偶联剂

maXis II 开启精确质量 LC-MS/MS 分析的新时代　　maXis II 在广泛的应用领域展现出前所未有的性能和解决更具挑战性分析难题的能力，这预示着maXis II 正在开启QTOF技术新时代。maXis II 同时提供全方位市场先进的性能指标。布鲁克公司超高分辨QTOF技术在提供准确质量的LC-MS/MS领域已经达到新高度。另外，maXis II 提供电子转移解析(ETD)功能，能够分析包括单克隆抗体亚基在内的整体大蛋白序列分析。可选功能“HighMass”有利于表征大分子和天然状态的蛋白质复合物如抗体药物偶联物。　　无与伦比的多功能性　　配备上TOF创新技术，布鲁克 maXis II 拥有创纪录的全灵敏度分辨率（ FSR ） 80,000。这预示着QTOF技术迎来了一个新时代，在应用领域有着前所未有的性能来解决极具挑战性的分析难题。maXis II 做到了只有TOF才能做到的整合解决方案：灵敏度、光谱精确度和动态的范围、横跨整个仪器的质量范围。　　分子分析确定　　来自于 maXis II 的高质量数据，有准确的质量和真实的同位素模型(TIP)，结合布鲁克的独特的从头计算公式发现工具，SmartFormula™ 和SmartFormula 3D™ ，提供了更大程度的准确分子式。　　增强分辨率、TIP和质量精确性的好处　　增强分辨率和质量精确性与单克隆抗体异质亚单位的完整表征密切相关。MaXis超强性能增强了单抗亚基小分子修饰检测中单一同位素质量的准确性，例如脱酰胺。　　maXis II 适用范围：　　抗体表征(完整蛋白与亚基)　　分析整蛋白和蛋白质组　　蛋白复合物　　小分子鉴定与定量　　采用High Mass可选功能，获取天然态质谱图　　电子转移解析(ETD)功能(可选)

目前新能源，电子信息等高新制造业中我们常常会使用电子浆料，这种浆料是由悬浮在有机载体中的粉末，无机或高分子粘结剂构成的固体颗粒或有机液体混合的体系，它通过印刷等方式应用于电子元器件中，形成具有特定功能的模块。 而其体系的稳定性、多相结构的亲和性对浆料的储存与使用具有直接影响，传统的亲和性的表征手段主要包括使用动态光散射 测试粒子的分散态，利用TEM,SEM等观察颗粒的形貌、团聚状态，但都有其局限性：光散射方法需要稀释样品，不适用于不透光浆料；TEM/SEM需要颗粒与溶剂分离，且只能观测局部小视野下的情况。颗粒表面亲和性分析仪可实现不透光样品，1ml以 上样品的整体亲和性分析。产品简介：纽迈分析颗粒表面亲和性分析仪PQ001，配有专业的测试软件，方便快捷，人性化的软件操作确保高效的测试效率。 颗粒表面亲和性分析仪在外观设计、硬件配置、软件操作方面融合了先进的技术并不断升级，确保了卓越的产品性能与友好的客户体验的完美结合。纽迈分析颗粒表面亲和性分析仪PQ001产品功能：悬浮液体系颗粒湿式比表面积粒子分散性、稳定性评估颗粒与介质之间亲和性评价粉体质量控制、分散工艺、研磨工艺研究表面活性剂含量分析顺磁铁磁性杂质识别颗粒改性增强效果评价纽迈分析颗粒表面亲和性分析仪PQ001性能优势：制样简单，无有毒溶剂 快速 非光学方法，可测不透光样品 具有统计意义的结果 样品可重复测量 由未经培训的人员进行测量 可现场测试 应用案例：采用以上三种硅烷偶联剂对硅微粉进行表面处理，均使 得分散体系的驰豫率RSP值变大，说明这三种硅烷偶联 剂都能够改善树脂颗粒与溶剂的亲和性。 其中，氨基硅烷偶联剂处理的悬浮液体系驰豫率RSP值 最大，说明其对溶液两相之间的亲和性改善效果最好。

检测项目明细物理性质外观色泽、比重、结晶点、闪点 、折光率、热稳定性、环氧值、热分解温度、运动粘度、凝固点、酸值纯度灰分、水分、加热减量、皂化值、酯含量胶种评定挥发份 、灰分 、拉伸强度、定伸强度生产参数检测门尼粘度、热稳定性、剪切稳定性、硫化曲线、门尼焦烧时间物性表观密度、熔点、软化点、结晶点、粘度、酸度、吸碘值斯坦德检测为您提供各种化工助剂的质检报告助剂种类明细橡胶助剂各种无机填料、硫化助剂(硫化剂、交联剂、促进剂、活化剂和防焦剂) 、 补强助剂(炭黑、白炭黑、金属氧化物、无机盐、树脂)防护助剂 抗氧剂、 抗臭氧剂、 抗屈挠龟裂剂、 光稳定剂、 紫外光吸收剂、 有害金属抑制剂、 物理防老剂、防白蚁剂（防霉剂)工艺操作助剂 塑解剂、增溶剂、增塑剂、软化剂、均匀剂、润滑剂、分散剂、增粘剂、隔离剂、脱模剂特殊助剂着色剂、发泡剂、消泡剂、增稠剂、膏化剂、湿润剂、乳化剂、稳定剂、凝固剂、 热敏剂、抗蹼剂、防腐剂、保存剂、阻燃剂、抗静电剂、芳香剂等塑料助剂增塑剂（邻苯类增塑剂等）、热稳定剂、抗氧剂（168、1010等）、光稳定剂、阻燃剂、发泡剂、抗静电剂、防霉剂、着色剂、 增白剂、填充剂、偶联剂、润滑剂、脱模剂 涂料颜料助剂:催干剂、增韧剂、乳化剂、增稠剂、颜料分散剂、消泡剂、流平剂、抗结皮剂、消光剂、光稳定剂、防霉剂、抗静电剂等胶黏剂助剂固化剂、交联剂、引发剂、光引发剂、催化剂、促进剂、增韧剂、增黏剂、增塑剂、增稠剂、 稀释剂、溶剂、偶联剂、乳化剂、增强剂、填充剂、阻燃剂、阻聚剂、氧化剂、软化剂、防老剂（PAN、6PPD）助剂、分散剂、发泡剂、消泡剂、杀菌及防腐剂、着色剂 钻井液生物降解性 SY/T 6788 铅镉铬汞砷 SY/T 6788 其他助剂防冻液、切削液、钻井液、聚合助剂、表面处理剂、融雪剂、减水剂、增白剂、脱模剂、防锈剂、催化剂、制冷剂、防水剂、水处理剂、添加剂、脱砷剂、脱硫剂、脱氯剂、脱汞剂、车用尿素等

