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标距仪

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标距仪相关的耗材

  • 聚四氟乙烯表面皿/ 6cm 聚四氟乙烯表面皿/60mm聚四氟表面皿
    聚四氟乙烯表面皿/ 6cm 聚四氟乙烯表面皿/表面皿由上海书培实验设备有限公司为您提供,产品规格齐全,量多从优,欢迎客户来电咨询选购。 聚四氟乙烯表面皿特点:一:防污染:金属元素空白值低;二:机械性质较软,具有非常低的表面能;三:外观纯白色,无毒害:具有生理惰性。四:耐大气老化,耐辐照和较低的渗透性;五:自润滑性:具有塑料中最小的摩擦系数;六:表面不粘性:是一种表面能最小的固体材料;七:耐高低温性:可使用温度-200℃~+250℃;八:绝缘性:不受环境及频率的影响,介质损耗小,击穿电压高;九:耐腐蚀:耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂,且无溶出、吸附和析出现象;聚四氟乙烯表面皿产品用途:一:可以作容器,暂时呈放固体或液体试剂,方便取用;二:可以作盖子,盖在蒸发皿或烧杯上,防止灰尘落入蒸发皿或烧杯;三:可以作承载器,用来承载 pH试纸,使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。四:可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热;产品应用范围:石油、无线电、电力机械、化学工业等行业。 ?
  • 火花直读光谱仪 铜标样\铝标样\不锈钢标样
    光谱用标样 铁标样, 铝标样, 铜标样 锡标样, 锌标样, 钛标样, 进口MBH标样碳钢:10#钢、20#钢、45#钢等、中低合金钢、模具钢、高锰钢、工具钢、不锈钢:316、316L、303、304、201、202等。HT250、HT350等5052、K384、6061、6063、ADC12、Y113、ZL101等纯铜、无氧铜、黄铜H62、黄铜H65、黄铜H96、铅黄铜、锡青铜等。纯锡、无铅锡(3%银、0.3%银)、有铅锡(63%Sn)等纯锌、锌铝合金(Al:4%)种类齐全,欢迎咨询火花直读光谱仪用户请告知我们你们的具体要求。
  • 聚四氟乙烯表面皿/5cm 四氟表面皿/聚四氟乙烯表面皿 50mm
    聚四氟乙烯表面皿/5cm四氟表面皿/ 50mm聚四氟乙烯表面皿由上海书培实验设备有限公司为您提供,产品规格齐全,量多从优,欢迎客户来电咨询选购。聚四氟乙烯表面皿/5cm四氟表面皿特点:一:防污染:金属元素空白值低;二:外观纯白色,无毒害:具有生理惰性。 三:机械性质较软,具有非常低的表面能;四:耐大气老化,耐辐照和较低的渗透性;五:自润滑性:具有塑料中最小的摩擦系数;六:表面不粘性:是一种表面能最小的固体材料;七:耐高低温性:可使用温度-200℃~+250℃;八:绝缘性:不受环境及频率的影响,介质损耗小,击穿电压高;九:耐腐蚀:耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂,且无溶出、吸附和析出现象;聚四氟乙烯表面皿/5cm四氟表面皿产品用途:一:可以作容器,暂时呈放固体或液体试剂,方便取用;二:可以作盖子,盖在蒸发皿或烧杯上,防止灰尘落入蒸发皿或烧杯;三:可以作承载器,用来承载 pH试纸,使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。四:可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热;产品应用范围:石油、无线电、电力机械、化学工业等行业。
  • 聚四氟表面皿,特氟龙表面皿
    聚四氟乙烯表面皿聚四氟乙烯(PTFE)表面皿:圆形状,中间稍凹,与蒸发皿相似。用途:1)可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热;2)可以作盖子,盖在蒸发皿或烧杯上,防止灰尘落入蒸发皿或烧杯;3)可以作容器,暂时呈放固体或液体试剂,方便取用;4)可以作承载器,用来承载 pH试纸,使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。 图片中矮的是表面皿,带嘴的是蒸发皿品名规格(mm)材质聚四氟乙烯(PTFE)表面皿45PTFE6090 特点:1.外观纯白色;2.耐高低温性:可使用温度-200℃~+250℃;3.耐腐蚀:耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂,且无溶出、吸附和析出现象;4.防污染:金属元素空白值低;5.绝缘性:不受环境及频率的影响,介质损耗小,击穿电压高;6.耐大气老化,耐辐照和较低的渗透性;7.自润滑性:具有塑料中最小的摩擦系数;8.表面不粘性:是一种表面能最小的固体材料; 9.机械性质较软,具有非常低的表面能;10.无毒害:具有生理惰性。 广泛应用在国防军工、原子能、石油、无线电、电力机械、化学工业等重要部门。聚四氟乙烯(PTFE)系列产品:培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。
  • 表面形貌仪配件
