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双光子聚合三维微纳米加工系统

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双光子聚合三维微纳米加工系统相关的耗材

  • 飞秒激光微纳加工系统配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs, 放大器280fs),飞秒激光器具有更高的平均功率(振荡器高达2W, 放大器为6W),而且激光重复频率可调,计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备
  • 飞秒激光直写光刻系统配件
    秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机,基于多光子聚合技术,适合市场上的各种光刻胶,能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制,简单的3D模型通过这种软件即可生成,对于比较复杂的3D模型,用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作,然后导入到三维光刻机的软件中,这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源,精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先,待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构,200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复,这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择,从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后,未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序: 在所需的微纳结构形成后,它被浸入到几种不同的溶剂中,以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的,重要参数可以根据要求而设定:浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象,可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件(三维光子晶体) ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学(光学端面微结构制作) ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学
  • 飞秒激光微加工平台配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs, 放大器280fs),飞秒激光器具有更高的平均功率(振荡器高达2W, 放大器为6W),而且激光重复频率可调,计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备
  • Eachwave 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4, 单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机;7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4, 单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机; 7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • 纳米位移平台
    纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台,采用了陶瓷伺服电机驱动,非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用,例如:精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力,大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸,采用模块化设计,用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术,提供坚固,精确,高速的定位,满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术,确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度,高精度,高分辨率,高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比,具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度 XT 25 XT 50 XT 2525 XT 5050 Travel Length (mm) 25 mm 50 mm 25 x 25 mm 50x 50 mm Trajectory Control Accuracy Linear Encoder ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 4.0 &mu m Straightness/Flatness ± 1.0 &mu m ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m Yaw/Pitch/Roll 5 arc-sec 5 arc-sec 10 arc-sec 10 arc-sec 2 axis system Orthogonality Standard Grade NA NA 5 arc-sec 5 arc-sec High Precision NA NA 2 arc-sec 2 arc-sec Extra High Precision NA NA 1 arc-sec 1 arc-sec
  • 紫外曝光机配件
