光谱膜厚仪

反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍：1. 测量范围与精度： - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度，具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能： - 在折射率未知的情况下，SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度，还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理： - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线，并根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持： - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件，界面友好，操作简便。 - 软件功能强大，支持多层膜厚的测试，并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库，支持多种折射率模型，如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势： - 先进的光学设计和探测器系统，确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特，具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度，以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统，大液晶显示和PLC操作面板，便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式，以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域： - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业，特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述，反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域，成为薄膜厚度测量领域的理想选择。

产品特点： ? 光谱仪(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供丰富选配套件以及客制化光纤。? 可依据安装现场需求评估设计。? 可灵活架设于各种环境下的最佳即时测量系统。 测量项目： 分光光谱仪种类测量波长范围MCPD-9800：高动态范围型360～1100nmMCPD-3700：紫外/可视/近红外光型220~1000nmMCPD-7700：高感度型220~1100nm平面显示器模组测量： 平面显示器（FPD）模组、液晶显示器（LCD）模组、电浆显示器（PDP）模组、CRT显示器、OLED面板系统架构： ①光谱仪 ②受光光纤 ③放射感应器测量实例： 液晶面板色度测量液晶面板对比测量

产品特点： ? 光谱仪(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供丰富选配套件以及客制化光纤。? 可依据安装现场需求评估设计。? 可灵活架设于各种环境下的最佳即时测量系统。 测量项目： 分光光谱仪种类测量波长范围MCPD-9800：高动态范围型360～1100nmMCPD-3700：紫外/可视/近红外光型220~1000nmMCPD-7700：高感度型220~1100nm平面显示器模组测量： 平面显示器（FPD）模组、液晶显示器（LCD）模组、电浆显示器（PDP）模组、CRT显示器、OLED面板系统架构： ①光谱仪 ②受光光纤 ③放射感应器测量实例： 液晶面板色度测量液晶面板对比测量

INSIGHT 镀层分析仪使用微聚焦X射线管将X射线源的大部分射线收集并汇聚成微束斑，照射在样品位置，从而获得良好的空间分辨率及很强的荧光信号，通过能谱探头及后续的数据处理器等采集、处理并评价样品被辐照后产生的荧光信号，得出样品的成分信息。它可实现更复杂应用的快速测量和精准分析，是对不均匀或形状不规则的未知样品以及微观物体进行元素分析的理想方法。INSIGHT 镀层分析仪是一款上照式镀层分析仪，具有外观紧凑、节约空间、易于操作、分析快速、检测精准等特点，被广泛应用于常规和复杂镀层结构的样品进行元素分析和厚度检测，尤其是对不均匀、不规则，甚至微小件等形态的样品，确保客户获得可靠、可重复结果以满足数百种应用，包括：珠宝首饰、小零件、连接器镀层、普通电路板等。使用优势多准直器多准直器可选或多种准直器组合由软件自动切换，可灵活应对不同尺寸的零件。一键式测量配备直观而智能的分析软件，操作简单，任何人无需培训都可以测试样品，仅仅需要点击“开始测试”，数十秒即可获得检测结果啦。自动对焦高低大小样品可快速清晰对焦，视频图像可放大、含十字线、自动聚焦。超大测量室仪器壳体的开槽设计（C型槽）使得测量空间宽大，样品放置便捷，可以测量如印刷线路板类大而平整的物品，也可以放置形状复杂的大样品。无损检测X射线荧光是无损分析过程，不留任何痕迹，即使是对敏感性材料，其测量也是非常安全的。高性能进口探测器选用适合于多元素镀层的大面积Si-PIN探测器，比起传统的封气正比计数器，Si-PIN具有更佳分辨率、更低的背景噪声（最高 S/N 比）长期稳定性以及更长的使用寿命。可编程自动位移样品台可选配固定或电动型自动平台，并且可编程以适应广泛的零件尺寸和测试量。固定样品台足以对易于定位检测面积的电路板上一个或几个位置进行点检。用户可以使用固定样品台手动定位样品，但是对于具有复杂设计和极小特征的电路板，在电动样品台上的处理效果会更好，这种样品台可提供更好的精确度来进行微调。此外，INSIGHT还允许创建、保存和调用多点程序，以便对多个部件进行自动化测试。可编程 XY 载物台与内置模式识别软件相结合，使大容量样品测试既高效又一致。应用场景普通PCB行业PCB表面处理工艺，常见的是热风整平、有机涂覆OSP、化学镀镍/浸金、浸银、浸锡和电镀镍金等工艺。晓INSIGHT可对不同形状的PCB镀层厚度与成分进行快速、高效、无损和准确的分析。珠宝首饰电镀工艺能起到保护首饰金属表面的作用，又可使金属首饰表面更加美观。不同国家首饰电镀标准不同，目前我国执行的标准为《贵金属覆盖层饰品 电镀通用技术条件 QB T 4188-2011》，为满足市场质量要求，确保符合行业规范，晓INSIGHT适用于不同形状的珠宝首饰的单镀层和多镀层厚度和成分检测。电子元器件镀层技术和电子元件的发展互相协同，随着社会发展节奏的加快，对电子元件的性能要求逐渐提高，镀层技术也显得尤为重要。为保证电子产品稳定可靠，对电子元件的镀层进行检测筛选是一个重要环节。常见的电子元件镀层有锡-银(Sn-Ag)镀层、锡-铋(Sn-Bi)镀层、锡-铜(Sn-Cu)镀层、预镀镍-钯-金(Ni-Pd-Au)等。通用小零件和小结构随着科技的快速发展，各个行业中零件都趋于小型化，镀层工艺作为小零件的重要表面处理方法，分为挂镀、滚镀、接连镀和刷镀等方法。规格参数特点自上而下的测量结构，XYZ测量平台，Muti-FP多层算法元素范围Na(钠)—Fm(镄) 分析层数5层（4层+基材）每层可分析10种元素，成分分析最多可分析25种元素X射线管50 W（50kV，1mA）微聚焦钨钯射线管（靶材可选配）探测器Si-PIN大面积探测器准直器φ0.05-φ1可选，多准可选相机高分辨率CMOS彩色摄像头，500万像素手动样品XY平台移动范围：100 x 150 mm可编程XY平台(可选配)Z轴移动范围150 mm样品仓尺寸564×540×150mm（L×W×H）外形尺寸664×761×757mm（L×W×H）重量120KG电源AC 220V±5V 50Hz(各地区配置稍有不同) 额定功率150W

