光电液位计

四氟反应瓶接收瓶带液位计恒压分液漏斗反应装置

产品介绍： 分体型超声波液位计在污水处理中可应用于任何复杂的液位测量以及其他设备的控制。自带显示屏以及操作键盘无需专 业人员即可对设备进行设置，以及编设控制程序。变送器可与 Pulsar 所有的传感器进行连接，用户可选测量范围为 0.125m-40m。变送器内置的数字自适应回波追踪处理程序，使其在复杂的应用环境中 能优于任何竞争对手。 可选测量范围 0.125m-3m 0.3m-6m 0.3m-10m 0.5m-15m 0.6m-25m 1.2m-40m 全新特性： 内置温度补偿 窄发射角 超低盲区 IP68 防护等级 PZT 陶瓷传感器 高声能输出 特性： 现场显示 操作键盘 快 捷 键 现场编程 多种输出 继电器控制 dB系列传感器通常用户在选择超声波产品时，由于电子噪音，用户不得不选择高压，高频的传感器。即 使如此在复杂的应用环境中依然不够理想，并且对安装条件要求极高。dB 系列传感器完全改变了这些，低功率的传感器轻易的能给出非常高的声能输出。这一特性使得他在实际应用中， 无论是其测量精度，还是对安装环境的要求都远优于其他竞争品牌。标准传感器外壳材料为聚对苯二甲酸丁二醇酯 357PBT，以及 IP68 的防护等级完全可以保证其在任意恶劣环境中的使用寿命。用户可根据实际应用选择不同测量范围的传感器。dB3 – 短程固体和液体测量范围：125mm – 3m，125kHz，散射面直径 19mm，波束角10o dBMACH3 – 小量程用于明渠流量测量范围：0-2.425m，125kHz，带锥形遮阳罩dB6 – 短程固体和液体测量范围：300mm – 6m，75kHz，散射面直径 30mm，波束角10o。dBS6 – 短盲区型号，固体和液体测量范围：200mm – 6m，50kHz，散射面直径 45mm，波束角10o。dB10 — 固体、粉末和液体测量电缆可延伸 1000m技术参数：尺寸130mm*150mm*63.5mm重量0.65Kg外壳材料ABS编程通过整体键盘或者使用PC软甲防护等级IP66 电气接口3*M20 密封压盖，适用于 6-12mm操作温度-25-55℃电源110VAC/230VAC测量范围125mm-40m 取决于传感器型号测量精度+/- 1.0%分辨率dBMACH3 0.25mm；dB3 0.5mm, dB6； dB10 1mm；dB15 1.5mm；dB25 2.5mm；dB40 5mm显示12 数字液晶显示模拟输出2 组继电器；4-20mA

激光多焦点镜头 多焦点衍射光学元件（DOE）允许单个入射光束沿着传播轴线在几个焦距同时聚焦。根据准直输入光束（单模或多模），输出光束聚焦在固定数量的焦距下。需根据要求预先定制。 多焦点 DOE有两种配置： 由具有预定焦距的平凸透镜组成的DOE和在其平面侧蚀刻的衍射图案。 用户也可以在DOE之后添加一个常规的聚焦镜头，由镜头焦距确定工作距离。 多焦点DOE也可以用作细长的聚焦元件，有效提高激光玻璃切割和激光微加工等应用中的焦点深度。

1.极其适用于光电关联显微镜（CLEM）2.极其适用于组织中细胞、细胞簇的重定位3.样本可以直接在开放小室准备，封闭小室后可以做细胞剪切力实验4.可直接用于高分辨率的光学显微镜和电镜，透过高聚物的玻璃底部直接观测细胞细胞孔数6通道宽度1.0mm每孔容积30微升通道接口标准阴式鲁尔接头孔直径5.5mm单个储液池容积60微升每孔生长面积25mm2单通道包被面积60px2通道个数3适用盖玻片型号1.5号通道容积130微升 应用1.光电关联显微镜（CLEM）2.单细胞或组织样本3.样本的灌流 技术特点1.主要针对FEI设备所设计，也可用于其它领域2.底部刻有100微米的格子3.用字母和数字分别表示格子的经纬4.在相差和明场显微镜中能清晰地看到格子，在荧光显微镜下格子较暗淡5.适用于高端显微镜，具有出色的光学成像效果 ‍