    飞秒激光微加工系统配件是美国制造商专业为大学和研究机构而研发的世界级领先产品,具有超高的精度和灵活性和多功能性,非常适合实验室多通途飞秒激光科学研究和微加工研究。 我们专注于超快激光的研究和应用,在全球率先开发出成熟的飞秒激光微细加工系统配件,使得超快激光技术在实验室中成熟,并成功用于工业生产,专业为科研机构的实验室而设计,配备高达纳米精度和分辨率的线性定位平台,配备超高性能的扫描振镜以及多功能的控制软件。 我们提供的参数配置是激光脉宽200fs--10ps,重复频率1-1000KHz, 平均功率高达12W, 波长1030nm, 515nm, 343nm, 258nm。 科研级微加工系统满足了科研人员的诸多应用,它可以直接安装到光学平台上,大大节省实验时间,并能够快速培训新操作人员。是科研机构进行激光微加工实验的不二选择。 这套系统是各种研究所进行激光微加工实验的理想选择。我们经验丰富的工程师可以与国内广大研究所合作,把我们的经验和知识与您共享,为您提供优质的用户定制化服务和产品。 提供的系统搭建服务: 1)提供精密的用户定制化的目标定位系统,还可以提供软件。 2)对飞秒激光器和定位系统进行集成和同步控制 3)提供用户友好界面的软件用于各种激光扫描和定位系统。 为工业/科研用户提供的定制化服务: 1)为广大客户提供用户定制化的飞秒激光微加工解决方案 2)如果您已经有飞秒激光器,我们可以为您提供自动化控制和同步控制以及精密定位等服务。 飞秒激光微细加工系统配件特色: *高速微加工 *亚微米分辨率处理高度复杂样品 *飞秒微加工模式对加工区的热影响最小化 * 纳米精度的定位 * 精密激光束传导系统 * 非常方便改变激光参数 * 软件控制所有的硬件 飞 飞秒激光微加工系统软件控制功能: * 控制XYZ定位平台 *控制扫描振镜 * 控制激光参数 * 控制机械视图 * 偏振态 * 控制激光在工作区的功率 应用 * 表面微结构加工,微纳结构加工,微结构构造,微纳结构构造; * 透明材料的折射率改变; * 太阳能面板加工; * 2.5D铣销加工 * 三维多光子聚合 * 光致刻蚀; * 激光划线 飞秒激光加工案例参考 强劲优势: * 高达4倍频的4种波长激光光源 * 改变聚焦光学器件 * 定位聚焦光束 × 自动聚焦光束到样品表面 * 自动确认样品的倾斜程度 * 对加工过程进行成像监控
  • SPIP三维图像处理软件
    SPIP软件目前支持多种仪器的96种格式数据文件Image Metroogy 由Dr.Jan Friis J rgensen于1998年创立。Image Metrology是一所以客户为导向,不断发展的公司。公司位于离丹麦首都哥本哈根不远的城市。Image Metrology的主要产品,SPIP是可视化、修正,分析以及SPM数据报告方面的软件包。此软件包被SPM数据研究分析人员奉为标准。SPIP对于扫描电镜以及透射电镜、共聚焦显微镜、光学轮廓仪以及干涉仪等的图像分析也是很强大的。SPIP软件图像研究机构,在高新科技研发以及高校研究所运用。SPIP是专业的纳米以及微尺度图像处理的高科技软件公司,目前产品被应用于60多个国家的各个主要研究机构。SPIP95文件格式支持各种仪表类型,包括:SPM、AFM、扫描隧道显微镜、SEM、TEM、干涉仪共焦显微镜和光学显微镜,分析器。SPIP是一个模块化软件包,可提供包含14个具有特定功能的模块。SPIP应用,主要应用包括半导体检验、物理、化学、生物学、计量和纳米技术等方面。SPIP 三维图像处理软件:多年来,SPIP扫描探针图像处理软件,已成为纳米尺度的图像处理的实质意义的标准。SPIP图像处理软件是一个模块化的软件包,提供一个基本的软件模块和14个可选的用于特定的目的软件附件。是一个资申用户或刚刚学习图像分析的入门新手,使用SPIP图像处理软件,您只需点击几下鼠标即可获得您需要的分析结果。SPIP图像分析软件被用于,包括半导体物理,化学,生物学检验,计量,纳米技术等各种领域。您可从我们客户应用的经历获知更多应用领域。SPIP图形分析软件亦被用于学术研究和论文出版。在SPIP网站您可以看到824篇使用SPIP进行图形分析的论文列表。SPIP软件目前支持多种仪器的96种格式数据文件。包括: 扫描探针显微镜(SPM),原子力显微镜(AFM),扫描隧道显微镜(STM) 扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM) 干涉仪 共焦显微镜 三维轮廓仪RoughnessPro——轮廓粗糙度 使用RoughnessPro您可以根据ISO标准来评估个别剖面及剖面集合的轮廓粗糙度。RoughnessPro——三维图像缝合 topoStitch是表面形貌图像缝合的简单及准确的方法。您可以从原子力显微镜(AFM),扫描探针显微镜(SPM),干涉仪(Profilers,),共焦显微镜及其他更多的设备上进行三维图像及表面形貌缝合。
  • 三维表面形貌仪配件
    三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积 分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析 磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 三维表面轮廓仪配件
    三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围:2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 三维位移台
    该电动三维位移台是一款无刷直线伺服电机驱动的电动直线位移台,融合了高速高精度的特点,具有亚微米的定位精度,三维位移平台可以为用户带来高工作量/吞吐量,最大负载高达50kg,最高速度高达3m/s.主要特色:三维位移台精确导向系统为高速度长行程提供稳定的定向和导向保障 三维位移台强大的直线电机提供高负载能量和大驱动力;三维移动台高分辨率直线编码器(光栅尺)提供精确的定位反馈和闭环数字伺服控制;三维移动台具有美国制造的坚固耐用特性,高可靠性,长期工作。产品特色:这款三维位移平台采用直接驱动的直线电机用于位移台的定位。这种技术与传统的导螺杆驱动的位移台相比,具有明显的优势:三维位移平台没有螺杆驱动系统中出现的弹性形变问题,可保障更为复杂而精密的定位轨迹,更短的设置和行进时间,更高的重复精度,更快的伺服反应。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种技术没有旋转惯性,可获得更高的加速度和行进速度。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台台消除了旋转部件的磨损问题,具有更高的可靠性,更长的工作时间和寿命,更长的检修间隔时间,大大降低用户的使用成本。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种直接驱动的直线电机具有高分辨率的编码器,可以精确调节速度,这种直线电机和其它部件可经过特殊处理具有真空兼容性,用于真空环境。产品描述:这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台的所有结构材料都是高强度的铝合金材料,材料表面经过精密机械加工,并进行硬质阳极氧化镀膜(涂层)成浅灰色。