近红外飞秒激光纳米生物微加工处理系统

碳纳米管，是一种具有特殊结构（径向尺寸为纳米量级，轴向尺寸为微米量级、管子两端基本上都封口）的一维量子材料。它主要由呈六边形排列的碳原子构成数层到数十层的同轴圆管。层与层之间保持固定的距离，约为0.34nm，直径一般为2～20nm。由于其独特的结构，碳纳米管的研究具有重大的理论意义和潜在的应用价值，如：其独特的结构是理想的一维模型材料 巨大的长径比使其有望用作坚韧的碳纤维，其强度为钢的100倍，重量则只有钢的1/6 同时它还有望用作为分子导线，纳米半导体材料，催化剂载体，分子吸收剂和近场发射材料等。 Specim可提供碳纳米管近红外光谱及影像分析工具，采用近红外光谱相机，搭载与近红外显微平台，并配合压电陶瓷纳米位移台，实现碳纳米管的影像及光谱扫描，不仅可以用于电致发光的光谱分析，也可用与光致发光光谱测量，为研究者提供大量的光谱及影像数据以供研究分析使用。光谱测量范围：970nm- 2500nm（900nm-1700nm）。

飞秒微加工系统方案激光的发明加快了人类文明的进步。激光以其高相干性，高能量等特点，使其已经广泛应用于人类生活的各个领域，例如激光焊接，激光测距，激光雷达等等。其中激光加工也是一个重要领域。传统的激光加工一般使用纳秒量级脉冲激光或是像CO2激光（10.6um）这样的强激光，随着飞秒激光的逐渐普及，使用成本逐渐降低，使用飞秒激光作为加工光源也越来越受到关注。飞秒激光加工的特点主要有：1，飞秒激光脉冲与材料相互作用时间在一个非常短的时间（飞秒量级），因此可以实现材料的冷加工， 2，飞秒激光可以聚焦到透明材料的内部，实现真正的三维微加工，3，超快激光可以使材料发生多光子吸收，可以突破光学衍射极限进行加工，飞秒微加工的研究领域：可用于飞秒3D打印，双光子聚合等加工技术。可用于切割，打孔，烧蚀，表面微结构等加工技术。由于飞秒激光持续时间很短，可以在易碎易燃材料上获得高质量的烧蚀形貌用于材料的内部改性处理。例如用飞秒激光在玻璃内部进行光波导直写，光存储以及新相材料的制作 飞秒激光直写加工系统一般根据制作方式可分为基于扫描振镜方式和基于样品位移台两种。扫描振镜的方式其优点在于加工精度很高，但是加工的范围有限基于样品位移台的则可以分为：1，使用高质量三维压电位移台，可以获得亚纳米级别的精度，范围可以到几百微米。2，使用高质量的电机驱动的直线气浮平台。其优点在于移动范围可以达到几厘米。卓立汉光基于多年的显微拉曼荧光系统，结合高功率飞秒激光，推出飞秒激光直写加工系统！ 图1：飞秒加工直写系统简图图2：显微系统简图飞秒激光推荐方案：激光器中心波长：1030nm,输出功率： =20W@ 50-200KHZ, 400uJ@1-50KHz, 脉宽：290fs 一体化免维护设计；三维位移台推荐方案： 室温 压电运动⽅ 案 —“Carrier. 系列“ ⼤ ⾏ 程扫描载物台 — 精密光学，半导体表征⼤ 范围压电扫描台Carrier.S200.XY产品特⾊ &bull 两维度XY 扫描运动 200 um × 200 um；&bull 闭环定位精度优于 1nm；&bull 最⼤ 负载 500 g；&bull 针对光学显微镜-超分辨定制化解决⽅ 案；&bull ⽀ 持⽆ 磁( .NM)和⾼ 真空( .UHV)选件升级Carrier.S200.XY ⼤ 范围压电扫描台 — 技术参数 可选版本 ⇨ 正常版本.NM 绝对⽆ 磁版本；.HV， ⾼ 真空版本 .UHV ，超⾼ 真空版本；1 底⾯ 尺⼨ *⾼ 度180 mm × 150 mm × 20 mm2 主体材料铝合⾦ 3 中空透孔80 mm × 60 mm4 运动⾏ 程200 um × 200 um5 闭环分辨率优于1nm6 推荐最⼤ 负载500 g7 闭环传感器电容式8 电容精度0.3 nm9 压电电容(X, Y)6.5 uF15 到 40 摄⽒ 度10 推荐使⽤ 温度11 质量1 kg12 安装螺纹孔⾃ 动兼容 Carrier.L7550.XY

2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s，在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能（s-SNOM）。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm，广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合，没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射，空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整，无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征，得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作，被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学，力学，电学和磁学测量：l 纳米热分析模块（nanoTA, SThM）l 洛仑兹接触共振模块（LCR）l 导电原子力显微镜镜（CAFM）l 开尔文电势显微镜（KPFM）l 磁力显微镜（MFM）l 静电力显微镜（EFM）10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像；优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图（上图）,和相应的近场光谱（下左图）。pNTP分子层的近场光谱（图下右）。

首创、独有的纳米红外功能和性能Bruker公司推出的Dimension IconIR是一款集合了纳米级红外光谱（nanoIR）技术和扫描探针显微镜（SPM）技术的系统。它整合了数十年的技术创新和研究成果，可以在单一平台上提供无与伦比的纳米级红外光谱、物理和化学性能表征。该系统具有超高的单分子层灵敏度和化学成像分辨率，在保留DimensionIcon最佳的AFM测量能力的同时，还提供了极大的样品尺寸灵活性。Dimension IconIR利用Bruker独有的PeakForce Tapping纳米级物性表征技术和专利的纳米红外光谱技术，使得它能够在纳米尺度下对样品进行纳米化学、纳米电学和纳米力学的关联性表征。只有Dimension IconIR具备：与FTIR完全吻合的红外光谱，优于10 nm的空间分辨率和单分子层灵敏度的高性能纳米红外光谱化学成像可与Peakforce Tapping纳米力学和纳米电学属性表征相关联高性能的AFM成像功能和极大的样品尺寸灵活性广泛适用的应用配件和AFM功能模式专利技术保证真实的红外吸收光谱AFM-IR通过采集样品的热膨胀信号（PTIR）还原样品的红外吸收光谱。由于检测区域的热膨胀只与样品在该波长下的吸收强度有关，而常规的傅里叶红外光谱（FTIR）检测的也是样品在该波长下的吸收强度，因此AFM-IR获得的红外吸收光谱与传统的红外吸收光谱高度吻合。红外吸收成像除采集指定区域的红外吸收光谱外，Dimension IconIR同时提供了固定红外脉冲波长，检测样品表面某一区域在该波长下吸收强度的功能。在该工作模式下，Dimension IconIR会将红外脉冲激光固定在研究者所选的波长，用AFM探针扫描需要检测的表面，记录探针针尖在每个位置检测到的红外吸收强度，并同时给出AFM形貌和该波长下的红外吸收成像。专利保护的接触共振技术专利保护的共振增强技术将测量灵敏度提高到单分子层级别，达到最高的光谱检测灵敏度。因为基于原子力系统的红外技术是以探针来检测样品表面在红外激光作用下的机械振动，随着厚度的减小，这种位移量变得极其微小，超出了原子力显微镜的噪音极限。我们利用专利保护的可调频激光优化脉冲信号频率，使之与探针和样品的接触共振频率吻合，那么这种单谐振子共振模式就能把微弱信号放大两个数量级。。智能光路优化调整，保证实验效率红外激光和AFM联用系统的最大挑战在于光路的优化，为了得到最佳的信号，在实验过程中光斑中心应该始终跟随探针针尖位置并保持良好的聚焦。但是在调频过程中，激光光束的发射角度会随着波长的变化而改变，进而改变光斑位置，聚焦状态也会变化。布鲁克采用全自动软件控制automatic beam steering和自动聚焦系统来修正光斑位置的偏移和聚焦，大大改善了传统联用系统需要手动调节的不便和低效率。同时全自动动态激光能量调整保证信号的稳定性，避免红外信号受激光不均匀功率的影响。

