步进泵

HC-100系列手持式电移台控制器，是一款经济型1轴点对点(PTP) 集成位置控制系统，可以通过面板上的调节旋钮进行速度调整和前进/后退，并可以选择单步运行和连续运行方式。该产品内置的步进电机驱动器，同SC300系列产品中的一样，具有通用性，通过控制盒侧窗的拨码开关，可以调整驱动器的细分数和电流值。该产品采用直流变压器供电，尺寸小，携带使用方便，是一款简易的控制器（不需也不可连接上位机），可以进行电移台设备的粗定位调整。 ■产品一览表型号HC-100(两相步进电机控制器)HC3P-100(三相步进电机控制器)最高输出频率:5KHz电源:AC220V转DC24V电源适配器运动模式连续模式与单步模式可切换驱动电流最大3.5A最大5.8A细分数最大128最大细分：每转51200脉冲

4至20毫安类型泵具有带4至20毫安直流直接或外部起步的自动控制功能，可靠的计时电路，停止功能，和手动调节的冲程速度和长度。该泵可以自动或手动两种模式操作，通过 “自动－关－手动”开关选择适宜的设置；电路保护装置可预防电压或电流波动；该泵可安装于室内或户外。 随机配备：充/背压阀组件，脚踏开关/过滤器组件，三功能阀，4英尺长表面光洁的聚氯乙烯管，和8英尺长硬聚乙烯出口管；所有115伏交流类型泵配备6英尺长带美标插头的电源线；230伏交流型泵配备6英尺长电源线（不含插头）；维修工具套件（需另购）含带O形圈的阀筒，泵头，膜片，二级O形圈，泵头螺栓和垫圈。 技术参数： 74141-05 4至20毫安步进泵， 230伏交流 流量：最大6加仑/日；最大0.95升/小时 最大压力：150磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：3/8英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：5-1/2宽 x 10-1/2高x 10-3/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 74141-15 4至20毫安步进泵，12加仑/日，230伏交流 流量：最大12加仑/日；最大1.89升/小时 流量：150磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：3/8英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：5-1/2宽 x 10-1/2高x 11-3/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 74141-25 4至20毫安步进泵，230伏交流 流量：最大21加仑/日；最大3.31升/小时 最大压力：150磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：3/8英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：5-1/2宽 x 10-1/2高x 11-3/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 74141-35 4至20毫安步进泵，230伏交流 流量：最大42加仑/日；最大6.62升/小时 最大压力：150磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：3/8英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：5-1/2宽 x 10-1/2高x 11-3/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 74141-45 4至20毫安步进泵， 230伏交流 流量：最大94加仑/日；最大14.82升/小时 最大压力：100磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：1/2英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：5-1/2宽 x 11高x 11-3/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 7414155 4至20毫安步进泵， 230伏交流 流量：最大240加仑/日；最大37.85升/小时 最大压力：35磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：1/2英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 6英寸宽 x 11-3/4英寸高x 11-1/4厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安 7414165 4至20毫安步进泵，500加仑/日，230伏交流 流量：最大500加仑/日；最大78.85升/小时 最大压力：20磅/平方英寸 粘度：最大1000厘泊 管径：3/4英寸外径 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 规格：6英寸宽 x 11英寸高x 10-1/2厚 电源：230伏交流；50/60赫兹；0.5安