电动直线位移台采用两个带有再循环线性轴承的精密方形导轨作为承载部件,它由预加载的滚珠器件精密导引,这种导向系统只需要标准的润滑服务,不需要其他维护。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台尺寸紧凑,驱动电机不单独外悬,直线电机,编码器和电缆等驱动部件安装于位移台底座,这种设计从而避免了那些外悬电机等核心部件受冲击等损害,具有更为安全的结构。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台采用再循环轴承系统并配带精密导轨支撑位移台高速度,高精度运动。三维位移台,三维移动台,三维位移平台使用的高强度铝合金材料,精密机械加工工艺把电动位移台的刚度和稳定性发挥到极致。三维位移台,三维移动台,三维位移平台对于铝材料的标准处理是阳极氧化硬质涂层,对于不修钢部件采用抛光处理,对于特殊要求,比如Teflon特氟隆浸渍硬质涂层,非阳极氧化处理,化学镀镍等都可为用户提供。产品应用:这个系列三维位移台,三维移动台,三维位移平台是无刷直线电机(Brushless linear motor)驱动的电动位移台, 即使在高负载情况下也有超高可靠性和精密定位能力,是高负载,高精度高可靠性的最佳电动直线位移台。三维位移台,三维移动台,三维位移平台具有超高加速能力和行进速度.这种电动直线位移台具有更小的惯性,比传统的罗杆驱动等机械传动的位移平台更适合应用.根据牛顿定律可知,负载的轻重直接影响到加速度,这款直线电动位移台,具有较高的加速度和运行速度, 能够帮助用户减少时间而提供工作量.直线电动位移台,电动直线位移台,电动位移台。产品规格和型号参数行程范围:125-750mm驱动系统:无刷直线电机最大加速度: 取决于负载最大速度:3米/秒(无负载时)最大峰值力:800N最大连续力:160N最大负荷:XY平台50Kg,Z轴25kg反馈系统:非接触式直线编码器系统TTL分辨率:5 μm, 1μm, 0.5μm,0.25μm, 0.2μm,100 nm & 50 nm重复精度:5x分辨率构造:铝合金主体,硬质灰色阳极镀膜 型号LX-8125LX-8375LX-8500LX-8625LX-8750行程(mm)125375500625750精度 Standard SP 标准型± 11μm± 12μm± 16 μm± 18μm± 22 μm High Precision HP高精度型± 5 .5μ± 7 μm± 8 μm± 10 μm± 11 μm平整度 Standard SP标准型± 6 μm± 12 μm± 20 μm± 28 μm± 36 μm High Precision HP高精度型± 4 μm± 6 μm± 10 μm± 14 μm± 18 μmYaw/Pitch/Roll Standard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec High Precision HP10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-secHigh Precision HP5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-secExtra High Precision XHP3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec
  • 高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备
    高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料,在工程材料域,碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能,因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料,采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性,碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是,碳纳米管的呈纳米纤维状,自身易团聚和缠结,且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构,表面惰性大,与聚合物基体亲和性差,导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差,而且成本也高,这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中,将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一,但碳纳米管自身有着很高的表面自由能,易发生团聚现象,碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题,碳管表面没有任何反应官能图,碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱,碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期,因此制备出尺寸均匀,分散好,性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目,在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性,将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶,该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散,但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能;因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题,在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团,避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法,包括以下步骤:1、将碳纳米管在分散液中剪切,制得短切碳纳米管悬浮液;2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化,制得短切碳纳米管氧化液;3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液,制得碳纳米管浆液;4