm-50um（只测膜厚），100nm-25um（同时测量膜厚和光学常数n，k），根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2、准确度： 1nm或0.5%3、重复性： 0.1nm4、波长范围： 380nm-1000nm5、可测层数： 1-4层6、样品尺寸： 样品镀膜区直径1.2mm7、测量速度： 5s-60s8、光斑直径： 1.2mm-10mm可调9、样品台： 290mm*160mm10、光源： 长寿命溴钨灯（2000h）11、光纤： 纯石英宽光谱光纤12、探测器： 进口光纤光谱仪13、电源：AC110V-240V，50HZ-60HZ产品规格尺寸：300mm*300mm*350mm，重量：18kg

微型广播也可以配置为多层版本，最多7层。共挤块有不同版本，具有固定或可调的层配置和几何形状。多层微型浇铸机可以设计为固定或模块化版本，可以切换挤出机或下游设备。自动检测软件可根据插头的配置进行自我配置，从而简化了机器的模块化结构。

【仪器介绍】SGC-10型薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量，是天津港东与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。设备关键部件均为国外进口，也可根据客户需要整机进口。【产品配置及参数】编号名称规格1厚度范围20nm-50um（只测膜厚），100nm-10um（同时测量膜厚和光学常数n，k）根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2准确度1nm或0.5%3重复性0.1nm4波长范围380nm-1000nm5可测层数1-4层6样品尺寸样品镀膜区直径1.2mm7测量速度5s-60s8光斑直径1.2mm-10mm可调9样品台290mm*160mm10光源长寿命溴钨灯（2000h）11光纤纯石英宽光谱光纤12探测器进口光纤光谱仪13电源AC100V-240V，50HZ-60HZ14重量18kg15尺寸300mm*300mm*350mm 【强大的软件功能】界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。 【产品功能适用性】该仪器适用于多种介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。 【典型的薄膜材料】SiO2、CaF2、MgF、光刻胶、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亚胺、高分子膜。 【典型的基底材料】SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、铝丙烯酸、蓝宝石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。 仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。

MINIFOIL多层机器，实验室用箔和片材挤出，配有20至35 mm的单螺杆挤出机XTR系列，头部可调节，zui大宽度为500 mm，可挤出厚度为0.1至8 mm的箔和片材，两个 或三个冷却辊（垂直，水平或可调整的倾斜度），卷取器，下游卷取机，用于zui大1毫米的薄板，并带有冷却台，卷取器，切纸机，厚度zui大为8毫米。 适用于聚烯烃，PS，ABS，PET，PC，PMMA的挤出，可以将具有不同轮廓的螺杆安装在挤出机背面的螺杆抽出系统中，从而大大减少了螺杆更换和清洁的时间。