适用于输送高粘度流体的4至20毫安步进泵可输送流体粘度至多达20,000厘泊；该泵具有带4至20毫安直流直接或外部起步的自动控制功能，可靠的计时电路，停止功能，和手动调节的冲程速度和长度。该泵可以自动或手动两种模式操作，通过 “自动－关－手动”开关选择适宜的设置；电路保护装置可预防电压或电流波动；该泵可安装于室内或户外。 技术参数： 74147-05 高粘度，4至20毫安步进泵，230伏交流 流量：12加仑/日；1.89升/小时 最大压力：150磅/平方英寸 粘度：20,000厘泊 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 管径：3/4英寸外径（入口）；1/2英寸外径（出口） 规格：5-1/2英寸宽 x 9-1/3英寸高 x 9-1/2英寸厚 74147-15 高粘度，4至20毫安步进泵，24加仑/日，230伏交流，50/60赫兹 流量：24加仑/日；3.76升/小时 最大压力：150磅/平方英寸 粘度：20,000厘泊 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 管径：3/4英寸外径（入口）；1/2英寸外径（出口） 规格：5-1/2英寸宽 x 10-7/8英寸高 x7-1/2英寸厚 74147-25 高粘度，4至20毫安步进泵， 230伏交流 流量：48加仑/日；7.57升/小时 最大压力：110磅/平方英寸 粘度：20,000厘泊 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 管径：3/4英寸外径（入口）；3/4英寸外径（出口） 规格：5-1/2英寸宽 x 10-2/3英寸高 x7-1/2英寸厚 74147-35 高粘度，4至20毫安步进泵，230伏交流 流量：96加仑/日；15.14升/小时 最大压力：110磅/平方英寸 粘度：20,000厘泊 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 管径：3/4英寸外径（入口）；3/4英寸外径（出口） 规格：5-1/2英寸宽 x 10-7/8英寸高 x7-1/2英寸厚 74147-45 高粘度，4至20毫安步进泵，230伏交流 流量：240加仑/日；37.85升/小时 最大压力：80磅/平方英寸 粘度：20,000厘泊 吸升力：4英尺，自吸，湿式 工作模式：不间断 管径：3/4英寸外径（入口）；3/4英寸外径（出口） 规格：6-1/4英寸宽 x 11-1/2英寸高 x8-1/4英寸厚

T-S201产品说明T-S201 ODM蠕动泵由57步进电机搭配安装支架构成的体积小、结构简单的蠕动泵驱动器产品。主要在设备、仪器中配套使用，可搭配多种泵头，实现1140mL/min以下的流体传输。由用户直接驱动步进电机对工作过程进行控制，采用底板、面板兼容的安装方式。T-S201整机参数项目参数项目参数转速范围（配DG泵头）&le 100rpm工作环境相对湿度＜80%转速范围（配其它泵头）&le 300rpm工作环境温度0℃～40℃外形尺寸(长*宽*高)103mm*102mm*130mm 适配泵头适配软管规格最大参考流量(ml/min)YZ1515X、YzⅡ1513#、14#、19#、16#、25#、17#、18#1140YZ2515X、YzⅡ2515#、24#870DG-1(6)、DG-2(6)内径&le 3.17mm，壁厚0.8mm-1.0mm48(单通道）DG-1(10)、DG-2(10)32（单通道）BZ15-13-A14#75BZ15-13-B16#230BZ15-13-C25#480BZ15-13-D17#840BZ2524#800FG15-1313#、14#、19#、16#、25#、17#、18#880FG25-1315# 24#880DMD15-13-B2*13#、4*13#、2*14#2*19#、2*16#、2*25#1050T-S201电机参数及接口电机参数电机接口项目参数线色定义步距角1.8° 红A相数2绝缘电阻&ge 100M&Omega 绿绝缘等级B级相电压2.1V黄B相电流1.5A电阻1.4&Omega ± 10%蓝电感4.3mH± 20%T-S201外形安装图

T-S200&JY15-24产品说明T-S200&JY15-24 ODM蠕动泵由JY15-24泵头搭配57步进电机构成的体积小、结构简单、两通道间流量误差较小的蠕动泵产品。主要在设备、仪器中配套使用，实现两通道各43mL/min以下的流体传输。由用户直接驱动步进电机对工作过程进行控制，采用底板、面板兼容的安装方式。T-S200&JY15-24整机参数项目参数转速范围&le 100rpm两通道间流量误差&le ± 3%外形尺寸(长*宽*高)129mm*82mm*90mm工作环境相对湿度＜80%工作环境温度0℃～40℃适用软管规格最大参考流量13#(硅胶或Pharmed）4mL/min（单通道）14#(硅胶或Pharmed）13mL/min（单通道）19#(硅胶或Pharmed）27mL/min（单通道）16#(硅胶或Pharmed）43mL/min（单通道）T-S200&JY15-24电机参数及接口电机参数电机接口项目参数线色定义步距角1.8° 红A相数2绝缘电阻&ge 100M&Omega 绿绝缘等级B级相电压2.1V黄B相电流1.5A电阻1.4&Omega ± 10%蓝电感4.3mH± 20%T-S200&JY15-24外形安装图