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂,制得复合浆液;5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中,制得碳纳米管-天然橡胶复合材料;6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机(混合机),ERS2000在线式高速高剪切乳化机,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作,乳液经过高剪切后,液滴更细腻,粒径分布更窄,因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换,适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率,非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机(混合机)设备参数选型表:型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机,环保水性纳米碳材高速乳化机,碳纳米管材料高剪切乳化机,碳纳米复合母胶高剪切乳化机,液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备,超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机,炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183,公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。
  • 影响医药微球均质乳化机的因素其实很简单,布洛芬缓释微球高剪切均质机,载药微球均相高剪切均质机,医药双入口高剪切均质机
    影响医药微球均质乳化机的因素其实很简单,布洛芬缓释微球高剪切均质机,载药微球均相高剪切均质机,医药双入口高剪切均质机 微球(microsphere)是指药物分散或被吸附在高分子、聚合物基质中而形成的微粒分散体系。制备微球的载体材料很多,主要分为天然高分子微球(如淀粉微球,白蛋白微球,明胶微球,壳聚糖等)和合成聚合物微球(如聚乳酸微球)目药剂学上关于微球(microspheres)的定义是指药物溶解或分散于高分子材料中形成的微小球状实体,球形或类球形,一般制备成混悬剂供注射或口服用。微球粒径范围一般为1-500um,小的可以是几纳米,大的可达800um,其中粒径小于500nm的,通常又称为纳米球或纳米粒,属于胶体范畴。 简单介绍下O/W乳化法制备微球,大致过程:将药物溶于有机溶剂,制备成油相,将PVA等表面活性剂溶于水中制备成水相,然后将油相打入到水相中进行乳化(在均质、高速剪切或搅拌,超声、磁力搅拌等乳化),然后经过慢速搅拌(真空泵抽气,加压空气或氮气)等条件下,挥发有机溶剂固化微球,然后收集并洗涤微球,后冻干!涉及的参数有:PLGA分子量,PLGA浓度,水相PVA浓度,理论载药量(药物与PLGA比例),油相水相比例,均质或高速搅拌的速度,制备温度等....微球洗涤方法:过滤,离心.....冻干:真空干燥,冷冻干燥.... 传统的乳化设备是批次式均质机,油相和水相混合,再通过均质机进行搅拌乳化,这时微球已大量生成,再减小微球颗粒就比较困难。上海依肯研发的双入口高剪切均质机,油相或水相单独进料,并瞬间剪切乳化,使微球在生成的过程中颗粒就可以变小。 微球油水相乳化均质机,医药微球均质机,药物高分子微球均相均质机,高聚物多功能均质机,双入口高剪切均质机,油水相双入口乳化均质机是上海依肯应对两相不能直接接触的问题研发而成的高新产品,有些物料水相和油相不能直接接触,接触之后会立即生产新的物质,出现固化现象,再想细化物料的粒径就十分困难,然而有了双入口乳化机的存在,避免了这种现象的发生。 如需了解更多详情可咨询IKN 销售工程师 徐工 18201891183,公司实验室有样机可以免费为客户进行购买设备的实验验证。双入口均质机的工作原理: 双入口均质机就是将水相和油相同时分别进口不同的进料口,一同进入乳化机的工作腔体中,然后在水相和油相接触的同时,通过定转子的高速转动,得到瞬间的剪切力,来将物料颗粒瞬间细化,从而得到高品质的产品。德国双入口均质均质机的特点:①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。②该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。③双入口均质机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。④双入口进口方式的设计,避免两种不能长期接触物料,可以得到瞬间的剪切。一、乳化机:采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的提下,可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。二、均质机:主要用于生物技术域的组织分散、医药域的样品准备、食品工业的酶处理,,食品中农药残留以及兽药残留检测以及在制药工业、化妆品工业、油漆工业和石油化工等方面。均质机采用不锈钢系统,可有效的分离护体样品表面和被包含在内的微生物均一样品,样品装在一次性无菌均质袋中,不与仪器接触,满足快速、结果准确、重复性好的要求。三、分散机:可以处理量大,运转更平稳,拆装更方便,适合工业化在线连续生产,粒径分布范围窄,分散效果佳,无死角,物料全部通过分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。 四、胶体磨:对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。五、乳化泵:属于捡起较小的在线式乳化机械,高流量,站姿圆周线速度约为10-20m/s,适用于无剪切,但依然可得到稳定的溶液。六、成套设备:指生产成品或半成品的工业联合装置。它可以是一个工段、一条生产线、一个车间或一个工厂。它可以是某一业的单项设备,也可以是数个业的综合设备。它综合了研磨机、分散机、均质机、乳化机、混合等优点。影响医药微球均质乳化机的因素其实很简单,布洛芬缓释微球高剪切均质机,载药微球均相高剪切均质机,医药双入口高剪切均质机如需了解更多详情可咨询IKN 销售工程师 徐工 18201891183,公司实验室有样机可以免费为客户进行购买设备的实验验证。
  • 三维细胞培养支架
