卷对卷技术低压等离子处理设备

价格货期电议上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子设备通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard® , 可以活化和涂敷过滤介质, 实现亲水, 疏水等功能, 适用于过滤工业, 比如血液过滤介质, 呼吸用口罩等.Europlasma 等离子活化: 作为前处理工艺, 等离子活化只作用于材料外表面的分子层, 在聚合物分子链上建立新的化学基团, 增加材料表面能量. 表面能量越高, 表现为与水的接触角越小, 并具有良好的湿润性. 活化气体一般是 O2, N2, N2O 或者混合气体, 如 N2H2, 根据加工材料及其以后的应用而选择气体品种.Europlasma 等离子涂层技术: 在过滤介质产业, 等离子体涂层技术的应用较广泛,通过等离子体来聚合材料的单体, 纳米级涂层沉积在材料表面, 获得新的性能并具有持久的功能. 涂层具有高等级拒水, 拒油, 亲水, 易粘接, 涂覆, 低摩擦, 润滑等特点. 薄膜和织物的表面处理和涂层一般采用上海伯东 Europlasma 卷对卷低压等离子处理设备, 应用于柔性材料的等离子体处理.Europlasma 液体过滤介质应用: 在血液过滤介质处理中就使用持久亲水涂层工艺, 对样品聚丙烯 PP 或聚对苯二甲酸乙二醇酯 PBT 进行处理, 得到持久亲水涂层.Europlasma 气体过滤介质应用: 呼吸用口罩, 用几层熔喷 PP 材料作为过滤介质, 在加静电前应用等离子体疏水或拒油涂层, 可使材料对油性离子的过滤效率大大提高. 按 3M 的 AATCC 实验方法 118-1997 要求, 测得涂层材料一般的拒油水平达到 3-4 级, 下图显示了用邻苯二甲酸二辛脂 DOP 测试的肉眼可见的效果.未经和经过 Europlasma 等离子纳米涂层的过滤介质性能比较 过滤介质的过滤效果, 用 200mg的 DOP 粒子载体测试初始渗透率和经过一定时间的延迟渗透率 测试仪器: Certiestest 8130样品: 驻极五层单层 PP低压等离子设备型号: CD 1800测试数据: 数据来源 Europlasma样品等离子体涂层处理情况渗透率供应者面密度 / g.m-2初始延迟128未经1.26.41128经过0.481.081122未经1.253.92122经过0.40.752225未经--225经过0.020.032注:1 经过 30min 后的延迟渗透率 2 经过 10min 后的延迟渗透率数据清楚地证明, 一层薄的等离子拒油涂层就能增加过滤介质的初始和最终过滤效率, 即经过涂层的 R95 过滤材料其性能可提升达到 R99 的过滤材料的性能.上海伯东代理比利时 Europlasma 常用卷对卷设备卷材宽幅为 1800mm, 卷材外径为 1000mm, 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA10, 超疏水疏油涂层 WCA 120, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma CD 1800 /1000 卷对卷等离子机 Europlasma CD 650 / 450 卷对卷等离子机 真空条件下, 上海伯东 Europlasma 等离子机通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆. 产品一致性强, 循环周期最短, 可灵活集成到生产工艺中, 穿透复杂的结构, 并覆盖所有表面, 包括锐利的边缘 所有表面都覆盖, 包括液体涂层无法触及的区域, 如深空腔和其他难以触及的区域. 超薄纳米涂层不会改变元件的结构和性能, 如声学元件.若您需要进一步的了解 Europlasma 等离子机详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

价格货期电议Europlasma 卷绕式无氟等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 2400上海伯东代理比利时 Europlasma 卷绕式等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 2400, 卷尺寸 2400mm x ?1000mm , 接受客户定制, 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 无氟纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 超薄等离子涂层设备, 可在非织造, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄涂层, 通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard® , 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐等功能, Europlasma 满足消费电子产品, 锂电池隔膜, 医疗用品, 户外运动装备等产品 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生

价格货期电议Europlasma 卷绕式等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 2400上海伯东代理比利时 Europlasma 卷绕式等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 2400, 卷尺寸 2400mm x ?1000mm , 接受客户定制, 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生