一、产品概述　　管式土壤墒情监测仪是一款基于介电常数原理而研发的传感器，可以针对不同土层的水分、温度、盐分含量进行快速、准确、全面监测。该传感器监测层数支持定制，最低可测一层土壤温湿度、盐分数据，最高可测30层土壤温湿度、盐分数据。　　该产品可快速、全面了解土壤墒情信息，为抗旱救灾提供决策支持，最大限度地减轻灾害损失。产品采用标准的Modbus-RTU485通信，全国可无线通信，支持二次开发。　　产品适用于农业农村局、高校、科研院所、水利局、环保局、企事业单位。　　二、产品参数　　1、外壳采用耐腐蚀一体管，内部发射近1G赫兹的高频探测波，可以穿透塑料管，有效感知土壤环境。　　2、不受土壤中盐离子的影响，化肥、农药、灌溉等农业活动不会影响测量结果，数据精准。　　3、具备太阳能供电系统：在持续阴雨天连续工作 15 天以上。　　4、产品采用标准的Modbus-RTU485通信模式。　　5、支持10-30V宽电压充电。　　6、一体式可同时测量土壤深度 0-300cm，每 10cm 一层任意深度的体积水盐含量和土壤温度。　　7、4G 无线通讯功能：自动上传测量数据，可通过网通 2G/3G/4G 移动 2G/4G 电信 4G方式与服务器通讯。　　8、自动定位功能：监测设备内置 GPS 定位系统，设备位置信息可通过通讯模块发送到后台服务器。　　9、报警功能：提供数据异常报警功能。　　10、整机模块化设计：主要由管式土壤水盐一体传感器、管式土壤温度传感器、太阳能供电系统、无线数据传输系统构成(4G防雷)、传感器进行一体化管式结构设计全封闭多层次传感单元，安装储运方便。　　11、根据省部级土壤墒情仪器标定标准进行仪器标定，以保证设备测量的准确性及精度。　　12、观测间隔时长可根据用户需求自行设定，可远程调节，10~2400 分钟之间可任意设定。　　13、手机绑定设备信息直接读取数据。　　14、具备远程在线配置和升级功能。　　四、设备安装说明　　1、使用土钻在合适的位置打孔　　1.1将土钻竖直于地面，双手紧握手柄顺时针下压慢速转动。(注意：不要太用力，务必慢速多转几圈，防止钻头跑偏至孔洞打歪)　　1.2.将取土钻从孔洞中取出，放入桶中将土钻中的土收集到桶中用以下一步和泥浆。(注意：因为第一钻土因为杂质过多故不做收集)　　1.3.反复持续上述打孔、取土，并在此过程中尝试性地将传感器轻放入孔洞中(请勿将设备用力触底)，以测试孔洞的深度是否合适 若有卡顿，则使用土钻修正，保证传感器放入、取出都比较顺畅 直到孔深与传感器所标识的安装位置齐平，打孔完成　　2.制作泥浆　　2.1挑出土钻取出的土壤中的杂质，石子、草根、不容易溶解的土块等。将土壤搓细，以便和泥浆　　2.2倒入适量水，充分搅拌至粘稠状 壤土泥浆一般不能稠于“芝麻酱”状 和泥浆完成　　3.灌浆安装　　3.1将泥浆缓慢倒入孔洞，大概到孔洞1/2的位置 可根据实际情况酌情增减　　3.2将传感器慢慢放入孔洞中，向一个方向慢慢转动并下压，速度过快可能会导致气泡不能被完全排出(注意：再转动下压的过程中不可以上拔传感器，防止气体再次吸入孔中)　　3.3当传感器安装到正确的深度后，设备周围会溢出一些泥浆，灌浆完成 此时传感器安装深度与洞口齐平(注意：将传感器周围3CM以外多余的泥浆清除，防止结块影响水分下渗)

SpecMetrix® 在线涂层厚度和膜层测量系统✔ 适用各种基材 ✔ 实时工艺数据 ✔ 纳米级精度 ✔ 节省成本和时间 SpecMetrix 在线系统可在涂装后立即提供实时涂层和层厚测量数据，精确到亚微米级，从而改善涂装工艺控制和产品质量。为柔性包装和 R2R 加工行业提供连续且更精确的在线涂层和层厚测量解决方案屡获殊荣的 SpecMetrix 在线涂层测量系统为涂覆薄膜、箔片和其他卷材应用的非接触、无损、实时涂层厚度和膜层测量（无论是湿态还是干态）提供了更高的精度标准。这些在线系统采用模块化设计，具备高速运行能力，有效减少了涂层成本，简化了不同工厂流程中的设备安装、工艺转换和检查时间，可灵活配置为固定探头或横移系统。 SpecMetrix 横移配置 SpecMetrix 固定探头配置 系统特点：&bull 非接触式 – 在不接触涂层或基材的情况下进行连续测量，保持产品的完整性&bull 绝对厚度测量 – 提供生产卷材、单件产品和层压材料上涂层和层厚的精确测量&bull 适用各种基材 – 可测量各种基材（包括金属箔、底涂纸、塑料和薄膜）上的湿涂层或干涂层；适用于任何透明、彩色或印刷基材&bull 用途广泛 – 实时测量各种薄膜和 卷材涂层，包括粘合剂、阻隔层、耐刮擦涂层、湿硅胶和其他功能性涂层&bull 安全无害 – 采用专有的非放射性和非侵入性 ROI 和 EXR 光学技术，易于操作和维护&bull 环保 – 非破坏性检测方法可有效减少废品、溶剂使用、工时和能源成本&bull 灵活可拓展 – 模块化在线系统包 括固定探头或横移设计，适用于单面或双面测量&bull 强大的 SpecMetrix® 软件 –用户友好、方便使用的软件包可将所有数据存储到 Excel® 或工厂网络中， 便于在生产过程中或之后进行 SPC 分析为薄膜和卷材应用提供可靠且连续的在线数据双（顶部和底部）横移系统显示的在线测量数据 横移系统可提供横向和纵向的QA质量保证数据和分析，满足不同工厂的需求 三个固定探头系统显示的在线测量数据可选系统配置&bull 用于样品检测的离线实验室和增强型实验室系统&bull 用于并排涂布生产线的分体系统&bull 提供 ATEX 探头和系统设计集成选项&bull SpecMetrix 系统可以通过 OPC、TCP/IP 或基于以太网的PLC（如西门子S7、Rockwell Control Logix）进行集成，用于实时收集测量数据或实现系统的完全控制和自动化、