产品实物图产品装配图性能特点优质工程塑料与橡胶材料，表现出较好的产品稳定性可配套我司驱动器，控制简单步进电机驱动，低噪音工作，工作噪音低于60dB精准的液体传输，在配合单向阀的情况下，重复精度可达±5%典型应用喷墨打印实验室仪器医疗器械消毒与清洁技术参数产品尺寸流量曲线

注： 步进电机流量型（iPumpBT4L-B iPumpBT6L-B） 伺服电机流量型（iPumpSF4L-B iPumpSF6L-B） 伺服电机分配型（iPumpSF4F-B iPumpSF6F-B） 参考以下产品介绍产品介绍1.流量范围：0.0008-12000mL/min2.两种工作模式，流量模式与分配模式可选3.具有流量校正、分装液量校正功能4.分装精度高达±0.5%以内5.采用进口电机驱动芯片，性能优越6.线路板全部三防漆处理，防腐、防潮典型应用实验室领域如试剂等分装工业领域如制药、日化行业等分装产品特点产品型号： iPumpBT4F/L-B iPumpBT6F/L-B 转速调节范围：0.1-400RPM 0.1-600RPM 转速分辨率 ：0.1（＜100RPM）,1（≥100RPM）分装功能：对液体进行精确地定量分装分装液量范围：0.1mL-999L分装次数：1-9999次（“0”为无限循环）分装时间间隔：0.1S-24Hr显示功能 ： 128x32图形点阵液晶显示，流量与转速同屏显示方向控制 ： 运转方向可逆功能操作方式： 旋转编码开关配合薄膜按键操作，用户使用更便捷全速功能：可通过全速按钮实现管路快速填充与排空掉电记忆功能：重新上电后，按掉电前状态继续运行回吸功能：分配模式下运行，泵停机后反向运转一定角度，有效防止液体滴落分配液量校正功能：将实际分配液量值输入，自动进行分配液量校正，分装精度高达±0.5%外部控制功能：选配不同型号的外控模块，可进行启停控制、方向控制、流量控制，均采用光耦隔离方式，0-5V、0-10V、4-20mA、0-10KHz 4种外控模块可选通讯功能：选配通讯模块，可进行RS485通讯控制（使用通用Modbus规约）输出功能：启停、方向输出，频率输出0-10KHz,0C门输出 脚踏开关控制：可选配脚踏开关控制启停 功率消耗：400W适用电源：宽泛电压AC90-260V，50Hz/60Hz工作环境：0-40℃，湿度80%不结露外形尺寸：（长×宽×高）375mm×243mm×333mm(不含泵头)驱动器重量：11.5KG防护等级：IP31选型指南驱动器适用泵头泵头滚轮数可选通道软管转速范围（RPM）流量范围（单通道）（ml/min）iPumpBT4F-BYZ15AYZ15B31,2,3,4,56,7,8,9,1013#0.01-4000.0008-30.9814#0.0027-117.619#0.0052-218.316#0.0086-364.925#0.018-763.317#0.032-136018#0.041-1710YZ25AYZ25B31,2,3,4,5,6,715#0.01-4000.017-695.024#0.029-1190KZ25A31,2,3,415#0.01-4000.029-116824#0.046-197335#0.069-293836#0.095-3698YZ35B31,273#0.01-4000.12-513682#0.18-7995iPumpBT6F-BYZ15AYZ15B31,2,3,4,56,7,8,9,1013#0.01-6000.0008-46.1014#0.0027-178.119#0.0052-336.916#0.0086-556.225#0.018-1176.617#0.032-2111.618#0.041-2416YZ25AYZ25B31,2,3,4,56,715#0.01-4000.017-1066.624#0.029-1700KZ25A31,2,3,415#0.01-6000.029-184124#0.046-320835#0.069-454036#0.095-6061YZ35B31,273#0.01-6000.12-787082#0.18-12000 注：表中流量值为硅胶管实测数据，另有多种进口软管可选产品优势 智能数码操控，精确流量控制，多种控制模式可选，经典工业设计，操作方便可靠，适用宽泛电源，产品种类齐全，专业技术支持工作原理◆泵头由外壳与滚轮组成，软管置于外壳压块与滚轮装置之间工作圆上，软管被压紧成密封状态。 ◆滚轮装置转动 ,滚轮依次挤压软管，将软管内的流体挤压出去，滚轮挤压后， 软管恢复原装，产生真空，将流体吸入。◆在两个滚轮之间的一段泵管形成"枕” 形流体。"枕” 的体积取决于泵管的内径和滚轮的几何尺寸 流量取决于泵头的转速、"枕” 的体积与滚轮每转转产生的 “枕” 的个数三项参数的乘积。

