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http://www.instrument.com.cn/show/Breviary.asp?FileName=C144534%2Ejpg&iwidth=200&iHeight=200 北京祥鹄科技发展有限公司 的 电脑微波超声波紫外光组合合成萃取仪(XH-300UL)已参加“国产好仪器”活动并通过初审。自上市以来,这款产品已经被多家单位采用,如果您使用过此仪器设备或者对其有所了解,欢迎一起聊聊它各方面的情况。您还可以通过投票抽奖、参与调研等方式参与活动,并获得手机电子充值卡。【点击参与活动】 仪器简介: 仪器具有微波、超声波、紫外光波三种模式。大功率侵入式超声波换能器可以在300℃以下的环境中工作,频率为25±1KHz,任意脉冲工作方式可调,应用单片机控制技术和锁相环频率自动跟踪,使超声波功率放大器与换能器的振荡频率经相位取样使锁相环实现频率自动跟踪。超声波功率检测和温度测量电路使单片机实现超声波发射功率超限自动调整和超温保护及报警功能。保证超声换能器能实时的共振,保证高效的超声转化效率。机器采用高精度传感器进行快速实时测温,当达到预设温度将自动改变超声波模式,很好的避免了因为超声波自身发热而不能控制反应物温度的问题。仪器具有紫外光辐照强度的测量显示,为科研提供科学有效的数据。良好的人机交互界面,您可轻松定制不同的实验方案。LCD全程显示实验进程,实验中可随时修改参数,使您的实验过程更加简单,实验结果更加理想。开放式反应体系,可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应。微波合成模式时可提供不同速度的磁力搅拌,使反应更加充分,温度更加均匀。1.具有微波、超声波、紫外辐照三种功能,可任意组合也可单一模式工作,任意设定2.微波功率:0~1000W;超声波功率: 0~1500W连续可调;3. 微波频率:2450MHz;超声波频率:25±1KHz;4.仪器具有微波功率恒定模式、温度恒定模式可选;5.超声波频率自动搜频锁频功能,能够在反应物的性质和粘稠度发生变化时保持最大声功率;6.程序执行分段工作:可以设置10段工作参数,每个工作段可以任意设置超声、微波、功率、时间,可以选择不同的工作模式,并可存储设置的参数;7. 紫外光波长:365nm,功率:250W8. 紫外辐照强度探头测量范围:0.1~1.999 X 105µw/㎝2实时显示9.紫外带外区杂光:UV365:小于0.02%10. 测温和控温范围:0~300℃;测温精度:≤±0.2℃;控温精度:≤±1℃;11. 工作时间:连续工作99小时,超声波脉冲时间任意可调;12. 超声波工作环境:0~300℃;13. 反应容积:10~1000ml;14. 超声波探头直径:Ф8mm、Ф18mm适合不同口径的反应容器;15. 先进的电脑温控自学习功能,全自动智能调节保温功率;16. 彩色液晶显示器,380万....【了解更多此仪器设备的信息】
紫外线光清洗和超声波清洗的比较日本SEN特殊光源株式会社 超声波清洗在表面处理加工中被广泛运用,很多行业都以超声波清洗为主,但是对紫外线臭氧光清洗(以下简称UV臭氧清洗)没有足够认识。 1 工作原理超声波本身没有清洗功能,超声波清洗是靠超声波对清洗液的震动来进行清洗的。声波的传递依照正弦曲线纵向传播,即一层强一层弱,依次传递,当弱的声波信号作用于液体中时,会对液体产生一定的负压,即液体体积增加,液体中分子空隙加大,形成许许多多微小的气泡,而当强的声波信号作用于液体时,则会对液体产生一定的正压,即液体体积被压缩减小,液体中形成的微小气泡被压碎。利用压碎气泡时产生的冲击力来清洗物体。紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的 185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成离子,流离态原子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,彻底清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。