光声无损膜厚仪随着电子和纳米科学时代的兴起，电子元件的小型化已成为其几乎呈指数级性能的重要因素。将技术层和涂层减薄到纳米级，可以在各种领域取得进步。复杂的制造流程推动控制变得越来越准确。光声无损膜厚仪为这些演变相关的许多问题提供了解决方案。缺陷检测现在在许多行业中非常必要，以避免在生产过程中遇到问题并提高质量水平。我们使用的光声技术设计了光声无损测量系统。 技术源自法国CNRS 和波尔多大学的技术转让，它依靠激光、材料和声波之间的相互作用深入物质的核心。我们的非破坏性和非接触式技术将光转换为声频超过100GHz 的声波。 目的在于表征涂层，例如不同类型材料的厚度和附着力。特别适用于测量从几纳米到几微米的薄层，无论是不透明的（金属、金属氧化物和陶瓷），还是半透明和透明的。 这种光学技术不受样品形状的影响。 产品特点非破坏性和非接触式技术薄膜的表征：厚度、附着力、热性能快速且可重复的测量超精密测量许多材料可用能检测的膜厚度从 2纳米～20微米扫描方式：单点、XY扫描、表面声波测样样品种类： 不透明、半透明、透明均可测试。平坦和弯曲的样品均可 系统构成：仪器使用两个同步的超快激光器。会产生大约100飞秒的不同波长的激光脉冲。使用这些脉冲进行非破坏性和非接触式测量。这些都集中在所研究的样品表面。 能使用的材料广泛的材料及其在许多应用中的使用使这一材料方面变得非常必要。自产品问世以来，我们的技术已证明其有能力测量许多金属材料。也适用于陶瓷和金属氧化物，并且不受外形因素的影响。 无损检测 (NDT) 具体应用案例半导体行业半导体行业为我们周围遇到的大多数电子设备提供了基本组件。它的制造需要在硅晶片上进行多次薄膜沉积。 问题？在任何工艺过程中，不透明薄膜的沉积，无论是单层还是多层，都需要质量控制。无论是检测还是计量，厚度测量和界面表征都是确保其质量的关键问题。 我们的解决方案？- 高速控制。- 非破坏性和非接触式测量。- 单层和多层厚度测量。 显示器行业今天，不同的技术竞争主导显示器的生产，而显示器在我们的日常使用中无处不在。事实上，由于未来UHD-8K 标准以及新兴柔性显示器的制造工艺，这个不断扩大的行业存在技术限制。问题？一个像素仍然是一堆薄层有机墨水、银、ITO… … 在这方面，控制薄层厚度的问题仍然存在。这些问题可能会导致最终产品出现质量缺陷。 我们的解决方案？- 对此类层的独特检查。- 提取厚度的可能性。- 非破坏性和非接触式厚度测量。 薄层沉积无论是在航空工业还是医疗器械制造领域，技术涂层都可用于增强高附加值部件中的某些功能。这些涂层的厚度随后成为确保目标性能的关键因素。问题？无论是法律限制还是技术限制，破坏性测试的采样方法通常提供不完整的答案。此外，由于形状因素、曲率等原因，很难控制3D作品。 我们的解决方案？- 非破坏性和非接触式测试- 快速测试厚度数据- 现在可以进行在线生产控制

产品特点： ? 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。? 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。? 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。产品规格： 膜厚测量范围0.1nm~波长测量范围250~800nm（可选择350～1000nm）感光元件光电二极管阵列512ch（电子制冷）入射/反射角度范围45～90o电源规格AC1500VA（全自动型)尺寸1300（H）×900（D）×1750（W）mm重量约350kg（全自动型） 应用范围： ■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价 应用范例： 非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认

产品特点： ? 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。? 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。? 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。产品规格： 膜厚测量范围0.1nm~波长测量范围250~800nm（可选择350～1000nm）感光元件光电二极管阵列512ch（电子制冷）入射/反射角度范围45～90o电源规格AC1500VA（全自动型)尺寸1300（H）×900（D）×1750（W）mm重量约350kg（全自动型） 应用范围： ■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价 应用范例： 非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认