? Femtocut是一套采用红外波段飞秒激光器作光源，可以对生物医学样品，多种有机和无机材料进行光学细微加工和处理的设备。具有超精密切割，钻孔结合高分辨率非介入式3D成像等功能。它可以： l 用于光学基因转移的靶定向转染。l 细胞内染色体分离l 组织切片中单细胞分离l 光学方法击出细胞元素l 纳米加工和光学波导写入l 光学数据存储 设备外观图片 透明材料和生物细胞的3D纳米加工系统产品概述： Femtocut系统采用紧凑的近红外皮秒激光器对透明材料进行3维纳米加工。低能量（亚纳焦至纳焦）高至90兆赫兹重复频率的激光脉冲通过高数值孔径（NA1.3）光学组件聚焦并在亚飞升（10-15升）体积内产生光学击穿。光束能量密度可用一台电机驱动的衰减器控制。焦点区域光功率密度可达几个TW/cm2的水平，于是可以通过多光子电离过程进行超精细的剥蚀加工。加工最小尺寸小于70纳米（半高全宽度）。设备的基本结构是一台配置了高速检流计振镜扫描组件的常用显微镜。能够以亚微米精度进行全幅扫描，局部区域（ROI）扫描，线扫描以及单点剥蚀（点扫描，钻孔）等模式的加工操作。配置了一台电机驱动平台用于大区域加工操作。聚焦光学元件安装于压电陶瓷驱动平台上，可实现精度为40nm的垂直定位。Femtocut还是一套非介入式层析诊断工具。可以对样品进行高分辨率成像来选择微加工处理的目标区域，也可同时监视剥蚀处理的效果。 飞秒激光脉冲分离染色体 人染色体的纳米加工处理 染色体内部孔洞的加工 CHO细胞的靶定位转染。GFP质粒通过一个瞬 态生成的亚微米小孔导入到细胞膜中应用领域:超短脉冲激光已经成为半导体，金属材料，介电材料，高分子材料和生物组织的纳米结构成型的强大工具，显示了不可替代的卓越的性能。在大多是材料中，紫外激光具有较强的线性吸收，所以其仅适用于进行表面团成型。作为鲜明对比，Femtocut 则能够提供真正的三维加工处理。其能够处理的深度可达100μm. 加工线宽达到亚微米量级。通过采用焦点区域的多光子电离过程，切割尺寸可以突破衍射极限的限制。这一系统可以在对近红外透明的材料上进行直接的纳米微尺度结构写入。这一能力大大开拓了在工业，医疗和科学研究领域的应用范围。 飞秒激光纳米尺度微成型技术已经用于波导刻写，光掩膜加工和某些特殊材料的表面改性领域。更进一步，还可在多种材料上进行细微钻孔。激光诱导细胞膜瞬态改变眼组织纳米尺度结构成型：角膜薄片制备超快激光和生物材料的相互作用的一个重要特点是其作用区域强烈地被限制在焦点区域，这样就大大地减小了对邻近组织的损害。于是，可以利用这一特性将突变组织和正常生命细胞分离开来。Femtocut的高空间分辨率处理能力还可以在不发生任何显见的损害效应情况下将单细胞器从细胞中撞击出去。 Femtocut这种极强的局域工作特性使其具有成为实现DNA操控的强大工具的潜能。它可以用来对染色体某些特定的基因片段进行光学去活性处理。不仅如此，飞秒激光脉冲还显示了应用于人类染色体片段分离以及高度局域的基因和分子转移的前景。 不同材料上进行结构成型：A：金 B: 硅 C：玻璃 细胞间连接的激光加工处理处理前细胞间连接的激光加工处理(处理后）技术数据：紧凑型飞秒激光器（典型数据）激光脉冲宽度： 100fs重复频率：80 MHz激光平均输出功率：1.5W波长：710-990 nm全幅扫描，局部感兴趣区域（ROI）扫描, 线扫描，单点照明（点扫描，钻孔）典型光束扫描区间：350x350μm (水平)200μm（垂直）平台位移行程：120x102mm空间分辨率：1μm (水平)2μm (垂直)聚焦光学元件：放大率40倍数值孔径（NA）1.3CCD相机数字成像视频监视接口运行环境温度：15-35摄氏度相对湿度：5-80%电源功率需求：交流230V（50赫兹）系统尺寸基座490x280x480mm316kg扫描头：280x190x90mm36kg控制组件：450x300x130mm38kg激光器（典型值）：600x370x180mm342kg(激光头)450x440x270mm321kg（电源）270x200x380mm320kg（水冷器）对于激光器运行建议配置空调系统所有参数可能会有所变动恕不提前通知

Workshop of Photonics公司从2003年开始就专注于飞秒激光微纳加工工艺研发, 凭借着创新技术及先进可靠工艺. 主流型号为FemtoLAB实验级飞秒激光微纳米加工系统, FemtoFAB产业级飞秒激光微纳米加工系统, MPP-Cube秒双光子/多光子三维聚合微纳米加工系统.飞秒激光器由于激光脉冲很短, 拥有很好的激光功率密度, 其加工效果超过纳秒和皮秒激光. 光束所到之处能够瞬间将材料消融气化, 由于激光脉冲短, 激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中, 所以对加工区域周围影响微乎其微, 是一种冷态加工技术.WOP系统采用高品质的飞秒激光器, 同步高精密光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制, 从而提供高难度的加工能力, 亚微米精度的分辨率和重复性, 以及很高的微加工速度 .

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

FemtOgene是一套采用小于20飞秒超短脉冲激光进行靶定向基因转染的显微操作处理系统。它可以进行： 激光诱导细胞膜瞬态改变(1) 激光诱导细胞膜瞬态改变(2)l 基因治疗l 干细胞操作l 光学纳米巨细胞注射l 细胞器光学击出l 细胞内染色体分离l 高分辨率成像产品概述：FemtOgene 是一套超紧凑型扫描非线性显微镜。采用检流计式振镜进行光束扫描并配备大数值孔径物镜(40x/1.3)构成的聚焦光学元件。在亚飞升（1x10-15升）焦点体积内产生的多光子效应在细胞膜中诱导产生瞬态纳米孔洞。通过这个孔洞可以将DNA，RNA和蛋白质等巨细胞通过光学纳米注射方法注入到细胞膜中。 飞秒激光脉冲分离染色体 激光诱导细胞膜瞬态改变(3)无损轻柔地形成纳米孔洞不会对细胞产生附加的破坏，有效避免细胞死亡并能促进快速自修复过程。从而靶定向转染操作能够高效地进行。FemtOgene 基于一套亚20飞秒脉宽近红外激光显微镜构成并带有高阶色散补偿装置。创新独特的色散补偿技术解决了基于棱镜技术的飞秒激光器所观察到的光束起伏现象。纳米操作过程通过两种曝光模式进行：(a) 扫描某个感兴趣的区域(ROI) 以及(b) 单点照明。剥蚀，钻孔和切割的精度可以达到亚微米量级。 靶定向转染和光学纳米注射的激光曝光时间在毫秒量级，平均功率10 mW，重复频率85MHz。 人类染色体的纳米加工 靶定向转染。亚20飞秒激光光穿孔应用领域：纳焦亚20 fs 85兆赫兹重复频率激光脉冲可以用于进行靶定向转染，光学巨细胞纳米注射以及光学细胞内细胞器撞出。 人们的最主要的兴趣在于干细胞转染。干细胞将对当前的医学治疗例如基因治疗和组织工程产生根本性的影响。经过基因修整的干细胞可以用来产生免疫系统的调节蛋白。FemtOgene已经用于有效地进行人类唾腺，胰腺干细胞靶定向转染。技术数据：配备色散补偿装置的紧凑型即开即用封离式短脉冲飞秒激光器激光脉冲宽度： 150fs重复频率：85MHz激光平均输出功率：200mW/400mW波长：800±10nm全幅扫描，局部感兴趣区域（ROI）扫描, 线扫描，单点照明（点扫描，钻孔）典型光束扫描区间：350x350μm (水平)200μm（垂直）平台位移行程：120x102mm聚焦光学元件：放大率40倍数值孔径（NA）1.3CCD相机数字成像视频监视接口运行环境温度：15-35摄氏度相对湿度：5-80%电源功率需求：交流230V（50赫兹）系统尺寸基座490x280x480mm3扫描头：280x190x90mm3控制组件：450x300x130mm3飞秒激光器：507x280x81mm3(激光头)483x280x88mm3（用户控制器）175x104x102mm3（色散控制模块）人类干细胞靶定向转染。亚20飞秒激光光穿孔并扩散注入GFP质粒到细胞质中1-2天后出现绿色荧光所有参数可能会有所变动恕不提前通知