    细胞最适宜在3D环境中生长!  南京瑞康健采用精密3D打印技术开发的适宜于细胞三维生长的规则性多孔三维细胞培养支架,具有100%孔隙连通性,比表面积是2D的7倍, 可以在长时间内无需胰酶消化而进行细胞的3D扩增,从而大大提高细胞的质量和培养效率。   三维立胞TM支架的特点  ● 三维立胞TM支架有两种材质可供选择,聚苯乙烯(PS)和聚己内酯(PCL)。其中PS材料即制作培养板的材料,PCL材料为可生物降解聚合物。  ● 100%的孔联通性为细胞生长提供了最佳的营养/代谢物交换途径,和2D相比高达7倍的比表面积可以高效培养大量细胞。  ● 规则的结构,不同批次同一性高,实验结果可重复性好。  ● 无动物源性  ● 三维立胞TM支架不会吸收细胞介素、生长因子、外泌体等,可以直接从培养液中分离出来。  ● 尺寸和形状可以根据客户定制,适配于各种培养器皿的要求。
  • 纳米级微球颗粒标准品
    纳米级微球颗粒标准品(Particle-Size Standards)直径大小高度均一,具有NBS 的NIST认证,属于Duke Scientific公司荣誉出品Nanosphere Size Standards?系列产品中的聚合体微球标准品(苯乙烯单体聚合而成)。纳米级微球颗粒标准品应用广泛,电子显微镜领域、气液相微粒研究、色谱柱、激光散射研究等等,20-1000nm范围内的微球颗粒可以用来测量细菌、病毒、核糖体和细胞亚显微结构的大小。该产品以水溶液瓶装形式出售。聚合体密度为1.05g/ml;Refractive index of 1.58 @ 589 nm (25°C)。 订购信息:货号正常直径Certified Mean Dia.Size Uniformity Std. Dev.&C.V固体百分比7088120nm19nm+/-1.5nmNA1%7088350nm50nm+/-2.0nmNA1%70885100nm102nm+/-3.0nm7.6nm (7.5%)1%70886200nm204nm+/-3.1nm3.1nm (1.5%)1%70887300nm304nm+/-6.0nm4.5nm (1.5%)1%70888400nm404nm+/-4.0nm5.9nm (1.5%)1%70889500nm486nm+/-5.0nm5.4nm (1.1%)1%70890600nm600nm+/-5.0nm6.6nm (1.1%)1%70891700nm701nm+/-6.0nm9.0nm (1.3%)1%70892800nm802nm+/-6.0nm9.6nm (1.2%)1%70893900nm895nm+/-8.0nm9.1nm (1.0%)1% 下面推荐的是最高级别测量标准品,对直径1-40um的颗粒来说,以下产品极具竞争力。订购信息:货号Nominal diameterCertifiedMean Dia.Size UniformityStd. Dev.&C.V.SolidsContent708941.0μm0.993+/-0.0210.010μm (1.0%)1.0%708952.0μm2.013+/-0.0250.022μm (1.1%)0.5%708963.0μm3.063+/-0.0270.03μm (1.0%)0.5%708975.0μm4.991+/-0.0350.06μm (1.2%0.3%7089810.0μm9.975+/-0.0610.09μm (0.09%)0.2%
  • 微流控芯片光刻机系统配件
    微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计,用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料,可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。
  • 带通光学滤光片消杂滤光片滤波片双光子荧光显微
    带通光学滤光片消杂滤光片滤波片双光子荧光显微 上海屹持光电推出专用带通光学滤光片,性能好、性价比高,可根据用户需求定制。可用于双光子显微成像、荧光显微镜、拉曼光谱仪和激光系统等。 双光子荧光显微镜是结合了激光扫描共聚焦显微镜和双光子激发技术的一种新技术,能记录组织深层最细微的内部结构。双光子显微系统中,由于激发光和发射荧光波段不同,且在双光子成像时有杂散光干扰,所以需要双光子显微专用滤光片选择合适的透过波段成像,反射不需要光波段。参考型号尺寸 性能参数主要功能EBPF-40/68-L36W25T0125mmx36mmx1mm透射400~680nm90%反射710~1500nm90%反射红外激光,透过可见光EBPF-75/160-L36W25T0125mmx36mmx1mm反射350~720nm98%透射750~1600nm90%反射可见光,透过红外激光EBPF-39/55-L36W25T0125mmx36mmx1mm 透射390~555nm=90%反射575~1000nm90%将可见光分成绿色通道和红色通道EBPF-39/69-D25T01D25mm x1mm透射390~690nm=95%截止波段730~1100nmod值=6~8滤除红外激光 配备屹持光电双光子显微镜专用滤光片后,双光子下的花粉颗粒成像图。
  • Confocal共聚焦显微镜纳米标尺
    产品特点:GATTA-Confocal 系列的纳米标尺为传统显微镜使用者设计,它有两个荧光标记端,均含有量子效率高的染料分子。标记点的距离为350nm。GATTA-Confocal纳米标尺有如下颜色可选:红色(ATTO 647N),黄色(Alexa Fluor 568),绿色(ATTO 532)或蓝色(Alexa Fluor 488),或者红/黄/蓝组合(ATTO 647N/ Alexa Fluor 568/ Alexa Fluor 488),红/绿/蓝组合(ATTO 647N/ ATTO 532/ Alexa Fluor 488)纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB
    科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验精密微加工的优秀解决方案。FemtoLAB配备高精度线性位移平台、高性能电流扫描仪和多功能微加工软件SCA等,是理想的飞秒激光微加工实验室。典型应用:- 表面微米和纳米结构- 雕刻- 钻孔- 激光照相和多光子聚合- 材料内折射率改性- 选择性薄层去除- 切削脆性材料- 波导结构加工- 可根据要求提供进一步开发 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验室的理想选择,可胜任各种定制任务和解决方案。我们的技术能力和应用经验可以优化FemtoLAB工作站,为用户节省宝贵的实验时间,并对用户进行全面培训。 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB完整设备,含飞秒飞秒激光器激光微加工工作站FemtoLAB功能特性: - 高速精密微加工- 高端工业级飞秒激光器- 用亚微米分辨率制造难处理材料- 飞秒微机械加工模式下热影响区最小- 纳米定位精度- 可选扫描振镜,精确激光束引导- 灵活调节激光参数- 控制所有集成硬件设备的原始软件界面 WOP科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB配置灵活性,系统允许在出现新要求时进一步扩展和升级。