【3V仪器-EDX6000E金属镀层测厚仪 多镀层厚度检测分析】专业供应镀层测厚仪，金属镀层测厚仪，应对镀锌层、镀锡层、镀镉层、镀铬层、镀铜层、镀铅层、镀铜锡合金等等。1.6 技术性能及指标: 1.6.1 元素分析范围从硫(S)到铀(U) 1.6.2 元素含量分析范围为 1PPm 到 99.99% 1.6.3 测量时间：60-200 秒 1.6.4 检测限度达 1PPM 1.6.5 能量分辨率为 149±5 电子伏特 1.6.6 温度适应范围为 15℃至 30℃ 1.6.7 电源：交流 220V±5V（建议配置交流净化稳压电源） 1.7 产品特点:● EDX6000E 是针对镀层测厚设计的一款产品 ● 打破传统仪器直线的设计，采用流线体的整体化设计，仪器时尚大方 ● 采用美国新型的 Si-PIN 探测器，电致冷而非液氮制冷，体积小、数据分析准确，维护成本低 ● 采用自主研发的 SES 信号处理系统，有效提高测量的灵敏度，让测量更精确 ● 一键式自动测试，使用更简单，更方便，更人性化 ● 七种光路校正准直系统，根据不同样品自动切换 ● 多重防辐射泄露设计，辐射防护级别优于同类产品。 ● 一体化散热设计，使整机散热性能得到极大提高，保证了核心部件的运行安全 ● 机芯温控技术，保证 X 射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本 ● 多重仪器配件保护系统，并可通过软件进行全程监控, 让仪器工作更稳定、更安全 ● 专用测试软件，标准视窗设计，界面友好，操作方便 ● 本机采用 USB3.0 接口，有效地保证了数据准确高速有效的传输【3V仪器-EDX6000E金属镀层测厚仪 多镀层厚度检测分析】2.仪器硬件部分主要配置2.1 Si-PIN 电制冷半导体探测器2.1.1 Si-PIN 电制冷半导体探测器；分辨率：149±5 电子伏特 2.1.2 放大电路模块:对样品特征 X 射线进行探测；把探测采集的信息,进一步放大2.2 X 射线激发装置2.2.1 灯丝电流输出：1mA2.2.2 属于半损耗型部件，使用寿命达 20000 小时2.3 高低压电源2.3.1 电压输出： 50kV2.3.2 5kv 可控调节2.3.3 自带电压过载保护2.4 多道脉冲幅度分析器2.4.1 将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件2.4.2 通道数： 40962.4.3 包含信号增强处理2.5 光路过滤模块 2.5.1 降低 X 射线光路发送过程中的干扰，保证探测器接收信号准确2.5.2 将准直器与滤光片整合2.6 准直器自动切换模块2.6.1 多达 7 种选择，口径分别为 8-1＃, 8-2＃, 8-3＃, 4＃，2＃, 1＃, 0.5＃ 2.7 滤光片自动切换模块2.7.1 五种滤光片的自由选择和切换 2.8 准直器和滤光片的自由组合模块2.8.1 多达几十种的准直器和滤光片的自由组合 2.9 工作曲线自动选择模块2.9.1 自动选择工作曲线，摒弃手动选择，避免人为操作失误，将自动化和智能化 操作得更轻松，使操作更人性，更方便3. 专用软件配置 3.1 专用 镀层分析软件 3.1.1 专门针对镀层检测而开发，对采集的光谱信号进行数据处理、计算并报告 显示测量结果 3.3 专用 FP 金属镀层分析软件3.3.1 元素分析范围：从硫（S）到铀（U）3.3.2 一次可同时分析 3 层以上镀层3.3.3 分析检出限可达 0.1μm3.3.4 分析厚度一般为 0.1μm 到 30μm 之间3.3.5 多次测量重复性可达 0.1μm（对于小于 1μm 的最外层镀层）3.3.6 长期工作稳定性为 0.1μm（对于小于 1μm 的最外层镀层）3.3.7 配置小孔准直器，测试光斑在 0.2mm 以内3.3.8 探测器能量分辨率为 149±5eV3.3.9 应用领域:金属电镀层厚度的测量,如 Zn/Fe、Ni/Fe、Ni/Cu、Sn/Cu、Ag/Cu 等 【3V仪器-EDX6000E金属镀层测厚仪 多镀层厚度检测分析】

天瑞X荧光光谱镀层膜厚检测仪，天瑞镀层测厚仪应用领域黄金，铂，银等贵金属和各种首饰的含量检测.金属镀层的厚度测量, 电镀液和镀层含量的测定。主要用于贵金属加工和首饰加工行业；首饰销售和检测机构；电镀行业。仪器介绍Thick800A是天瑞集多年的经验，专门研发用于镀层行业的一款仪器，可全自动软件操作，可多点测试，由软件控制仪器的测试点，以及移动平台。是一款功能强大的仪器，配上专门为其开发的软件，在镀层行业中可谓大展身手。性能特点满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求φ0.1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求高精度移动平台可定位测试点，重复定位精度小于0.005mm采用高度定位激光，可自动定位测试高度定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐鼠标可控制移动平台，鼠标点击的位置就是被测点高分辨率探头使分析结果更加准良好的射线屏蔽作用测试口高度敏感性传感器保护技术指标型号：Thick 800A元素分析范围从硫(S)到铀（U）。同时可以分析30种以上元素，五层镀层。分析含量一般为ppm到99.9% 。镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）任意多个可选择的分析和识别模型。相互独立的基体效应校正模型。多变量非线性回收程序度适应范围为15℃至30℃。电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。外观尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm样品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm重量：90kg标准配置开放式样品腔。精密二维移动样品平台，探测器和X光管上下可动，实现三维移动。双激光定位装置。铅玻璃屏蔽罩。Si-Pin探测器。信号检测电子电路。高低压电源。X光管。高度传感器保护传感器计算机及喷墨打印机无损天瑞X荧光光谱镀层膜厚检测仪，天瑞镀层测厚仪