简介先进,实用的单层和多层镀膜速率控制用于单层和多层镀膜工艺的薄膜镀层控制仪XTC/3装备有ModeLock1专利技术,提供验证的模式跳跃防止功能,可达到始终如一的镀膜质量. 使用XTC/3薄膜镀层控制仪,可高度精确地控制镀膜速率与膜层厚度, 具有能控制几乎任何膜层数量的能力,容易安装,和极高的可靠性,可确保高的生产率.特 点 ■ 有单膜层和多膜层型号■ ModeLock专利技术防止由于模式跳跃导致的膜厚误差■ 支持INFICON Crystal 12&trade , CrystalSix和双传感器自动晶体切换,用于最高生产率■ XTC/3M多膜层型号支持多至99个工艺过程, 999个膜层, 32个镀层, 2个传感器和两个源■ XTC/3S单膜层型号支持多至9个镀层, 2个传感器和两个源■ 易阅读的TFT LCD图形显示器■ 为便于检索,可指定独特的和描述性的薄膜与过程名称■ 有以太网连接件■ 单独运行(无需计算机)或用PC运行的Windows软件选件 ■ INFICON XTC/2控制仪的即插即用更换件(限于XTC/2功能和指令组) 应用：集成电路执照光学镀膜溅射镀膜薄膜太阳能电池制造OLED制造