飞秒激光微纳加工综合系统-Laser NanofactoryFemtika公司设计并生产的飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory是一款集增材与减材制造于一体的综合微纳加工系统。与传统的微纳3D打印设备相比，Laser Nanofactory不仅可用于光子学聚合物微纳结构的加工，还可以用于石英，陶瓷，玻璃和金属等材料从毫米到微米尺度的精确加工。设备加工速度可高达50mm/s，加工精度优于100nm，还可实现不同加工工艺间的无缝切换。得益于Femtika先进的飞秒激光技术，Laser Nanofactory在进行微纳加工时所产生的热效应小，加工出的结构边缘锐利，因此特别适合微纳结构的加工。应用领域微纳光学、微流控、微纳机电器件（M/NEMS）、纳米技术、 生物医药、通讯技术、传感器件、材料表面改性......飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory技术参数飞秒激光波长1028 nm ± 5 nm和514 nm ± 5 nm脉冲持续时间290 fs - 10 ps脉冲能量65 μJ最大平均功率4 W重复率60 - 1000 kHz冷却方式气冷定位平台XY方向移动范围160 mm x 160 mmZ方向移动范围60mmXYZ正交性3 arc sec分辨率1 nm (XY), 2 nm (Z)最高速度350 mm/s (YX), 200 mm/s (Z)飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory应用实例多光子聚合物3D结构选择性刻蚀结果展示在样品上进行激光烧蚀对器件中的不同材料采用不同加工技术（无缝切换）用户单位发表文章[1] A. Butkut&edot , G. Merkininkait&edot , T. Jurk&scaron as, J. Stan&ccaron ikas, T. Baravykas, R. Vargalis, T. Ti&ccaron kūnas, J. Bachmann, S. &Scaron akirzanovas, V. Sirutkaitis, and L. Jonu&scaron auskas, “Femtosecond Laser Assisted 3D Etching Using Inorganic-Organic Etchant”, Materials 2022,15, 2817, (2022).[2] G. Kontenis, D. Gailevi&ccaron ius, N. Jimenez, and K. Staliunas, “Optical Drills by Dynamic High‑ Order Bessel Beam Mixing”, Phys. Rev. Applied 17, 034059, (2022).[3] D. &Ccaron ere&scaron ka, A. &Zcaron emaitis, G. Kontenis, G. Nemickas, and L. Jonu&scaron auskas, “On‑ Demand Wettability via Combining fs Laser Surface Structuring and Thermal Post-Treatment”, Materials 2022,15, 2141, (2022).[4] A. Butkut&edot , and L. Jonu&scaron auskas, “3D Manufacturing of Glass Microstructures Using Femtosecond Laser”,Micromachines 2021,12, 499, (2021).[5] D. Andrijec, D. Andriukaitis, R. Vargalis, T. Baravykas, T. Drevinskas, O. Korny&scaron ova, A. Butkut&edot , V. Ka&scaron konien&edot , M. Stankevi&ccaron ius, H. Gricius, A. Jagelavi&ccaron ius, A. Maru&scaron ka, and L. Jonu&scaron auskas, “Hybrid additive subtractive femtosecond 3D manufacturing of nanofilter based microfluidic separator”, Applied Physics A (2021).[6] D. Gonzalez-Hernandez, S. Varapnickas, G. Merkininkait&edot , A. &Ccaron iburys, D. Gailevi&ccaron ius, S. &Scaron akirzanovas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas,”Laser 3D Printing of Inorganic Free‑ Form Micro-Optics”, Photonics 2021,8, 577, (2021).[7] D. Andriukaitis, A. Butkut&edot , T. Baravykas, R. Vargalis, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, V. Sirutkaitis, and L. Jonu&scaron auskas, “Femtosecond Fabrication of 3D Free-Form Functional Glass Microdevices: Burst-Mode Ablation and Selective Etching Solutions”, 2021 Conference on Lasers and Electro-Optics Europe & European Quantum Electronics Conference, (2021).[8] A. Butkut&edot , T. Baravykas, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, R. Vargalis, D. Paipulas, V. Sirutkaitis, and L. Janu&scaron auskas, “Optimization of selective laser etching (SLE) for glass micromechanical structure fabrication”, Optical Express 23487, Vol. 29, No. 15, 19.07.2021, (2021).[9] A. Maru&scaron ka, T. Drevinskas, M. Stankevi&ccaron ius, K. Bimbirait&edot -Survilien&edot , V. Ka&scaron konien&edot , L. Jonu&scaron auskas, R. Gadonas, S. Nilsson, and O. Korny&scaron ova, “Single-chip based contactless conductivity detection system for multi-channel separations”, Anal. Methods, 2021,13,141–146, (2021).[10] L. Bakhchova, L. Jonu&scaron auskas, D. Andrijec, M. Kurachkina, T. Baravykas, A. Eremin, and U. Steinmann,“Femtosecond Laser-Based Integration of Nano-Membranes into Organ-on-a-Chip Systems”, Materials 2020, 13, 3076 (2020).[11] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “Dynamic voxel size tuning for direct laser writing,” Opt. Mater. Express 10, 1432-1439 (2020).[12] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “4Pi multiphoton polymerization”, Appl. Phys. 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Kurt, and K. Staliunas,“Angular filtering by Bragg photonic microstructures fabricated by physical vapour deposition”, Appl. Surf. Sci., 481, 353-359 (2019).[18] D. Gailevi&ccaron ius, V. Padolskyt&edot , L. Mikoliūnait&edot , S. &Scaron akirzanovas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas, “Additive manufacturing of 3D glass-ceramics down to nanoscale resolution”, Nanoscale Horiz., 4, 647-651 (2019).[19] E. Yulanto, S. Chatterjee, V. Purlys, and V. Mizeikis, “Imaging of latent three-dimensional exposure patterns created by direct laser writing in photoresists”, Appl. Surf. Sci., 479, 822-827 (2019).[20] L. Jonu&scaron auskas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas, “Optical 3D printing: bridging the gaps in the mesoscale”, J. Opt., 20(05301) (2018).[21] E. Skliutas, S. Kasetaite, L. Jonu&scaron auskas, J. Ostrauskaite, and M. Malinauskas “Photosensitive naturally derived resins toward optical 3-D printing,” Opt. Eng. 57(4), 041412 (2018).[22] L. Jonu&scaron auskas, S. Rek&scaron tyte, R. Buividas, S. Butkus, R. Gadonas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas,“Hybrid subtractive-additive-welding microfabrication for lab-on-chip applications via single amplified femtosecond laser source,” Opt. Eng. 56(9), 094108 (2017).

立陶宛WOP生产的飞秒激光加工设备FemtoLAB可以执行各种增材和减材应用，是进口飞秒激光微纳加工系统中保有量较高的品牌；例如飞秒激光烧蚀（FSLA），激光切槽，多光子聚合（MPP）、激光直写（DLW），激光切割和钻孔等，实现纳米级分辨率。配置：飞秒激光源样品定位系统光束传输和扫描单元激光功率和偏振控制系统控制软件（可根据要求提供自动对焦和机器视觉）样品架和特殊机械装置（可根据要求实现样品处理自动化）光学工作台存储模块（全部或部分）除尘装置激光系统通过几经迭代和更新的SCA微加工软件实现自动化。ReferencesKsenia Maximova, Xuewen Wang, Armandas Bal&ccaron ytis, Linpeng Fan, Jingliang Li, and Saulius Juodkazis at al. “Silk patterns made by direct femtosecond laser writing”, Biomicrofluidics 10 (5), 054101 (2016). doi: Xuewen Wang, Aleksandr Kuchmizhak, Etienne Brasselet, Saulius Juodkazis, et al. “Dielectric geometric phase optical elements from femtosecond direct laser writing”W. Wang, A. A. Kuchmizhak, X. Li, S. Juodkazis, O. B. Vitrik, Yu.N. Kulchin, V. V. Zhakhovsky, P. A. Danilov, A. A. Ionin, S. I. Kudryashov, A.A. Rudenko, N. A. Inogamov at al. “Laser-induced Translative Hydrodynamic Mass Snapshots: mapping at nanoscale”, arXiv:

FemtoLAB 是一体化飞秒激光微加工研发平台母机。对于需要针对各种任务定制解决方案的科学实验室和研发中心来说，这是一个完美的选择。FemtoLAB 激光工作站提供亚微米分辨率的复合超快激光微加工工艺，并且可以执行各种应用。关键应用：表面和内部体修改和纳米结构制造飞秒激光烧蚀 (FSLA)激光开槽划线多光子聚合（MPP） | 直接激光写入 (DLW)激光切割和钻孔独特的是，该系统不仅兼容平面样品，还支持光纤加工Item特征推荐材料所有材料：玻璃、蓝宝石、硅、陶瓷、金属、塑料、光纤等。激光源高功率超短脉冲红外、绿光、紫外激光器可选光路选择自动化切换光路样品尺寸兼容最大 160 mm x 160 mm 位移台设计最小特征尺寸200nm定位系统XYZ 三轴定位系统，定位精度 ± 300nm，具有连续晶圆级图案化功能扫描系统适用于所有激光波长的振镜系统视觉具有特征识别功能的实时可视化和定位摄像头计量学集成显微镜样品处理手动与自动对齐持有者用于扁平结构的样品架（基于真空抽吸），带有用于光纤的附加支架排烟除尘系统包括配件功率控制、偏振态控制软件通过单一 GUI 控制整个系统。支持的文件格式– 2D/3D模型导入：STL、DXF、DWG、AMF、PLT、FAB– 位图支持：BMP、GIF、JPG、JPEG、PNG– 作为表格数组的文本文件：TXT、RTF、TEX软件具有被动隔振功能的花岗岩底座，建立在光学平台上（可选独立设计）建造水冷激光器、风冷系统、电气柜尺寸，毫米（长 x 宽 x 高）1500×1350×1400重量1100公斤电源2 个 220 伏交流电，16 安ReferencesMazule S. Liukaityte V. Sabonis T. Gertus M. Mikutis, et al. “Characterization of the optical components fabricated by femtosecond pulses in transparent materials”, Proc. SPIE 8839, Dimensional Optical Metrology and Inspection for Practical Applications II, 883909 (September 6, 2013) doi:1117/12.2022823Adomavi&ccaron iūt&edot T. Tamulevi&ccaron ius L. &Scaron imatonis E. Fatarait&edot -Urbonien&edot E. Stankevi&ccaron ius S. Tamulevi&ccaron ius, “Microstructuring of electrospun mats employing femtosecond laser”, ISSN 1392–1320 Materials Science (Med&zcaron iagotyra), Vol. 21, No. 1. 2015 doi:http://dx.doi.org/10.5755/j01.ms.21.1.10249Malinauskas S. Rek&scaron tyt&edot L. Luko&scaron evi&ccaron ius S. Butkus E. Bal&ccaron iūnas M. Pe&ccaron iukaityt&edot D. Baltriukien&edot V. Bukelskien&edot A. Butkevi&ccaron ius P. Kucevi&ccaron ius V. Rutkūnas S. Juodkazis, “3D Microporous Scaffolds Manufactured via Combination of Fused Filament Fabrication and Direct Laser Writing Ablation” Micromachines 2014, 5, 839-858 doi:3390/mi5040839Gertus A. Michailovas K. Michailovas and V. Petrauskien&edot “Laser beam shape converter using spatially variable waveplate made by nanogratings inscription in fused silica”, Proc. SPIE 9343, Laser Resonators, Microresonators, and Beam Control XVII, 93431S (March 3, 2015) doi:1117/12.2075869Ma&ccaron iulaitis M. Deveikyt&edot S. Rek&scaron tyt&edot M. Bratchikov A. Darinskas A. &Scaron imbelyt&edot G. Daunoras A. Laurinavi&ccaron ien&edot A. Laurinavi&ccaron ius, R. Gudas M. Malinauskas R. Ma&ccaron iulaitis, “Preclinical study of SZ2080 material 3D microstructured scaffolds for cartilage tissue engineering made by femtosecond direct laser writing lithography”, Biofabrication, 2015 Mar 23 7(1):015015 doi:1088/1758-5090/7/1/015015Nava R. Osellame R. Ramponi and K. Chaitanya Vishnubhatla “Scaling of black silicon processing time by high repetition rate femtosecond lasers,” Opt. Mater. Express 3, 612-623 (2013). doi:1364/OME.3.000612

Sapphire 激光扫描成像系统是新一代基于激光光源的扫描成像系统，通过其无与伦比的灵敏度、超高的分辨率、宽广的动态范围为客户提供高质量数据。仪器可搭载四个固态激光器作为激发光源，国际首创融合PMT、APD和CCD三种检测器于一体，不仅能够进行高灵敏度宽动态范围的RGB荧光成像、近红外NIR荧光成像、磷屏成像（放射性同位素自显影成像），还可进行传统的化学发光成像、凝胶成像和可见光成像等。本产品型号为Sapphire NIR，搭载有685nm和784nm两个固态激光器作为近红外波段激发光源，仪器可选配PI模块用于磷屏成像（放射性同位素自显影成像），也可选配CCD模块，用于传统化学发光成像。同时，仪器还可选配Q模块，加配520nm通道激光器，升级为Sapphire NIR-Q，用于总蛋白染色成像和绿色荧光通道成像。 产品特点● 强大的多重荧光检测，可同时扫描，也可逐通道扫描● 宽广的动态范围，动态范围≥6OD● 高分辨率，分辨率可达10微米● 化学发光成像，fg级检测灵敏度● 直观友好的软件操作界面，易于使用● 强大的分析软件，轻松高效地分析多种实验数据 应用Sapphire NIR激光扫描成像系统广泛适用于多种分子生物学实验的结果分析，如荧光Western、In-Cell Western、In-Gel Western、近红外荧光EMSA、蛋白芯片、核酸芯片、二维电泳、DNA凝胶、考马斯亮蓝染色凝胶、荧光组织切片等等。通过选配CCD模块、PI模块和Q模块，仪器应用范围将拓展到化学发光成像、可见光成像、磷屏成像（放射性同位素自显影成像）以及总蛋白染色成像等。 Sapphire激光扫描成像系统信息由Azure Biosystems（中国）公司为您提供。如您想了解更多Sapphire激光扫描成像系统相关报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

FemtoMPP 是一款针对多光子聚合 (MPP) 技术进行优化的激光微加工工作站；它是一个位于光学平台上的完整激光实验室——配备高端工业级飞秒激光器、高精度线性定位平台、高性能振镜扫描仪和多功能微加工软件SCA。我们的长期专业知识可以优化 FemtoMPP 工作站，以节省实验时间并促进新用户的培训。对于拥有更多研究人员的实验室来说变得非常重要。FemtoMPP 的灵活性使我们能够在出现新需求时扩展和升级系统，FemtoMPP 是需要针对各种任务定制解决方案的科学实验室和研发中心的完美选择。主要特点制造具有亚微米分辨率的复杂物体。高速超高精度微加工。高效的光束传输和功率控制。高端工业级飞秒激光器。高性能振镜扫描仪。物体运动和激光脉冲在时间和空间上的同步。独特的软件界面控制所有硬件单元。原理配置激光源样品定位系统光束传输和扫描单元激光功率和偏振控制系统控制软件（根据要求提供自动对焦和机器视觉）样品架和特殊机械装置（根据要求实现样品处理自动化）光学平台外壳（全部或部分）除尘装置激光系统通过 SCA 微加工软件实现自动化。该软件是激光系统的重要组成部分，不单独出售。配置标准先进的风俗激光微加工技术添加剂添加剂客户的选择激光单波长或双波长近红外、绿光、紫外客户的选择最小 XY 特征尺寸300纳米150 nm（典型200 nm）可用 STED 选项最佳 XY 分辨率700纳米300纳米依赖于解决方案最佳垂直分辨率1.5微米0.5微米层距0.5-1微米0.05 – 3 微米最大物体高度1毫米10毫米构建体积10x10x0.5 毫米60x60x10 毫米最大工作范围60x60x5100x100x35客户的选择最小表面粗糙度，Ra50纳米30纳米依赖于解决方案扫描速度0.1-1 毫米/秒0.1-100 毫米/秒自动对焦 –包括客户的选择功率控制集成外部控制集成外部控制集成外部控制振动控制被动的防震隔离客户的选择