能量色散X荧光光谱仪EDX6000E镀层测厚仪目录1.产品名称及特点:2.仪器硬件主要配置2.1 Si-pin电制冷半导体探测器2.2 X光管（专用小焦点X光管）:2.3 高低压电源:2.4 多道分析器:2.5光路过滤模块2.6 准直器自动切换模块2.7滤光片自动切换模块2.8准直器和滤光片自由组合模块3.金属镀层专用分析软件4.附件5.产品保修及售后服务产品资料1.产品名称及特点: 1.1. 产品名称及型号：（3V x-ray）能量色散X射线荧光光谱仪-------EDX6000E1.2. 制造商：苏州三值精密仪器有限公司1.3 仪器总价值： 数量 单位 金额（人民币） 1 套 RMB(含税)1.4 产品图片 EDX6000E型1.5. 工作条件：● 工作温度：15～30℃● 相对湿度：40%～80%● 电 源：AC220V±5V1.6.产品特点 1.6.1 EDX6000E可专门针对金属镀层厚度及成分含量进行分析。 1.6.2打破传统仪器直线的设计，采用流线体的整体化设计，仪器简洁大方。 1.6.3采用美国新型的Si-pin探测器，电致冷而非液氮制冷，体积小、数据分析准确且维护成本低。 1.6.4采用自主研发的SES信号处理系统，有效提高测量的灵敏度，测量更准确。 1.6.5七种光路校正准直系统，根据不同样品自动切换。 1.6.6多重防辐射泄露设计，辐射防护级别属于同类产品级。 1.6.7一体化散热设计，使整机散热性能得到极大提高，保证了核心部件的运行安全。 1.6.8机芯温控技术，保证X射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本。 1.6.9多重仪器部件保护系统，并可通过软件进行全程监控，仪器工作更稳定安全。 1.6.10专用测试软件，标准视窗设计，界面友好，操作方便。 1.6.11采用USB2.0接口，有效保证数据准确、高速的传输。2.仪器硬件主要配置2.1 Si-pin电制冷半导体探测器 2.1.1. Si-pin电制冷半导体探测器；分辨率:149±5eV。 2.1.2. 放大电路模块：对样品特征X射线进行探测，将探测采集的信号进一步放大。2.2 X光管（专用小焦点X光管）: 2.2.1 灯丝电流：1mA。 2.2.2 属于半损耗型部件，设计使用寿命大于10000小时。2.3 高低压电源: 2.3.1.电压输出：≤50kV。 2.3.2.5kv可控调节。 2.3.3.自带电压过载保护。2.4 多道分析器: 2.4.1. 将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件。 2.4.2 通道数：4096。 2.4.3 包含信号增强处理。2.5光路过滤模块 2.5.1 降低X射线光路发送过程中的干扰，保证探测器接收信号准确。 2.5.2 将准直器与滤光处组合；2.6 准直器自动切换模块 2.6.1 多种选择，口径分别为8、4、2、1、0.5mm。2.7滤光片自动切换模块 2.7.1五种滤光片的自由选择和切换。2.8准直器和滤光片自由组合模块 2.8.1多达几十种的准直器和滤光片的自由组合。3.金属镀层专用分析软件 3.1 元素分析范围：从硫（S）到铀（U）。 3.2 分析检出限可达0.1-99.99% 3.3 分析厚度一般为0.1μm至30μm之间。 3.4 多次测量重复性可达0.1μm（对于小于1μm的最外层镀层）。 3.5 长期工作稳定性为0.1μm（对于小于1μm的最外层镀层）。4.附件 4.1 样品腔：开放式大样品腔。 4.2 标准样品：镀层标样。5.产品保修及售后服务 5.1 免费对客户方操作人员进行培训。 5.2 安装、调试、验收、培训及售后服务均为免费在用户方现场进行。 5.3正常使用，经本公司确认属工艺或材质缺陷引起的故障，且未经拆修，仪器自验收合格之日起保修壹年。 5.4 产品终身维修（客户必须有填写详细、真实的有效购买凭证和保修卡等）。 5.5 免费提供软件升级。 5.6 提供最有效的技术服务，在接到用户故障信息后，2小时内响应，如有需要，24小时内派人上门维修和排除故障。3V仪器-EDX6000E金属镀层测厚仪 镀层厚度光谱检测仪

1. 产品概述SpectraRay/4 是 SENTECH 有的光谱椭圆偏振仪软件，包括椭圆、反射和透射数据的数据采集、建模、拟合和扩展报告。它支持可变角度、多实验和组合光度测量。 包括一个基于 SENTECH 厚度测量和文献数据的庞大而全面的材料数据库。大量的色散模型允许对几乎任何类型的材料进行建模。2. 映射我们的光谱椭圆偏振仪的映射选项具有预定义或用户定义的模式、广泛的统计数据以及以 2D 颜色、灰色、等高线、+/- 与平均值的偏差和 3D 绘图等图形显示数据。3. 模拟测量参数可以模拟为波长、光子能量、倒数厘米、入射角、时间、温度、薄膜厚度测量和其他参数的函数。4. 交互模式设置测量参数并开始薄膜厚度测量通过从材料库拖放或从现有的色散模型中拖放来构建模型定义和改变参数，使计算出的光谱与测量的光谱拟合以交互方式改进模型，实现佳品质因数通过从预定义或自定义的模板中进行选择，将结果报告为 word 文档将所有实验数据、实验方案和注释保存在一个实验文件中5. 配方模式SpectraRay/4 配方模式的优点是两步操作：选择和从库中执行预定义的配方。配方包括厚度测量参数、模型、拟合参数和报告模板。 6. 灵活性和模块化SpectraRay/4 具有单轴和双轴各向异性材料测量、薄膜厚度测量和层测量功能。该软件可处理去化、不均匀性、散射（Mueller 矩阵）和背面反射等样品效应。该软件包括通用光谱椭圆偏振法软件包的所有实用程序，用于数据导入和导出（包括 ASCII）、文件管理、光谱的算术操作、显示、打印和报告（Word 文件格式 *.doc）。脚本编写功能使其非常灵活，可以自动执行常规测量，为要求苛刻的应用进行定制，并控制第三方硬件，如传感器、加热台、样品池或低温恒温器。