优点NTT-AT公司已提供了20 多年高质量XUV、EUV和X射线反射镜。尤其是利用本公司的丰富经验和出色技能，提供可定制设计的多层膜反射镜，满足各用户的需求。1990年，NTT-AT公司开发了极紫外（XUV或EUV）多层反射镜和X射线反射镜并开始销售。并将亚洲、北美洲、南美洲和欧洲的大学、研究所和企业反馈的意见反映到这些反射镜的设计中。本公司将利用广泛积累的经验和可靠的技术支持用户的多层反射镜生产。特点因为NTT-AT公司的多层反射镜质量高，所以一直被世界上的研究机构所选用。本公司定制多层材料和结构，满足用户的基板、峰值波长、带宽和分散体等详细规格。还应对耐高温多层反射镜。利用同步加速器设备的反射率评估服务也可作为选项提供。同时也为包括EUV光刻的EUV工业应用提供成本低、交付周期短、质量稳定的多层反射镜。作为用户的研发伙伴，支持用户的EUVL光源开发、EUV光刻胶开发、EUV掩模检查和其它周边领域的实际利用。XUV多层膜反射镜（EUV多层膜反射镜）基板形状：平面、凸形、凹形、抛物面、超环面、椭圆面基板材料：石英、硅、zero dewer等多层膜材料：Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米NTT-AT公司将提供高耐用性XUV多层反射镜、耐高温XUV多层膜反射镜以及施瓦兹希尔德光学系统和泵浦探测光学系统等光学系统。X射线多层膜反射镜基板形状：平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面基板：石英、硅、zero dewer等基板材料：W/B4C、W/C、Pt/C等基板尺寸：最大500毫米NTT-AT公司提供K-B反射镜系统、沃尔特反射镜等单层反射镜基板形状：平面、椭圆面、抛物面、柱面、超环面基板材料：石英、硅、zero dewer等多层材料：C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等基板尺寸：最大500毫米NTT-AT公司提供K-B反射镜系统、沃尔特反射镜等本公司定制多层材料和结构，满足用户的基板、峰值波长、带宽和分散体等详细规格。还应对耐高温多层反射镜。利用同步加速器设备的反射率评估服务也可作为选项提供。世界上只有为数不多的公司生产和销售EUV反射镜。如果您不满意现在的供应商，NTT-AT公司能够制造满足您严格要求的定制设计反射镜。NTT-AT公司将推荐正确反映用户规格的最优设计。 应用示例 基板材料典型波长XUV（EUV）反射镜EUV光刻高阶谐波应用阿秒科学X射线激光器多层反射镜Mp/SiRu/SiZr/AlSiC/MgCr/C50电子伏至100电子伏50电子伏至100电子伏50电子伏至70电子伏25电子伏至50电子伏至300电子伏单层反射镜SiCPtRu10电子伏至100电子伏X射线反射镜同步加速器应用XFEL应用内置X射线无损检查设备多层反射镜W/CW/B4CRu/CPt/C1k电子伏至30k电子伏单层反射镜CB4CSiCCrNi1k电子伏至30k电子伏NTT-AT公司已支持了许多同步加速器辐射应用、XFEL应用、包括阿秒科学和材料科学的高阶谐波应用、软X射线激光应用和天文学的实验和研究。NTT-AT公司的XUV多层反射镜的绝无仅有的质量受到学术界的好评。XUV多层膜反射镜（EUV多层膜反射镜）Φ10毫米平面反射镜测量的Mo/Si多层的反射率（正入射角：2度）用于泵浦探测试验的多层反射镜测量宽带反射镜、窄带反射镜（波长：30纳米）的反射率EUV宽带椭圆面反射镜（Φ100毫米zero dewer）Mo/Si多层反射镜具有接近13纳米（90电子伏）波长的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多层反射镜具有高达70％的正入射反射率。NTT-AT的XUV反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。X射线多层膜反射镜用于K-B反射镜系统的多层反射镜W/B4C多层和W/C多层膜反射镜对硬X射线应用具有高反射率。为了有效反射和聚集硬X射线，必须最大限度地缩小入射角的斜角。这需要较长的反射镜长度和较小的多层膜周长。评估的反射率（波长：0.154纳米，蓝色：测量的反射率，粉红色；计算的反射率，周期长度： 2.95纳米）NTT-AT公司的X射线反射镜的材料、膜结构和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长、带宽和光学装置的需求。单层反射镜带钌层的椭圆面反射镜利用全反射的单层反射镜用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射线范围内的无需波长。NTT-AT公司的单层反射镜的材料和基板形状可以定制以满足用户有关中心波长和光学装置的需求。

用于非接触式测量的薄膜表征系统我们提供完整的薄膜厚度测量系统系列，可测量 5 nm 至 200 µ m 的厚度，用于分析单层和/或多层薄膜在不到一秒的时间内完成。 StellarNet 薄膜反射测量系统由与反射探头和光源耦合的紧凑型 USB 光谱仪组成。光学特性通过反射获得，厚度通过检测样品镜面反射率的正弦条纹图案来测量。有多种薄膜系统可满足您的薄膜和/或光学测量要求。TF-VIS –（厚度范围：10nm-75um 波长范围：400nm -1000 nm）大多数半透明或微吸收薄膜都可以快速可靠地测量：氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体（Si、aSi、polySi）、硬质涂层（SiC、DLC）、聚合物涂层（Paralene、PMMA、聚酰胺）、金属薄膜等等。应用包括 LCD、FPD：ITO、单元间隙、聚酰胺。光学涂层：介质滤光片、硬度涂层、减反射涂层半导体和电介质：氧化物、氮化物、OLED 堆栈。TF-UVVIS-SR –（厚度范围：1nm- 75um 波长范围：200nm -1000nm）允许测量低至 1nm 的更薄薄膜用紫外-可见光。 UV-VIS 光谱仪和 UV-VIS 光源的硬件升级。光纤必须通过 -SR（耐日晒性）来增强，以便传输和收集额外的紫外线信号。