    表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪,它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外,具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量,应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度(Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量,还可以测量张量和应力(简单); *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸,对于小于0.5' ' 的晶圆或样品,可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度; *克服常见干涉仪在粗糙表面(油漆)表现不足的问题; *非接触式测量
  • 聚四氟乙烯表面皿/70mm 表面皿/聚四氟表面皿 7cm
    聚四氟乙烯表面皿/70mm 表面皿/聚四氟表面皿 7cm由上海书培实验设备有限公司为您提供,产品规格齐全,量多从优,欢迎客户来电咨询选购。聚四氟乙烯表面皿特点:一:外观纯白色;二:无毒害:具有生理惰性。三:防污染:金属元素空白值低;四:机械性质较软,具有非常低的表面能;五:表面不粘性:是一种表面能最小的固体材料;六:耐大气老化,耐辐照和较低的渗透性;七:耐高低温性:可使用温度-200℃~+250℃;八: 自润滑性:具有塑料中最小的摩擦系数;九:绝缘性:不受环境及频率的影响,介质损耗小,击穿电压高;十:耐腐蚀:耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂,且无溶出、吸附和析出现象; 产品用途:一:可以作容器,暂时呈放固体或液体试剂,方便取用;二:可以作盖子,盖在蒸发皿或烧杯上,防止灰尘落入蒸发皿或烧杯;三:可以作承载器,用来承载 pH试纸,使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。四:可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热; 产品应用范围:石油、无线电、电力机械、化学工业等行业。
  • 申扬棕标口具塞比色管棕具塞比色管
    比色管纳氏COLORIMETER.TUBES, Nessler 具赛比色管纳氏COLORIMETER TUBESNessler. Wil h ground in glass st opper 一、概况及用途: 该仪器是用优良的钠钙无硼玻璃,在灯工加工、刻度(具塞应配塞磨砂)制成,分具塞和不磨砂二种,它常六_支十支、五十支和一百支组成组进行分析试验。适用于冶金钢铁、地质勘探、环境保护、医疗卫生、防疫站等单位,用标推色阶对比方法,对化素含量较低的物质用目视作简易快速定量分析。 二、造型及原理: 它是用优良的钠碱无硼、无色玻璃管制成平底细长管状,管身上刻有二条标线,常以六支、十二支及多支组成一组,在每一组的比色管中,它们相互之间的刻线高低都是一致,并编有同一号码。具塞比色管在比色管的上口配置磨砂玻塞,它适合于制作标准色阶的色列管,在塞口周围用石腊封闭,作较长时间保存和使用,能防止溶液挥发。其原理:利用待测元素的离子本身具有颜色或在添加显色试剂的作用下生成鲜明颜色.颜色的深浅是随着待测元素的离子浓度增加而加深,通过事先已知浓度的标准色阶与街测样品对比,就能测出样品中该物质的含量。 三、使用方法: 它不需要精密仪器,凭肉眼观察就能进行比色分析。取一组比色管,如六支组的,分别编好号码,在第一管加入待测溶液,其余的按顺序递增加入标准液1~5ml,按标准液已知浓度含量每ml为0.1mg,最后一支是5ml则为0.5mg,再用刻度吸管分别都加入一定量的显色剂,再用蒸馏水稀释至刻度标线,摇匀,就得-组颜色逐渐加深的色列(或称色阶),再将待测管的颜色与色阶比较,根据目测相同的颜色,测出被测物的含量,如被测管的颜色介于二管之间的,则取二管含量的平均值即等f被测溶液的含量。观察颜色的方法有二种,一种是自上而下,从管口内向底部观察颜色深度,也可以平行的观察颜色的深浅,或者用在有灯光背景的场合下观察,50支组以上比色管,适用于色阶范围大的制备以及在使用中正常消耗,作补充备用。必须注意:比色的溶液,不应有沉淀物和妨碍比色的其它颜色,不要将其它组号的比色管相互混和掺杂使用,以免造成误差。
  • 江苏棕标口具塞比色管棕具塞比色管
    比色管纳氏COLORIMETER.TUBES, Nessler 具赛比色管纳氏COLORIMETER TUBESNessler. Wil h ground in glass st opper 一、概况及用途: 该仪器是用优良的钠钙无硼玻璃,在灯工加工、刻度(具塞应配塞磨砂)制成,分具塞和不磨砂二种,它常六_支十支、五十支和一百支组成组进行分析试验。适用于冶金钢铁、地质勘探、环境保护、医疗卫生、防疫站等单位,用标推色阶对比方法,对化素含量较低的物质用目视作简易快速定量分析。 二、造型及原理: 它是用优良的钠碱无硼、无色玻璃管制成平底细长管状,管身上刻有二条标线,常以六支、十二支及多支组成一组,在每一组的比色管中,它们相互之间的刻线高低都是一致,并编有同一号码。具塞比色管在比色管的上口配置磨砂玻塞,它适合于制作标准色阶的色列管,在塞口周围用石腊封闭,作较长时间保存和使用,能防止溶液挥发。其原理:利用待测元素的离子本身具有颜色或在添加显色试剂的作用下生成鲜明颜色.颜色的深浅是随着待测元素的离子浓度增加而加深,通过事先已知浓度的标准色阶与街测样品对比,就能测出样品中该物质的含量。 三、使用方法: 它不需要精密仪器,凭肉眼观察就能进行比色分析。取一组比色管,如六支组的,分别编好号码,在第一管加入待测溶液,其余的按顺序递增加入标准液1~5ml,按标准液已知浓度含量每ml为0.1mg,最后一支是5ml则为0.5mg,再用刻度吸管分别都加入一定量的显色剂,再用蒸馏水稀释至刻度标线,摇匀,就得-组颜色逐渐加深的色列(或称色阶),再将待测管的颜色与色阶比较,根据目测相同的颜色,测出被测物的含量,如被测管的颜色介于二管之间的,则取二管含量的平均值即等f被测溶液的含量。观察颜色的方法有二种,一种是自上而下,从管口内向底部观察颜色深度,也可以平行的观察颜色的深浅,或者用在有灯光背景的场合下观察,50支组以上比色管,适用于色阶范围大的制备以及在使用中正常消耗,作补充备用。必须注意:比色的溶液,不应有沉淀物和妨碍比色的其它颜色,不要将其它组号的比色管相互混和掺杂使用,以免造成误差。