上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 是基于低压等离子技术的创新超薄纳米涂层设备. 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard® . Europlasma 凭借超过25年的低压等离子体技术经验, 设计和生产真空等离子处理设备, 实现涂覆产品 IPX2 - IPX8 防水等级或医用产品亲水特性！Europlasma 提供各种规格的等离子表面处理设备, 等离子体室从 50升 到 2000升不等. 满足工业生产需要, Europlasma 还提供独特的卷绕涂层设备, 用于处理复杂电路, 薄膜, 织物和非织造布. 不论是非常小的特殊材料卷到大型织物卷 (宽度可达 2500毫米) 上海伯东 Europlasma 根据您产品的实际应用选择合适的机型和涂覆材料！CD 1000 ( 等离子体室 1000 x 700 x 700 mm ) CD 2400 ( 卷绕式 2400毫米 )Europlasma 等离子表面处理设备特点: 真空条件下, Europlasma 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.产品一致性强, 循环周期最短 可灵活集成到生产工艺中 穿透复杂的结构, 并覆盖所有表面, 包括锐利的边缘 所有表面都覆盖, 包括液体涂层无法触及的区域, 如深空腔和其他难以触及的区域 超薄涂层不会损坏被涂层的易碎物品, 如声学元件推出世界第一台 PlasmaGuard® 无卤素涂层设备, 更加安全, 环保！Europlasma 拥有先进的技术和不断增长的各项专利申请, 提高纳米涂层设备工艺技术!Europlasma 等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表, 助听器等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma JuniorPLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度 40℃ 以下材料: 铝有效尺寸: 直径230mm x 深度250mm容积: 10.4升托盘: 订制根据处理材料设定不同的处理工艺参数JuniorPLC 低压等离子表面处理设备 技术参数：若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 操作简单, 等离子腔容积 216 L , 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC 参数腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时 频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 低压等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机,,助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 其他防护设备等.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 智能操作简单, 等离子腔容积 216 L , 适用于实验室和科研. 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA 10°, 超疏水疏油涂层 WCA 120°, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC 规格腔室材料: 铝 内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口 标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机, 助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

产品描述Europlasma CD400 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料：铝有效尺寸：500 x 400 x 445mm容积：89L舱门：装有可视窗口托盘：2CD400 Nanofics低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 500 x 400 x 445mm容积: 89L舱门: 装有可视窗口托盘: 2个 尺寸: 360 x 360mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、射频发生器功率等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体两个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）反应单体独立液态单体输入系统气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力: 1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.CD400 Nanofics低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD681 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 1000 x 980 x 695mm容积: 681L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm，托盘间距: 150mmCD681 Nanofics低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 1000 x 980 x 695mm容积: 681L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 150mm真空度测量Baratron真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力:1Bar尾气排放 直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.CD681 Nanofics低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics 涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 500 x 400 x 650mm容积: 129L托盘: 3个CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料:铝有效尺寸:500 x 400 x 650mm容积:129L舱门:装有可视窗口托盘:3个 尺寸:360 x 360mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码。电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力:1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证。CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 1000 x 1260 x 695mm容积: 875L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 220mmCD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 1000 x 1260 x 695mm容积: 875L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 220mm真空度测量Baratron真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码。电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力: 1Bar尾气排放 直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证。CD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中。也适合用于石墨烯在卷材上的连续生长。设备含卷对卷收放卷运动模块、1200℃双温区可开启式管式炉模块、PE等离子增强模块、真空系统以及三路质子流量计供气系统五部分，整套体系可在真空/气氛保护环境下工作。收放卷机构转速从1~400mm/min可调,机构采用反馈调节，可自动纠正转速偏差，保证样品的速度稳定不走样，从而保证了实验的精确性 卷对卷式PECVD技术参数：1200℃双温区管式炉供电电压AC220V，50Hz最大功率3KW加热温区双温区 200mm+200mm工作温度≤1200℃控温精度±1℃控温方式AI-PID 30段工艺曲线，可存储多条炉管材质高纯石英炉管尺寸φ80mm I.D x 1400mm L密封方式不锈钢真空法兰真空测量电阻规工作气体氢气、氮气、氩气、氧气等非腐蚀性气体真空泵双极旋片式真空泵极限真空度10^-1Pa三路质量流量计阀门类型不锈钢针阀气路数量三路承压范围0.05~0.3MPa量程1~100 SCCM（Ar）1~200 SCCM（H2）1~500 SCCM (CH4)流量控制范围±1.5%混气罐容积750mL气路材料304不锈钢管道接口6.35mm卡套接头供电电源AC220V 50HzS射频电源输出功率500W输出精度±1%射频频率13.56MHz射频稳定度±0.005%冷却方式风冷