产品简介：TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。产品型号TF200-VISTF200-EXRTF200-DUVTF200-XNIR主要特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等） 波长范围380-1050nm380-1700nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um50nm-300um1nm-30um10um-3mm准确度（取决于材料0.4%或2nm之间取较大者）2nm2nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸（可选微光斑附件。）2mm2mm2mm2mm是否能在线是是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选XY可选

深圳电镀膜厚测试镀层厚度检测镀层分析安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

上海镀层厚度检测丨电镀膜厚测试丨镀层分析行业安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更全面、更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

应用范围 薄膜： 适用于各种塑料薄膜、复合膜水蒸气透过率的定量测定，如：铝箔复合膜、镀铝膜、PVC 硬片、药用铝箔、 共挤膜、流延膜、太阳能背板等。 容器： 适用于各种瓶、盒、袋等包装容器水蒸气透过率的定量测定，如：各种口服及外用液体瓶、各种药用固体 瓶等药品包装容器；包装盒、酸奶杯等各种食品包装容器。 主要特点 1．电解法测试原理 2．单腔测试 3．计算机控制，试验全自动，一键式操作 4．智能模式等多种试验模式可选择，可满足各种标准、非标测试 5．支持容器测试 （选购） 6．支持循环介质控温（选购） 7．试验湿度可自行设置、调节 8．数据追踪、溯源；系统日志记录 9．5 级用户权限管理 10．温度、流量、透过率等曲线显示 11．支持 DSM 实验室数据管理系统，可实现数据统一管理。（选购）测试原理 薄膜： 将待测试样装夹在恒温的干、湿腔之间，使试样两侧存在一定的湿度差，由于试样两侧湿度差的存在，水 蒸气会从高湿侧向低湿侧扩散渗透，在低湿侧，水蒸气被干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电 信号的分析计算，从而得到试样的水蒸气透过率和透湿系数。 容器： 容器的外侧是高湿气体，内侧则是流动的干燥气体，由于容器内外湿度差的存在，水蒸气将穿透容器壁进 入容器内部，进入容器内部的水蒸气将由流动的干燥载气携带至水分析传感器，通过对传感器电信号的分 析计算，可得到容器的水蒸气透过率等结果。

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。 性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！ 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

仪器简介：Labtech为全球专业的实验室聚合物加工成型设备制造商，以其不断改进的卓越设计以及高度的可靠性，在石化、色母粒及塑料混配领域，包括Clariant（科莱恩）、Basf（巴斯夫）、Rohm& Haas（罗门哈斯），CIBA（汽巴）、 Polyone（普立万） 、中国石化、中国石油等许多世界知名化工企业中，Labtech的产品已得到广泛应用。技术参数：- 可选配Labtech单螺杆挤出机，螺杆直径12.5mm, 20mm, 25mm, 30mm 和45mm- 最小可提供台式型号- 最大薄膜折径可达1000mm- 最多可达11层！- 双工位收卷- 气涨无纸芯收卷- 吹膜塔高度可调- 高效率冷却风环- 高性能螺旋流道吹膜模头

仪器简介：Labtech为全球专业的实验室聚合物加工成型设备制造商，以其不断改进的卓越设计以及高度的可靠性，在石化、色母粒及塑料混配领域，包括Clariant（科莱恩）、Basf（巴斯夫）、Rohm& Haas（罗门哈斯），CIBA（汽巴）、 Polyone（普立万） 、中国石化、中国石油等许多世界知名化工企业中，Labtech的产品已得到广泛应用。技术参数：- 可选配Labtech单螺杆挤出机，螺杆直径12.5mm, 20mm, 25mm, 30mm 和45mm- 最小可提供台式型号- 最大薄膜宽度可达1100mm，最小宽度50mm- 最多可达9层！- 气涨无纸芯收卷及多种收卷方式可选- 高性能衣架式流延模头- 可选流延/压延冷却辊组