仪器简介：光谱薄膜测试仪 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement 应用领域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies. 设备特性: Angstrom Sun 光谱反射仪广泛用于各种透明、半透明薄膜测试. &bull 广泛用于检测各种薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO. &bull 膜厚范围可自20nm 到5000nm. 可选各种光谱范围, 自UV 200nm到IR 1700nm. &bull 可具有高达12&rdquo 直径自动 mapping 功能，软件功能强大.技术参数：光谱薄膜测试仪 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement 应用领域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies. 设备特性: Angstrom Sun 光谱反射仪广泛用于各种透明、半透明薄膜测试. &bull 广泛用于检测各种薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO. &bull 膜厚范围可自20nm 到5000nm. 可选各种光谱范围, 自UV 200nm到IR 1700nm. &bull 可具有高达12&rdquo 直径自动 mapping 功能，软件功能强大.

1. 产品概述FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。2. 主要功能与优势n、k 和厚度的测量该软件包设计用于 R（λ） 和 T（λ） 测量的高分析。多层分析可以测量单层薄膜和层叠的每一层的薄膜厚度和折射率。大量的色散模型集成色散模型用于描述所有常见材料的光学特性。通过使用快速拟合算法改变模型参数，将计算出的光谱调整为测量的光谱。3. 灵活性和模块化 SENTECH FTPadv Expert 软件包用于光谱数据的高分析，根据反射和透射测量结果确定薄膜厚度、折射率和消光系数。它扩展了SENTECH FTPadv薄膜厚度探头的标准软件包，适用于更复杂的应用，包括光学特性未知或不稳定的材料。可以在光滑或粗糙、透明或吸收性基材上测量单个透明或半透明薄膜的薄膜厚度、折射率和消光系数。该软件允许分析复杂的层堆栈，并且可以确定堆栈的每一层的参数。我们的FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。该软件包包括一个大型且可扩展的材料库，该库基于表格材料文件以及参数化色散模型。FTPadv Expert 软件可选用于膜厚探头 FTPadv，以及反射仪 RM 1000 和 RM 2000 软件包的一部分。

1. 产品概述RM 1000 和 RM 2000 光谱反射仪可测量表面光滑或粗糙的平面或弯曲样品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert软件计算单膜或层叠的厚度、消光系数和折射率。厚度分别为 2 nm 和 50 μm （RM 2000） 或 100 μm （RM 1000） 的单片、层叠和基板可以在 UV-VIS-NIR 光谱范围内进行分析。2. 主要功能与优势突破折光率测量的限SENTECH反射仪通过样品的高度和倾斜调整以及光学布局的高光导率，具有精密的单光束反射率测量功能，允许对n和k进行可重复的测量，在粗糙表面上进行测量，以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。紫外到近红外光谱范围RM1000 410 纳米 – 1000 纳米RM2000 200 纳米 – 1000 纳米高分辨率映射RM 1000 和 RM 2000 反射仪可选配 x-y 成像台和成像软件以及用于小光斑尺寸的物镜。3. 灵活性和模块化SENTECH RM 1000 和 RM 2000 代表我们的反射仪。桌面设备包括高度稳定的光源、带有自动准直望远镜和显微镜的反射光学器件、摄像机、高度和倾斜度可调的样品平台、光谱光度计和电源。它可以选配 x-y 成像台和成像软件，以及用于第二种光斑尺寸的物镜。除了薄膜厚度和光学常数外，薄膜的组成（例如氮化镓上的AlGaN，硅上的SiGe），增透膜（例如在纹理硅太阳能电池上，紫外线敏感的GaN器件）以及小型医疗支架上的涂层都可以通过我们的反射仪进行测量。这些反射仪支持微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等域的应用。用于我们的反射仪 RM 1000 / 2000 的综合性、以配方为导向的 SENTECH FTPadv EXPERT 软件包括测量设置、数据采集、建模、拟合和报告。已经内置了一个包含预定义、客户验证和即用型应用程序的广泛数据库。“自动建模”选项允许从光谱库中自动选择样本模型。基于SENTECH在椭圆偏振光谱方面的业知识，庞大的材料库和各种色散模型使我们的光谱反射仪能够分析几乎所有的材料和薄膜。操作员可以很容易地使用新的光学数据更新数据库。SENTECH通过椭圆偏振光谱法测量具有未知光学特性的新材料，为客户提供支持。

综合概述 SM200是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研 制而成的自动薄膜厚度测绘仪。它利用波长范围最宽 为200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面，只要薄膜有 一定程度的透射，SM200就能根据反射回来的干涉光 谱拟合计算出薄膜的厚度，以及其他光学常数如反射 率、折射率和消光系数等，其厚度最大测绘范围可以 达到1nm~250um。SM200自动光学薄膜厚度测绘仪由测绘主机、测 绘平台、Y型光纤及上位机软件搭建而成，核心器件 采用高分辨率、高灵敏度光谱仪结合奥谱天成独有的 算法技术，为用户提供的全新一代领先的自动光学薄 膜厚度测量仪。产品特征  非接触式、非破坏性的测试系统； 超长寿命光源，更高的发光效率；  高分辨率、高灵敏度光谱仪，测量结果更准确可靠； 软件界面直观，操作方便省时；  历史数据存储，帮助用户更好掌握结果；  桌面式分布设计，适用场景丰富；  维护成本低，保养方便；应用领域 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘，这几乎包含了所有的电介质和半导体材料，包括： 氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。  半导体镀膜：光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨  液晶显示：间隙厚度、聚酰亚胺、ITO 透明导电膜  光学镀膜：硬涂层、抗反射层；  微电子系统：光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板；  生物医学：医疗设备、Parylene产品外观