立陶宛Workshop of Photonics公司从2003年进入飞秒激光微加工领域，成为全球领先的飞秒激光微加工设备以及解决方案提供商。WOP主要业务包括：飞秒激光微加工可行性分析，定制飞秒激光系统和光学组件，激光微加工车间，激光微加工自动化软件，定制激光系统和设备控制电路。■ 飞秒激光加工系统 FemtoFABFemtoFAB是一款工业用飞秒激光微加工设备。配置选定后，根据客户特定激光加工应用调试，包括对任何材料激光切割，激光划片，激光钻孔，3D激光铣削（使用的激光峰值功率2.4GW）。系统使用Class 1激光安全防护罩，通过单个SCA工程软件窗口控制。FemtoFAB提供激光同步移动控制和/或集成扫描振镜系统控制，对不同工业微加工应用，提供最佳的速度和精度参数。产品在立陶宛设计和装配。产品特点：●高加工速度，最高350000px/s●加工不同物体亚微米分辨率●飞秒加工模式具有最小热影响区●直驱亚微米精度位移台●使用高性能扫描振镜精细激光束控制●点数控制（单点到350KHz）●激光脉冲和移动物体在空间和时间上同步●原版软件界面控制所有集成的硬件设备产品应用：●微光学●光伏产业●多光子聚合●生物医学技术传感器●其他精细微加工任务样品特性材料固体材料，液态聚合物尺寸（mm）150×150×150光束成型和控制脉冲选择集成、自动控制扫描振镜10m/s扫描速度，5×5聚焦高NA非球面镜或物镜，焦长1.45-18.4mmSLM（选配）1920×1080,15.36mm×8.64mm，16bit，反射式位置类型XYZ，线性电机，交叉定位，空气轴承（选配）加工速度350mm/s工作区域（mm）160×160分辨率（nm）1位置精度（nm）±300重复性（nm）±50稳定度（nm）3样品支架真空夹头激光参数激光介质Yb:KGW波长1028±5nm功率（W）4（6，8，10选配）振荡器输出功率（W）0.7-1.5脉冲能量（mJ）1重频（KHz）200（600,1000选配）脉宽200fs-10ps（可调）；80fs（振荡器）光束质量M21.2输出脉冲稳定性1%RMS谐波产生器谐波SH（515nm），TH（343nm）选配，FH（258nm）选配转换效率（@200KHz）50%（SH），30%（TH）选配，10%（FH）选配谐波产生器功率控制激光输出，电动衰减器位移台控制2.5D微加工，3D XYZ指令控制界面算法窗口，虚拟或GUI操纵杆图形或矢量格式.bmp，.plt

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

仪器简介：NanoSpectralyzer是一款用户定制的设计独特,操作简单的光谱仪器,可以给出在水性悬浮液中的单壁碳纳米管(SWNT)样品的详细成分分析.它包括一个紧凑的光学系统,加上专业的具有仪器控制,数据分析,结果表达的软件.大多数Nanotube的研究中,该系统在数秒钟就可以自动完成样品分析技术参数：Fluorescence excitation sources:（激发光源） three temperature-stabilized diode lasers Fluorescence emission spectral range:（荧光光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (base unit): （吸收光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (visible option): （可见区吸收光谱选项） 380 - 1580 nm SWNT detectable diameter range: （检测直径） ～0.7 - 1.4 nm Minimum sample volume: （最小样品量） 200 microliters Optical axis height in cell holder: （光轴高） 8.5 mm Data acquisition time:（采集数据时间） 5 seconds (typical) Maximum spectral acquisition rate：（最大光谱采集速率) 10 spectra per second (in sequence mode) Main Optical Module Dimensions:（主机尺寸） 318 W x 470 D x 165 H mm System weight: （重量） 18 kg excluding computer主要特点：在数秒内，自动一键式分析紧凑式设计高灵敏度少量样品分析动态监测最新的应用软件专业碳纳米管光谱分析仪三激光器

飞秒微加工系统方案激光的发明加快了人类文明的进步。激光以其高相干性，高能量等特点，使其已经广泛应用于人类生活的各个领域，例如激光焊接，激光测距，激光雷达等等。其中激光加工也是一个重要领域。传统的激光加工一般使用纳秒量级脉冲激光或是像CO2激光（10.6um）这样的强激光，随着飞秒激光的逐渐普及，使用成本逐渐降低，使用飞秒激光作为加工光源也越来越受到关注。飞秒激光加工的特点主要有：1，飞秒激光脉冲与材料相互作用时间在一个非常短的时间（飞秒量级），因此可以实现材料的冷加工， 2，飞秒激光可以聚焦到透明材料的内部，实现真正的三维微加工，3，超快激光可以使材料发生多光子吸收，可以突破光学衍射极限进行加工，飞秒微加工的研究领域：可用于飞秒3D打印，双光子聚合等加工技术。可用于切割，打孔，烧蚀，表面微结构等加工技术。由于飞秒激光持续时间很短，可以在易碎易燃材料上获得高质量的烧蚀形貌用于材料的内部改性处理。例如用飞秒激光在玻璃内部进行光波导直写，光存储以及新相材料的制作 飞秒激光直写加工系统一般根据制作方式可分为基于扫描振镜方式和基于样品位移台两种。扫描振镜的方式其优点在于加工精度很高，但是加工的范围有限基于样品位移台的则可以分为：1，使用高质量三维压电位移台，可以获得亚纳米级别的精度，范围可以到几百微米。2，使用高质量的电机驱动的直线气浮平台。其优点在于移动范围可以达到几厘米。卓立汉光基于多年的显微拉曼荧光系统，结合高功率飞秒激光，推出飞秒激光直写加工系统！ 图1：飞秒加工直写系统简图图2：显微系统简图飞秒激光推荐方案：激光器中心波长：1030nm,输出功率： =20W@ 50-200KHZ, 400uJ@1-50KHz, 脉宽：290fs 一体化免维护设计；三维位移台推荐方案： 室温 压电运动⽅ 案 —“Carrier. 系列“ ⼤ ⾏ 程扫描载物台 — 精密光学，半导体表征⼤ 范围压电扫描台Carrier.S200.XY产品特⾊ &bull 两维度XY 扫描运动 200 um × 200 um；&bull 闭环定位精度优于 1nm；&bull 最⼤ 负载 500 g；&bull 针对光学显微镜-超分辨定制化解决⽅ 案；&bull ⽀ 持⽆ 磁( .NM)和⾼ 真空( .UHV)选件升级Carrier.S200.XY ⼤ 范围压电扫描台 — 技术参数 可选版本 ⇨ 正常版本.NM 绝对⽆ 磁版本；.HV， ⾼ 真空版本 .UHV ，超⾼ 真空版本；1 底⾯ 尺⼨ *⾼ 度180 mm × 150 mm × 20 mm2 主体材料铝合⾦ 3 中空透孔80 mm × 60 mm4 运动⾏ 程200 um × 200 um5 闭环分辨率优于1nm6 推荐最⼤ 负载500 g7 闭环传感器电容式8 电容精度0.3 nm9 压电电容(X, Y)6.5 uF15 到 40 摄⽒ 度10 推荐使⽤ 温度11 质量1 kg12 安装螺纹孔⾃ 动兼容 Carrier.L7550.XY

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

GLFs-BMH系列飞秒激光加工系统，主要是针对利用贝塞尔光束技术加工的应用，如微孔加工。该系统配置空间光调制器进行光束整形，通过软件控制，产生的贝塞尔光束可实现高品质、大深径比的微孔加工。系统可应用于如航空航天燃气涡轮叶片上的气膜微孔、 高灵敏度传感器微孔结构、高灵敏器件的通孔制备、柔性电路板、发动机喷油嘴微孔等方面的加工的工艺探索研究。