无线远程土壤墒情监测仪多层立体监测系统一、产品概述土壤墒情速测仪又名非接触式土壤水分测量仪、土壤墒情测量仪，是一款以介电常数原理为基础的传感器。能够针对不同土层的土壤水分含量进行动态观测，而且是进行快速、准确、全面地观测，让人们实现对土壤的高度感知。监测系统平台，界面地图可定位设备位置，可直观的查看和查询设备新数据、历史数据、单位、预警上限、预警下限、状态等多项内容，并且能够对上限、下限参数进行设置，以及查看报警记录等。能够快速将选定的数据列表以EXCLE表格文件的形式导出。平台可以同时绑定多个监测站设备。土壤墒情速测仪采用分层设点的观测结构，地面配置一个温度观测点，地下土壤每隔10cm配置一个土壤温湿测点，观测相对应范围内的土壤温湿度。如下图所示：二、产品特色●预先埋入一根塑料管，将主传感器安置于管内，能够从预留管中轻松地取出、更换主传感器，维修方便，循环使用率高。●可在塑料管中上下移动，实现对各个土层土壤水分含量的动态观测。●发射近1G赫兹的高频探测波，可以穿透塑料管，有效感知土壤环境。●不会受土壤中盐离子的影响，化肥、农药、灌溉等农业活动不会影响测量结果，数据准。●传感器的电极没有直接与土壤接触，避免电力对土壤及土壤中的植物的干扰。三、技术参数◆土壤湿度测量范围：0～100测量精度：3%◆土壤温度测量范围：-30℃～70℃测量精度：0.1℃◆记录间隔：30分～24小时（可调）◆测点间距：10cm◆输出方式：USB接口数据导出◆存储容量：1M◆数据查看：Web网页系统平台远程查看◆供电方式：太阳能电池板+锂电池组合供电◆防护外壳：PVC◆防护等级：IP68◆工作环境：-20℃～85℃