OROBOROS O2K细胞能量代谢分析系统Oroboros O2k是目前国际认可度的细胞能量代谢测量/分析产品。O2k系统通过高分辨率的极谱氧电极和全功能的荧光技术实现对样本的线粒体呼吸功能以及生物体的能量代谢进行精 准 定量及分析。O2k已经成为国际线粒体研究的标准，其应用范围几乎涉及所有与细胞或线粒体能量代谢相关的领域。多功能参数检测：可同时检测耗氧率、呼吸速率、呼吸控制比率、PH值、膜电位、离子浓度、自由基、ROS、ATP、Ca2+、NO、质体醌、NADH、植物氧气释放速度。多种样品适用：可用于直接测量线粒体、细胞、组织器官，或者细菌、植物细胞等。性能特点：双通道系统；测量样本容量1.5ml-3.5ml；温度范围：4-47℃，可进行低温试验；具有可变速的磁力搅拌功能；极谱氧电极传感器，检测氧流量分辨率为1 pmol O2 s-1 ml-1 ；荧光检测单元：双通道/四通道；荧光检测参数包括：线粒体膜电位、H2O2、ATP、Ca2+、Mg2+；样品仓为杜兰玻璃、钛金属等低活性的材质，减少低背景氧干扰；同步显示流动氧的浓度；自动进行氧信号的校正；双通道微量注射泵，具有注射和回抽的功能，自动化控制，可在软件的编程下进行定时定量的准确加样，不限制加样次数；专用组织匀浆工具，采用匀浆管技术对样本进行研磨，样本需求量少至几毫克；可自由设计实验，根据实验设计实时的加入不同的试剂去改变线粒体的呼吸，不限加药次数；强大的DatLab软件功能：可实时显示并记录所有测量参数；可在实验过程中随时更改实验设计；可自动进行氧气等参数的校准；具有Protocol编程功能，支持客户自定义编程以便重复实验，同时厂家提供多种Protocol程序，方便客户选用。Oroboros O2K技术优势：高精度电极检测方法实验使用试剂开放，无实验耗材消耗封闭性检测环境，可进行低氧/常氧/高氧实验拥有加热/制冷模块，可实现电子控温，温度精度高准确定量检测方式，直接检测样本消耗pmol O2 的含量具有搅拌系统的检测腔，确保腔室内样本溶液均匀，可提高检测样本的准确性和实验重复性采用模块化结构特点，更灵活地满足不同研究方向的使用需求，节约了购买成本 。Oroboros O2K产品型号：Next Gen-O2k PhotoBiologyNext Gen-O2k all-in-oneO2k-FluoRespirometerStartup O2k-Respirometer应用演示一：实验利用寡霉素关闭细胞氧化磷酸化而降低耗氧率的方法，使细胞呼吸达到Leak水平；实验第30分钟开始加入5uM解偶联剂，并每间隔120秒逐量增加0.5uM，实验数据结果显示，O2含量呈逐步下降趋势，耗氧率随解偶联剂的浓度上升而增强，达到较大耗氧率。应用演示二：实验样本为不同量的人类股外侧肌组织，将样本A 3.4mgWw与样本B3.4mgWw 置于双通道的细胞代谢测量分析系统中，分别加入苹果酸、辛酰肉碱、ADP、谷氨酸、琥珀酸、鱼藤酮、丙二酸、粘噻唑、以及抗霉素等，观察细胞的耗氧率情况，进而了解细胞的能量代谢机制。红色曲线为样本A，绿色曲线为样本B，实验数据显示不同量样本加入相同剂量的药物后耗氧率变化相同。应用演示三：测量细胞为小鼠骨髓癌细胞，实验中使用TIP 2k微型滴定泵加入FCCP，实验设定滴定间隔120秒，循环滴定15次，加药浓度从0.5uM-7.5uM。O2含量逐步下降，耗氧率随解耦联剂FCCP的不同浓度的变化而不同。应用演示四：实验为测量小鼠心肌细胞的耗氧率与H2O2之间的相互作用。实验中分别添加活性氧、琥珀酸盐、谷氨酸、ADP、寡霉素、FCCP以及细胞色素C，实验设置为不同实验样本中加入药物的剂量相同，但顺序不同，实验数据显示不同的药物添加顺序对细胞代谢、氧化磷酸化过程产生了不同的影响。参考文献：Bajzikova M, Kovarova J, Coelho AR, Boukalova S, et al. Reactivation of dihydroorotate dehydrogenase-driven pyrimidine biosynthesis restores tumor growth of respiration-deficient cancer cells. Cell Metab 29:399-416.Rodríguez-Nuevo A, Díaz-Ramos A, Noguera E, et al. Mitochondrial DNA and TLR9 drive muscle inflammation upon Opa1 deficiency. EMBO J 37.Bhaskaran S, Pharaoh G, Ranjit R,et al. Loss of mitochondrial protease ClpP protects mice from diet-induced obesity and insulin resistance. EMBO Rep 19. pii: e45009.Mills EL, Ryan DG, Prag HA, Dikovskaya D, et al. Itaconate is an anti-inflammatory metabolite that activates Nrf2 via alkylation of KEAP1. Nature 556:113-7.Calcutt NA, Smith DR, Frizzi K, Sabbir MG, et al. Selective antagonism of muscarinic receptors is neuroprotective in peripheral neuropathy. J Clin Invest 127:608-22.北京华威中仪科技有限公司全国总代理地址：北京市丰台区汽车博物馆东路盈坤世纪G座504电话：邮箱：网址

T&J-EnzyR酶催化平行反应器①T&J-EnzyR系统是为产酶提供的解决方案。②T&J-EnzyR系统可以实现酶制剂两步法液体培养的全过程自动化控制。 ③该系统将对酶的生长期、生产期的调节方法，以及对pH、温度、转速、流加等等培养条件的对比实验、平行试验和更多监测和控制功能整合到一体，该设计对于工艺相关培养设备的整合具有里程碑的意义。④这些整合的控制功能可使培养过程更快速简便，提供更可靠和可放大的结果。应用及特性 游离酶、固定化酶培养 有机相酶催化 手性拆分与手性合成/低聚肽合成/酶蛋白制备手性药物 大分子化合物的水解 辅酶或辅助因子的再生反应 脂肪酶催化水解及合成 反胶团及其在酶催化合成 模块化设计，在一套系统上实现产酶的不同阶段不同培养条件需求 实现收集菌体浓缩物，洗涤，诱导物添加等自动化控制 PH、温度、搅拌速度、补料等过程参数控制 PID控制功能 结构完美紧凑，节省空间 解决传统装置的繁锁、粗犷，重复性差等问题软件功能/ Parameter table 可对样品培养过程进行直观的控制，实时监测样品生长状态； 以图形和数字的形式实时显示探头测量数据； 可标注并跟踪发酵过程的重要步骤，如：接种、添加培养基、添加试剂、改变温度等； 图形化界面可以查看单个探头的生长曲线，也可以将多个探头绘制的生长曲线进行重叠比较； 背景基线值设置或削减； 可靠的数据采集 、存储、评估； 显示并记录发酵时间、温度、pH、转速、补料量、酸碱剂量等发酵过程参数； 实时动态曲线图均可查看； 软件校正pH、溶氧、蠕动泵流速等参数模拟流程图； 一键恢复功能先进自动化和稳健工艺； 工艺参数监控、警报、控制环路； 先进的编程模块、实时数据与工艺分析、采样数据和用户流程示意界面及设备锁定功能；技术参数型号T&J-EnzyR 全容积250ml、500ml、3L、5L、10L、20L罐体材质硼硅酸盐玻璃/+SUS 316L不锈钢罐盖温度加热毯+循环水控温，范围：冷媒温度+5℃~65℃；精度±0.2℃转速控制范围：50~1500或30~300rpmControl range: 50-1500 or 30-300 rpmPH控制范围：2。00~12.00；精度±0.02；Control range: 2-12 Accuracy ±0.02液体流加2路可编程精密蠕动泵，转速可调控制系统T&J-EnzyR生物控制器A-Type bio-controller

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

DL-PSI-486单通道中试型全自动多肽合成仪PSI486单通道中试型全自动多肽合成仪是中试规模生产多肽的常备固相多肽合成仪。全自动极大的节省了人工成本，只需在软件中设定氨基酸添加顺序、时长等，就可按照程序自动开始合成。氮气/溶剂定期交替自动清洗管道。商品图片DL-PSI-486单通道中试型全自动多肽合成仪参数 型号通道数反应器 L氨基酸储罐溶剂储罐宽深高cmPSI48610.5＆1＆267113×62×82在多肽链在实验室被研发和筛选之后，第二步是“小试"，即根据实验室结果进行放大；第三步是“中试"，就是根据小试结果继续放大，中试成功后基本就可以量产目标肽链了。PSI486单通道中试型全自动多肽合成仪是专为中试需求而研制的。PSI486单通道中试型全自动多肽合成仪采用单通道，单个反应器的合成规模为2.5-20mmol；6个氨基酸储罐方便用户自定义多种氨基酸、偶联剂、侧链基团等；7个溶剂储罐可放置不同的常用洗涤用溶剂，是中试规模生产多肽的常备固相多肽合成仪。美国多肽科技公司的多肽合成仪均采用“反应釜固定、搅拌桨推动固相树脂与反应物碰撞"的混合模式；搅拌桨启动时，树脂被研磨挤压，部分树脂变形破碎，耦合率降低；破碎树脂渗入筛板空隙，影响了排液速度。为避免树脂破损，1995年JOHN YE试验成功了“反应釜上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞"的无搅拌桨混合模式，使耦合效率上升到99.5%以上。DL-PSI-486单通道中试型全自动多肽合成仪指标1. 整机材质：304不锈钢2. 反应器规格：0.5L、1L、2L，带夹套3. 单通道合成规模：2.5-20mmol4. 氨基酸储罐：6个5. 溶剂储罐：7个6. 氮气保护：合成全过程均在惰性气体N2或Ar的保护下7. 搅拌模式：反应器上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞的无搅拌桨混合模式8. 搅拌速度：0至25转/分钟，无极可调9. 溶剂流速：200ml/分钟10. 搅拌动力：电子伺服马达11. 控温方式：水浴12. 电源功率：10/220V，50/60Hz，1KW13. 合成长度：可轻松合成100个氨基酸以上的肽序列售后服务u安装与调试： 提供专业的技术人员进行设备的安装和调试，确保设备能够正确运行。u培训： 提供操作、维护、保养等方面的培训，帮助客户充分了解和掌握设备的使用方法。u维护与保养： 定期或按需提供设备的维护、保养服务，确保设备性能持续稳定。u故障维修： 在设备出现故障时，提供迅速的维修服务。 u备件供应： 提供原厂或经认证的备件，确保更换零部件时的质量和稳定性。u远程支持： 通过电话、网络等方式，远程协助客户解决操作问题或简单故障。u现场支持： 若问题无法远程解决，派遣技术人员前往现场提供支持。u客户支持热线： 设立客户支持热线，随时为客户解答疑问和提供技术支持。 u满意度调查： 定期进行满意度调查，收集客户反馈，以改进售后服务质量。公司简介北京缔仑生物科技有限公司，简称缔仑生物，专注于多肽合成、裂解、环化等相关设备的研制，其业务主要由三条产品线构成；并为制药企业、多肽CRO / CDMO / CRDMO公司、科研院所等单位提供多肽合成整体解决方案。缔仑生物，师承美国Peptide Scientific Inc，简称PSI，PSI是180 度机械搅拌模式的缔造者，其合成效率最高。PSI拥有单/多通道研发型、中试型、单臂支撑迷你生产型、和双臂支撑生产型系列全自动多肽合成仪。缔仑生物，是美国Advanced Chem Tech, 简称ACT, 多肽合成仪维保授权服务商。ACT成功研制了肽萃Tetras 106通道全自动异步多肽合成仪，肽萃适用于定制多肽、抗原肽、目录产品多肽、肽库和微量肽库的构建，肽萃是全球多肽定制服务公司采用的超级多通道多肽合成主流设备。缔仑生物，还独立研制了搅拌式生产型多肽合成仪、裂解仪。其运行全过程均可按生产流程自主设定、全自动/半自动、远程/现场操作自由切换，主反应釜和辅助釜可同步运行，所有数据均可同步备份至用户指定的数据库中。