多功能光栅光谱仪实验装置，YTR-6308简介YTR-6308多功能光栅光谱仪是一款以光栅作为分光元件的光谱仪，其基本原理是当不同波长的光束以相同的入射角入射到光栅上时，不同波长的光束同一级衍射的主极大位置不同，从而达到分光的目的。其优点是具有较宽的光谱测量范围和较高的分辨率，综合性能突出，是目前使用最为广泛的光谱仪器。该光栅光谱仪专为物理实验教学开采用开放式的结构设计，学生可以直观的观看光谱仪的内部光路和结构。同时采用了光电倍增管和线阵式CCD作为光电传感器，既可以获得高分辨率光谱，也可以快速获得宽光谱。使学生更加充分理解和掌握光谱仪的工作原理。该仪器可以很好的使用在氢氘光谱实验，钠原子光谱等实验。特点对称式C-T光路结构，采用可视化的结构设计，帮助学生理解和掌握光谱仪结构组成和工作原理双光路设计，分别使用高品质光电倍增管和线阵CCD作为光电探测器，使得学生更能深入的理解和掌握探测器的性能和实验仪器优缺点和用途专业的光谱分析实验软件，包含：光谱测量、透过率测量、反射率测量、吸光度测量和色度学测量等多种实验模块（有些实验模块需要另配附件）实验内容热辐射光源光谱测定波长准确性的测定和修正氢原子光谱测定及里德堡常量测量吸收光谱的测量CCD测量的波长定标颜色测透过率测量吸光度测量浓度测量透镜焦距测量实验，YGP-6212简介YGP-6212透镜焦距测量实验学习的知识点有几何光学基本定律、透镜成像、显微镜、望远镜。几何光学是光学的重要分支之一，它的应用十分广泛，尤其是在设计光学仪器的光学系统等方面显得十分方便和实用。透镜作为光学仪器的基本元件，可以组建各种光学系统，在成像系统、图像摄取、遥感等领域中已经得到广泛应用。光学显微镜是一种常见的助视光学仪器，它对推动科技进步，尤其是生物学和医学，起到了重要作用；望远镜是另一种常见的助视光学仪器，它对天文学及物理学的发展起到了重要的推动作用。本实验装置可完成《理工科类大学物理实验课程教学基本要求（2023版）》中透镜焦距测量实验的基础内容、提升内容、进阶内容以及高阶内容。特点器材丰富，可以组建各种光学系统；实验内容满足分层次教学要求；通过配置COMS相机及相应的软件，使实验既有鲜明的数字化特点，又保留了手动读数的特色实验内容a)基础内容用自准直法、位移法测量凸透镜焦距；物像距法测量凹透镜焦距。b)提升内容自准直法测量凹透镜焦距；光学成像系统共轴的粗、细调节；透镜成像的景深、成像位置判断与视差消除。c)进阶内容用薄透镜自组显微镜和望远镜；探究常用显微镜结构和性能参数。d)高阶内容观测凸透镜的球差和色差；观测显微成像系统的像散。光的干涉和衍射实验，YGP-6213简介光的干涉和衍射现象是波动光学的重要内容。光干涉现象曾经是奠定光波动性的基石，在波动光学中有重要的意义。而光衍射现象，则是光束传播中，几何光学无法解释的现象，是光波动性的主要标志之一。研究光的干涉和衍射不仅有助于进一步加深对光的波动性的理解，同时还有助于进一步学习近代光学实验技术，如光谱分析、晶体结构分析、全息照相、光信息处理等。本实验同时用单缝、多缝、圆孔、方孔等进行实验，能够明显地展现出衍射、干涉的特征，并利用光强分布探测器测量光强的相对分布，实时给出光强与位置的关系曲线，以及用面阵相机研究衍射图像的两维光强分布情况，实现实验的数字化。特点采用光强分布探测器，无需扫描结构，实时测量光强一位置的分布曲线，响应时间最快可达毫秒级。利用光强分布探测器可以精确测量8级以上衍射条纹，位置测量精度可达0.01mm。利用面阵相机可以研究衍射图像的两维光强分布情况。一体化狭缝组设计，切换方便，易于实验。实验内容a) 基础内容 研究激光通过双缝后形成的干涉图案，测量双缝形成的干涉光强分布，说明干涉条纹的极大值位置与理论预见的一致性。 研究激光经过单缝后形成的衍射图案，测量单缝形成的衍射光强分布，说明衍射条纹的极小位置与理论预见的一致。b) 提升内容 研究激光通过多缝后形成的干涉图案，理解多缝衍射与多光束干涉的原理。c) 进阶内容 观察激光经过圆孔和方孔后的衍射现象，利用面阵相机研究衍射图像的两维光强分布情况。d) 高阶内容 利用COMS相机研究激光经过多孔后形成的衍射图案，利用COMS相机研究衍射图像的两维光强的分布情况光的偏振实验，YGP-6214简介光的偏振现象是波动光学的重要内容。利用这种现象研制的各种光学元件和仪器，在探测物质结构、激光与光电子技术领域有着极其重要和广泛的应用。YGP-6214光的偏振实验装置主要包含：光传感器、转动传感器、激光光源、精密调节架、升降调节架、连接杆、托板和观察屏组成。该实验装置利用先进的传感器技术和智能软件，可以实现连续的数据采集和实时绘制实验数据曲线，极大的提升了实验效率，使学生将更多的精力用于实验本身的原理学习、数据分析和结果讨论上，更加能够透彻的学习、理解和掌握实验。特点无线光传感器，USB2.0和蓝牙通讯，3档可调，适用于不同强度光源的测量。无线转动传感器，USB2.0和蓝牙通讯，角分辨率0.18°。安全的激光光源。数字实验室分析软件，编辑性强，通用程度高。实验内容理解和掌握偏振片的基本原理，使用方法。理解和掌握激光器的偏振特性。通过研究和验证马吕斯定律，掌握光的起偏和检偏原理和方法。研究3片偏振片光强与偏振片角度的关系曲线，进一步掌握光的偏振特性。等厚干涉实验（含牛顿环实验），YGP-6215简介YGP-6215等厚干涉实验（含牛顿环实验）学习的知识点有牛顿环、等厚干涉、光程差、曲率半径。牛顿环和空气劈尖的等厚干涉原理在生产实践中具有广泛的应用，它可以用于检测透镜的曲率，测量光波的波长，精确的测量微小长度、厚度和角度，检验物体表面的光洁度、平整度等。本实验装置可完成《理工科类大学物理实验课程教学基本要求（2023版）》中牛顿环实验的基础内容、提升内容、进阶内容以及高阶内容。特点开放的构架，可以让学生看到所用镜片的类型和位置。可以让学生练习搭建各种光学系统。配套有测微目镜与CMOS相机两种读数方式，即实现实验数字化的同时，保留了传统手动读数的方式。多种光源，更多的分立器件，便于师生开展各种探索研究，比如：同时观察透射和反射的牛顿环，波长测量等实验内容a)基础内容测定平凸球面透镜的球面半径。b)提升内容用劈尖干涉测量细丝直径。c)进阶内容测定平凹球面透镜的球面半径。d)高阶内容用透射和反射两种方法观察牛顿环，并测量绿光、紫光、黄光的波长。更多精彩，请关注下方！的P-tP