美国Filmetrics光学膜厚测量仪，测量膜层厚度从15nm到450um。利用反射干涉的原理进行无接触测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是一款高性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。Filmetrics光学膜厚测量仪：其可测量薄膜厚度在15nm到450um之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。 通过Filmetrics膜厚测量仪反射式光谱测量技术,可以测试4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 : 半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。 LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。 光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，在此基础之上，我们推出了操作极其简单的入门型号F20单点膜厚测试仪，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。F20 系列膜厚测试仪——一款畅销的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮，您在几秒钟同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows&trade 系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.选择您的F20，主要取决于您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围），下图是不同型号的膜厚测试仪测试的厚度范围以及对应选择的波长范围。图被和谐，请私信或查看纳腾官网F20 的测试原理：一束光入射到薄膜表面时，在薄膜上下表面都会发生反射，而两束反射光之间会产生干涉，干涉条纹的产生又是与薄膜的厚度，折射率等有关的，因此可以依据此来测量薄膜的厚度。F20系列膜厚测试仪的具体的应用实例：1.非晶态多晶硅硅元素以非晶和晶体两种形式存在, 在两级之间是部分结晶硅。部分结晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光学常数(n和k)对不同沉积条件是独特的，必须有精确的厚度测量。 测量厚度时还必须考虑粗糙度和硅薄膜结晶可能的风化。Filmetrics 设备提供的复杂的测量程序同时测量和输出每个要求的硅薄膜参数， 并且“一键”出结果。测量范例多晶硅被广泛用于以硅为基础的电子设备中。这些设备的效率取决于薄膜的光学和结构特性。随着沉积和退火条件的改变，这些特性随之改变，所以准确地测量这些参数非常重要。监控晶圆硅基底和多晶硅之间，加入二氧化硅层，以增加光学对比，其薄膜厚度和光学特性均可测得。F20可以很容易地测量多晶硅薄膜的厚度和光学常数，以及二氧化硅夹层厚度。Bruggeman光学模型被用来测量多晶硅薄膜光学特性。2.电介质 电解质薄膜测量成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 —— 最简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)， 而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。 受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 ——对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。 更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。 但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!测量范例氮化硅薄膜作为电介质，钝化层，或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中，我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系数。有趣的事，氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。使用Filmetrics专有的氮化硅扩散模型，F20-UVX可以很容易地测量氮化硅薄膜的厚度和光学性质，不管他们是富硅，贫硅，还是分子当量。3.铟锡氧化物与透明导电氧化物液晶显示器，有机发光二极管变异体，以及绝大多数平面显示器技术都依靠透明导电氧化物 (TCO) 来传输电流，并作每个发光元素的阳极。 和任何薄膜工艺一样，了解组成显示器各层物质的厚度至关重要。 对于液晶显示器而言，就需要有测量聚酰亚胺和液晶层厚度的方法，对有机发光二极管而言，则需要测量发光、电注入和封装层的厚度。在测量任何多个层次的时候，诸如光谱反射率和椭偏仪之类的光学技术需要测量或建模估算每一个层次的厚度和光学常数 (反射率和 k 值)。不幸的是，使得氧化铟锡和其他透明导电氧化物在显示器有用的特性，同样使这些薄膜层难以测量和建模，从而使测量在它们之上的任何物质变得困难。Filmetrics 的氧化铟锡解决方案Filmetrics 已经开发出简便易行而经济有效的方法，利用光谱反射率精确测量氧化铟锡。 将新型的氧化铟锡模式和 F20-EXR, 很宽的 400-1700nm 波长相结合，从而实现氧化铟锡可靠的“一键”分析。 