光电阴极脉冲发生器是一个低重复率脉冲发生器专门用于驱动光阴极PHOTOCATHODE到图像管上，获得更高时间分辨率的图像，光电阴极脉冲发生器可作为光阴极注入器的驱动电源使用。光电阴极脉冲发生器特点可远程驱动光阴极,PHOTOCATHODE,可以置于光阴极之外，对光阴极电容进行20ns的脉冲充电。具有快速主动自匹配配置，可以产生单脉冲到任何阻性负载或小电容器件上。光电阴极脉冲发生器规格电压范围 -0.2kv-15kV 为负脉冲装置最大重复频率 取决于电压，15kv，40Hz ，开路触发 输入3V，10ns f.w.h.m ，为50?负荷抖动 约100ps或更小（难以衡量）同步输出 触发后TTL约为50ns 主要输出 反终端75?，输出电压将 20kV，开路，设置HT为最大值远程HT 减少输入的12V，以激活HT状态 前面板上TTL（已经是高值）远程监察状态。当开关电压与前面板上设置的一样时，当HT启动时，状态很高。输入电源 通用 85-264V，交流电，47-440Hz 2A的保险丝，T型（防喘振） 该光电脉冲单元有一个自动复位热跳闸，额定温度为70°C，最大平均功耗25W。 连接器 电源 IEC触发输入 BNC同步输出 BNC 状态输出 Lemo 00（零件号r FFA.00S.250.CTA C27 ）主要输出 Fischer DK105A005/7.2 注意输出有一个阴性中心销光电阴极脉冲发生器参数脉冲 振幅 T升/ PW PRF RMS 特征 选项 抖动 APG1 100V 150ps/150ps 10kHz 10ps S/DASG1 200V 100ps/8ns step 1kHz 10ps St/DSPSV 1kV 0.7ns/1,2,4,8,10 & 12ns 100Hz 10ps S/DCPS1 2kV 150ps/2ns decay 1kHz 20ps /SCPS2 4kV 150ps/2ns decay 100Hz 20ps /SCPS3 6kV 150ps/2ns decay 10Hz 20ps /SHMP1 4kV 100ps/5ns 100Hz 10ps S/D/Q/V/FHMP2 4kV x 2 100ps/5ns 100Hz 10ps S/D/Q/V/FPBG1 6.5kV 100ps/5ns 100Hz 10ps S/D/V/FPBG2 8.5kV 100ps/5ns 100Hz 10ps S/D/V/FPBG3 12.5kV 100ps/5ns 100Hz 10ps S/D/V/FPBG5 24kV 150ps/3ns 1kHz 20ps S/D/V/F/BPBG7 45kV 150ps/3ns 500Hz 20ps /B光电阴极脉冲发生器功能和选项 S 整形脉冲 St 阶跃脉冲 D 内部切换时延、速率发生器，触发指示灯，辅助低电平输出 Q 快速上升时间（快速）上升到一些装置时间小于90PS V 可变输出（约60%-100%） F 1kHz重复频率（一些脉冲发生器没有这个选项也可以达到1KHZ重复率，具体请咨询厂商） B 平衡输出 该光电脉冲发生器可以进行多同步输出， 例如PBG5脉冲发生器将驱动16个50?输出 电压为6.4kv 负荷为50?，阴/阳极输出都可以。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

LED光电测量系统配件是一款进口的满足LED电光参数和性能测量的系统，它可以测量LED, OLED,激光等任何发光光源的光电参数和特性,可快速而准确地测量各种发光光源辐射，光度学，色度以及效率参数。为了测量各种光源，孚光精仪公司为LED光电测量系统配件提供各种类型的灯具，光采样选项和电探针附件。这种齐全的附件配备，使得这套LED光谱分析系统能够适合世界上任何商业标准封装或作为实验样品的各种发光器件的测量，使用积分球可以更为有效地收集光辐射，而不受光发射角的分布影响。其它光采样附件也可配置，以满足标准测量的要求，能够适应外部光源测量的需要，融入最好的输出功率等级和精度的测量工具，也可根据用户的要求提供定制系统，更可以根据用户已有的仪器提供定制服务。LED光电测量系统配件参数发射光谱 Emission Spectrum辐射通量 Radiant Flux (W)辐照度 Irradiance (W/cm2)亮度 Luminance (Cd/m2)色度坐标Chromaticity Coordinates（x,y)色纯度 Color Purity主波长 Dominant Wavelength峰值波长 Peak Wavelength发光效率Luminous Efficiency (Cd/A)外部量子效率 External Quantum EfficiencyLED光电测量系统配件软件*能够把所有重要参数测量结果展现到一个屏上，这个独具特色能够帮助用户更好地全面监测发光。×控制采集点血和光谱数据，精确控制测量样品的供电, (具有外部源仪表接口，用户能以所需电压或电流范围扫描测试）×集合所有电学和光谱参数，用户还能获得“外部量子效率”和“发光效率”之类的重要指标；*实时测量发光器件OLED测量系统配件规格组成：光谱仪，光纤，积分球，样品台，仪表，数据接口，软件光谱范围：200-850nm或 350-1000nm探测器：2048像素Si CCD阵列采光周期： 1毫秒--65秒光谱分辨率：1.5nm(FHWM)电压源 测量范围：±5μV - ±200V电流源测量范围：±10pA - ±1A电源要求：110/230VAC,系统尺寸：320x360x180mm系统重量：9.8kg

