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高纯气
仪器信息网高纯气专题为您提供2024年最新高纯气价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括高纯气参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的高纯气您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合高纯气相关的耗材配件、试剂标物,还有高纯气相关的最新资讯、资料,以及高纯气相关的解决方案。
高纯气相关的方案
天美赛里安气相在高纯气体的应用——高纯氢测定
本应用采用456i气相色谱仪多阀系统的PDHID测定高纯气体,符合标准GB/T 40045-2021与GB/T 3634.2的测试要求。
新型高纯氧分析进样器及其应用方案
在气体分析方法中,气相色谱法是应用最为广泛的技术方法,然而,气体中的氧和氩组份,在气相色谱分离中较难分开,往往是以氧和氩的总和(混合峰)表现出来,所以,在工业氢中氧、氩、氮的测定和电子工业用氧中的微量氩、氮的测定方法中都应用了脱氧柱技术,其中401脱氧剂在脱氧容量、脱氧深度(10-9级)及其可反复活化再生使用等优点,已被各气体分析标准方法中确定选用。但是,401脱氧柱的正常反复应用,必须对其进行100℃、200℃、300℃、400℃、450℃的长时间通氢活化处理,这就给分析工作带来不便,往往需要自己搭建一个气路控制系统和购置一个合适的高温炉来处理,而处理时必须将401脱氧柱从进样系统上拆装,在活化处理后的拆装过程中,难免脱氧剂要接触空气中的高浓度氧,就会造成活化好的脱氧柱的脱氧容量的损失。对于高纯氧分析,脱氧容量的减少,就会缩短活化周期和明显影响分析工作效率。为此,我们研发了新型的高纯氧分析进样器(专利技术)与科创GC8800H型气相色谱仪配套使用,实现了高效率工作分析高纯氧气体中的微量氩和氮。将双脱氧柱改为单脱氧柱,就可方便地实现工业氢中氧、氩、氮的测定。
气相色谱(BID检测器)测定高纯氦气中杂质
本文利用岛津GC-2010 Pro气相色谱仪,结合高灵敏度、通用型BID检测器建立了分析高纯氦气中杂质的方法。该方法采用带隔垫吹扫的六通阀进样,分析高纯氦气中微量H2、O2、N2、CH4、CO、CO2、C2H4、C2H6、C2H2,具有灵敏度高、稳定性强的特点。使用BID检测器方法检出限H2<1.0ppm,其他组分<0.5ppm;重复性好,RSD%≤ 2.0%;使用在线开关阀,连接好标气或者催化反应气,设定方法后,可实现无人值守,快速分析。
带有脉冲放电氦离子检测器(PDD)的气相色谱仪在高纯氨气分析中的应用
介绍带有脉冲放电氦离子检测器的气相色谱仪检测高纯气体中的痕量杂质,并通过具体实例对高纯气体中杂质的定量分析时可能遇到的问题进行讨论。关键词 脉冲放电氦离子 高纯氨 痕量杂质 定量分析
高纯、超纯氢气的检测
此仪器是由GC2002气相色谱仪和辅助阀箱组成,配置了一个PDHID检测器,四个进口气动机械阀(两个十通阀和两个六通阀),一个氦气纯化器,一根预柱(PLOT Q)和分析柱(PLOT 5A)安装在辅助柱箱中,一根分析柱(PLOT 5A)和分析柱(PLOT U)安装于色谱仪柱箱内。
高纯、超纯氢气的检测
此仪器是由GC2002气相色谱仪和辅助阀箱组成,配置了一个PDHID检测器,四个进口气动机械阀(两个十通阀和两个六通阀),一个氦气纯化器,一根预柱(PLOT Q)和分析柱(PLOT 5A)安装在辅助柱箱中,一根分析柱(PLOT 5A)和分析柱(PLOT U)安装于色谱仪柱箱内。
福立高纯气体分析方案
在高纯气体行业或在煤化工、石油化工等行业,对气体纯度要求非常高,普通色谱检测器无法满足要求,本方案选用原装进口Valco公司高灵敏度的氦离子化(PDHID)检测器,采用中心切割与反吹技术,配置具有吹扫保护气路的进样切换阀和进口氦气纯化器,可以实现一次进样检测高纯气体中微量H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO、CO2杂质
AGC DID氦离子气相色谱分析仪在 He、Ne 提纯工艺中的应用高纯氖分析、高纯氦分析、氖中氦分析
随着社会的发展,特种气体不再是只局限于科研单位的研究对象,而是逐渐走向民用化、产业化,人们对特种气体的需求量也越来越大。而高纯的氦气、氖气作为特种气体中少有的几种惰性气体,不仅科研价值极高,而且应用的领域也越来越广泛。涉及到诸如电子、点光源、激光、超导、光导纤维、低温、等离子体显示器、航天及医疗等诸多领域。在氦气和氖气的提纯工艺中,需要使用到多台仪器设备来对主要的监测点进行监测,然后根据结果适时地调整工艺参数,最终生产出优质的高纯氦气和氖气。在氦气和氖气提纯时,在四个主要的监测点上选用了多台色谱分析仪来完成此项工作,此套设备中所采用的分析仪器均来自于爱尔兰AGC公司。1、粗He/Ne除氮后的N2含量分析2、粗He/Ne除氮系统后的He/Ne/H2/N2含量的分析 3、产品He的纯度分析4、产品Ne的纯度分析,包括氖中氦分析