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

宽带飞秒光纤激光器SCH——多色双光子显微专用昊量光电新推出宽带飞秒光纤激光器SCH，是一种用于多色双光子显微镜的新型光纤激光器。基于独有的技术，宽带飞秒光纤激光器SCH能够同时激发蕞大种类的荧光探针，并提供优异的图像亮度，一种性价比高，免维护的飞秒激光光源。宽带飞秒光纤激光器SCH提供了非常宽的光谱带宽，在近红外光谱中扩展到900-1200nm光谱。 这与大多数绿色和红移荧光标记的双光子激发光谱重叠，包括eGFP、mRFP和dred。 这大大超过了传统飞秒激光器(包括宽调谐激光器和单线飞秒光纤激光器)可以同时激发的荧光标记的范围。宽带飞秒光纤激光器SCH提供了一种高度灵活的解决方案，增强了可以在样品上同时成像的特性，这对体内和体外显微镜特别重要。利用宽带飞秒光纤激光器SCH激光激发的花粉自荧光成像显示花粉粒在不同光谱通道同时激发，图像质量良好。不仅光谱更宽，而且宽带飞秒光纤激光器SCH还提供更短的脉冲。 结合一个专用的色散预补偿器，实现到达显微镜样品平面的脉宽达15-20fs量级。 这实现了一个非凡的峰值功率和样品平面上无与伦比的光子通量，达到了传统100-200fs飞秒激光的光子通量的7倍以上。更大的光子通量与卓越的宽带飞秒光纤激光器SCH峰值功率相关，使得每个区域和时间内到达样品的光子数量增加。 与传统的固定波长或宽调谐激光器相比，这将双光子激发效率提高了49倍。当使用荧光标签DsRED，能实现超过50%的效率。 宽带飞秒光纤激光器SCH的红移近红外波长与更高的激发效率相结合，可以获得更好的图像亮度和更深的穿透性。 宽带飞秒光纤激光器SCH激发一个200微米深的斑马鱼样本图像如下。 宽带飞秒光纤激光器SCH的宽谱带不仅可以激发大范围的探针，而且允许900-1200 nm范围内单次扫描进行多色激发，使不同探针的同时激发成为可能。 这消除了与宽调谐激光器相关的显微镜对准问题。 小鼠肠道和铃兰的图像说明了当用宽带飞秒光纤激光器SCH激光的宽带宽照射这些样品时，可以实现的卓越的图像质量。宽带飞秒光纤激光器SCH在900-1200nm光谱范围内提供200nm的带宽，脉冲为15fs，重复频率为75MHz，增强了双光子激发，并能够单独或同时激发丰富的荧光探针。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先进激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

CRAIC30 PV TM: 30 PV TM,显微分光光度计结合了最新的科技，允许用户测量直径小于1微米样品区域的紫外-可见-近红外光范围内的透射比、吸光度、反射率、释放强度和荧光光谱，即使是薄膜和色彩空间都能被检测到。在获得Microspectra（显微光谱）的同时，可以观察到样品深紫色、可见光和近红外光处高分辨率的数字图像。易用的特点也附加到了20/30 PV 强大的系统中，包括了软件自动化仪器人体工程学的所有进步。20/30 PV&trade 显微分光光度计简单易用，测量方法为非破坏性并且得到的光谱数据无与伦比显微分光光度计，可以无缝从深紫光到近红外光区域获得显微样品的光谱和图像。它可以在吸光度、反射率和荧光性中获得Microspectra（显微光谱）和图像。主要特点l 光谱范围：200至2100纳米l 紫外-可见-近红外光透射比传递显微分光计l 紫外-可见-近红外光透射比成像l 紫外-可见-近红外光反射显微分光计l 紫外-可见-近红外光传递成像 l 紫外-可见-近红外光荧光显微分光计l 紫外-可见-近红外光荧光显微成像l 拉曼显微分光计l 紫外光、可见光和近红外光区域的偏振显微分光计l 紫外光、可见光和近红外光区域的偏振微尺度成像l 膜厚度测量l 微观样品的色度学l 带rIQ&trade 包的折射率测量l 手动或者全自动操作 l Lightblades&trade 技术的特色l 整合TE冷却系列探测器，噪音低，稳定性好l 精确的样品温控l 带刻度，有不同的测量区域，甚至有的小于1微米l 目镜和数字成像带来出众的图像l 具有LambdaFire&trade 分光计和成像控制以及分析软件的特色l LambdaFire&trade 同时包含触屏控制l 专业软件包括数据分析、光谱数据库、图像分析等软件应用半导体薄膜厚度（测量）l MEMS设备l 表面等离子体共振l 光激能带隙水晶l 杂质加工检测l 蛋白质晶体l 法庭科学l 药物化学l 可疑文件l OLEDl 平板彩色面罩l 组合化学紫外-可见-近红外光显微分光光谱仪来自领导者的前沿显微分光计 一个完全整合的显微分光计装置，描述从深紫外光到可见光到近红外光范围的光谱。同时直接可以获得样品空隙的图像，而且样品的测量更快、更精确。20/30 PV&trade 拥有Lightblades&trade 科技的特点，甚至能够让您测量次微米级样品的透射比、反射率、偏振和荧光光谱。 CRAIC科技也是NIST可追溯的显微分光计标准的唯一来源。拉曼显微分光光谱仪灵活的拉曼显微分光光谱仪 当20/30 PV&trade 装上CRAIC阿波罗&trade 拉曼分光仪模块后，它能像拉曼、共振拉曼以及其他测量显微样品的仪器一样工作。这些模块包括激光、拉曼分光计和界面光学，能让您收集到样品高质量的拉曼光谱。荧光性高灵敏度发射显微分光计和成像系统 20/30 PV&trade 可以被装配成测量显微样品荧光和冷光光谱以及图像的仪器。 20/30 PV&trade 拥有Lightblades科技的特点，能够激发从深紫外到近红外的光，能测出相同范围的放射，它对于材料科学、生物学、地质学等学科的显微荧光测定法来说是一款强大的工具。偏振紫外-可见-近红外光显微分光计和成像系统 20/30 PV&trade 甚至可以被装配成获得偏振光谱和图像的仪器。20/30 PV&trade 显微分光计拥有偏振Lightblades科技的特点和从紫外光到近红外光的光谱范围，它的性能是其他仪器无法达到的。用这个精细的系统您可以容易且迅速地获得双折射和其他有偏振特点的样品的光谱和图像。光谱表面成像 光谱表面成像整合了为自动化光谱分析设计的软硬件和带有显微空间解析度的样品3D成像技术。样品吸光度、透射比、反射率、荧光性、放射性和拉曼光谱这些数据的3D地图也许能够生成。 紫外-可见-近红外光显微光度计 从紫外光到近红外光的出众图像质量 20/30 PV&trade 包含带有研究级光学器件的紫外-可见-近红外光显微镜，非常独特。20/30 PV&trade 拥有精细的成像软件，带有彩色、紫外线和近红外光区域的高分辨数码成像特点。这允许您简单迅速地通过透射比、反射率、偏振和荧光显微镜来实时获得样品的图像。北京美嘉图科技有限公司地址：北京海淀区中关村南大街12号百欣科技楼6003室

Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。

超快激光微纳加工平台：LS-LAB— 高集成度、高灵活性、简单易用的微纳加工平台 LS-LAB：像其他高端的微纳加工设备一样，LS-Lab这台小型实验室设备，搭配LASEA的光束管理模块，可以实现高精度激光微纳加工。配备纳米定位平台和安全管理柜，LS-Lab是OEM模块和现成的激光微纳加工设备之间的连接。 设计用于切割、钻孔(零锥角)、纹理、打标、雕刻或薄膜移除等应用，LS-Lab是对所选光学配置预先安装并校准的系统，可以紧挨着激光器放在光绪桌上。无需其他任何额外装置即可完成微加工应用。不但是集成的微纳加工设备，LS-Lab更具灵活性。即使搭配您自己选择的激光器，LS-Lab也可保证快速实现高品质微加工应用。LS-Lab是Class 4级别激光系统，因此需要防护眼镜及其他适当的防护装置，以确保安全。LS-Lab配备安全开关和传感器指示灯，以显示实际是开还是关，因此可以很容易的集成到Class 1级别的环境。主要特点：- 尺寸小(600×600mm)- 10个高品质光束转折器- 平台分辨率500nm- 平台行程160×160×300mm- 安全控制器- 易于集成- 可搭配LASEA光束管理模块： 主要规格可点击图片放大* 另有订制方案，可根据客户需求提供高性价比方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚 嵘 科 技 股 份 有 限 公 司聚擘国际贸易 (上海) 有限公司／聚嵘科技股份有限公司，专业从事半导体封装及测试、LED封装测试、太阳能、SMT、飞秒/皮秒/纳秒激光等定制设备/子系统的开发、销售及售后服务。公司总部位于上海，在深圳、北京、西安设有办事处。公司在台北市设有专业的飞秒精密微纳加工实验室 — FemtoFocus，合作伙伴有法国Amplitude公司 、 比利时NextScan Technology公司 、 法国ALPhANOV光学与激光技术中心、比利时LASEA公司、法国NOVAE公司、德国Pulsar Photonics公司。实验室拥有专业的前沿激光微纳加工应用开发及技术支持团队，提供超短脉冲 (小于500fs) 和极短脉冲 (小于100fs) 激光技术相关测试及高速加工 (多光点、转镜) 等高度可扩充的高弹性集成方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚嵘科技股份有限公司| 电子 | 半导体 | 飞秒激光 | 微加工 | 科研 |