欢迎来到上海赞迈医疗器械有限公司网站，我公司位于历史文化悠久，近代城市文化底篮深厚，历史古迹众多，有“东方巴黎"美称的上海市。具体地址新场沪南公路7577号胜华大厦508，联系人是闵经理-1-7-3-1-6-5-3-3-7-5-9-。我司主营急救设备，销售飞利浦Philips，麦邦，普美康、美国卓尔ZOLL、科曼、菲康（美敦力）、光电、瑞士席勒品牌的除颤仪主要经营：美国卓尔AED自动体外除颤仪，美国飞利浦AED半自动体外除颤器，国产麦邦AED除颤仪，飞利浦FRX除颤AED，美国菲康AED自动体外除颤器，飞利浦除颤监护仪DFM100，日本光电AED自动体外除颤器，普美康AED，迈瑞AED（C1，C1A，C2，C2A，S1，S2），久心AED（S1，S2），德国里斯特麻醉光纤LED喉镜，检耳镜，德国卡威麻醉喉镜，英国泰美科麻醉喉镜，韩国Inbody台式自动电子血压器，芬兰眼压计，检眼镜，德百世吸痰器，台湾恺德呼吸气囊，韩国台式血压计，飞利浦HS1除颤AED，美国燕牌脉搏血氧仪，柯惠血氧仪，迈心诺血氧仪，美国伟伦电子血压，挪度担架套装，有价格优势，现货量大优惠日本光电AED除颤仪培训机模拟机演示机专用2150 培训机国械注进20173082357北京、天津 、河北、山西、内蒙古、辽宁、吉林、黑龙江、江苏、浙江、安徽、福建、江西、山东、河南、湖北、湖南、广东、广西、海南、重庆、四川、贵州、云南、西藏、陕西、甘肃、青海、宁夏、新疆、台湾、香港、澳门、全国

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

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产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高耐磨的抛光材料，适用于碳化硅SIC/再生晶圆/各类三五族或二六族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝等抛光，也适用于各类衬底、窗口片或玻璃片的高平坦效果。可定制化：标准槽深为抛光垫厚度1/2，可以按客户不同开槽要求定制抛光垫价格：吉致的抛光垫生产引进国外技术，品质可以媲美进口的抛光垫产品。选择吉致电子抛光垫产品，价格比进口抛光垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

飞秒激光微加工服务上海屹持光电技术有限公司提供飞秒激光微加工服务和皮秒激光微加工服务。波段红外或者紫外，脉冲宽度400fs或者15ps。飞秒样品加工后正面、侧面说明:数码显微40、200、400倍图示：飞秒激光微加工服务来料请提供：样品尺寸样品材料说明加工CAD图示图纸加工数量宽度深度要求精度要求锥度要求毛刺范围、崩边范围、热效应范围 飞秒激光微加工服务加工周期：2-4周。

详细参数：1、 冷却台台面采用不锈钢材质，耐腐蚀，保持清洁的工作台，整体美观大方2、冷却台尺寸：约1.2*0.8*1.5m3、内置换热器、冷却风扇、循环泵及储水系统，快速冷却水温，保证微波设备的正常运作4、平台设置控制系统、电源供电系统，适合为1600W的微波高温炉设备进行散热5、水路报警系统：当系统中缺少必要的冷却水量时。系统自动切断设备的运行电源。微波停止，保护元器件6、预留检修门，方便检查、维修7、配备液位计、温度控制系统，可在异常情况下，对微波高温炉元器件进行保护8、进出水口采用快速接头连接，水密性好，不漏水、方便连接