氧化铟锡层的特性一旦得到确定，剩余显示层分析的关键就解决了。不管您参与对显示器的基础研究还是制造，Filmetrics 都能够提供您所需要的...测量液晶层-聚酰亚胺、硬涂层、液晶、间隙测量有机发光二极管层发光、电注入、缓冲垫、封装对于空白样品，我们建议使用 F20 系列仪器。 对于图案片，Filmetrics的F40用于测量薄膜厚度已经找到了显示器应用广泛使用。测量范例此案例中，我们成功地测量了蓝宝石和硼硅玻璃基底上铟锡氧化物薄膜厚度。与Filmetrics专有的ITO扩散模型结合的F10-RTA-EXR仪器，可以很容易地在380纳米到1700纳米内同时测量透射率和反射率以确定厚度，折射率，消光系数。由于ITO薄膜在各种基底上不同寻常的的扩散，这个扩展的波长范围是必要的。4.光刻胶成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。测量范例测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中，我们演示如何用F20快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度.5.硅晶圆薄膜Filmetrics 提供台式系统, 测绘, 和生产测量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚仪器系统。6.太阳光伏应用薄膜光伏薄膜光伏 (TFPV) 作为硅基晶圆的较廉价的替代品正在得到开发。 薄膜光伏共有三大类，按照其有效层组成命名: 硅薄膜、II-VI (主要是锑化镉) 和 CIGS (铜铟硒化镓)。 每种有效层薄膜都是用在一层透明导电氧化膜上面，而基板可用玻璃或金属。测量有效层准确了解有效层的厚度和组成是非常重要的。 太薄会影响功效和耐用性，而太厚又会提高成本。 错误的组成会大大降低产品的功效和制造产量。Filmetrics F20型号为几十家薄膜光伏制造商所使用，用于测量三类有效层的厚度和光学常数。 为了测量透明导电氧化膜上面的有效层薄膜, Filmetrics 已获得了丰富的经验来检测用户自行生产的或专业玻璃生产商提供的单层及多层导电玻璃。其他制程薄膜除了有效层和透明导电氧化物堆以外，还有其他薄膜用于光伏类产品的制造。 这些例子包括用于刻蚀电池和电极的聚酰亚胺和光刻胶，以及减反涂层。 在这些情况下，Filmetrics 有现有的台式, 测绘, 或在线解决方案。测量范例快速可靠地测量多层薄膜是开发制造薄膜太阳能电池的关键。在这个案例中，我们需要测量薄膜光伏上缓冲层（硫化镉）和吸收层（碲化镉）的厚度。F20-NIR 结合准直光束平台，使我们能够从反射光谱测量TEC玻璃上太阳能电池碲化镉和硫化镉层的厚度。7.半导体实践教学已经有五十多台 Filmetrics 的 F20 用于大学半导体制造教学实验室。 这不仅仅是因为它们快速、可靠和价格合理， 还因为它们简明易懂的设计，使它们成为光谱反射原理教学的理想平台。 (如果您想了解如何在教学实验室使用 F20，用关键字 Filmetrics 大学在 Google 内进行搜索）。 同时，由于全世界有几千台 F20 在运行，接受培训的学生们觉得培训对将来就业很有用。Filmetrics 对用于实验室课程的仪器提供特别优惠。8.卷式薄膜涂层Filmetrics 系统在测量聚合物薄膜和涂层厚度领域有广泛应用，我们还有专门为卷式薄膜设计的产品卷式薄膜应用在塑料薄膜的制造中有很多点，它们的厚度对薄膜质量至关重要。 这些点包括: 薄膜的总厚度 (高达400um)、混合挤压分层厚度和涂层在薄膜卷筒上的厚度。 对于特定 PET 上涂层，我们的F20-UV 能测量非常薄的层(~10 nm)， 甚至是高能等离子表面薄膜。 我们标准的 F20 能够测量市面上常见的涂层，例如 0.05 到 50 um 范围内的硬涂层。我们有一个庞大的聚合物薄膜折射率数据库，其中包括 PET、聚碳酸酯、醋酸纤维素和聚烯烃，以及更奇特的材料，诸如导电聚合物。这些应用中的每一项都是独特的挑战，而 Filmetrics 已经开发出软件、硬件和应用知识以便为用户提供合适的解决方案。测量范例用配有200微米小光斑光纤的F20测量厚度。在线实时和台式测量聚氯乙烯（PVC）挤压塑料薄膜。台式测量时SS-3标准平台用于单点连续测量。在线测量时镜头和RKM在卷式薄膜移动时进行测量。利用我们庞大的折射率数据库，PVC厚度很容易测得。F20还可以测量共挤薄膜厚度，以及各种材料，如PET涂层厚度。9.多孔硅近年来， 多孔硅的研发工作大量进行。 众多兴趣的原因是多孔硅在光学器件、气体传感器和生物医疗设备应用中极具发展前途。和大多数新的材料技术一样，多孔硅开发的部分挑战就是要找到确定各种材料参数的工具。 对于多孔硅而言，最基本参数就是薄膜层的厚度和孔隙度。其它参数关系到加工后的薄膜层，例如浸渍材料的比例或传感器内吸收分子的数量。 根据Filmetrics 已经开发出算法，只要单击鼠标就能揭示多孔硅的厚度、折射率和孔隙度。 这一算法在F20, F40, 和 F50 仪器内都是免费提供的。测量范例多孔硅的特点可由许多参数决定，但厚度和孔隙度是最主要的。一般来讲，非破坏性的方法，如重力方法被用来测量孔隙度，但这种方法的准确度非常低。Filmetrics F20, 用非破坏性的方法，测量多孔硅的厚度和光学特性。Filmetrics专有的算法，一键点击，可精确计算薄膜的孔隙率。10.制程薄膜Filmetrics 提供测量非金属半导体制程薄膜的全系列产品。F20是单点测量厚度和折射率的最经济有效的仪器。对于小光斑厚度测量 (1 微米或更小)，可以将F40固定到您的显微镜上。对于空白晶圆薄膜厚度测绘，可选用经济有效的F50。而F80则能测绘产品晶圆上的薄膜厚度。我们专利的厚度成像技术使我们的仪器易于设定、较少配方，并且提供更为可靠的模式识别和比传统薄膜计量工具更低的价格。 有独立或组合到其它设备的机型可供选择。