DL-PSI-419二通道中试型全自动多肽合成仪PSI419二通道中试型全自动多肽合成仪既能满足中试开发的规模需求，又能同时进行2种多肽链的中试规模的生产。两个反应器互不干扰，可设置各自的进料和合成方法。单个通道的合成规模为2.5-20mmol；10个氨基酸储罐方便用户自定义各类氨基酸、偶联剂、侧链基团等。DL-PSI-419二通道中试型全自动多肽合成仪参数型号通道数 反应器 L氨基酸储罐溶剂储罐宽深高cmPSI48610.5＆1＆267113×62×82PSI41920.5＆1＆2 108108×62×91多肽链在试验阶段被研发和筛选完成后，第二步小试是根据试验结果进行放大；第三步中试是根据小试结果继续放大，中试成功后基本就可以量产目标肽链了。PSI419二通道中试型全自动多肽合成仪是可满足异步合成需求的全自动中试型多肽合成仪。美国多肽科技公司的多肽合成仪均采用“反应釜固定、搅拌桨推动固相树脂与反应物碰撞”的混合模式；搅拌桨启动时，树脂被研磨挤压，部分树脂变形破碎，耦合率降低；破碎树脂渗入筛板空隙，影响了排液速度。为避免树脂破损，1995年JOHN YE试验成功了“反应釜上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞”的无搅拌桨混合模式，使耦合效率上升到99.5%以上。DL-PSI-419二通道中试型全自动多肽合成仪指标1. 通道数：可同时合成1~2条多肽2. 异步：可采用不同的合成方法合成不同多肽3. 整机材质：304不锈钢4. 反应器规格：0.5L、1L、2L，带夹套5. 单通道合成规模：2.5-20mmol6. 氨基酸储罐：10个7. 溶剂储罐：8个8. 氮气保护：合成全过程均在惰性气体N2或Ar的保护下9. 搅拌模式：反应器上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞的无搅拌桨混合模式10. 搅拌速度：0至25转/分钟，无极可调11. 溶剂流速：200ml/分钟12. 搅拌动力：电子伺服马达13. 控温方式：水浴14. 电源功率：110/220V，50/60Hz，1KW15. 合成长度：可轻松合成100个氨基酸以上的肽序列售后服务u安装与调试： 提供专业的技术人员进行设备的安装和调试，确保设备能够正确运行。u培训： 提供操作、维护、保养等方面的培训，帮助客户充分了解和掌握设备的使用方法。u维护与保养： 定期或按需提供设备的维护、保养服务，确保设备性能持续稳定。u故障维修： 在设备出现故障时，提供迅速的维修服务。 u备件供应： 提供原厂或经认证的备件，确保更换零部件时的质量和稳定性。u远程支持： 通过电话、网络等方式，远程协助客户解决操作问题或简单故障。u现场支持： 若问题无法远程解决，派遣技术人员前往现场提供支持。u客户支持热线： 设立客户支持热线，随时为客户解答疑问和提供技术支持。 u满意度调查： 定期进行满意度调查，收集客户反馈，以改进售后服务质量。公司简介北京缔仑生物科技有限公司，简称缔仑生物，专注于多肽合成、裂解、环化等相关设备的研制，其业务主要由三条产品线构成；并为制药企业、多肽CRO / CDMO / CRDMO公司、科研院所等单位提供多肽合成整体解决方案。缔仑生物，师承美国Peptide Scientific Inc，简称PSI，PSI是180 度机械搅拌模式的缔造者，其合成效率最高。PSI拥有单/多通道研发型、中试型、单臂支撑迷你生产型、和双臂支撑生产型系列全自动多肽合成仪。缔仑生物，是美国Advanced Chem Tech, 简称ACT, 多肽合成仪维保授权服务商。ACT成功研制了肽萃Tetras 106通道全自动异步多肽合成仪，肽萃适用于定制多肽、抗原肽、目录产品多肽、肽库和微量肽库的构建，肽萃是全球多肽定制服务公司采用的超级多通道多肽合成主流设备。缔仑生物，还独立研制了搅拌式生产型多肽合成仪、裂解仪。其运行全过程均可按生产流程自主设定、全自动/半自动、远程/现场操作自由切换，主反应釜和辅助釜可同步运行，所有数据均可同步备份至用户指定的数据库中。

DL-PSI-314三、六通道研发型半自动多肽合成仪PSI314三/六通道研发型半自动多肽合成仪（Peptide Synthesizer）分为两种通道数：3通道；6通道。选择范围是可在同一时间或不同时间，采用不同合成方法合成1~3；1~6条多肽。半自动的特点是在氨基酸瓶的进料和反应物采用手动添加，优势是可以人工准确计算每次需要的氨基酸、激活剂、偶联剂、linker等的摩尔量。商品图片六通道DL-PSI-314三、六通道研发型半自动多肽合成仪参数 型号通道数反应器ml溶剂储罐宽深高cmPSI314350＆100＆200452*66*78PSI314650＆100＆200498*57*74PSI314三/六通道研发型半自动多肽合成仪是专为实验室和科研机构等研制，可同步/不同步合成1至6条多肽，每条多肽链可采用不同的合成方法，能满足各种多肽开发、筛选需求。美国多肽科技公司的多肽合成仪均采用“反应釜固定、搅拌桨推动固相树脂与反应物碰撞"的混合模式；搅拌桨启动时，树脂被研磨挤压，部分树脂变形破碎，耦合率降低；破碎树脂渗入筛板空隙，影响了排液速度。为避免树脂破损，1995年JOHN YE试验成功了“反应釜上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞"的无搅拌桨混合模式，使耦合效率上升到99.5%以上。DL-PSI-314三、六通道研发型半自动多肽合成仪指标1. 通道数：可同时/不同时合成1至6条多肽2. 异步：可采用不同的合成方法、不同时间添加树脂3. 反应器规格：50ml、100ml、200ml，带夹套反应器4. 单通道摩尔数：0.25~3mmol5. 氨基酸储罐：15/30ml，数量详见参数表6. 溶剂储罐：4个&7个&8个，详见参数表7. 合成长度：可轻松合成100个氨基酸以上的肽序列8. 主机电源：110/220伏，50/60赫兹9. 搅拌速度：0至30转/分钟，无级可调10. 溶剂流速：2~4ml/秒11. 搅拌动力：电子伺服马达12. 整机材质：304不锈钢13. 主机功率：1kw14. 主机重量：100~150kg15. 搅拌模式：反应器上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞的无搅拌桨混合模式16. 溶剂储罐规格材质：玻璃材质-0.5L、1L、2L、5L；316L不锈钢材质-10L、20L、30L售后服务u安装与调试： 提供专业的技术人员进行设备的安装和调试，确保设备能够正确运行。u培训： 提供操作、维护、保养等方面的培训，帮助客户充分了解和掌握设备的使用方法。u维护与保养： 定期或按需提供设备的维护、保养服务，确保设备性能持续稳定。u故障维修： 在设备出现故障时，提供迅速的维修服务。 u备件供应： 提供原厂或经认证的备件，确保更换零部件时的质量和稳定性。u远程支持： 通过电话、网络等方式，远程协助客户解决操作问题或简单故障。u现场支持： 若问题无法远程解决，派遣技术人员前往现场提供支持。u客户支持热线： 设立客户支持热线，随时为客户解答疑问和提供技术支持。 u满意度调查： 定期进行满意度调查，收集客户反馈，以改进售后服务质量。公司简介北京缔仑生物科技有限公司，简称缔仑生物，专注于多肽合成、裂解、环化等相关设备的研制，其业务主要由三条产品线构成；并为制药企业、多肽CRO / CDMO / CRDMO公司、科研院所等单位提供多肽合成整体解决方案。缔仑生物，师承美国Peptide Scientific Inc，简称PSI，PSI是180 度机械搅拌模式的缔造者，其合成效率最高。PSI拥有单/多通道研发型、中试型、单臂支撑迷你生产型、和双臂支撑生产型系列全自动多肽合成仪。缔仑生物，是美国Advanced Chem Tech, 简称ACT, 多肽合成仪维保授权服务商。ACT成功研制了肽萃Tetras 106通道全自动异步多肽合成仪，肽萃适用于定制多肽、抗原肽、目录产品多肽、肽库和微量肽库的构建，肽萃是全球多肽定制服务公司采用的超级多通道多肽合成主流设备。缔仑生物，还独立研制了搅拌式生产型多肽合成仪、裂解仪。其运行全过程均可按生产流程自主设定、全自动/半自动、远程/现场操作自由切换，主反应釜和辅助釜可同步运行，所有数据均可同步备份至用户指定的数据库中。