光电肌电诱发电位仪S1，电极线鳄鱼夹YZ-0165，如有需要请来电联系确认。

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上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

所属类别： 激光器 短脉冲激光器所属品牌：法国Horus Laser公司1.HLX-I系列1064nm亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLX-I系列产品是一款基于全固态泵浦的被动调Q激光器。得益于我们的专利设计，该款1064nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达100KHz, 平均功率可达500mW, 单脉冲能量可达20uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q、具有专利技术的微片设计、1064nm亚纳秒脉冲（600ps to 2ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达100KHz 、平均功率可达500mW、峰值功率可达30kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：超连续波生成、光纤放大的种子光源、光探测与测距、3D扫描与成像、生物医学、CARS泵浦、污染物检测、大气科学、微机械加工与金刚石压花2. HLF-I系列1064nm光纤耦合输出亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLF-I系列产品是一款基于全固态泵浦被动调Q技术的单模光纤耦合激光器。得益于我们的专利设计，该款1064nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达100KHz, 平均功率可达320mW, 单脉冲能量可达12uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q&单模光纤输出、具有专利技术的微片设计、1064nm亚纳秒脉冲（600ps to 2ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达100KHz 、平均功率可达320mW、峰值功率可达15kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：超连续波生成、光纤放大的种子光源、光探测与测距、3D扫描与成像、生物医学、CARS泵浦、污染物检测、大气科学、微机械加工与金刚石压花3. HLX-G系列532nm亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLX-G系列产品是一款基于全固态泵浦的被动调Q激光器。得益于我们的专利设计，该款532nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达50KHz, 平均功率可达150mW, 单脉冲能量可达10uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q、具有专利技术的微片设计、532nm亚纳秒脉冲（600ps to 1ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达50KHz 、平均功率可达150mW、峰值功率可达15kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：MALDI、微解剖学、光探测与测距、生物医学、激光诱导荧光、激光诱导解析光谱、拉曼光谱、大气科学、微机械加工与金刚石压花

四面研磨产品用途：四面研磨透镜光纤是使用量青光电自己开发的全自动设备，在光纤的四个端面进行研磨；然后经过特殊的加工手段在其尖端加工出光学微球透镜，并检测光斑形状，保证光斑形状和芯片的光斑形状一致，从而达到增加耦合效率的目的。主要用于对两个方向都要求增加模场直径的半导体激光器的耦合：

520nm 单模尾纤型说明书 15mW 产品型号：MP-520-015-SM-FC -0.86. 器件最大工作电流：150mA，建议使用不超过：150mA； 7. 器件工作温度：15-25℃； 8. 器件工作电压：4.5-5.0V（@Iop=150mA）。520nm 多模尾纤型说明书 15mW 产品型号：MP-520-015-MM-FC -0.8 注意事项： 1. 长期工作时请给器件保证良好的制冷； 2. 器件对反相电压较为敏感，反相电压最大 2.0V，否则容易烧坏器件； 3. 器件对电源的纹波比较敏感，请在电源上做充分的保护； 4. 器件要在防静电区域操作，激光器是静电敏感元件请注意静电防护； 5. 激光对人眼和皮肤有害，请不要照射人眼和皮肤； 6. 器件最大工作电流：150mA，建议使用不超过：150mA； 7. 器件工作温度：15-25℃； 8. 器件工作电压：4.5-5.0V（@Iop=150mA）。 515nm 多模尾纤型说明书 15mW 产品型号： MP-515-015-MM-FC -0.8 注意事项： 1. 长期工作时请给器件保证良好的制冷； 2. 器件对反相电压较为敏感，反相电压最大 2.0V，否则容易烧坏器件； 3. 器件对电源的纹波比较敏感，请在电源上做充分的保护； 4. 器件要在防静电区域操作，激光器是静电敏感元件请注意静电防护； 5. 激光对人眼和皮肤有害，请不要照射人眼和皮肤； 6. 器件最大工作电流：150mA，建议使用不超过：150mA； 7. 器件工作温度：15-25℃； 8. 器件工作电压：4.5-5.0V（@Iop=150mA）。

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机； 7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