产品介绍： LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的装置，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。 主要用途：步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。可广泛应用于中小规模集成电路、 半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。主要规格：可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光；最小线宽：达500nm；可以配合使用多种型号的正光阻 和负光阻。 可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、 FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。 应用领域：中小规模集成电路；半导体元器件；声表面波器件的研制和生产。产品特点：高精准度； 桌上型、体积小、内建计算机； 可客制化硬件与软件，以符合业界需求， 弹性适用于各种基底与形状。 参数：

一、产品概述：Nikon SF120/130 步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其卓越的成像质量和快速的曝光速度，NSR 2205i14E 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon NSR 2205i14E 成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备利用高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，将掩模图案精确地投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon SF120/130 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.28µ mN.A.0.62曝光光源365nm倍率4:1大曝光现场25mm*33mm对准精度LSA：40nmFIA：45nm四、设备特点Nikon SF120/130步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.28µ m主要用于6寸、8寸及12寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon NSR 2205i12D 步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2205i12D 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon NSR 2205i12D 成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2205i12D 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标： 曝光光源365nm倍率5:1大曝光现场 分辨率0.4µ mN.A.0.63 22mm*22mm对准精度LSA：60nmFIA：70nm四、设备特点Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon NSR 2205i11D步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2205i11D非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得Nikon NSR 2205i11D成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2205i11D能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.4µ mN.A.0.63曝光光源365nm倍率5:1大曝光现场22mm*22mm对准精度LSA：75nmFIA：80nm四、设备特点Nikon NSR 2205i11D步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.4µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述： Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i10C非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得Nikon NSR 2005i10C成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2005i10C能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.45µ mN.A.0.57曝光光源365nm倍率5:1大曝光现场20mm*20mm对准精度LSA：100nmFIA：110nm四、设备特点Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon NSR 2205i14E 步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其卓越的成像质量和快速的曝光速度，NSR 2205i14E 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon NSR 2205i14E 成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备利用高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，将掩模图案精确地投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2205i14E 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.35µ mN.A.0.63曝光光源365nm倍率5:1大曝光现场22mm*22mm对准精度LSA：55nmFIA：65nm四、设备特点Nikon NSR 2205i14E步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.35µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线，广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon EX14C步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon EX14C非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon Nikon EX14C成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备利用高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，将掩模图案精确地投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon SF120/130 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.25µ mN.A.0.6曝光光源248nm倍率5:1大曝光现场 22mm*22mm对准精度LSA：55nmFIA：65nm四、设备特点Nikon EX14C步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.25µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon EX12B 步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，专为 200mm 晶圆的生产而设计。该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其卓越的成像质量和快速的曝光速度，Nikon EX12B 非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得 Nikon NSR 2205i14E 成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备利用高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，将掩模图案精确地投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon SF120/130 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.3µ mN.A.0.55曝光光源248nm倍率5:1大曝光现场22mm*22mm对准精度LSA：55nmFIA：65nm四、设备特点Nikon EX12B步进式光刻机光源波长248nm分辨率优于0.3µ m主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线