简单的说超声波清洗是清洗体积较大的污染物,而紫外线光清洗是可以清晰超声波清洗不能清洗掉的细小有机物。 2 工作效率 超声波清洗主要有清洗,冲洗,烘干三个步骤。冲洗时需要纯水清洗,如果使用普通水可以使已经很干净的表面重新被污染。而且超声波清洗还会产生废水,清洗液要定期更换或添加,造成了成本的增加。同时有的清洗液会对人体有害。同时超声波清洗还要控制超声波频率,清洗液温度,清洗液种类,清洗液浓度等多种条件。紫外线光清洗只有紫外线臭氧照射一个步骤,大型设备可以安装在生产线上在线生产,设定速度可以同流水线相同,不会对生产进度产生任何影响。同时紫外线光清洗没有废水废气废物等三废产生,只产生二氧化碳和水蒸气,并通过排气系统拍到室外。UV臭氧清洗虽然不能清洗掉大范围的污染,却可以清洗到各个角落的就是UV臭氧清洗。在米技术世界里,我们虽然看不到有机性污染,但是有机污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。 3适用范围 超声波清洗可以适用于对清洁度要求不是很高的产品。对体积较大的污垢进行清洗。紫外线光清洗可以对应各种细小有机物。可以瞬间将物体表面达到原子清洁度。例如LED晶片,OLED基板,触屏ITO前处理,液晶板层贴合时提高粘结度,高倍望远镜镜头用晶片和半导体元件等高精密产品的清洗中被广泛采用。 处 理 条 件接触角(度)效果排名没有清洗的普通玻璃265洗剂→水洗×2回→IPA二甲基甲醇→Fl TF[si
超声波联合消解技术在环境样品预处理中的应用展望 在近段时间对废水处理工艺的学习中接触到了一些有关污染物超声降解的东西。于是我突发奇想,能不能把这个理论直接搬到样品的预处理上使之成为一种环保的预处理技术呢? 这里大家或许会说,目前的微波消解技术不是也挺方便的吗?个人认为微波消解消化样品比传统电热消解温度高,加上消解罐是密闭的,这使得其降温的时间也较长;同时,由于微波消解在使用时一般都要配合浓酸进行,实验产生的酸雾和与酸的接触对人员的安全都存在一定风险。所以,开发环保的消解技术也是技术发展的需要。(实在不行,写几篇论文也是可以的)1. 超声波消解原理 超声降解的主要途径为超声空化、自由基氧化、高温热解、超临界水氧化。(这个都有现实的理论依据的,百度就有)2. 单一超声技术消解展望分析 超声技术的发展已经有些年头了,也有专门的超声消解仪。但从其销量和普及度来说,远没有微波消解强。为何这个产品的用户群如此稀少,只能说技术的成熟度还有待提高吧。其未来更多的可能与其他方法联用形式出现。3. 影响因子 单一的超声波降解技术的影响因子主要由超声波的特征参数与待消解基体及其溶剂的参数相关。如超声频率、功率、待消解基体的溶解特性、及氧化性、活化能等等都可能影响整个消解的结果。由于不同化学物质消解需要的这些参数都可能不同,那么如果对待测样品性质未知的前提下,参数的设置就有一定困难。无法最优就有可能消解不完全,影响测定结果。4.超声联合消解技术 所谓超声联合消解技术就是把超声波的特性和其他技术联合起来,以达到增效作用。(即 减少不同条件对结果的影响。未来应该只要使用较少的几个通用程序即可达到要求)4.1 超声-湿法消解技术 将湿法消解的体系放置到超声环境下进行,这样可能能加速反应的进程(我只是说可能,如果不行也不要怪我)。不过为了此预处理技术更环保,建议使用环保的氧化剂进行消解,如过氧化氢。4.2 超声-光催化氧化技术 光催化氧化技术是一种新兴的样品预处理技术。其原理是紫外光激发二氧化钛产生的空穴及羟基自由基具有很强的氧化性,能够将大部分有机污染物氧化分解为二氧化碳、水等无机产物。将光催化氧化技术与超声技术相结合,理论上应该能起到加速催化氧化速率,提高氧化效率的作用。4.3 超声-紫外消解技术 紫外消解法,就是通过紫外光的照射促使分子活化发生反应达到消解目的,其特点是较低温度下就可以进行。将该技术在超声环境下应用是不是就会加速分子活化反应的发生呢?抑或是两个作用同时发生,产生协同反应?试过才知道,暂时不做评论。4.4 超声-臭氧氧化技术 臭氧在紫外的作用下可以产生大量的HO·,而有研究指出,在超声的作用下,臭氧的利用率提高了。这也就使得反应更加经济,快捷。 此外,超声-微波消解,超声高压消解,超声-闭管消解这些是不是具有可行性呢?貌似好多论文可以写,好多产品可以开发啊