激光测距传感器配件用于精确的距离测量,测距可达150m，该系列传感器配件有许多不同的接口，有利于在现有系统上进行快速集成。激光测距传感器配件的典型应用是液位测量，以及安全应用，如门的位置控制。激光测距传感器配件规格没有反射器，测量范围 (m) 80有反射器，测量范围 (m) 150线性度 ± 2 ... ± 5mm分辨率 0.1mm可重复性 0.5mm实用的安装槽，方便安装激光瞄准，方便调整在各种表面进行精确测量

635nm 单模尾纤型说明书 产品型号： MP-635-040-SM-FC -0.8 光学和电学特性： 注意事项： 1. 长期工作时请给器件保证良好的制冷； 2. 器件对反相电压较为敏感，反相电压最大 2.0V，否则容易烧坏器件； 3. 器件对电源的纹波比较敏感，请在电源上做充分的保护； 4. 器件要在防静电区域操作，激光器是静电敏感元件请注意静电防护； 5. 激光对人眼和皮肤有害，请不要照射人眼和皮肤； 6. 器件最大工作电流：150mA，建议使用不超过：150mA； 7. 器件工作温度：15-25℃； 8. 器件工作电压：4.5-5.0V（@Iop=150mA）635nm 单模保偏尾纤型说明书 产品型号：MP-635-040-PM-FC -0.8 光学和电学特性： 注意事项： 1. 长期工作时请给器件保证良好的制冷； 2. 器件对反相电压较为敏感，反相电压最大 2.0V，否则容易烧坏器件； 3. 器件对电源的纹波比较敏感，请在电源上做充分的保护； 4. 器件要在防静电区域操作，激光器是静电敏感元件请注意静电防护； 5. 激光对人眼和皮肤有害，请不要照射人眼和皮肤； 6. 器件最大工作电流：150mA，建议使用不超过：150mA； 7. 器件工作温度：15-25℃； 8. 器件工作电压：4.5-5.0V（@Iop=150mA）。 638nm 插拔式器件说明书 产品型号： MP-638-300-SC-56 光学和电学特性：

美国3M2273M-2273M-2273M光(电)缆及管道探测仪，美国3M2273M-2273M-2273M光(电)缆及管道探测仪，指标，销售热线，15300030867，张经理，欢迎您的来电咨询！3M Dynatel 2273M高级光/电缆路由、埋深及外皮故障探测仪发射器尺寸、重量17.2cmH×28.6cmW×19.7cmD 2.4k接收器26.7W×26.1H×76.2cmD 1.9kg自校准有自校准功能操作菜单中文操作菜单2极背光，大屏幕液晶显示接收天线2273M高级 光（电）缆定位仪接收机7根接收天线通讯端口有通讯端口与pc传输数据并可软件升级定位模式方向峰值、方向反峰值（罗盘指示）、特殊峰植接收器频率有源：577Hz、8KHz、33KHz和200KHz无源：50L、50H、100、60L、60H、120无源（其他设备）有线电视31.5KHz备用：560/512/460/400/393/340/333/273Hz用户自定义：4种频率（50~999Hz）灵敏度@1米/3.3英寸低燥声下单峰模式具体参数指标显示器分辨率 0.1dB深度显示范围：0-9米（30英尺）深度单位： 厘米、英尺或英寸测深精度： ±2%+/-5cm (0-1.5米) ±6%+/-5cm (1.5-3米) ±10+/-5cm (3-4.5米)电缆电流显示：0.1dB或0.01mA分辨率单位dB或mA电池类型：8节AA碱性电池 30小时发射器探测模式：577Hz、8KHz、33KHz、200KHz护套故障：10/20Hz 探测：577Hz和33KHz信号音模式：557Hz和200KHz 脉冲：8Hz感应模式：33KHz和200KHz输出电压（最大）：护套故障：70Vrms 探测：70Vrms音频：10Vrms 高设置：60Vrms输出功率：0.5瓦特、3瓦特或5瓦特输出保护：240Vrms电源：6节C型碱性电池，外部直流电源：9-18VDC(1A)(仅有“A”类选项)电池：正常50小时、高输出：10小时美国3M2273M-2273M-2273M光(电)缆及管道探测仪，美国3M2273M-2273M-2273M光(电)缆及管道探测仪，指标，销售热线，15300030867，张经理，欢迎您的来电咨询！

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)