飞秒激光微加工系统FemtoLAB的技术指标依赖于最终用户的要求和任务。典型配置如下:参数 值 脉冲宽度200 fs - 10 ps重复频率1 kHz - 1 MHz平均功率高达20W脉冲能量最高2 mJ波长1030nm,515nm,343nm,258nm,206nm定位精度±250nm行程范围从25×25 mm到300×300 mm(根据要求可提供更大)主要组成部分:- 飞秒激光光源- 样品定位系统- 光束传输和扫描单元- 激光功率和偏振控制- 用于系统控制的软件(可选:根据要求自动对焦和视觉)- 样品架和特殊机械(可选:根据要求提供样品处理自动化)- 光学平台(可选)- 外壳(全部或部分)- 除尘装置如果用户已经拥有高能量高功率飞秒激光器,我们可以提供不含飞秒激光光源的微加工平台FEMTOLAB-KIT: 科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB加工效果:玻璃基板烧蚀光纤钻孔 陶瓷激光划线激光切割 激光打标
  • PAINT 超高分辨显微镜纳米标尺
    产品特点:GATTA-PAINT 系列纳米标尺是适用于各种定位技术的超高分辨显微镜的理想标尺。因为采用DNA PAINT技术实现亮暗转换,GATTA-PAINT 纳米标尺几乎不会淬灭。此外,标尺的设计中包含了三个荧光发射点,可以获取到醒目的图像。荧光标记间的距离有如下几个尺寸:20nm, 40nm, 80nm。每种距离都有如下几种颜色可供选购:红色(ATTO 647N),绿色(ATTO 542)或蓝色(Alexa Fluor 488),或者红/绿组合(ATTO 655/ ATTO 542)纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • 三维石墨烯泡沫(1*1厘米)-三维独立石墨烯泡沫
    三维石墨烯泡沫(1*1厘米)-三维独立石墨烯泡沫 3D Graphene Foam-3D Freestanding Graphene Foam尺寸:1*1厘米热释放带温度:120 °C
  • Eachwave 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB 其他光谱配件
    科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验精密微加工的优秀解决方案。FemtoLAB配备高精度线性位移平台、高性能电流扫描仪和多功能微加工软件SCA等,是理想的飞秒激光微加工实验室。典型应用:- 表面微米和纳米结构- 雕刻- 钻孔- 激光照相和多光子聚合- 材料内折射率改性- 选择性薄层去除- 切削脆性材料- 波导结构加工- 可根据要求提供进一步开发 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验室的理想选择,可胜任各种定制任务和解决方案。我们的技术能力和应用经验可以优化FemtoLAB工作站,为用户节省宝贵的实验时间,并对用户进行全面培训。 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB完整设备,含飞秒飞秒激光器激光微加工工作站FemtoLAB功能特性: - 高速精密微加工- 高端工业级飞秒激光器- 用亚微米分辨率制造难处理材料- 飞秒微机械加工模式下热影响区最小- 纳米定位精度- 可选扫描振镜,精确激光束引导- 灵活调节激光参数- 控制所有集成硬件设备的原始软件界面 WOP科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB配置灵活性,系统允许在出现新要求时进一步扩展和升级。飞秒激光微加工系统FemtoLAB的技术指标依赖于最终用户的要求和任务。典型配置如下:参数 值 脉冲宽度200 fs - 10 ps重复频率1 kHz - 1 MHz平均功率高达20W脉冲能量最高2 mJ波长1030nm,515nm,343nm,258nm,206nm定位精度±250nm行程范围从25×25 mm到300×300 mm(根据要求可提供更大)主要组成部分:- 飞秒激光光源- 样品定位系统- 光束传输和扫描单元- 激光功率和偏振控制- 用于系统控制的软件(可选:根据要求自动对焦和视觉)- 样品架和特殊机械(可选:根据要求提供样品处理自动化)- 光学平台(可选)- 外壳(全部或部分)- 除尘装置如果用户已经拥有高能量高功率飞秒激光器,我们可以提供不含飞秒激光光源的微加工平台FEMTOLAB-KIT: 科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB加工效果:玻璃基板烧蚀光纤钻孔 陶瓷激光划线激光切割 激光打标
  • 泡沫铜三维石墨烯 三维石墨烯
    材料简介:三维石墨烯网络是在泡沫金属基底上通过化学气相沉积高温生长石墨烯薄膜层,借助泡沫基底的三维多孔骨架,生长成石墨烯的三维网络。三维石墨烯具有体表面积大,导电性佳,质量轻等特点。 应用领域:1)适用于超级电容、锂离子电池、铝电池、纳电池等电化学能源存储器件。2)适用于化学传感器、气体传感器领域。尺寸:5*10cm
  • 热剥离胶带 石墨烯膜 LED 碳纳米管 晶圆定位 二维材料
    热释放胶带,热剥离胶带,发泡胶。剥离温度为90℃~100℃,120℃,150℃,拍的时候,说明哪种温度,此销售的胶带为单面胶带。用于石墨烯膜、LED、碳纳米管、晶圆研磨定位、二维材料转移等领域。 主要型号:90~100°中粘125-135°中粘125-135°高粘150-160°中粘产 品 名 称:热释放胶带,热剥离胶带(国产胶带),发泡胶带剥 离 温 度:90~100℃/120℃/150℃结 构:两层结构,一层为热剥离胶层,厚度50微米。一层为保护膜,厚度10微米。厚的一层为带胶层,薄的一层为保护膜,使用的时候撕去保护膜即可。剥 离 原 理:热剥离胶带是由一种独特的粘合胶(热敏胶)制成,在常温下有一定的粘合力,可以起到定位的作用,能够满足各种精密加工要求,只要把温度加热到设定的温度,30-50秒钟,那么粘合力就会消失,能实现简单剥离,残留物较少,不污染被粘物。在电子产品生产过程中,能够实现简易自动化。主要使用在MLCC、MLCI、石墨烯膜转移、二维材料转移、纳米管转移、晶圆研磨定位、电路板安装、LED灯制作等定位上。尺 寸:约A4纸大小材 质:热敏胶 使用说明: 1.在一定的温度下有粘性,可以起到定位的作用,能够满足各种精密加工需要。可以用剪刀剪切,根据自己需要的尺寸,自己剪切即可。2.加工完毕后,只需要加热到设定温度,约几十秒到1分钟,粘性消失,实现简易剥离。用 途:用于转移石墨烯膜,碳纳米管,晶圆和研磨加工定位,LED、电路板安装,各种零部件定位以及环形压敏电阻定位、分切定位上。