产品描述Europlasma CD1000PLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度 40℃ 以下.材料：铝有效尺寸：700 x 700 x 1000mm容积：490L托盘：8个CD1000PLC 低压等离子表面处理设备 技术参数： 反应舱材料：铝有效尺寸：700 x 700 x 1000mm容积：490L舱门：装有可视窗口托盘：8个 尺寸：591 x 697 x 40mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵旋片初级真空泵和480m3 /h的机械增压泵频射发生器0~2500W可调。KHz发生器控制系统PLC可实现下列功能： 自动控制反应过程；根据处理材料设定不同的处理工艺参数；测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标；监测所有的运行指标，保证各项参数在设定范围之内；设定操作、维护密码。电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口，含气体流量控制器（MFC） 气体输入直径1/4英寸（6.35mm） 管道；输入压力：1Bar尾气排放直径38mm 输出端口性能急停开关；真空泵保护锁；高温保护锁；CE认证。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

1. 产品概述RIE-400iP是用于ø 4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。3. 设备特点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测，干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计，TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。

产品描述Europlasma CD400PLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度40℃以下. 材料: 铝尺寸: 400 x 400 x 400mm容积: 64升舱门: 装有可视窗口托盘: 4个CD400PLC 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料：铝尺寸：400 x 400 x 400mm容积：64升舱门：装有可视窗口托盘：4个 尺寸：305 x 360 x 40mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵旋片式真空泵；30m3 /h；含真空泵油频射发生器0~600W可调，100KHz发生器控制系统PLC可实现下列功能： 自动控制反应过程；根据处理材料设定不同的处理工艺参数；测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标；监测所有的运行指标，保证各项参数在设定范围之内；设定操作进入密码。电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口，含气体流量控制器（MFC） 气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道；输入压力：1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关；真空泵保护锁；高温保护锁；CE认证。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

1 产品概述: 卷绕式溅射设备，也称为卷绕磁控溅射镀膜机，是一种在真空环境下，利用磁控溅射技术将金属、合金、化合物或陶瓷等材料沉积到连续卷绕的柔性基材（如塑料薄膜、金属带等）上的先进镀膜设备。该设备主要由溅射室、卷绕系统、磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。在溅射过程中，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材上，形成所需的薄膜层。2 设备用途：卷绕式溅射设备具有广泛的应用领域，主要包括但不限于以下几个方面：柔性电子：用于在柔性基材上镀制各种介质膜、导电膜等，如ITO透明导电膜，广泛应用于柔性线路板、柔性显示器件等领域。太阳能电池：在金属带上镀制光学多层膜，用于制作薄膜太阳能电池，提高光电转换效率。包装与防伪：在包装材料上镀制防伪膜层，提高产品的防伪性能和美观度。电容器：在电容器电极上镀制金属薄膜，提高电容器的性能。3 设备特点卷绕式溅射设备具有以下几个显著特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对柔性基材的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：磁控溅射技术具有镀膜温度低、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点，能够制备出高质量的薄膜层。镀膜材料范围广：可适用于多种材料的镀膜处理，包括金属、合金、化合物和陶瓷等。 4 技术参数和特点：可根据工艺或生产性选择各种模组。通过任意、追加选择模组，可实现各种用途。在地面高度可以进行设备操作。优秀的氛围分隔性能和成膜工艺的改善，使高速率生产高品位的薄膜成为可能。触摸屏用配线膜、透明导电膜以及透明薄膜等。FPC用电膜

1. 产品概述RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，可对硅及各种金属薄膜和化合物半导体进行高精度的各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料、电材料等难蚀材料的加工。3. 设备特点龙卷风线圈电，它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺，通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制，电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。