一、产品概述：Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i8A非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得Nikon NSR 2005i8A成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2005i8A能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.5µ mN.A.0.6曝光光源365nm倍率5:1 大曝光现场20mm*20mm对准精度LSA：120nmFIA：130nm四、设备特点 Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.5µ m主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon NSR 1755/1505i7A/B步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 1755/1505i7A/B非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得Nikon NSR 1755/1505i7A/B成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 1755/1505i7A/B能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.6µ mN.A.0.6曝光光源365nm倍率5:1 大曝光现场15mm*15mm17.5mm*17.5mm对准精度140nm四、设备特点Nikon NSR 1755/1505i7A/B步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.6µ m主要用于2寸、4寸、6寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

一、产品概述：Nikon NSR 2005i9C步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备，该机型采用先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i9C非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功能提升了生产效率。这使得Nikon NSR 2005i9C成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，随后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。接着，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon NSR 2005i9C能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标：分辨率0.45µ mN.A.0.57曝光光源365nm倍率5:1大曝光现场20mm*20mm对准精度LSA：120nmFIA：130nm四、设备特点Nikon NSR 2005i9C步进式光刻机光源波长365nm分辨率优于0.45µ m用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

产品参数 ● 四个轴，XY平台双轴，A胶泵、B胶泵各一个轴，每个胶泵都由步进电机驱动。● 产品规格参数：有数字编程和对针编程两种输入方法。数字编程的产品在点胶时将按照标准的行列顺序点胶；对针编程的产品在点胶时将按照对针示教时的路径点胶。● 支持两个工件托架，对两盘工件依次点胶。一盘在点胶时，另一个工件托架就可以取出或放入，提高效率。● 两遍点胶。一个工件可以点一遍胶，也可以点两遍胶。 硬件指标 ●STM32系列高性能ARM处理器（32位），程序存储空间384KB，内存64KB，外部数据存储空间32KB（SPI存储芯片），字库芯片，蜂鸣器，电池，实时时钟。●128 × 64 点阵图形液晶显示屏，可以显示16点阵汉字4行8列。●23个优质轻触按键。●四轴脉冲方向输出，可达100KHz，脉冲 + 方向，差分输出，也可以共阳输出，脉冲、方向电压幅度5V。四轴可以联动。●18路光耦隔离24V开关量输入，NPN方式，低电平有效。●14路光耦隔离NPN集电极开路输出，每路驱动能力高达2A，可以直接驱动24V电磁阀。●2路ADC输入，电流互感器输出信号作为输入，也可直接接入0~5VDC输入。●单工作电源，24VDC，带插反保护。 软件环境 ●使用Keil ARM开发环境，提供开发库函数、头文件。●通用精简多任务系统（MS5），不用操作系统。●32位脉冲个数，也可以发无限脉冲，中途可以随时减速停止，也可以立即停止。●已发脉冲数随时可以读出。脉冲停止后仍可读出。●串口下载及调试，波特率可以达到460800。 使用环境 ●工作温度：-20~60℃●储存温度：-20~70℃●工作湿度：0~85%●储存湿度：0~95% 成熟控制系统 ●LED模组焊线机控制系统●LED模组点胶机控制系统●LED灯串灌胶机控制系统●双头对钻钻孔机控制系统●多钻头钻切机控制系统●开料机控制系统●双轴攻牙机控制系统●圆环钻孔机控制系统●直管钻孔机控制系统●超声波商标切标机控制系统●送料切料机控制系统 ARM（STM32F103），128×64小屏，四轴，18路DI，14路DO，2路AD，串口下载。可定制零轴—四轴，价格请咨询客服，谢谢！