DL-PSI-413单/二通道中试型半自动多肽合成仪413单/二通道中试型半自动多肽合成仪半自动的特点是在氨基酸瓶的进料和反应物采用手动添加，优势是可以人工准确计算每次需要的氨基酸、激活剂、偶联剂、linker等的摩尔量。商品图片单通道二通道PSI413单/二通道中试型半自动多肽合成仪参数型号通道数反应器（L）合成规模固相树脂PSI413半自动1 or 20.5/1/22.5~25mmol5~50g多肽链在试验阶段被研发和筛选完成后，第二步小试是根据试验结果进行放大；第三步中试是根据小试结果继续放大，中试成功后基本就可以量产目标肽链了。PSI419单/二通道中试型半自动多肽合成仪是可满足异步合成的中试需求的合成仪。美国多肽科技公司的多肽合成仪均采用“反应釜固定、搅拌桨推动固相树脂与反应物碰撞"的混合模式；搅拌桨启动时，树脂被研磨挤压，部分树脂变形破碎，耦合率降低；破碎树脂渗入筛板空隙，影响了排液速度。为避免树脂破损，1995年JOHN YE试验成功了“反应釜上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞"的无搅拌桨混合模式，使耦合效率上升到99.5%以上。PSI413单/二通道中试型半自动多肽合成仪指标1. 通道数：二通道可同时合成2条多肽2. 整机材质：304不锈钢3. 反应器规格：0.5L、1L、2L，带夹套4. 单通道合成规模：2.5~20mmol5. 溶剂储罐：4个6. 搅拌动力：电子伺服马达7. 控温方式：水浴8. 搅拌速度：0至25转/分钟，无极可调9. 溶剂流速：200ml/分钟10. 电源功率：5110/220V，59/60Hz，1KW11. 氮气保护：合成全过程均在惰性气体N2或Ar的保护下 12. 合成长度：可轻松合成100个氨基酸以上的肽序列13. 搅拌模式：反应器上下翻转带动固相树脂与反应物剧烈碰撞的无搅拌桨混合模式 售后服务u安装与调试： 提供专业的技术人员进行设备的安装和调试，确保设备能够正确运行。u培训： 提供操作、维护、保养等方面的培训，帮助客户充分了解和掌握设备的使用方法。u维护与保养： 定期或按需提供设备的维护、保养服务，确保设备性能持续稳定。u故障维修： 在设备出现故障时，提供迅速的维修服务。 u备件供应： 提供原厂或经认证的备件，确保更换零部件时的质量和稳定性。u远程支持： 通过电话、网络等方式，远程协助客户解决操作问题或简单故障。u现场支持： 若问题无法远程解决，派遣技术人员前往现场提供支持。u客户支持热线： 设立客户支持热线，随时为客户解答疑问和提供技术支持。 u满意度调查： 定期进行满意度调查，收集客户反馈，以改进售后服务质量。公司简介北京缔仑生物科技有限公司，简称缔仑生物，专注于多肽合成、裂解、环化等相关设备的研制，其业务主要由三条产品线构成；并为制药企业、多肽CRO / CDMO / CRDMO公司、科研院所等单位提供多肽合成整体解决方案。缔仑生物，师承美国Peptide Scientific Inc，简称PSI，PSI是180 度机械搅拌模式的缔造者，其合成效率最高。PSI拥有单/多通道研发型、中试型、单臂支撑迷你生产型、和双臂支撑生产型系列全自动多肽合成仪。缔仑生物，是美国Advanced Chem Tech, 简称ACT, 多肽合成仪维保授权服务商。ACT成功研制了肽萃Tetras 106通道全自动异步多肽合成仪，肽萃适用于定制多肽、抗原肽、目录产品多肽、肽库和微量肽库的构建，肽萃是全球多肽定制服务公司采用的超级多通道多肽合成主流设备。缔仑生物，还独立研制了搅拌式生产型多肽合成仪、裂解仪。其运行全过程均可按生产流程自主设定、全自动/半自动、远程/现场操作自由切换，主反应釜和辅助釜可同步运行，所有数据均可同步备份至用户指定的数据库中。

SEC-MALS多角度激光光散射系统，适用于HPLC&UHPLC，表征分子量、 尺寸、 构象多角度光散射技术，基于光散射首要定律，MALS可以直接测定溶液中大分子和纳米粒子的分子量和尺寸。可表征的物质：• 多肽和蛋白• 蛋白偶联物/复合物• 高分子和共聚物• 纳米颗粒• 类病毒颗粒• 脂质体和外泌体DAWN多角度光散射检测器的重要成员• 18角度激光光散射仪(DAWN)： 灵敏度高、检测范围广• 3角度激光光散射仪(miniDAWN )： 适合一定分子量范围的蛋白和高分子• microDAWN： 为UHPLC设计怀雅特的多角度光散射检测器可兼容任何的：• GPC/HPLC/UHPLC/APC:安捷伦（Agilent）、沃特世（Waters）、岛津(Shimadzu)、热电（Thermo）等。• 蛋白纯化系统:GE (AKTA )、Bio-rad等。示差折光检测器 示差折光检测技术是一种通用的浓度测定技术，不受样品中发色基团或荧光吸收基团的影响。Optilab示差折光检测器主要用于：• MALS分析中的分子量测定• 特性粘度测定表征高分子构象和支化度• 三检测器表征共聚物和蛋白偶联物• 色谱峰的基本定量• 测定样品的dn/dc• 测定溶剂的折射率一款可与MALS检测器在相同波长下独立测定dn/dc的仪器,Optilab系列适用于不同的应用领域，并且可以测定溶剂折射率。SEC-MALS 应用聚集体和碎片UHPLC能够分离聚集体和片段，与MALS结合，可准确识别IgG样品中的少量碎片,放大100倍的插图中显示尽管每个聚集峰占单体总质量的百分之一， 但它们仍可被μSEC-MALS准确分析和识别。低分子量高分子和多肽亚甲基二苯基4,4' -二异氰酸酯 (MDI) 分子量只有250 Da，在THF中极易形成低聚物, 对于表征极小分子量的MDI分子，超高灵敏度的HELEOS和TREOS是必不可少的重要工具。聚集体和碎片蛋白偶联物和共聚高分子分析ASTRA的蛋白偶联物分析方法使用MALS、UV和RI检测器的数据来表征蛋白偶联物和共聚物。该方法可以测定蛋白、修饰物和偶联物的分子量，以及偶联物的平均消光系数和dn/dc。蛋白复合物和构象尽管IL4 trap分子量较低， 但是它却早于复合物IL4 trap:IL4 被洗脱出来。MALS中的MW分析（红色符号）表明MW值符合预期、在线DLS 的rh数据（蓝色空心符号）解释了复合物IL4-trap:IL4 较晚洗脱的原因：IL4与IL4-tarp复合后构象发生了变化，复合物的结构更紧凑。

基于凝胶溶液等电聚焦电泳--抗体电荷异构体-全柱成像分析仪技术(igs-IEF-WCID) 整合了等电聚焦电泳-成像-分析的全自动一体机，无需染，直接实时成像，大大节省了工作量和时间高分辨率：对于毛细管电泳理论塔板数提升1个数量级，≤0.02 pH 可实现多个关键质量指标检测：pI等电点、电荷异质性、未偶联祼抗 ….适用范围：静脉血、指尖血、干血斑、尿液、脑脊液等检测用于临床疾病辅助诊断检测； 抗体偶联药物关键质量控制指标检测分析。生物制品、肉类等标志蛋白表达的检测产品规格：低上样量：样本要求≤10ul； pI/分子量偏离范围 ≤0.5%； 分离率 ≤ 0.02 pI； 灵敏度（LOD）：0.5 ug/mL（自发荧光），1.0 ug/mL（紫外吸收）； 线性范围：2个logs； 线性：R ≥ 0.99； 复性：pI检测CV≤0.5%多通过 ：可实现12个样本并行检测；

实贝PVD-090-HMDS预处理真空烘箱涂胶镀膜烤箱实贝PVD-090-HMDS预处理真空烘箱涂胶镀膜烤箱全自动电脑式HMDS涂胶烤箱，HMDS真空镀膜机，HMDS预处理系统，HMDS真空烤箱HMDS预处理真空烘箱一、预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，而涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得更为必要，尤其在所刻线条比较细的时候，任何一个环节出现一点纰漏，都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，如果在晶片表面直接涂胶的话，会造成光刻胶和晶片的黏合性较差，甚至造成局部的间隙或气泡，涂胶厚度和均匀性都受到影响，进而会影响了光刻效果和显影，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀，所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物，是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。二、产品结构与性能2.1产品结构：1．设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑，内胆316L不锈钢材料制成；无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置；钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2．箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内保持高真空度。3．温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。4．智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5．HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性能极好，确保HMDS气体无外漏顾虑。6．无发尘材料，适用百级光刻间净化环境使用。 2.2产品性能：1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。3.液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片，效率高。4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多，经实践证明，更加节省药液。5. HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染，更加环保和安全。三、技术参数：规格型号PVD-090-HMDSPVD-210-HMDS容积（L）90L210L控温范围RT+10～250℃温度分辨率0.1℃控温精度±0.5℃加热方式内腔体外侧加温隔板数量2PCS3PCS真空度133Pa（真空度范围100～100000pa）真空泵抽气速度4升／秒，型号DM4电源/功率AC220/50Hz，3KWAC380V/50Hz，4KW内胆尺寸W*D*H（mm）450*450*450560*640*600外形尺寸W*D*H（mm）650*640*12501220*930*1755连接管：316不锈钢波纹管，将真空泵与真空箱完全密封无缝连接备注：选配温度压力记录仪时，因工艺需要改变设备整个外箱结构，请参考实物图。外壳采用优质冷轧钢板粉末静电喷涂，内胆采用316L不锈钢，外箱尺寸为（W*D*H）mm：980x655x1600（含下箱柜高700），下箱柜空置。适用于增加各类选配功能。四、HMDS预处理系统的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。五、HMDS预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表面生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。开箱温度可以由user自行设定来降低process时间，正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温））。六、尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。七、产品操作控制系统配置:1. 标配DM4直联旋片式真空泵（外置）；需要使用干泵可选爱德华或安捷伦（选购）2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块3. 固态继电器；加急停装置 其它选配：1．波纹管2米或3米（标配是1米）2．富士温控仪表（温度与PLC联动）3．三色灯 4.增加HMDS药液瓶5．低液位报警（带声光报警）6．HMDS管路加热功能7．开门报警 8.压力温度记录仪