1. 产品概述RIE-230iPC是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金属薄膜和化合物半导体的高精度各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料和电材料的加工。3. 设备特点龙卷风线圈电，它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺，通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制，电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。

卷带表面亲水化处理仪PHP-4适用于卷带（生物切片样品黏附用）亲水化处理，电镜样品表面的碳氢污染物的清洗。本产品具备5大核心优势：一、带亲水化处理，显著改善亲水性；二、电感耦合等离子体(ICP)清洗源，对样品无污染；三、高效去除表面碳氢污染物；四、样品室可抽高真空用于样品真空保存；五、高清触摸屏，一键操作。

价格货期电议Europlasma 聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性PP 膜单纯的表面活化亲水效果一般只能维持几分钟到几小时, 随着工业的发展, 需要 PP 膜材料表面能达到持久亲水的效果. 已满足过滤介质, 电池隔膜等应用. 上海伯东 Europlasma 等离子机通过多种混合气体进行等离子处理来达到 PP膜持久表面亲水改性的目的. 这些混合气体为碳氢化合物和激活气体, 如 O2 或 N2O, 并提供卷对卷等离子设备. Europlasma 等离子表面处理是一种干式处理方法, 不会产生污染物和废弃物, 不需要消耗水资源, 符合各行各业当下对于环保的要求！聚丙烯 PP膜等离子表面亲水改性 使用设备: Europlasma CD 400 PC Roll 单片和卷绕处理设备集成 在卷对卷等离子处理设备上处理聚丙烯 PP 或聚对苯二甲酸丁二醇酯 PBT, 可以得到持久的亲水性表面, 广泛应用于血液过滤介质或电池隔板材料.聚丙烯材质 PP 电池隔板膜在自然状态下有明显的拒水性, 采用上海伯东 Europlasma 等离子处理工艺使其持久亲水性显著提高. 对处理过的样品进行虹吸实验, 未处理的材料无虹吸作用, 而处理过的材料在 2个月以后, 在 200mm 长度的样品上碱液（30%KOH无离子水溶液）的虹吸高度达到 40mm, 证明材料具有持久的亲水特性, 说明用 Europlasma 工艺处理的材料其虹吸效果比用其他任何化学方法处理更为有效.若您需要进一步的了解 Europlasma 等离子机详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

卷对卷涂敷设备/镀膜机/涂膜机/涂层机卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用R2R设备可提供：Coating 150mm 和 300宽度可选 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计在工艺中可选配slot die 或 微凹版新刷（micro gravure）slot die小型化可节约材料损失，确认经济化使用hot air干燥, IR Heater, UV 固化, Laminator 等Option可供选择卷对卷涂敷设备（实验型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于卷对卷涂敷设备（实验型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

1 产品概述: 卷绕式真空蒸镀设备主要由真空系统、蒸发源、基材传送系统、控制系统等部分组成。在真空环境下，通过加热蒸发源（如电阻加热、感应加热、电子束加热等），使金属或氧化物材料蒸发成气态，随后沉积在连续卷绕的基材表面，形成所需的薄膜层。该设备具有高效、连续、自动化程度高等特点，广泛应用于各种材料的表面镀膜处理。2 设备用途：卷绕式真空蒸镀设备的用途广泛，主要包括以下几个方面：包装材料：在塑料薄膜、纸张等包装材料表面蒸镀金属或氧化物薄膜，提高材料的阻隔性、美观性和附加值。例如，在食品包装材料上蒸镀铝膜，形成金属化包装，提高食品的保鲜效果。电容器：在电容器电极上蒸镀金属薄膜，提高电容器的性能。例如，在铝电解电容器中蒸镀铝膜作为阳极，提高电容器的容量和稳定性。磁带：在磁带基材上蒸镀磁性材料，制备录音或录像磁带。光学膜：在光学材料表面蒸镀增透膜、反射膜等，改善材料的光学性能。3 设备特点卷绕式真空蒸镀设备具有以下特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对带状材料的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：在真空环境下进行镀膜处理，避免了外界污染对膜层质量的影响，同时蒸发源的高精度控制也保证了膜层的均匀性和一致性。自动化程度高：设备配备先进的控制系统，实现了对镀膜过程的自动化控制，降低了人工操作难度和劳动强度。 4 技术参数和特点：基板传送采用全新的卷绕控制技术，可根据不同的材料和尺寸实现稳定运行。根据蒸镀的目的，可以选择匹配的蒸发源（感应加热方法，电阻加热方法，EB加热方法）。各种预处理/后处理的机制达到良好的工艺条件。可提供能够在线测量的穿透式膜厚监视仪，涡流式膜厚监视仪，电阻值监视仪等。

卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用mini型R2R设备可提供：Coating 140mm 和 290mm宽度两种.速度：0.1 ~ 5 M/min 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计可通过储存Recipe进行数据管理，对于重现性好的工艺可进行反复实验控制可实现1um自动高度调整多种精密pump可选laminating等多种option可供选择

一、特点：模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀涂布、凹版涂布）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，宽度可达300mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤250mm【基材幅宽】：≤180mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：150mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.76m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：2KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

应用：卷对卷ALD薄膜流程－很高的防潮性为了柔性OLED显示，柔性OLED照明， quantum dots, 柔性太阳能电池等等. : Al2O3, TiO2在研究和试制品使用宽度: 600mm特点：最先进的流程KIT为了缩短气周期聚合物薄膜的高阻隔性能可以使用多种物质在ALD系统很容易的控制流程

1. 产品概述：KaRoll RTR1C 是一种先进的卷对卷薄膜溅射系统，主要用于在柔性基底材料上连续地进行薄膜溅射沉积。它能够将各种金属、合金或化合物材料以精确的厚度和均匀性沉积在卷状的基底上，如聚合物薄膜、金属箔等。该系统通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、镀膜控制系统等部分组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在移动的基底上，从而形成连续的薄膜。 2. 设备应用： 电子领域：可用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、电路等。例如在可折叠手机的屏幕制造中，通过该系统溅射导电薄膜，实现屏幕的导电和信号传输功能。 太阳能领域：用于制备柔性太阳能电池的薄膜电极或光吸收层等。有助于提高太阳能电池的光电转换效率和柔韧性，使其更适用于不同的应用场景，如便携式太阳能充电设备、太阳能屋顶等。 光学领域：可以生产光学薄膜，如增透膜、反射膜等，应用于柔性光学元件、可穿戴光学设备等。比如在智能眼镜的镜片上镀制特定的光学薄膜，改善其光学性能。 包装领域：为一些特殊的包装材料提供功能性的薄膜涂层，如阻隔膜、防静电膜等，提升包装材料的性能和附加值。例如在食品包装中，使用该系统镀制阻隔膜，提高包装对氧气、水分等的阻隔性能，延长食品的保质期。3. 设备特点： 高精度镀膜：具备精确的镀膜控制技术，能够实现薄膜厚度的高精度控制，保证薄膜性能的一致性和稳定性。例如，可将薄膜厚度的误差控制在极小范围内，满足对薄膜厚度精度要求极高的应用场景。 高生产效率：卷对卷的连续生产方式，大大提高了生产效率，能够实现大规模的快速镀膜生产。与传统的间歇式镀膜方式相比，在相同时间内可以处理更多的基底材料，降低生产成本。 良好的膜层均匀性：通过优化的溅射源设计和先进的镀膜工艺，确保在整个基底宽度和长度方向上都能获得均匀的薄膜沉积。这对于需要大面积均匀薄膜的应用非常重要，如大面积的柔性显示屏或太阳能电池板。 适用于多种材料：可以溅射多种不同的材料，包括常见的金属（如铜、铝、银等）、合金以及一些化合物材料，满足不同应用对薄膜材料的需求。能够根据客户的具体要求，选择合适的靶材进行镀膜，提供多样化的薄膜性能。 灵活的工艺参数调节：允许用户根据不同的产品需求，灵活地调整镀膜工艺参数，如溅射功率、沉积速率、基底移动速度等。这使得设备能够适应不同类型的基底材料和薄膜应用，为研发和生产提供了更大的灵活性。 可靠的真空系统：拥有高性能的真空系统，确保在镀膜过程中维持稳定的高真空环境，减少杂质和气体对薄膜质量的影响。可靠的真空系统有助于提高薄膜的纯度和质量，降低薄膜中的缺陷密度。 4. 产品参数（以部分为例）：以下参数仅供参考，实际参数可能因定制化需求和设备型号而有所不同。 基底宽度：常见的基底宽度可能在 100 毫米到 1000 毫米之间，具体取决于设备型号和应用需求。 最大卷径：例如，最大卷径可能达到 500 毫米或更大，以适应不同规模的卷状基底材料。 溅射源数量和类型：可能配备多个溅射源，如直流溅射源、射频溅射源等，数量可能为 2 - 8 个不等，具体根据镀膜工艺和产能要求确定。 镀膜速度：镀膜速度根据不同的材料和工艺要求有所变化，一般在每分钟几米到几十米的范围内。 真空度：能够达到较高的真空度，如 10^-3 帕或更高，以保证溅射过程的顺利进行和薄膜质量。 设备尺寸：设备的外形尺寸根据其设计和产能有所不同，例如长度可能在 3 - 10 米，宽度在 1.5 - 3 米，高度在 2 - 3 米。 电源要求：通常需要三相交流电，电压如 380V，频率 50Hz，整机额定功率根据设备配置而定，可能在 20 - 100kW 之间。