近红外分布式反馈激光器(dfb激光器）iXblue LAZ-LAB-NIR 系列是采用紧凑性封装可以智能调控激光参数的连续激光器。由近红外波段中采用光纤耦合分布式反馈激光芯片进行封装，具有窄线宽，低噪声可靠性高等优势。 这些激光器的波长范围从 780 nm 到 1080 nm，经过筛选并与 iXblue 的铌酸锂相位调制器和振幅调制器结合使用时具有理想性能。 所选激光器和调制器配套使用将增强调制光学性能（插入损耗、消光比、偏振消光比、残余幅度调制），并符合调制器的阈值功率值。 iXblue LAZ-LAB-NIR 带有用户友好且易于使用的用户操作界面。并允许用户激光波长和功率调节。近红外分布式反馈激光器(dfb激光器）主要特点• 多种波长选择• 良好的光学性能• 成熟的解决方案（可匹配于多种品牌的铌酸锂调制器（EOM））近红外分布式反馈激光器(dfb激光器）主要应用• 用于充当 LiNbO3 调制器的匹配激光器解决方案• 载波抑制应用• 光纤传感器• 调制/产生可调光脉冲应用• 模拟光信号传输近红外分布式反馈激光器(dfb激光器）主要参数产品参数及封装尺寸使用环境要求关于昊量光电：昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

1. 采用独立外置激光器特姆威采用的是独立外置 Nd:YAG 高能 量可协调 OPO 脉冲光器，具有高能量激发，高通量波长输出，快速波长协调，可移动性等优势，为活体或组织研究提供高质量的成像数据。标配 180 mJ 高能量输出，高配可达 250 mJ 的高能量输出集泵浦激光，OPO 和 PSU 一体化；波长调谐范围 660-1064 nm，高配可达 660-2300 nm，涵盖近红外一区及近红外二区；4 束激光（2 个正交，2个斜交）同时进行激发，确保组织接收激发能量均一性2.专用成像设备成像系统采用精密旋转马达控制活体完成 360° 旋转，具有电磁屏蔽和光冲击保护涂层的超宽屏带弧形阵列探测器（中心频率 0.1~8 MHz）360°全视野采集超声信号，获得高分辨率、高对比度，高灵敏度的 3D 光声层析成像。3D 空间 x-y-z 等向性分辨率 150 μm光吸收对比度 0.03 [1/cm] (~1 pmole of ICG)全视野获取小鼠身体及脑部成像（40 mm x 40 mm x 40 mm）成像深度 ≥ 4.5cm@mouse3.应用介绍LOIS-3D 近红外一区 / 二区小动物三维光声成像系统具有高安全性、高分辨率以及实时成像等优点，能够提供生物组织结构、功能、代谢等方面的重要信息。在分子探针、生物纳米材料、心血管疾病（血管生成、心肌炎、血栓、心梗等）、血红蛋白监测、肿瘤的早期监测、前哨淋巴结监测、脑成像及脑功能监测等领域得到了广泛的研究。

一、YLP 100 ns, 10-100 W1、产品简介掺镱纳秒脉冲激光器。YLP 调Q光纤激光器模块产生1064 nm脉冲，脉宽为100 ns，脉冲能量高达1 mJ，重复频率为2至500 kHz。平均输出功率从10 W 到100 W 不等。可提供导电底部或强制风冷组件。可根据要求提供不同的固定脉冲持续时间选项。Beatstream 1模式确保快速准确的脉冲控制。6-7mm高亮度光束优化了标记和微加工应用，如微切割和划线，修整，织构和精密表面处理。2、产品特点 Bitstream 1 操作模式 (瞬时发射 ON/OFF) OEM 封装 内置 RS232C 界面 风冷或传导冷却 将 PRR 扩展至 2 kHz 紧凑型，成本低 固定脉宽 100 ns* 设计坚固 出色的指向稳定性 免维护操作 工厂预校准 大于 20% 电光转换效率3、应用场景 精密打标 表面处理 修整 织构 涂层去除 精密切割 划线二、YLPN-HP 25×100 ns,1-2 kW1、产品简介高功率可调脉宽光纤激光器。YLPN-HP 纳米脉冲光纤激光器提供 25-100 纳秒范围内的可变脉冲持续时间。 激光功率可以在很宽的脉冲重复率范围内进行调整，而与脉冲能量无关。 平均输出功率从 100 W 到 2 kW 不等，重复率从 2 到 50 kHz 不等。 这些紧凑高效的免维护系统安装在坚固的密封机柜中，旨在在恶劣的工业制造环境中运行。 强大的 YLPN-HP 激光器针对高通量表面处理应用进行了优化，例如脱漆、涂层去除、表面清洁和纹理化。2、产品特点 平均功率高达 2000 W 重复频率高达 50 kHz 可调脉宽 坚固设计 圆行或者方形芯径3、应用场景 除漆 表面处理 涂层去除 织构 表面清洗 Ablation 不用磨料、溶剂和化学品的激光表面清洁三、YLPN 可调脉宽1、产品简介掺镱纳秒脉冲激光器。IPG Photonics 提供 YLPN 掺镱纳秒脉冲光纤激光器，其脉冲波形在 1 到 350 ns 范围内可调。 输出功率高达 100 W，脉冲能量高达 1 mJ。 脉冲重复率范围为 2 kHz 至 10 MHz。 激光功率可以在很宽的脉冲重复率范围内进行调整，而与脉冲能量无关。 这些紧凑型风冷、免维护模块专为 OEM 应用而设计。 可以使用广泛的操作参数优化薄箔和涂层的精细加工以及表面处理。 它们是微加工、电阻微调、光伏、划线、纹理和标记应用的理想选择。2、产品特点 操作参数高度灵活性 操作免维护 电光转换效率 脉冲重复频率 2-10000 kHz 坚固设计 快速调制响应 紧凑且低成本的OEM 封装3、应用场景 精密打标 表面处理 修整 织构 涂层去除 精密切割 划线四、YLPN 1-100 mJ, 500-1000 W1、产品简介高功率掺镱纳秒激光器。IPG Photonics 提供 YLPN 高功率系列高功率纳秒脉冲镱光纤激光器，脉冲能量高达 100 mJ，脉冲持续时间为 20 到 240 ns。 这些功能强大的模型针对高通量表面处理应用进行了优化，例如脱漆、涂层去除、表面清洁和纹理化。 平均输出功率从 500 W 到 1 kW 不等，重复率从 2 kHz 到 4 MHz 不等。 这些高效的水冷光纤激光器封装在紧凑坚固的 6U 19" 机架式单元中。2、产品特点 脉宽 30-240 ns 免维护操作 平均功率高达1000 W 水冷 脉冲能量 1-100 mJ 紧凑的坚固设计 出色的指向稳定性 高电光转换效率 圆行或方形操作光纤3、应用场景 除漆 表面处理 涂层去除 织构五、参数对比型号波长nm功率 W能量mj脉宽ns脉冲频率功率稳定性%光束质量制冷方式YLP 100106410-1001mj100ns20-500KHz±2M22风冷 YLPN-100-25×100-1000-S10641000100mj25-100ns可调2-50KHz±2BBP 30-45水冷 YLPN-100-25×100-2000-S10642000100mj25-100ns可调2-50KHz±2BBP 30-45水冷 YLPN-1-1×350106420-1001mj1.5 - 350 ns可调2-4000KHz±2M22风冷 YLPN-2-20×5001064200-3000.2 -2mj20-500ns可调2-4000KHz±2M21.5水冷 YLPN 1-10 mJ1064 ±2100-3000.2-10mj30-1500ns可调20-2000KHz±2多模水冷YLPN 1mJ1064 ±2500-10001mj30-240ns可调50-4000KHz±2M21.5水冷YLPN 50 mJ1064 ±250050mj100ns20-50KHz±2多模M2=27水冷YLPN 100 mJ1064 ±2500-1000100mj20-100ns可调20-50KHz±2多模水冷如有其它需求，请联系我们。