实贝HMDS晶片涂胶烘箱真空电子烤箱干燥箱 HMDS真空烘箱，HMDS涂胶烤箱，HMDS真空镀膜机HMDS预处理真空烘箱一、预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，而涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得更为必要，尤其在所刻线条比较细的时候，任何一个环节出现一点纰漏，都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，如果在晶片表面直接涂胶的话，会造成光刻胶和晶片的黏合性较差，甚至造成局部的间隙或气泡，涂胶厚度和均匀性都受到影响，进而会影响了光刻效果和显影，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀，所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物，是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。二、产品结构与性能2.1产品结构：1．设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑，内胆316L不锈钢材料制成；无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置；钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2．箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内保持高真空度。3．温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。4．智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5．HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性能极好，确保HMDS气体无外漏顾虑。6．无发尘材料，适用百级光刻间净化环境使用。 2.2产品性能：1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。3.液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片，效率高。4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多，经实践证明，更加节省药液。5. HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染，更加环保和安全。三、技术参数：规格型号PVD-090-HMDSPVD-210-HMDS容积（L）90L210L控温范围RT+10～250℃温度分辨率0.1℃控温精度±0.5℃加热方式内腔体外侧加温隔板数量2PCS3PCS真空度133Pa（真空度范围100～100000pa）真空泵抽气速度4升／秒，型号DM4电源/功率AC220/50Hz，3KWAC380V/50Hz，4KW内胆尺寸W*D*H（mm）450*450*450560*640*600外形尺寸W*D*H（mm）650*640*12501220*930*1755连接管：316不锈钢波纹管，将真空泵与真空箱完全密封无缝连接备注：选配温度压力记录仪时，因工艺需要改变设备整个外箱结构，请参考实物图。外壳采用优质冷轧钢板粉末静电喷涂，内胆采用316L不锈钢，外箱尺寸为（W*D*H）mm：980x655x1600（含下箱柜高700），下箱柜空置。适用于增加各类选配功能。四、HMDS预处理系统的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。五、HMDS预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表面生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。开箱温度可以由user自行设定来降低process时间，正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温））。六、尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。七、产品操作控制系统配置:1. 标配DM4直联旋片式真空泵（外置）；需要使用干泵可选爱德华或安捷伦（选购）2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块3. 固态继电器；加急停装置 其它选配：1．波纹管2米或3米（标配是1米）2．富士温控仪表（温度与PLC联动）3．三色灯 4.增加HMDS药液瓶5．低液位报警（带声光报警）6．HMDS管路加热功能7．开门报警 8.压力温度记录仪

Biacore T200 分子相互作用仪Biacore系统是基于表面等离子共振原理(SPR）)的生物分子相互作用分析系统，通过实时、无标记的分析手段对分子结合过程加以研究，可揭示蛋白质，核酸等多种生物分子之间的相互作用，有助于科学家更深刻地理解生物分子之间的相互作用和这些作用所承载的生物学功能。在SPR实验中，一个分子（配体）固定在传感器芯片上，第二个分子（分析物）流过芯片表面，在流动条件下测定相互作用。响应以共振单位（RU）表示并与表面质量成正比。SPR实验可用于测量动力学结合常数（ka，kd）和亲和力（KD）。 应用和特点主要应用● 动力学: ka, kd● 亲和力: KD● 大分子和小分子结合Biacore T200 主要特征● 多种偶联方式● 可设置单循环动力学● 温度可控（4-45℃）● 可用于小分子的高灵敏检测耗材● S 系列芯片注意：只有S系列芯片适用于 Biacore T200更多芯片类型及货号可查看Cytiva 网站● 96 or 384-well reagent plates (optional)使用 Biacore Microplate Foil (96 or 384-well) ● 缓冲液和EP管 (自备)● Pipettes，双面架，记号笔 (自备)Popular Biacore T200 Sensor Chips and KitsPart NumberCM5 Sensor Chip, Series S (amine, thiol coupling)BR100530 (3-pack)Amine Coupling KitBR100050SA (streptavidin) Sensor Chip, Series SBR100531 (3-pack)Biotin CAPture Kit, Series S28920234NTA Sensor Chip, Series SBR100532 (3-pack)GST Capture KitBR100223Mouse Antibody Capture KitBR100838Human Antibody Capture KitBR100839样品准备缓冲液● 准备250 ml的运行缓冲液● 所选缓冲液需要保证蛋白质的活性● 为了避免非特异性结合，可添加 0.05% Tween 20 或其它种类的表面活性剂尝试的表面活性剂浓度范围 0.02-0.1%Cytiva 有商业化缓冲液 HBS-P+ (HBS, 0.05% Tween20) 可购买，登陆Cytiva网站查找详细信息● DMSO 浓度最高可达10%● 请用运行缓冲液配制分析物样品样品● SPR实验配体：固定的分子分析物：流动的分子● 分析物溶解在运行缓冲液中缓冲液不一致将产生溶剂效应由于DMSO具有高折光率，所以分析物与运行缓冲液中的DMSO浓度应该尽可能一致● 精确定量样品浓度配体浓度影响信号强度分析物浓度直接影响KD● 蛋白聚集体会干扰SPR实验，损坏芯片或者堵塞流通池实验开始前过滤或离心样品使用动态光评价样品的均一性使用SEC去除可溶性的蛋白多聚体● 初次尝试的浓度范围：配体：2 – 50 µ g/ml分析物：0.01 – 100 X KD (推荐 0.1 – 10 X KD)● 所需样品体积：随流速和时间的变化而不同单次最大进样体积 408新手入门SPR 实验有三个主要步骤需要优化：Immobilization:将配体固定到芯片表面Interaction analysis:分析物的结合和解离过程Regeneration:移除芯片表面的分析物或分析物和配体实验设计注意事项ImmobilizationBiacore T200 一共有4个通道● 每次实验使用两个通道 (1和2通道或者3和4通道)第一个通道为参比通道 (不固定配体分子)第二个通道为样品通道 (固定了配体分子)● 推荐配体偶联时的流速：10 µ l/min● 估算目标偶联量目标 Rmax~ 25 (受最大偶联密度限制)实验结果 Rmax可能在 2-10 RU（非绝对，仅供参考）预实验时，可以设定较高的偶联量，以避免低表面活性Rmax= RLx MWanalyte/MWligandx SmRmax= 分析物最大的理论响应值Sm= 化学计量比（分析物/配体）RL= 配体偶联量目标偶联量的计算方法：对于蛋白分析物，将RL设置为Rmax低于150对于小分子分析物：● 建议低密度偶联低偶联密度相当于较少的分析物消耗在层流中，例如 50 µ l/min时，由于表面附近的流速很低，低偶联密度可以使得表面附近的分析物浓度很快恢复最小的空间位阻和聚集体减少传质效应● 固定配体可以通过不可逆捕获或可逆捕获来实现不可逆捕获：配体不能从芯片表面除去● CM5 (Carboxy Methyl Dextran) 用于氨基偶联建议配体浓度：10-50 µ g/ml (~25 µ g/ml)最大偶联密度：8000-10000 RL配体的等电点建议大于4，太低不利于氨基偶联最常用芯片类型可用于制备捕获芯片 (固定抗体或链霉亲和素)氨基偶联● SA (Streptavidin) 用于捕获生物素标记的配体氨基偶联链霉亲和素到 CM5芯片，可降低非特异性结合或可达到高偶联密度可选择Biotin CAPture kit 进行可逆的捕获推荐配体浓度 ~2-5 µ g/ml最大捕获量：2000 RL其它类型的SA芯片：可逆捕获：每个循环可以从芯片表面除去配体● NTA 可用于捕获 His标签蛋白建议配体浓度 ~10 µ g/ml最大捕获量：1,000-3,000 RL8 His 或者 10 His的标签蛋白可提供更大的偶联量 (多达 5,000 RL)与氨基偶联同时进行可实现稳定偶联，但芯片将不可逆● Biotin CAPture Kit 用于捕获生物素化的配体建议配体浓度 ~2-5 µ g/ml.芯片已经预固定了特定的单链DNABiotin CAPture kit提供生物素化的互补DNA● 抗体捕获试剂盒Anti-human, Anti-mouse, Anti-GST, Anti-His capture kits 可提供相应的抗体和试剂，通过氨基偶联的方式固定到 CM5 芯片以实现可逆的抗体捕获最大的固定量依抗体浓度而定Interaction analysis: 设置动力学实验● 动力学实验需要至少5个浓度梯度浓度范围覆盖 0.1 - 10X KD，曲线分布要有曲有直● 可设置多个零浓度用来测定基线，如样品进样前两个，样品进样后一个● 至少设置一个浓度重复，可评价再生效果● 动力学检测时，推荐流速 50 µ l/min (最小 30 µ l/min)高流速最好 (100 µ l/min 50 µ l/min 30 µ l/min)高流速有利于参比扣除和拟合● Startup cycles 对于仪器的平衡是必要的蛋白样品：3 startup cycles小分子样品：5-10 startup cycles ● 设置重复试验计算实验误差，包括重新制备分析物和固定配体● 如果实验中使用了 DMSO，那么需要进行溶剂校正实验Regeneration● 配体的固定方式分为可逆法和不可逆法● 可逆固定每个实验循环都需要将芯片表面的配体移除每个循环必须重新捕获配体可逆固定方式的再生有成熟的试剂盒可选择，但是也需要进行必要的优化● 不可逆固定通过移除分析物来再生配体表面，但不能损害配体活性通过不可逆方式固定配体，那么每次实验都要重新优化● 优化再生条件高浓度快解离的 competitor0.1% SDS （进样15 sec）高盐低 pH高 pH添加去垢剂到缓冲液中优化的目的是在不损害配体表面活性的前提下，选择更温和的再生条件可使用手动操作或者使用 Regeneration Scouting Wizard测试一系列溶液，从温和到剧烈：为了确定再生条件，需要进行 5-6 结合再生循环如果解离比较快，那么可以不用再生小分子化合物可能难以再生，因此请尝试更广泛的再生条件数据收集数据收集前的准备● 提前一天在大型仪器共享平台上预约● 手机开电，然后手动开电脑主机和仪器电源● 设定实验温度为25℃● 缓冲液和芯片提前在室温平衡实验数据收集三种数据收集方式：● Manual Run● Wizard Template (most common)● Method1. Manual Run● 在手动运行中，可以实时发出仪器命令以进行快速测试或控制注射的结束时间i）不能于动力学分析，因为评估软件不会读取这些数据ii）最常用于预实验或手动固定2. Wizard Template● 常用的实验方法可以从向导模板中运行● 选择文件→打开/新建向导模板● 选择实验类别（例如固定化，动力学/亲和力）● 选择新建（或选择一个保存的模板）● 设计实验● 将样品添加到试剂架（1）选择要使用的架子（最常见的是样品架和试剂架1）（2）选择菜单→Automatic Positioning（3）对于技术重复（使用同一样品管），将Pooling 改为 Yesi）要更改rack type，请在“Rack Positions”页面上ii）选择弹出rackiii）根据rack map，向试剂架中放置相应的试剂● 要保存Wizard Template，请在“Prepare Run Protocol”页面上：i）选择菜单→将Wizard Template另存为...● 选择开始以开始运行3. Method● 可以使用“Method Builder”设计更复杂的实验● 通过修改现有方法或使用“Method Builder”来创建方法模板● 选择文件→打开/新方法● 选择一个现有的方法或Wizard Templatei）要将Wizard Template转换为方法，请选中显示可导入Wizard Template的复选框ii）Biacore方法文件夹中有一些预先设计的方法，可用于更复杂的方法实验（例如GST动力学，单循环动力学等）● 选择打开● 根据需要修改方法● 选择设置运行● 输入运行参数● 选择开始运行数据分析● 打开Biacore T200 Evaluation Software● 选择文件→打开，以打开数据文件● 检查所有原始和减去的感应图● 单击工具栏上的动力学/亲和力按钮，然后选择“Surface bound”● 选择曲线对话框：查看/编辑要包含的数据Blanks 显示为灰色● 选择数据对话框：显示减去空白的数据右键单击并拖动以删除选定的数据区域（例如，删除尖峰）选择分析类型“动力学”（首先尝试拟合动力学，然后返回并拟合“亲和力”作为替代或验证动力学）● 动力学对话框：单击拟合以执行拟合从默认的 1：1 binding model开始查看 “Quality Control” 选项卡并检查拟合情况单击完成以完成分析● 稳态拟合对话框：稳态拟合仅在结束时均已达到平衡的数据上使用调整分析区域（可选）单击拟合以执行拟合检查拟合和拟合参数单击完成以完成分析关机1. 从仪器中取出 芯片2. 倒掉废液3. 清洁台面卫生4. 手机关电，退出大仪共享系统