精密激光调阻机 厚膜电路激光修调设备激光调阻在汽车电子行业典型应用：　　1、油位传感器一般是几个点位的阻值调整　　2、要求一段电阻区间每刀长度尽量一致　　3、节气门位置传感器要求电阻之间的比例关系一致　　4、角度线性修调——汽车空调，音量等带旋扭的电路基板 　　与传统的人工调阻相比，激光调阻具有以下优势：　　1、采用进口激光器与平面电机，整机性能稳定。　　2、调阻精度对比同行其他激光调阻设备高出4-10倍。　　3、具有强大的软件编程功能，多种功能集于一机，可满足各种应用领域调阻需求，可轻松实现客户的特殊定制，实现高效自动化运行。　　　　激光调阻机具有修调阻功能，多被用于厚膜、薄膜电路，由于厚薄膜电路的制造工艺局限，其电阻阻值误差较大，为了更好适用电路需要，就需要应用到激光调阻机进行修调，其精密调节包括：　　无源修调(电阻力本身调整)：将原始厚膜或薄膜电阻阻值修调至目标阻值。　　有源修调(电路功能调整)----将电路模块修调至需要的输出信号。测量修调对象除了电阻外，还可是电压、电流、频率、反转等信号。 LT5110激光调阻机设备特点　　高性价比机型，适用厚膜电路调阻，电子模块功能修调　　半导体端面泵浦光纤藕合固体激光器　　步进或伺服电机、丝杠XY平台分步重复　　消色差成像技术　　强大软件编程功能，满足各种不同应用　　大理石台面，机台稳定性好 LT5110激光调阻机应用行业　　适用于厚膜电阻的激光调阻，电子电路的功能修调、输出信号的修调。广泛应用于厚膜电路、汽车电子、传感器等领域。设备功能强，性价比高。LT5110激光调阻机技术参数表 三工精密激光调阻机设备亮点介绍　　调阻效率高：调阻速度相对国内其它激光调阻产品高出4-10倍，产能大大提升，单位成本下降。　　调阻精度高：独特的测控技术，测量控制系统精度的一致性好，提升产品附加值 成品率高，单位成本下降。　　软件可编程：可轻松实现客户的不同需求以及高自动化运行，也可作为专门的测试平台，适应性广。　　使用成本低：采用了先进的激光器，无耗材，使用成本低，长期使用节约大量的费用。　　多功能：可实现陶瓷基片的激光划线、打标，减少设备的再投入。　　专业大理石基座，可有效减小工作台启动、停止和加速过程中产生的震动，同时保持机台温度的稳定性，可靠性高。　　可定制：在电路功能修调方面由于应用行业多样化，相对要求也多样化，对设备的整体要求要高些，有时标准型激光调阻机不能直接满足使用要求，但武汉三工精密的激光调阻机产品属于自主开发，特别是核心的测控系统，能为各种不同的客户提供定制化服务，满足不同客户的需求。温馨提示：本产品不支持网上订购，产品均以实际配置计价为准，网上标价均为统一虚价，给您造成的不便还请谅解！具体价格请沟通后计算配置而定，谢谢！

产品特点： ? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 自动变更反射测量角度，可得到更详细的薄膜解析数据。? 采用正弦杆自动驱动方式，展现测量角度变更时优异的移动精度。? 搭载薄膜分析所需的全角度同时测量功能。? 可测量晶圆与金属表面的光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 样品对应尺寸100×100mm测量方式偏光片元件回转方式入射/反射角度范围45～90o入射/反射角度驱动方式反射角度可自动变更波长测量范围300～800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650（H）×400（D）×560（W）mm重量约50kg