1. 产品概述：卷对卷薄膜溅射系统是一种在连续卷材上进行薄膜溅射沉积的设备。它通常由放卷装置、收卷装置、真空腔室、溅射源、气体供应系统、加热系统（可选）、冷却系统、控制系统等组成。在真空环境下，通过溅射源产生的高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在连续移动的卷材表面，形成均匀的薄膜。 2. 设备原理及应用： 电子行业：用于制造柔性电子器件，如柔性显示屏的电极、薄膜晶体管（TFT）、触摸屏的导电层等；还可用于生产柔性电路板（FPC）的金属线路。 太阳能领域：制备太阳能电池的电极、透明导电薄膜等，有助于提高太阳能电池的光电转换效率。 光学领域：制造光学薄膜，如增透膜、反射膜、滤光膜等，可应用于光学镜片、摄像头镜头、显示器件等。 包装行业：在包装材料上沉积阻隔薄膜，提高材料的阻隔性能，如防潮、防氧、防紫外线等，延长产品的保质期。 本设备主要应用于micro phone的生产制造中，通过在其表面沉积一层高质量的金涂层，提升产品的性能和市场竞争力。综上所述，本装置是一款集高精度、高效率和高可靠性于一体的真空溅射设备，为micro phone的4微米金涂层生产而设计3. 设备特点：真空环境工作环境：设备在高度真空的状态下运行，确保涂层过程中不受外界气体分子和杂质的干扰，从而得到纯净且致密的金膜。真空度要求：通常，溅射过程需要较高的真空度来保证溅射原子的自由飞行路径和减少碰撞，从而提高涂层的均匀性和质量。Sputtering技术溅射原理：利用高能粒子（如氩离子）轰击金靶材，使靶材表面的金原子获得足够的能量而逸出，沉积在处于真空室内的micro phone表面，形成所需的金涂层。涂层厚度控制：通过精确控制溅射时间、靶材与产品的距离、溅射功率等参数，可以确保涂层厚度达到精确的4微米。涂层特性金涂层优点：金具有良好的导电性、耐腐蚀性和稳定性，作为micro phone的涂层材料，可以提高其性能和使用寿命。均匀性：由于产品在真空室内进行自转和公转运动，结合精确的溅射控制技术，可以确保金涂层在整个micro phone表面均匀分布。设备功能自动化控制：设备通常配备先进的自动化控制系统，可以精确控制各个工艺参数，实现涂层的自动化生产。高效生产：优化设计的溅射腔体和高效的溅射源，使得设备具有较高的生产效率，能够满足大规模生产的需求。维护方便：设备结构设计合理，易于维护和保养，降低了维护成本和时间。

真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-8L-S控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,3kw中频电源功率（MF Power）600W/13.56MHz容量（Volume）80L（Option）层数（Electrode of plies）8（Option）有效处理面积（Area）400（L）*300（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2 产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。