AFM-拉曼耦联配置 HORIBA Scientific拉曼技术可与扫描探针显微镜（SPM）进行耦合，构建一个功能强大且灵活的AFM-拉曼平台。研究人员可根据期望的AFM-拉曼工作模式来选择合适的仪器。 所有具备激光扫描技术的配置都可以通过对扫描探针上的激光反射进行快速成像或者根据针尖增强拉曼散射信号对热点进行成像，因而该配置能够准确、可靠地将激光定位到SPM探针针尖上。 高通量的光信号收集和检测硬件保证在快速扫描的同时采集每一点的SPM信号和拉曼光谱。将您的所有需求集成到一个强大的系统中我们所提供的完美解决方案使用直接光路耦合，对其进行优化以实现高通量。该平台可以把原子力显微镜（AFM）、近场光学技术（SNOM,NSOM）、扫描隧道显微镜（STM）和共焦光学光谱仪（拉曼和荧光成像）耦合到一台多功能的仪器中，以实现针尖增强拉曼散射（TERS）或共点测量。AFM和其他SPM技术可提供分子级别分辨率下的形貌、力学、热能、电磁场和近场光学特性。共焦拉曼光谱和成像可提供纳米材料在亚微米空间分辨率下的详细化学信息。同步测量的独特平台，有助于您获得可靠且位置高度重合的图像。结合高性能和易用性，HORIBA将会根据您所选择的SPM制造商提供一个可靠、全功能的解决方案针尖增强拉曼光谱(TERS)的光学、机械和软件都是经过优化设计的，同时有HORIBA在拉曼光谱几十年的经验做技术支持，您可以自信地使用这一技术。一个工具多种可能：AFM-拉曼有助于您提高效率快速找到纳米对象 由于纳米材料具有特殊的化学属性，拉曼峰信号较强，因此在光学显微镜下不可见的纳米材料可以通过超快速拉曼成像进行搜索和定位。在找到样品后，我们可以对感兴趣的位置进行形貌、机械、电学和热能分析。交叉验证您的数据 拉曼光谱可以证实材料的某些特性，例如前面研究的石墨烯，AFM形貌的对比度较差而难以确定层厚，拉曼则可以从另外一个角度去获得相同的信息，此外拉曼还提供更多有关结构和缺陷的信息，此信息只有具备原子分辨率的AFM才能提供。获得感兴趣纳米结构的化学信息 在表征纳米结构时，有时只获得物理性质是不够的。高分辨的拉曼共焦成像可提供详细的化学成分信息，这是其他SPM传感器无法实现的。探索TERS（针尖增强拉曼散射）领域 TERS（或纳米拉曼）可以综合两种技术之优势：可获得空间分辨率低至2nm（一般低至10nm）的化学特异性拉曼光谱成像。该技术可用于表征从纳米管到DNA等各种样品。 多种光学配置HORIBA的AFM-拉曼平台支持多种光学方案底部耦联：针对透明样品顶部耦联：针对共点拉曼或倾斜针尖的TERS侧向耦联：测定不透明样品的TERS的优异解决方案可提供多端口和并排配置注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或healer等相关用途

产品介绍 PRODUCT PRESENTATION Liberty PRIME 2.0 多肽合成仪是最先进的微波多肽合成平台。它具有革ming性的一锅法偶联和脱保护技术，可实现在 0.1 mmol 的合成规模下，每个循环耗时仅需 2.5 分钟，每个循环仅有 10mL 废液。实现更加稳定的制造更纯、更难、更长的复杂多肽。 合成单个 20mer 的多肽片段仅需要 45 分钟时间；每批次 24 个多肽 (20-mers) 合成仅需要 20 小时，仅产生 4.5 升总废液。? 大幅减少溶剂和脱保护剂的使用? 取消偶联后排放的步骤，使循环时间更短 更快更高效更节省4分钟完成循环周期节省90%的试剂消耗纯度平均提高到70%以上 技术参数： 单次合成区间 : 0.005-5mmol反应器规格 : 三种反应器化学方式 : Fmoc氨基酸储备 : 原位活化剂自动添加30种天然氨基酸，可添加7位备用稀有氨基酸或试剂，最大支持120ml瓶温度测量 : 原位光纤，更精确的内部温度的测量流体测量 : Flex - Add技术氨基酸，活化剂，活化剂碱同步转移，及主溶剂，脱保护试剂转移测量搅拌方式 : 惰性气体鼓泡搅拌废液容器 : 1L 及溢位检测LED指示 : 显示系统工作状态和操作辅助控制方式 : 笔记本(无线可选配)可选配件 : 紫外监测模块、HT 高通量树脂填装机、 多肽裂解模块报告创建：PDF 方法文件 创建每一步的日志 产品专利 PRODUCT PATENT LICENSE PowerMAX环形聚焦单模微波专利技术被公认为第三代微波化学动力学的基础和技术标志。高精度能量调节，和完美定量偶联能势阱效应，最终实现了高效精确的单模平台，它使传统驻波 30 mL 单模扩展到 300 mL，实现量和质的飞跃，奠定了同类单模微波无法比拟的高端地位。 Liberty 使用一锅法偶联和脱保护工艺专利该技术涉及将脱保护试剂（碱）直接添加到不排液的后偶联混合物中。CEM基于以下研究结果：液相中更快的反应动力学促进活泼酯的快速水解或自缩合，从而避免树脂结合的氨基官能团处的潜在副反应。然后在高温下不间断地进行Fmoc去除。优化试剂用量在脱保护步骤结束时产生基本上中性的反应混合物。 Headspace Flushing顶空冲洗专利 — 清洁反应器表面Liberty Blue 2.0 和 Liberty PRIME 2.0 系统的一项新功能是使用顶空冲洗来提供更清洁的反应器表面，使其免受高温下挥发性脱保护碱的影响。“顶空冲洗”技术通过确保反应器表面的清洁来帮助合成更长的多肽，并达到前所未有的纯度水平。 Liberty 产品系列对比