BHMC系列运动控制器产品型号齐全，功能丰富，稳定性好，性价比高。可与我公司各种配备步进电机的电动平移台、旋转台、升降台组成可靠的高精度运动控制系统。☆ 主要特征：■控制器本身控制按键功能齐全，可进行全功能脱离PC机操作；■连接PC的人机界面和控制器本身的操作按键均可实现灵活的点动功能和增量控制■具有完善的点动、相对运动、绝对运动、速度运行、目标运行等多种模式；■可根据需要选择脉冲数、角度值、毫米不同的度量单位，并实现内部自动换算，使用更便捷：◆ 脉冲数：控制器基本的控制单位； ◆ 角度值：用于角度位移量的显示； ◆ 毫米单位：用于直线位移量的显示（电动线性位移台）；■高亮LCD显示，可在室外操作；■内置存储器，各项已设置参数，掉电不丢失，避免了重复设置参数的烦恼；■各轴拥有独立的上下限位及光电零位识别功能；■具有软件限位及软件零位功能；■配备USB2.0通讯接口，方便与台式机和便携式PC机通信；■提供USB驱动，DLL类库，方便用户进行二次开发；■产品稳定性高，抗电磁干扰能力强.1. BHMC100系列运动控制器 技术规格：产品型号BHMC101BHMC102BHMC103BHMC104BHMC105BHMC106产品名称单轴运动控制器双轴运动控制器三轴运动控制器四轴运动控制器五轴运动控制器六轴运动控制器运动控制点动、相对运动、绝对运动、速度运行、目标运行等多种非同步模式传感器上限位开关和下限位开关通讯接口USB2.0内存8MB Flash Non-Volatile Firmware显示面板高亮LCD显示，192×64点阵，104mm×39mm步进电机控制二相混合式42/57步进电机细分可调,64x max.开环控制360kHz 脉冲频率供电电压AC220V±10%/50Hz重量（Kg）4.5kg max 尺寸300x260x160mm

一、产品概述：Canon FPA3000 EX4 是一款高性能的步进式光刻机，专为半导体制造业设计，适用于生产高精度的集成电路。该设备以其卓越的成像能力和高生产效率而闻名。二、设备用途/原理：Canon FPA3000 EX4 步进式光刻机主要用于半导体制造、微机电系统和光电器件的生产。其工作原理包括使用高强度光源照射涂有光刻胶的硅晶圆，通过光学系统将掩模上的图案投影到晶圆表面，形成图案后进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶。随后，图案被转移到晶圆材料上，通过刻蚀工艺完成最终图形的制作，最后去除残留光刻胶。该设备以其高分辨率和高效的曝光能力，确保了在先进制造领域的应用。三、特色参数：分辨率0.25µ mN.A.0.4~0.6曝光光源248nm倍率 5:1大曝光现场22mm*22 mm对准精度60nm四、设备特点1.高分辨率成像支持高达 300mm 的晶圆尺寸，能够实现精确的图案转移，满足先进半导体制程的需求。2.快速扫描速度采用高效的扫描技术，显著缩短生产周期，提高生产效率，适合大批量制造。3.先进的光学系统配备高性能光学元件，确保在复杂图形上的成像质量和清晰度。4.用户友好的操作界面设计简洁、直观，结合自动化功能，降低操作难度，提升用户体验。5.高可靠性与稳定性设备经过精心设计，适合长时间连续运行，降低维护需求和成本。6.灵活的应用能力能够适应多种制造需求，包括集成电路、MEMS 和光电器件等。7.环境适应性强设计考虑到不同的生产环境，确保在各种条件下均能稳定运行。