别名：NIR-II红外相机，NIR-II红外制冷相机，NIR-II红外低温相机，NIR-II红外成像，NIR-II红外制冷成像，NIR-II红外低温成像，NIR-II近红外成像相机，NIR-II近红外制冷成像相机，NIR-II近红外低温成像相机NIR-II近红外科研成像相机，NIR-II近红外科研制冷成像相机，NIR-II近红外科研低温成像相机，NIR-II近红外二区荧光成像相机，NIR-II近红外二区荧光制冷成像相机，NIR-II近红外二区荧光低温成像相机，相机部分：1、InGaAs 成像模块采用TEC电制冷方式，芯片工作温度达到-60℃或更低，且芯片工作温度可调；2、InGaAs成像模块有效像素数量不少于640 x 512，每个像元尺寸不小于15微米；3、InGaAs成像模块在900-1700nm具有高灵敏度，量子效率不低于70%；4、对于微弱信号可实现不短于99秒的连续曝光；5、能够实现近红外二区与彩色可见光的实时同步成像，且精确融合图像能够实时展示。6、近红外二区成像具备过曝光预警功能。成像窗宽窗位可手动自由调节。且具备灰度图像自动增强功能。7、可见光成像部分具备自动增益，自动曝光，自动白平衡功能，能够自动进行伽马矫正。融合算法先进，用户可以根据需求确定近红外与可见光融合的有效阈值。8、红外图像、可见光图像和二者融合图像可以同时显示。拍照和录像数据可一键采集，且拍照和录像保存后可再次进行后续数据分析并不失融合。9、成像参数与激光激发参数能够自动保存。激光部分：1、荧光激发光源采用两种波长激光光源（808nm, 980 nm），功率可调且总功率≥20瓦；2、每种荧光激发光源各采用两根液芯匀光光纤，分布两侧，保证无死角照射。3、每根光纤末端配备准直器，可调整荧光激发光的均匀照射。4、可通过系统软件实现激光控制。5、激光参数自动保存在成像参数中。暗室及控制系统：1、标配软件具备成像参数设置功能，如曝光时间、增益、相机工作温度、内外触发等，具备红外成像窗宽/窗位手动和自动调节功能；2、可通过软件去除背景，实现成像的平场校正等功能；3、能够实现100μs寿命材料的荧光寿命成像；4、可同时装载至少5个发射光滤片，标配滤片数量不少于4个；5、具备荧光寿命成像专用软件模块，可通过软件调节激发光照明时间、相机曝光时间和激发光与相机曝光间隔时间，具有延时成像能力；6、寿命图像与材料单光子寿命分析结果误差在10μs以内；7、具备5通道以上小动物气体麻醉功能；8、能够实现小鼠全身成像和局部成像，视野范围可调，最大视野范围不小于10cm x 8cm；9、动物载物台可电控升降，行程不小于50cm；10、动物载物台具有加温保暖功能；应用：适合从事生物学、医学、天文学等科研工作者，特别适用于生物医学荧光成像、材料学荧光成像、荧光偏振成像、荧光寿命成像、天文成像和激光光斑分析等多种科研领域及军事、高端安防等应用领域。荧光寿命成像展示：左图：荧光成像 右图：荧光寿命成像NIR-I区与NIR-II区，成像范围、深度、清晰度对比：近红外二区成像在不通波长下成像比较： 通过尾静脉注射PBS溶液中的NM-NPs雌性BALB/c小鼠。用1000LP、1250LP、1400LP滤光片进行160mW cm&minus 2808 nm激光激发，当波长在1000~1400 nm之间变化时，血管的清晰度明显提高，1400LP滤光片NIR-II荧光成像的空间分辨率明显提高，清晰度显著提高。 近红外二区成像在缺血性脑卒中应用：（RENPs应用于近红外二区脑血管成像）稀土纳米颗粒（RENPs）是一类稀土离子掺杂的荧光纳米材料，能够在近红外光激发下发射出位于第二近红外区的荧光。且其具有长荧光寿命、窄发射谱带、高光/化学稳定性、低毒性和可调谐荧光发射波长等优势，有望在生物分析和疾病诊断等领域发挥重要作用。利用染料敏化RENPs的复合材料，成功实现了非侵入性、高分辨率脑血管成像，清晰观察到脑血管网络结构及细小的毛细血管结构，并可实时监测生理过程中血液动力学及血管结构的变化。（比率型近红外二区纳米探针监测脑卒中示意图）缺血性脑卒中（Ischemic Stroke, IS）是导致长期残疾以及死亡的主要原因之一，该疾病的严重程度具有时间依赖性，及时评估IS对于该疾病的治疗以及预后起着至关重要的作用。利用比率型近红外二区纳米探针可有效富集在脑缺血病灶位点，可视化氧化应激水平用于及时评估IS。利用近红外二区成像的优势，该探针具有深层的脑组织穿透深度；基于目标物调控染料敏化RENPs发光的原理，该探针对高活性氧物种呈现优异的响应性能。综合以上功能，该探针通过可视化探针在病灶位点的富集程度以及氧化应激水平，在IS发生30min时即可对其进行监测，并评估其严重程度（传统磁共振成像则在IS发生24h才可观察到显著的信号变化）。近红外二区成像用于慢性肝脏疾病无创监测（a、高脂饮食小鼠模型中，体内肝脏处的自发荧光 b、离体肝脏的荧光成像）准非酒精性脂肪性肝病（NAFLD），由于缺乏用于监测炎症和肝纤维化进程的无创方法，肝活检仍是临床诊断NAFLD的金标。非酒精性脂肪性肝病的病理发展中氧化应激是关键驱动力之一，肝损伤和坏死性炎症由驱动纤维化的活性氧簇（ROS, Reactive oxidative species）介导，内源性脂褐素（lipofusion）是ROS的副产物，在808nm激光激发下，能够在近红外范围内被检测到，因此脂褐素的红外成像用于无创评估坏死性炎症活动和纤维化阶段，实现慢性肝病的无创监测。近红外二区成像联合酶激活的纳米探针用于术中进行快速组织病理学分析准确的分析病理组织是肿瘤手术成功的关键之一，一种可被基质金属蛋白酶(MMP)14激活的NIR-II纳米探针A&MMP@Ag2S-AF7P，可用于体内外神经母细胞瘤诊断和非破坏性的组织病理学分析。（1）A&MMP@Ag2S-AF7P在正常组织中的荧光可以忽略不计；但是在神经母细胞瘤组织中，其荧光信号会由于过表达的MMP14抑制了Ag2S量子点和A1094之间的荧光共振能量转移(FRET)过程而被快速激活。（2）与此同时,暴露的膜渗透多肽R9 (TAT-peptide)可以使得该纳米探针被癌细胞有效地内化，进而产生优越的T/N组织信号比值。该探针可以对病灶进行富集定位通过红外二区实时成像描绘出明确的肿瘤边缘，用于癌症手术或组织活检。

3000-3400nm/3-3.4um可调谐飞秒光纤激光器Femtum是一家独特的中红外脉冲光纤激光器、光纤放大器和可调谐激光器供应商，所生产的激光器用于科学、医疗和工业用途。Femtum提供的shou个商业化的中红外可调谐超快飞秒光纤激光器。结构紧凑、免维护、可调谐的激光系统非常适合科学应用，包括光谱学和非线性光学等。根据材料的不同，C-H基本吸收带位于3.3-3.4µ m的窗口中。在这些波长下，激光与物质的相互作用效率可能是近红外激光的100倍以上。3000-3400nm可调谐飞秒光纤激光器的产品特点1、紧凑的交钥匙激光系统2、自动锁定模式3、脉冲宽度500 fs4、高功率@2800nm5、单模输出3000-3400nm可调谐飞秒光纤激光器的规格参数型号3400-35波长范围3-3.4um带宽（FWHM）40nm平均功率100mW(500mW@3400nm)单脉冲能量3.5 nJ ( 17 nJ @ 3400 nm)重复频率~ 35 MHz ( 50 MHz optional)峰值功率~ 1 - 50 kW脉冲宽度 500 fs光斑直径~3 or 9 mm光束质量M21.3偏振态椭圆偏振系统规格激光器尺寸 (W x H x D)19 × 5.5 x 20.5 英寸冷却方式风冷电源规格100/240 V AC, 50/60 Hz输出方式自由空间或光纤输出控制方式软件控制3000-3400nm可调谐飞秒光纤激光器的典型应用1、激光频率梳2、中红外成像3、非线性频率转换4、超连续谱生成5、高场物理学更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。