沈阳长春哈尔滨塑料填充母料、河北塑料填充母料、天津塑料填充母料色母料——鞍山科佳塑料制品制造有限公司是辽宁鞍山塑料填充母料的专业生产厂家，产品具有稳定性好、白度高、韧性好、分散好、添加比例高，厂家直销价格有核心竞争优势。吉林塑料填充母料、辽宁鞍山塑料填充母料、沈阳长春哈尔滨塑料填充母料、河北塑料填充母料、天津塑料填充母料色母料。 康总鞍山科佳塑料制品制造有限公司占地面积7000多平方米，建筑面积3800平方米，配备全自动生产线以及先进检测设备，使用科学检测方法对产品各项技术指标进行检测，确保母料产品的稳定性和可靠性，实现了产品更大价值。公司产品现广泛用于注塑、吹膜、拔管、拉丝、无纺布、流延、中空板、铝塑板等领域，并与多家知名企业建立了长期战略合作关系，公司产品现销往东北三省、内蒙古、华北、华东等地区，深受新老客户的信赖和支持。鞍山科佳塑料制品制造有限公司长期专业生产的填充母料产品有：一、按载体分为PP填充母料、PE填充母料、PO填充母料、PS填充母料、TPU填充母料等；二、按填充粉体分为碳酸钙填充母料、滑石粉填充母料、黑色填充母料、透明填充母料等；三、按加工工艺分为注塑填充母料、吸塑填充母料、吹塑填充母料、挤出填充母料、拉丝填充母料、抽粒填充母料等；四、按用途分为管材填充母粒、片材填充母粒、快餐盒填充母粒、打包带填充母粒、中空板填充母粒、荔枝纹填充母粒、吹瓶填充母粒、吹膜填充母粒、流延膜填充母粒和无纺布填充母粒等。鞍山科佳塑料制品制造有限公司产品不断创新，为客户降低生产成本和提升产品品质作为重要使命，努力提升产品性能和服务品质，“以义取利”全力以赴为客户创造价值，“同心同德”与客户共同携手美好明天！ 鞍山科佳塑料制品制造有限公司电 话：康总地 址：辽宁省鞍山市腾鳌镇寿安工业区 辽宁鞍山科佳填充母料产品特性：1. 可提高塑料制品的耐热性、刚性及硬度。2. 消除塑料制品表面的光泽，达到亚光效果。3. 提高塑料制品表面的耐磨及防滑性能。4. 降低塑料制品的成型收缩率，从而提高尺寸稳定性。5. 降低塑料制品的燃烧发热量，从而降低二次污染。6. 提高塑料表面的印刷性能，降低塑料表面电晕处理所需的电流强度。7. 可给予薄膜制品透气性。8. 提高塑料材料的传热性能，从而可缩短成型周期。9. 可减少白色母料的使用量。康总辽宁鞍山科佳吹塑填充母料： 主要成分：吹塑填充母料是原包料树脂，超细重质碳酸钙粉以及多种化合物的复配物。产品特点吹塑填充母料该系列产品吸油值（DOP值）低，具有填充量大、分散效果好等特点，热稳定性和分散性好，对制品的电化学性能影响极少，对抗冲击强度有很大程度的提高。该系列产品使用简单，可与其它填料并用，降低生产成本。主要技术性能指标熔融指数：2.0-5.0g/10min水 分： 〈1 %密 度： 〈1.6g/cm3熔点： 125-130℃耐热温度：260-280℃ 本公司生产的系列白色母粒均不含荧光增白成分，属环保产品。外 观：白色片状或颗粒，粒径 2-4mm编织袋、编织布等物理性能要求高，所以对添加剂的要求也比较高。既要改善和提高原料的物理性能和工艺性能、又要降低成本。辽宁鞍山科佳吹塑填充母料生产的编织袋拉丝专用填充母料大添加量可以达到，而且力学性能损失很小，该产品采用了新配方、新工艺，克服了普通母料的分散不均、对原料的力学性能损失大、添加量低等缺点。有针对性的保证了扁丝的断裂强度、韧性、断裂伸长率等方面。适用范围吹塑填充母料以超细重质碳酸钙为主要原料的塑料改性剂，通过载体、偶联剂、增容剂、分散剂的优化组合，具有很好的相容性和分散性，可以改善塑料的耐磨性、防腐性、尺寸稳定性，增强增刚，是一种高性能、低成本、环境友好的填充母料。适用于PE、PP等拉丝制品填充等。使用方法吹塑填充母料根据制品的物理力学性能要求的不同，各厂家根据试验及要求不同，可选择添加10-50%的吹塑填充母料。康总 辽宁鞍山科佳PE（聚乙烯）填充母料：产品介绍PE填充母料是高密度聚乙烯（High Density Polyethylene，简称为“HDPE”），是一种结晶度高、非极性的热塑性树脂。原态HDPE的外表呈乳白色，在微薄截面呈一定程度的半透明状。PE具有优良的耐大多数生活和工业用化学品的特性。某些种类的化学品会产生化学腐蚀，例如腐蚀性氧化剂（浓硝酸），芳香烃（二甲苯）和卤化烃 （四氯化碳）。该聚合物不吸湿并具有好的防水蒸汽性，可用于包装用途。HDPE具有很好的电性能，特别是绝缘介电强度高，使其很适用于电线电缆。中到高分子量等级具有极好的抗冲击性，在常温甚至在-40摄氏度 低温度下均如此。录产品特点燃烧特性：PE填充母料易燃，离火后能继续燃烧，火焰上端呈黄色，下端呈蓝色，燃烧时会熔融，有液体滴落，无黑烟冒出，同时，发出石蜡燃烧时发出的气味。主要优点：耐酸碱，耐有机溶剂，电绝缘性优良，低温时，仍能保持一定的韧性。表面硬度，拉伸强度，刚性等机械强度都高于LDPE，接近于PP，比PP韧，但表面光洁度不如PP。应用场合：PE填充母料用于挤出包装薄膜，绳索，编织袋，渔网，水管；注塑低档日用品及外壳，非承载荷构件，胶箱，周转箱；挤出吹塑容器，中空制品，瓶子。适用范围辽宁鞍山科佳PE（聚乙烯）填充母料是耐到许多不同的溶剂中，有各种各样的应用，包括：竞技场板（冰球板）、背包框架、瓶盖、耐化学腐蚀的管道系统、同轴电缆内绝缘体、食品储存容器、汽车油箱、钢质管道腐蚀保护、电气和管道箱、远红外镜头、折叠椅和桌子和化学遏制、地热传热管系统、安全帽、呼啦圈、天然气分配管系统。 辽宁鞍山科佳填充母料吹膜应用领域：背心袋、干复合膜、拉伸膜、黑白膜、包装膜、购物袋、PP膜、流延膜、台布拉伸膜、拉伸膜包装、化工产品包装、散装材料包装、包装袋、PP膜、方便袋膜、EVA膜、防渗透膜、防水膜、PVC膜等。 辽宁鞍山科佳填充母料吹塑应用领域：塑料箱、食品容器、塑料桶、聚乙烯瓶、中空吹塑、桶、包装瓶、塑料桶、塑料罐、塑料瓶、玩具球、空心容量油盐醋、瓶、润滑油瓶、化妆品瓶、药瓶、化工容器等。 辽宁鞍山科佳填充母料注塑应用领域：商品容器、塑料球、体育用品、快餐盒、PP瓶、CD盒、头盔、儿童玩具、电器开关、电器开关、遥控器、鼠标、电器外壳、设备附件、齿轮、油箱、汽车减震器、座椅靠背、中间支架、扶手、头枕套、吹气部件、塑料架L、门框、塑料框、盒、注射剂、容器、汽车配件、医药配件、塑料壶、日用品、服饰配件、装饰品、电脑配件、电器配件等。 辽宁鞍山科佳填充母料挤塑应用领域：给水管、排水管、穿线管、防腐保温管、水管、拔管、深管内壁、外墙管、PE管、PP管、PVC管、电线等。 辽宁鞍山科佳填充母料拉丝应用领域：中空板主要应用于电子，包装，机械，轻工，邮政，食品，家电，装潢，文化用品，光磁技术、生物工程医药卫生等各种行业领域。是一种新型的环保型包装材料。 辽宁鞍山科佳填充母料中空应用领域：扁丝制品、类丝带、护网、狗袋、大绳、地毯纱、PP/PE编织物、塑料编织袋、塑料编织网、塑料圆线、带纱、建筑安全网、栅栏网、钓鱼线、渔网、绳索、无纺布等。 辽宁鞍山科佳填充母料片材应用领域：铝板中间层、一次性花盆、蛋糕盘、一次性餐具、胸卡、PVC片材、建筑装饰板、绝缘窗帘、餐具、茶壶、光学器件、灯罩、皮革、片材、面板、板材、中空板等。康总