  • GATTA-SIM NANORULER 单分子定位显微镜标准纳米尺
    GATTA-SIM NANORULER来自德国GATTA-SIM系列Nanorulers(纳米尺)是检查您的SIM系统(单分子定位超分辨显微镜)分辨率的完美样本。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料分子密集排列而成的荧光标记。此外,我们提供了一种新的设计,包含两个不同的荧光团三个发光点,允许获取非常引人注目的图像。单色GATTA-SIM纳米尺120纳米-120nm尺寸只有蓝色可供选择140纳米-黄色和蓝色160纳米-颜色为红色(ATTO 647N),黄色(Alexa Fluor® 568)或蓝色(Alexa Fluor® 488)多色纳米尺有三个发射点,尺寸:140纳米(Alexa Fluor 568 & Alexa Fluor 488)160纳米(ATTO 647N & Alexa Fluor 568或ATTO 647N & Alexa Fluor 488)我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有纳米样品都将是GATTA-SIM超分辨率图像,在密封玻片上交付,您可以舒适地直接放在显微镜上。
  • 三维子弹检验仪配件
    三维子弹检验仪配件是子弹分析和识别领域的最新弹痕分析仪器,它采用了枪械和子弹痕迹比较显微镜的最新成果,用于分析子弹和射击后的弹壳痕迹。三维子弹检验仪配件特色具有子弹壳和枪管特性和专业的定制分析软件,全自动技术可以在几秒内获得极为详细的3D模型,增加了分析的可靠性,它突破了传统的技术,使用实验室自动机子检验系统,在实验过程中,降低了操作者与样品间的人为因素,大大提高分析的科学性和客观性。三维子弹检验仪配件功能为子弹特征定制的软件法医学应用范围其它检查模块实验室自动机子弹检测技术USB3.0摄像头用于快速分析自动化控制在XYZ上的样品结果非常精确Windows 7 超快速计算机特点增强的3D模型,用于比较用于快速自动识别的强大软件(1秒分析)三维子弹检验仪配件特点这种自动检验仪采用全球领先的介观技术,采用LED图形微型投影器,通过将立体数据与物体的独特指纹比对来建立细节详细的3D模型。3D模型可以用来获取重要参数,使用参数从数据库中鉴别和比较样本,使这个仪器成为检查“中观”对象的最快和 最强大的工具。 该技术整合到实验室自动机,是全自动化的。为子弹特性定制的软件 使用便利的数据库和比较射击后留在子弹上的特殊标记,为子弹表征和匹配子弹发射枪械的终极工具。该软件的一些独特功能:自动 校准,像素分辨率增强和2D 测量,使用数学算法将子弹特征二值化使子弹能够进行比较,和为光投射模式使用检测器的对所有表面进行3D建模,自动控制硬件和所有阶段的分析,可定制图表和图形以及自动生成报告,将会使检查速度更快,更准确,可重复性更高可以对子弹上的标记进行最高精度分析。标记可以存储在数据库中,并与其他子弹的标记进行比较。该软件可以将枪管里形成的槽与地面印记,和实验室自动机子弹检测系统获得的弹槽作比较。该软件促进了同一枪管发射的两发子弹之间的比较。软件可以将所有特性的子弹与弹壳匹配:后膛标记点火栓标记提取针发射标记 三维子弹检验仪配件 法医学应用范围枪械及工具痕迹实验室自动机比较显微镜是用来分析子弹和匹配开枪后留在弹壳上的类似指纹的条纹或线条。匹配指纹有助于检查人员识别武器是否在先前的犯罪行动中使用过。该系统有助于表征枪管细节与子弹细节的比较。比较技术包括一个完整过程来促进子弹表征和比较。可以自动确定各种特性的子弹:-地面和槽的数目-地面和槽的宽度-地面和槽的深度-倾斜-转动三维子弹检验仪和以根据枪管剖面和弹壳信息(使用Microptik枪管检查工具获得)重构子弹,弹壳和枪管的3D结构,并将使用枪管的小槽和条纹与子弹留在地面和槽印记匹配。使用该软件,法医研究人员可以比较所有立体图案,来帮助将子弹与枪管和弹壳匹配。附件检测模块?后膛印记?提取针标记?发射标记子弹印记和标记可以以最高精度进行分析。标记可以被存储在数据库中,并与其他子弹的标记进行比较。使用此附加模块,实验室自动机子弹检查的系统的能力可扩展到分析箱的内部。特点如下:?点火栓印记Lab-robot® Shell casing inspection实验室自动机弹壳检测枪管检测工具包包括用于枪管内检测的内窥镜,增强的光纤照明和软件附加功能。枪管剖面会沿着土地和槽显示小凹槽或条纹。这些都是枪管脱膛时产生的。所有枪管的标记都不同。这些标记会在子弹上留下独特的条纹或印记。因此可以根据标记将子弹与特定枪支匹配。 Microptik提供了一个完整的工具包,用来检查枪管特性(如土地和槽)对于小型枪械,可以将枪管放置在实验室自动机系统里,使用高精度内窥镜进入枪管,并获得枪管内部的所有相关特征。该软件可以将枪管里形成的槽与地面印记,和实验室自动机子弹检测系统获得的弹槽作比较。该软件促进了同一枪管发射的两发子弹之间的比较。
  • AFM原子力显微镜纳米标尺
    产品特点:GATTA-AFM纳米标尺具有准确、高度平行的结构,可以完美地用于检测或优化原子力显微镜。在实际环境中测试原子力显微镜可以达到的分辨率非常重要,不仅可以测出原子力显微镜达到产品标称分辨率的可能性,还可以测出实际使用时可达到的极限。如今GATTA也提供适合测试的GATTA-AFM纳米标尺,现在,有了GATTA原子力显微镜纳米标尺之后,就有了足够的测试样品,这些样本用DNA做成,呈现70nm*90nm*2nm(高)的长方体形状。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • SIM纳米标尺
    产品特点:GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记,这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定,尺寸包括120nm,140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺,包括:红色(ATTO 647N),黄色(Alexa Fluor 568)或蓝色(Alexa Fluor 488)。纳米标尺,AFM纳米标尺,原子力显微镜纳米标尺,共聚焦显微镜纳米标尺,超高分辨显微镜纳米标尺,SIM纳米标尺,STED纳米标尺,STORM纳米标尺,电镜纳米螺旋标尺,金纳米螺旋标尺,显微镜亮度灵敏度标尺,显微镜纳米标尺技术参数:
  • 碳纳米管浆料高剪切研磨分散机,超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家,碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机