1.流量范围：0.0008-12000mL/min2.采用7寸触摸屏控制3.具有软管老化报警功能4.智能存储灌装方案，节省参数设置时间5.智能校准与在线微调功能，提供更高的流量精度6.采用高性能数字DSP芯片，控制精准，流量精度高典型应用实验室领域如试剂等分装工业领域如制药、日化行业等分装 产品特点产品型号： iPumpBT4F-2B iPumpBT6F-2B 转速调节范围：0.1-400RPM 0.1-600RPM 分装功能：对液体进行精确地定量分装分装液量范围：0.1mL-999L分装次数：1-9999次（“0”为无限循环）分装时间间隔：0.1S-24Hr显示功能 ： 大尺寸触摸屏显示，流量转速等参数同屏显示软管老化报警：软管达到一定的使用时间后，自动报警 流量统计功能：在工作时间内统计传输总液量掉电记忆功能：重新上电后，按掉电前状态继续运行流量校正功能：流量自动校准功能，流量精度高达±0.5%外部控制功能：选配不同型号的外控模块，可进行启停控制、方向控制、流量控制，均采用光耦隔离方式，0-5V、0-10V、4-20mA、0-10KHz 、脚踏开关5种外控模块可选通讯功能：选配通讯模块，可进行RS485通讯控制（使用通用Modbus规约）输出功能：启停、方向输出，频率输出0-10KHz,0C门输出 噪音控制：智能温控系统，最大限度降低蠕动泵噪音功率消耗：400W适用电源：宽泛电压AC90-260V，50Hz/60Hz工作环境：0-40℃，湿度80%不结露外形尺寸：（长×宽×高）375mm×243mm×333mm(不含泵头)驱动器重量：14.3KG防护等级：IP31选型指南驱动器适用泵头泵头滚轮数可选通道软管转速范围（RPM）流量范围（单通道）（ml/min）iPumpBT4F-2BYZ15AYZ15B31,2,3,4,56,7,8,9,1013#0.01-4000.0008-30.9814#0.0027-117.619#0.0052-218.316#0.0086-364.925#0.018-763.317#0.032-136018#0.041-1710YZ25AYZ25B31,2,3,4,5,6,715#0.01-4000.017-695.024#0.029-1190KZ25A31,2,3,415#0.01-4000.029-116824#0.046-197335#0.069-293836#0.095-3698YZ35B31,273#0.01-4000.12-513682#0.18-7995iPumpBT6F-2BYZ15AYZ15B31,2,3,4,56,7,8,9,1013#0.01-6000.0008-46.1014#0.0027-178.119#0.0052-336.916#0.0086-556.225#0.018-1176.617#0.032-2111.618#0.041-2416YZ25AYZ25B31,2,3,4,56,715#0.01-4000.017-1066.624#0.029-1700KZ25A31,2,3,415#0.01-6000.029-184124#0.046-320835#0.069-454036#0.095-6061YZ35B31,273#0.01-6000.12-787082#0.18-12000 注：表中流量值为硅胶管实测数据，另有多种进口软管可选 产品优势 智能数码操控，精确流量控制，多种控制模式可选，经典工业设计，操作方便可靠，适用宽泛电源，产品种类齐全，专业技术支持工作原理◆泵头由外壳与滚轮组成，软管置于外壳压块与滚轮装置之间工作圆上，软管被压紧成密封状态。 ◆滚轮装置转动 ,滚轮依次挤压软管，将软管内的流体挤压出去，滚轮挤压后， 软管恢复原装，产生真空，将流体吸入。◆在两个滚轮之间的一段泵管形成"枕” 形流体。"枕” 的体积取决于泵管的内径和滚轮的几何尺寸 流量取决于泵头的转速、"枕” 的体积与滚轮每转转产生的 “枕” 的个数三项参数的乘积。

一、产品概述：Nikon NSR G线步进式光刻机是一款专为半导体制造设计的高精度设备，该机型采用 G 线光源和先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和精确的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，NSR G线非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和自动化功能大大提升了生产效率。这使得 Nikon NSR G线成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。二、设备用途/原理：该设备通过高强度的 G 线光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。随后，采用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。这一系列步骤使得 Nikon NSR G线能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。三、主要技术指标： 分辨率0.65µ mN.A.0.6曝光光源436nm倍率5:1大曝光现场15mm*15mm17.5mm*17.5mm对准精度140nm四、设备特点Nikon NSR G线步进式光刻机光源波长436nm分辨率优于0.65µ m主要用于2寸、4寸、6寸生产线广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等