美国UniBest优佰达 MicroCEK 型实验室微囊藻毒素检测系统 一、概要近年来，蓝藻水华的污染使很多水系都面临微囊藻毒素泛滥的问题。由于未及时地监测水源水质情况的污染变化及采取相应的控制措施，致使毒素直接存在于饮用水水体或富集于鱼类或贝类中，并通过食物链在人体积累，由此引起的人畜中毒甚至死亡。微囊藻毒素对人类及环境的危害已经给我们敲响了警钟，关于微囊藻毒素的检测已经迫在眉睫，中国已从2007年1月1日起实行实施新的生活饮用水标准，其中最引人注目的是，微囊藻毒素的测定(GB／T20466—2006)被列入水质检测指标。 二、产品简介本试剂盒采用微囊藻毒素-LR (MC-LR)与BSA偶联物作为包被抗原，采用抗MC-LR单克隆抗体作为一抗，组成一步法间接竞争ELISA试剂盒。该试剂盒可用于水中微囊藻毒素-LR的定量检测；其它固体样品(如藻类、底泥、动物组织等)经样品提取后，也可采用本产品进行定量检测。ELISA，Enzyme Linked Immunosorbent assay-指将可溶性的抗原或抗体吸附到聚苯乙烯等固相载体上，进行免疫反应的定性和定量方法。 三、工作原理在微孔条上预包被微囊藻毒素-LR与BSA偶联物作为包被偶联抗原，样本中的微囊藻毒素和微孔条上预包被的偶联抗原竞争微囊藻毒素-LR抗体，加入酶标二抗后用底物显色，样本吸光值与其所含微囊藻素的含量成负相关，与标准曲线比较可得出相应样品微囊藻毒素的含量。 四、性能参数1、 灵敏度高：检测限0.05 μg/L2、 定量检测区间0.1 ~ 2.0 μg/L3、 稳定性强：变异系数10%4、 快速方便：预处理简单，检测时间-40min5、 成本低廉：~30元/样品6、 高通量：可同时检测上百个样品7、 保存期限：4℃下，6个月8、 适应环境温度：20-40℃9、 抗基质干扰能力强。10、各项指标均优于国家标准《水中微囊藻毒素的测定》(GB/T 20466-2006)。 五、特异性该试剂盒特异性好，与第四位精氨酸的微囊藻毒素有明显的交叉反应；与第四位为非精氨酸的微囊藻毒素没有交叉反应(CR%≤0.01%)。 六、试剂组成1、 使用说明书 1份2、 96孔酶标板(真空包装) 1块 (8孔/条×12条)3、 封板膜1张4、 MC-LR标准品 6瓶(0μg/L，0.1μg/L，0.2μg/L，0.5μg/L，1.0μg/L，2.0μg/L) 5、 微囊藻毒素-LR抗体 1瓶6、 酶标二抗溶液 1瓶7、 显色底物液A 1瓶8、 显色底物液B 1瓶9、 终止液 1瓶10、浓缩洗涤液(20×) 1瓶七、结果分析 八、检测平台 九、操作流程 十、相关服务体系1、 了解客户对微囊藻毒素检测和监测的需求；协助有需要的客户确定合理的监测方案。与客户协商免疫检测平台的解决方案；协助客户进行平台所需主要设备的选型及采购。2、 协助客户对免疫检测平台进行系统化集成及调试；提出检测平台优化和标准化建议。对主要操作人员进行理论培训、实际操作方法指导、数据分析及检测报告的输出。3、 对该监测方案和检测平台的运行效果长期的跟踪服务；随时对客户的疑问进行指导。 十一、同类产品美国UniBest优佰达 ClearScan系列全自动淘洗型“两虫”检测系统

HORIBA Scientific（Jobin Yvon光谱技术）----荧光光谱仪器的全球leader，提供全套稳态、瞬态和稳-瞬态以及各种偶联技术的解决方案。荧光寿命光谱是研究样品受激后辐射出的紫外，可见，或近红外荧光与时间的变化。可利用荧光的衰减测定皮秒到秒，或更长的寿命范围。HORIBA Scientific提供的研究级荧光寿命光谱仪有模块化或紧凑型设计，可按应用需求定制光谱仪。Fluorocube将全新的迷你化光源和检测技术与成熟的TCSPC电子系统，及自动化操作结合起来，提供 灵活和界面友好的光子计数寿命系统。主要特点：灵敏度高：单光子计数技术准确性好：计时电路无需校正灵活性强：可选多种光源，寿命响应范围宽模块化：可以根据需要定制模块配件方便性：全电脑控制，易于操作

岩征仪器YZFlab系列为微型流动合成仪系列，该反应器系统广泛适用于流动合成反应，可持续满足您需求的连续流动化学系统，灵活，精确，高生产力。气固相或滴流条件下催化剂及反应工艺条件的各类评价，包括催化剂筛选、多元催化剂的组成筛选和优化、反应条件及工艺优化、 催化剂寿命考察等。 岩征YZFlab系统亦可根据用户实验条件和科研方向定制设计的反应器系统，贴合最终用户的实际应用需求。 下图为岩征交付给客户的一套迷你级单通道、24小时无人值守、超强化学兼容性、高稳定电气控制、可配置高压氢气发生器、高安全性的反应器系统。 岩征系统集成整合了自动控制、信息处理等技术，运用材料研发的流水线，大大提升科研产能，比传统单管反应器更紧凑、更集成、更智能、更具扩展性。应用案例：• 芳香取代（非均相反应和高温均相反应也在其中）• Ullmann 偶联、 Suzuki 偶联、 Sonogashira 偶联• 无需催化剂、配体化合物的脱羧化反应• 羰基化合物与 G 试剂的反应• 酰胺键合、捕捉与释放• 三甲基铝介导的酰胺键合• 多相反应：液 / 液或者气 / 液 或者气 / 液/固• 反应需要更好的选择性• 高度的自动优化• 反应一旦优化即要求能够很容易放大• RAFT 聚合（无氧反应）• 两相的相转移催化作用• Curtius 重排• 杂环的形成• 转移氢化合成领域：● 化学合成● 药物合成● 精细化工● 材料合成● 离子液体合成● 含能材料合成● 光化学合成● 电化学合成

Maestro Z/ZHT 病毒滴度测定仪-瑞德西韦脂肪酰基偶联物的合成及抗新冠和埃博拉病毒的研究 来自美国查普曼大学药学院的Keykavous Parang团队发现RDV的2’-及3’-单脂肪酸偶联物相比母体药物本身，生物利用度更高，更稳定。随后在体外通过基于阻抗测试的Maestro Z平台评价了RDV及其数十种脂肪酰化偶联物抗新冠及埃博拉病毒的效力。 作者选择了Axion BioSytems公司的Maestro Z细胞生理分析系统，开展了中高通量的药效评价。基于阻抗原始数据（略去），该实验室完成了CC50、IC50、SI等关键参数的计算、统计及分析。为了有助于大家了解Maestro Z这种无标记且实时的实验特性，小编借用下面这幅Christopher F. Basler团队发表在Cell Rep.上的数据照片（同样为Maestro Z实验），作为类比。图2 左侧为受测样本（Vero E6）阻抗动态变化的实时记录结果。基于图中原始数据的计算，即可得到右侧的梯度浓度下药物抑制病毒侵染样本能力的作用曲线, 并进而计算出IC50值。对照组及药物浓度梯度较多，Maestro Z的中高通量能够支持足够多的重复，确保实验结果的准确性。 借助96通量阻抗平台及其强大的分析软件，作者得以方便快捷地进行多个化合的抗病毒作用评价及结果展示。◆ ◆ ◆ ◆实时无损细胞动态检测仪◆ ◆ ◆ ◆PART I 什么是真阻抗细胞检测 阻抗指贴附细胞对检测电流所起的阻碍作用。Maestro Z的真阻抗技术采用不同频率的交流电来检测细胞的阻抗变化。该技术不但可以检测因细胞数量变化导致的阻抗变化，还能实时检测因细胞形态、通透性变化而导致的细微阻抗变化。PART II Maestro Z的特点一体化设计 该仪器无需额外占用培养箱空间，内含环境控制系统，集细胞培养与信号捕获及处理为一身。专门设计的样本仓可以屏蔽外界电磁和机械噪音，避免培养箱开关门等额外操作导致检测结果偏差。真阻抗检测技术 该平台延续了Axion BioSystems公司成熟的高信噪比电生理检测技术，采用不同频率交流电，可用来检测细胞细微阻抗变化，能够实现实时、无标记以及长时间连续监测细胞生理状态。友好易用的软件 操作软件提供实时数据记录，自动数据分析，自动数据报告生成。除此之外，还提供自动扣除本底，Nomalization等高阶数据分析，免除繁琐的手工计算。软件还符合FDA 21 CFR Part 11条款，兼容企业在GXP方面合规要求。数据安全性 自带数据储存，无惧电脑宕机，确保重要数据安全。PART III 应用方向简介 样本类型：悬浮细胞，贴壁细胞，3D培养细胞，类器官等 实时记录细胞增殖、凋亡过程，建立专属功能档案细胞毒性动态研究癌细胞浸润、迁移能力，划痕实验癌症免疫疗法，肿瘤免疫学，细胞治疗病毒学研究跨内皮/上皮细胞电阻（TEER）研究G蛋白偶联受体（GPCR）激活检测，信号通路研究细胞愈合能力测试想要了解更详细特点，快来联系我们吧！ Axion BioSystems ImagineExploreDiscover