    碳纳米管浆料高剪切研磨分散机,超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家,碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细,这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能,不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后,由于分子之间的作用力,小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成, 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点:①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。
  • 纳米颗粒分析仪配件
    纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关,采用纳米颗粒跟踪分析(NTA)技术,通过激光散射装置(纳米观测)与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合,生成纳米颗粒图像,是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理 纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块,可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此,在超显微图像中,较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。 纳米观测模块 纳米观测模块的设计,可以使其安装在超显微镜,顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。 顶眼超显微镜 顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪,模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。 NTA 软件 上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点,要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法,得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量,当我们知道相关的量后,我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如,可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器,可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是,用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。 MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包,被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序,可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。 MiNan是自带Morphious纳米系统的软件,研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状(形态)和浓度的测量。每个粒子是一个个体,但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果,即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高,同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时,粒子尺寸和浓度,蛋白质聚集和粘度都可以被分析。 纳米颗粒分析仪配件应用 ? 在制药或复合产业研发药物 ? 用于病毒筛查 ? 用于开发纳米生物标记物或毒物筛查 ? 用于蛋白质聚集的动力学模型研究 ? 用于通过膜泡的表征研究疾病 ? 用于促进纳米复合材料的发展 纳米颗粒分析仪配件特色 ? 在同一时间多粒子高通量表征 ? 实时视觉展示粒子,允许用户评估试验,无需额外复杂性 ? 方便和易于使用的软件,允许用户通过宏设置任何实验 ? 添加像高通量自动采样器,泵或加热和制冷配件 ? 自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序,操作轻松舒适 ? 超级高效和购买成本低 ? 该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵 ? 激光波长可选择 ? 通过给过滤器添加电动轮,得到自适应荧光分析 纳米颗粒分析仪配件参数 ? 尺寸 10 nm - 2000 nm* ? 浓度 106 - 109 粒子/ mL ? 荧光检测 纳米颗粒分析仪配件规格 温度范围 15-40 °C 电源 230V AC/115V AC, 50/60 Hz 摄像机 USB3 CMOS分辨率:1936x1216 161帧/秒,像素尺寸5.86μm:颜色校准模块 功耗 18W 激光波长 405nm(紫色),488nm(蓝),532nm(绿),642nm(红色) 尺寸范围 从10 nm到2000 nm (取决于材料) 焦点 电脑控制电动调焦 个人计算机 SDD亿康 II SDSSDHII-120G-G25HDD 西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节 GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM 处理器 英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz 显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB 电源 酷冷至尊 G750M 750w 机箱 酷冷至尊黑 软件 Windows® &(或更高).由Mishell® 供电 Mishell是Microptik BV公司的注册商标。 Windows是微软公司的注册商标。 MiNan尖端程序在Mishell下运行,以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子 尺寸(长×宽×高) 20 x 18 x 30 cm 重量 10.5 kg
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