  • 中镜科仪 坐标镀碳支持膜 (铜.镍.金坐标镀碳支持膜)
    坐标普通碳支持膜的载网是带标记的,方便您找到需要观察的样品。F1坐标载网和F2坐标载网是不同规格标记(F1坐标网见图1,F2坐标网见图2)。图1 F1坐标图2 F2坐标 碳膜为两层支持膜结构,可以采用不同规格的载网做载体。从空间结构来讲,从下到上依次为载网,方华膜和碳膜,如下图它是在一层有机方华膜上再覆盖一层碳膜。由于碳层具有较强的导电以及导热性,弥补了无碳方华膜的荷电效应以及热效应,增强了膜整体的稳定性,适合大多数纳米材料和生物样品的一般形貌观察。普通碳支持膜是针对常规检测20-50nm尺度样品的理想产品,是初次使用或筛查样品的最基本选择。如下图是纳米材料和生物样品在中低倍下的TEM照片,图像清晰,背底影响较小。支持膜的厚度,由对样品提供的承载强度和自身产生的背底干扰共同决定。如果膜厚度大,对样品的承载能力强,但会导致背底噪音增强;如果膜厚度小,图像质量高,但容易引起支持膜破裂。膜总厚度:10-20 nm产品编号产品名称规格/数量间距肋宽孔径BZ10021F1b100目F1坐标碳支持膜50枚/盒25040210BZ10021F1a100目F1坐标碳支持膜100枚/盒25040210
  • 放大倍数及分辨率测试标样 611 铂/铱标样
    铂/铱标样Evaporated Platinum / Iridium在多孔碳膜上蒸镀Pt/Ir。碳膜上的孔方便用于聚焦及像散校正,蒸镀的金属颗粒用于TEM分辨率检查。
  • 放大倍数及分辨率测试标样 611 铂/铱标样
    铂/铱标样Evaporated Platinum / Iridium在多孔碳膜上蒸镀Pt/Ir。碳膜上的孔方便用于聚焦及像散校正,蒸镀的金属颗粒用于TEM分辨率检查。
  • 三维表面形貌仪配件
    三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积 分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析 磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 聚四氟乙烯表面皿/90mm 四氟蒸发皿/铁氟龙表面皿 9cm
    聚四氟乙烯表面皿/90mm 四氟蒸发皿/铁氟龙表面皿 由上海书培实验设备有限公司为您提供,产品规格齐全,量多从优,欢迎客户来电咨询选购。聚四氟乙烯表面皿特点:一:外观纯白色;二:防污染:金属元素空白值低;三:耐大气老化,耐辐照和较低的渗透性;四:无毒害:具有生理惰性。 五:耐高低温性:可使用温度-200℃~+250℃;六:自润滑性:具有塑料中最小的摩擦系数;七:表面不粘性:是一种表面能最小的固体材料;八: 机械性质较软,具有非常低的表面能;九:绝缘性:不受环境及频率的影响,介质损耗小,击穿电压高; 十:耐腐蚀:耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂,且无溶出、吸附和析出现象; 产品用途:一:可以作容器,暂时呈放固体或液体试剂,方便取用;二:可以作盖子,盖在蒸发皿或烧杯上,防止灰尘落入蒸发皿或烧杯;三:可以作承载器,用来承载 pH试纸,使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。 四:可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热; 产品应用范围:石油、无线电、电力机械、化学工业等行业。
  • fluke 381远距离显示真有效值钳形表
    禄克fluke 381远距离显示真有效值钳形表 福禄克fluke 381远距离显示真有效值交/直流钳形表,带 iFlex&trade 柔性交流钳 第一款带有可分离式远距离显示屏的钳形表,可更加方便、快速和安全地进行测量 美国福禄克(Fluke)新iFlex系列灵活的电流探棒可提供量测高度灵活性,其选择量测范围可扩大至交流电流达2,500安培,此款大线圈设计可允许使用者在大或不易量测的导体周遭量测待测物,包括直径大达6英寸或小至0.3英寸的外形皆可允许使用,当线圈包装在拥挤的空间的电缆线之间伸入量测并拥有长达6英尺导线,即使在远距离外进行量测仍可清楚看见读值。 iFlex探棒直接连接仪表具有优异性能,降低显示电流读值错误比例,除此之外当测量交流(AC)时可同时量频率,涌入电流及量测最小/最大/平均值等功能,iFlex电流探棒的口径尺寸有10英寸和18英寸可供选择。新型Fluke381和Fluke376此二型电流勾表附件中包含iFlex电流探棒 i2500-18,而iFlex二型电流探棒皆可使用于Fluke375和Fluke374。 此外,Fluke电流钩表新产品系列可满足大多数的工业状况里对安全和性能的要求,此系列含有三款产品包括Fluke 381,此为全功能性电流钩表具备无线远程显示屏能为使用者增加更多的灵活性、便利和安全性。 而针对艰苦工业环境挑战,Fluke 376可负担电流范围高达2,500安培交流和1,000安培直流(DC),甚至可测量检修及除错马达与驱动器等。另外,Fluke 374和375能读取600伏特和600安培,至于在交流和直流模式可有最小/最大/平均和涌入电流记录,此两型都可与新iFlex灵活的选购配备电流探棒兼容。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-A 单晶硅标样,已认证,含样品座A
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为15%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-P 单晶硅标样,已认证,含样品座P
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为26%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-O 单晶硅标样,已认证,含样品座O
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为25%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-C 单晶硅标样,已认证,含样品座C
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为17%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-K 单晶硅标样,已认证,含样品座K
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为22%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-M 单晶硅标样,已认证,含样品座M
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为24%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-D 单晶硅标样,已认证,含样品座D
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为18%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-B 单晶硅标样,已认证,含样品座B
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为16%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-P 单晶硅标样,已认证,含样品座P
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为26%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-L 单晶硅标样,已认证,含样品座L
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为23%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-L 单晶硅标样,已认证,含样品座L
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为23%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-G 单晶硅标样,已认证,含样品座G
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为21%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-D 单晶硅标样,已认证,含样品座D
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为18%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-E 单晶硅标样,已认证,含样品座E
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为19%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-G 单晶硅标样,已认证,含样品座G
    用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为21%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 认证的单晶硅标样 660-615-F 单晶硅标样,已认证,含样品座F
    认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为20%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
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