准确快速测定高纯氮气中的杂质含量
摘要: 简介了基于中心切割和脱氧法的HE50 型DID 氦离子化放电色谱仪的工作原理和工作条件等参数。武钢氧气公司从实际生产出发, 对色谱仪的气路流程进行了改进, 经过分析试验,建立了一套完整的分析方法。对高纯氮气中杂质含量的测量结果显示, 该分析方法可以满足生产需要, 从而达到准确、快速测量高纯氮气中杂质含量的目的。
高纯氩气中微量氮的(PDHID—GC)测定方法
:针对高纯氩气中存在着微量氮难以分析的问题,采用脉冲放电氦离子检测器气相色谱法(简称PDHID—Gc)测定氩气中微量氮。该方法采用六通阀进样,检测器温度250 cI二,高纯氦气做载气,氮浓度在5 p.mo1]mol一50 p~nol/mol时,标准曲线线性良好,测定了氩气中微量氮气体标准物质GBW 06309,结果与标准值基本一致,表明该方法操作简便、准确度高。关键词:气相色谱;氩
高纯绷烷中氢的低温气相色谱分析
高纯硼烷在半导体工艺中是重要的掺杂剂,它的纯度很大程度决定了半导体器件的质量。高纯硼烷的杂质分析一直是电子气的“老大难”。根据半导体工艺的要求,硼烷中的有害杂质主要是指氧、水、一氧化碳、二氧化碳和甲烷等,考虑到提纯方法和制造过程中系统泄漏而造成大气环境中 氧 和 水 对 硼 烷 的 污 染(氧 占 ,!S,水 占!O.S T ,S)。
高纯、超纯氩气的检测
高纯氩气中微量杂质分析-20201009
高纯、超纯氩气的检测
高纯氩气中微量杂质分析-20201009
手持激光诱导光谱仪在高纯铝检测方面的应用
星帆仪器专为高纯铝检测应用定制了特殊的手持激光诱导击穿光谱仪,采用高功率的微型化纳秒激光技术及化学计量学中先进的光谱去噪算法,可以对高纯铝中的微量元素进行精确定量分析,从而可以对高纯铝的纯度做出判别。
高纯铁中的钨和钒的检测
微量杂质钨和钒的含量直接影响高纯金属的物理和化学性能。常用分析方法如萃取法具有分析周期长、环境危害大等特点。本文采用标准基体匹配和电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)测定合金钢中的钨(W)和钒(V)元素。结果表明该方法具有分析快速、准确度高、精密度好和检出限低等特点。
谱育科技SUPEC 7000测定高纯钽中6种元素
SUPEC 7000测定高纯钽中6种金属元素含量,通过方法检出限、加标回收率、精密度验证仪器性能;实验结果表明:元素检出限在0.002~0.353 ?g/Kg之间,方法精密度(n=5)2.54%~6.77%之间,加标回收率91.6%~106.5%之间;该方法检出限低、重现性好、准确度高,满足高纯钽检测需求。
iCAP TQ ICPMS测定高纯稀土氧化铈中 镨、和钆杂质元素
高纯稀土通常是指纯度高于99.99%的稀土金属或其氧化物,具有特殊的物理化学性质, 在高科技领域和军工领域有着广泛的应用。高纯稀土材料中存在的其它稀土杂质元素常会对最终产品的功能产生影响,因此,必须严格控制高纯稀土的杂质。本实验采用iCAPTQ ICPMS测定纯度为99.99999%(6N,行业上通指稀土杂质元素含量)高纯氧化铈中的镨和钆元素杂质。
气相色谱法分析高纯氦气中氖气等微量杂质
本文使用岛津GC-2014气相色谱仪结合甲烷转化炉、FID和PDHID检测器建立了高纯氦气中微量杂质的分析方法。采用两个吹扫六通阀自动进样,超纯氦气做载气表现出良好的重现性和检出限。氖气最低检出限可达0.10μ L/L,其余10种组分最低检出限均可达0.01μ L/L,完全满足GB/T 4844-2011对超纯氦杂质分析的需求。
高纯蒸汽和高效电力生产的TOC和硼的在线监测
电力公司使用在线型监测工具来检测锅炉给水中的有机物及硼,以保护设备资产、控制水处理工艺。保证蒸汽纯净,就能最大程度地提高生产效率,最大程度地减少停机时间,从而确保电力和天然气的生产、配送、销售。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Mg含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量杂质
高灵敏度 iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量元素,通过 Qtegra 自动调谐功能,在 Qcell 加入高流量的氧气反应,将 MoO 转化为多氧化钼,将干扰质量数进行迁移,与 Cd 测定同位素分开,从而消除干扰,以满足高纯氧化钼中镉的测定。?
iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量杂质
高灵敏度 iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量元素,通过 Qtegra 自动调谐功能,在 Qcell 加入高流量的氧气反应,将 MoO 转化为多氧化钼,将干扰质量数进行迁移,与 Cd 测定同位素分开,从而消除干扰,以满足高纯氧化钼中镉的测定。
高纯超细氧化铝在锂离子电池行业中的应用
氧化铝(Al2O3)是一种白色晶状粉末,是一种无臭、无味、无毒的高硬度、耐高温化合物,熔点为2054℃,沸点为2980℃。粒度均匀的超细氧化铝粉体材料,具有多孔性、高分散性、绝缘性、耐热性等特点。高纯氧化铝按纯度分类,主要分为4N(纯度99.99%)、4N5(纯度99.995%)和5N(纯度99.999%)三个级别。5N级别的高纯氧化铝称为高纯超细氧化铝,通常用于锂离子电池、催化剂载体、透明陶瓷等领域。下面,我们就来探讨高纯超细氧化铝在锂离子电池行业中的应用。
快速分析高纯金属(合金)元素含量-HS XRF
高纯金属(合金)的分析常采用ICP-MS等手段,需要破坏样品,处理复杂,对前处理工艺要求较高。北京安科慧生自主研发的高灵敏度X射线荧光光谱仪(HS XRF)能够胜任分析2N-5N的高纯金属以及高纯合金;先进的快速基本参数法,即使在欠缺标准样品情况下,也可对杂质元素准确定量。
高纯氯化氢的痕量杂质分析解决方案
高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料,也可用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,除了应具有99.999%以上的纯度,对其中杂质的含量要求越来越苛刻,尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量,以防止硅片加工过程中碳的形成。之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢,但近年来,我国电子工业所需的化学气体研制,在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品,但还远不能满足市场需求,市场前景广阔。
含铜高纯净钢时效过程中铜偏聚区的演变
利用高分辨透射电镜研究了含铜高纯净钢时效过程中铜偏聚区的形貌与结构变化,在此基础上分析了含铜钢的时效强化机制。结果表明,含铜钢固溶态与时效初期铁素体基体存在铜原子偏聚区,随时效时间延长,在时效硬度峰处铜偏聚区演变为富铜的亚稳Fe-Cu颗粒,该富铜析出相与基体呈半共格关系,其周围与内部存在的高密度位错与层错构成位错运动的阻碍,这可能是导致含铜钢时效强化的主要原因。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Cu元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
赛默飞推出iCAP Qc ICP-MS 测定高纯氧化钼中Cd 等痕量杂质的解决方案
本方法将高纯氧化钼溶解于稀氨水中,采用iCAP Qc ICP-MS,分别采用高流量He 气碰撞和CCT 氧气反应模式测定,通过Qtegra 自动调谐功能,在Qcell 加入高流量的氧气反应,将MoO 转化为多氧化钼,将干扰质量数进行迁移,与Cd 测定同位素分开,从而消除干扰,以满足高纯氧化钼中镉的测定。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中杂质元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
原子发射光谱法测定高纯镍粉中Ca元素含量
高纯镍粉中杂质含量是其质量控制的重点项目之一,本文研究建立了一种快速准确的高纯镍粉中杂质含量分析测试方法。采用王水溶解样品,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了高纯镍粉中杂质元素Mg、Ca、Fe、Cu 含量。实验确定了以285.213 nm、393.366 nm、259.939 nm、324.752 nm 分别作为Mg、Ca、Fe、Cu 的分析谱线,并对仪器工作条件进行了优化。优化得到最佳仪器工作条件为:射频功率1100 W、雾化气流速0.8 L/min 和观测高度15 mm。实验结果表明:镍基体对待测元素的影响可通过基体匹配的方法克服,各元素的校准曲线线性相关系数均不小于0.999,方法中各元素的检出限为0.0002%~0.0011%。方法应用于镍粉样品中杂质元素含量的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=4)在1.1%~5.7%之间,且测定结果与样品质保书中测定结果相符。
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