iNS系列步进纳米压印设备具备自动对焦、自动对准、自动压印能力，可应用于玻璃母模、扇出压印、微透镜阵列、光波导镜片、MEMS等领域。

步进式光刻机 LSLM-500产品介绍： LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的装置，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。 步进式光刻机 LSLM-500主要用途： 步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。可广泛应用于中小规模集成电路、 半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。步进式光刻机 LSLM-500主要规格： 可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光；最小线宽：达500nm；可以配合使用多种型号的正光阻 和负光阻。 可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、 FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。 应用领域：中小规模集成电路；半导体元器件；声表面波器件的研制和生产。产品特点： 高精准度； 桌上型、体积小、内建计算机； 可客制化硬件与软件，以符合业界需求， 弹性适用于各种基底与形状。参数：

K21型控制箱是一种双控控制器，可以同时控制以步进电机作为动力源的旋转型接收器（滚筒收集器、细杆收集器）和以步进电机作为动力源的往复运动滑台针头架的控制装置，可以同时控制接收器在0-1000rpm范围内旋转和控制针头以0-1000mm/min的速度往复运行。 产品特点： 操作简单 设有紧急断电按钮，确保使用安全 可精密控制旋转型收集器的步进电机，可以有效控制收集滚筒在0-1000rpm的区间转动 转速精度为±0.1rpm（＜300rpm） /±1rpm（＜1000rpm） 设有方向切换按钮，一键切换方向 技术参数： 接收器速度调节范围： 0-1000 /1 mm/min（0-300/0.1 mm/min） 往复滑台速度调节范围： 0-1000/1 mm/min（0-300/0.1 mm/min） 外形尺寸(W*D*H)：275*250*110mm重量：4.5KG电源：AC220V 50Hz

高低温步进电机-高低温模组-高低温驱动器高低温步进电机-真空步进电机-高低温伺服电机-高低温模组-高低温电动缸-高低温减速机-真空伺服电机丝杆模组滑台高温低温真空模组 型号：VC60、VC90、VC120行程：50-800（接受定制）导程：2-35重复定位精度：±0.05mm蕞高转速：1000rpm真空模组，可在10-7PA的真空环境下运行，耐温达200℃，真空模组的设计首要考虑机构和材料。此系列产品大部分组件采用不锈钢加工或热膨胀系数相当的并且出气率低的材料。此系列产品主要应用于真空室。高温室，高洁净度环境。特点：一体化设计，可靠易用标准化设计制造60，90，,120三种规格，可定制其他规格工作环境温度-196℃至200℃• 真空步进电机（真空、高温、深低温）东莞市臻上机电设备有限公司 主营：德国J?ger电主轴、真空/高温/深低温、步进电机/伺服电机、真空减速机、真空运动模组、军品级步进驱动器等配套产品。详细情况请与我们联系。真空级电机，真空步进电机，电机上的真空装置是什么，电机在真空中能工作吗。电机真空浸漆，抽真空电机，真空电机与普通电机区别，真空电机是什么，微型真空电机，为什么电机转动会产生真空，高温高湿电机，真空中对电机的影响。

CAPP Rhythm 步进式移液器产品描述：? 简单易用单手量选择、装载和分配。? 广泛的体积选择范围涵盖从 1μL 到 5mL 的全套点胶量。? 坚固的设计和结构较低的维护要求，几乎没有零件磨损。? 散装或无菌重新提示容积式一次性注射器不仅是重复性工作的选择，而且在防止交叉污染或移液粘性液体方面也是可靠的移液工具。技术方面：CAPP节奏点胶量设置12345提示/步骤4823151180.05 ml1ul2ul3ul4ul5ul0.50 ml10ul20ul30ul40ul50ul1.00 ml20ul40ul60ul80ul100ul1.25ml25ul50ul75ul100ul125ul2.50 ml50ul100ul150ul200ul250ul5.00 ml100ul200ul300ul400ul500ul12.50 ml250ul500ul750ul1000ul1250ul25.00 ml500ul1000ul1500ul2000ul2500ul50.00 ml1000ul2000ul3000ul4000ul5000ul

尼康步进光刻机 Nikon NSR 2005 i8A 6 Inch