产品特点： ? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 自动变更反射测量角度，可得到更详细的薄膜解析数据。? 采用正弦杆自动驱动方式，展现测量角度变更时优异的移动精度。? 搭载薄膜分析所需的全角度同时测量功能。? 可测量晶圆与金属表面的光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 样品对应尺寸100×100mm测量方式偏光片元件回转方式入射/反射角度范围45～90o入射/反射角度驱动方式反射角度可自动变更波长测量范围300～800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650（H）×400（D）×560（W）mm重量约50kg

三工精密激光调阻仪 厚膜电路激光修阻机　　薄膜电阻和厚膜电阻之间的渊源：　　1、膜厚的区别，厚膜电路的膜厚一般大于10μm，薄膜的膜厚小于10μm，大大多处于小于1μm 　　2、制造工艺的区别，厚膜电路一般采用丝网印刷工艺，薄膜电阻采用的是真空蒸发、磁控溅射等工艺方法。厚膜电阻一般精度较差，10%，5%，1%是常见精度，而薄膜电阻则可以做到0.01%万分之一精度，0.1%千分之一精度等。　　同时厚膜电阻的温度系数很难控制，一般较大，同样的，薄膜电阻则可以做到非常低的温度系数，如5PPM/℃,10PPM/℃这样电阻阻值随温度变化非常小，阻值稳定可靠。所以薄膜电阻常用于各类仪器仪表，医疗器械，电源，电力设备，电子数码产品等。价格相对厚膜电阻来说会比较贵一些。　　厚膜电阻还是薄膜电阻两者都需要达到一定的精度跟稳定度，只是两者的要求不一样。武汉三工精密生产的激光调阻机就解决了厚膜电阻跟薄膜电阻在精度跟稳定度上不易控制上的问题，并且具有调阻效率高、使用成本低、高自动化运行的优点。激光调阻机加工优势呢?　　1、激光调阻机在加工过程中属于非接触性加工，不产生机械挤压，因此加工工件不会被破坏，聚焦的激光光束如刀具，尺寸小，热影响区域小，加工精细。　　2、激光加工调阻机先进的系统应用了大量的LSI、VLSI电路，以软件操作代替硬件功能，利用激光器光束定位，分步重复及测量等系统衔接。　　3、激光调阻机相对于手工换电阻、电位器调整等传统方式，其采用了高速实时测量及自动化程序控制技术，激光调阻加工时间缩短至几十毫秒，效率更高。　　4、激光调阻可以满足更小器件的微调，缩小加工产品的体积，激光束可聚焦到35um甚至10um，电路微型化意味着在同样的基板上能生产出更多的产品，降低了成本。LT7130激光调阻机 设备特点　　适用厚膜电路调阻，电子模块功能修调　　高精度，高速度，高可靠性　　订制的进口激光器，切口质量高　　直线电机XY平台分步重复　　矩阵测量系统，配备IEEE-488(GPIB)接口　　强大软件编程功能，满足各种不同应用 LT7130激光调阻机应用行业　　适用于厚膜、薄膜电阻的激光调阻，电子电路的功能修调、输出信号的修调。广泛应用于厚膜电路、汽车电子、传感器等领域。设备配置高，适合大规模量产。温馨提示：本产品不支持网上订购，产品均以实际配置计价为准，网上标价均为统一虚价，给您造成的不便还请谅解！具体价格请沟通后计算配置而定，谢谢！

1. 产品概述SENTECH SENresearch 4.0 使用快速 FTIR 椭圆偏振法分别测量高达 2,500 nm 或 3,500 nm 的近红外光谱。它提供宽的光谱范围、佳的信噪比和高的可选光谱分辨率。可以测量厚度达 200 μm 的硅膜。FTIR椭圆偏振仪的测量速度与二管阵列配置相比，二管阵列配置也可选择高达1,700 nm。2. 主要功能与优势宽的光谱范围和高的光谱分辨率SENTECH SENresearch 4.0 椭圆偏振光谱仪覆盖从 190 nm（深紫外）到 3,500 nm（NIR）的宽光谱范围。该器件具有高光谱分辨率，可使用 FTIR 椭圆偏振法分析厚度达 200 μm 的厚膜。无运动部件，符合 SSA 原理在数据采集过程中没有移动的光学部件，以获得佳测量结果。步进扫描分析仪 （SSA） 原理是 SENresearch 4.0 光谱椭偏仪的一个功能。通过创新的 2C 设计实现全 Mueller 矩阵通过创新的 2C 设计扩展了 SSA 原理，可以测量完整的 Mueller 矩阵。2C 设计是一种可现场升且经济高效的配件。3. 灵活性和模块化电动金字塔测角仪的角度范围为 20 度至 100 度。光学编码器确保了高精度和角度设置的长期稳定性。光谱椭圆仪臂可以独立移动，以进行散射测量和角度分辨透射测量。该工具根据步进扫描分析仪 （SSA） 原理运行。SSA将强度测量与机械运动分离，从而可以分析粗糙的样品。在数据采集过程中，所有光学部件都处于静止状态。此外，SENTECH SENresearch 4.0 包括用于映射和原位应用的快速测量模式。SENresearch 4.0 的定制椭圆仪可以针对标准和高应用进行配置。例如介电层堆栈、纹理表面以及光学和结构 （3D） 各向异性样品。为各种应用提供了预定义的配方。

OEM光谱模块及光谱仪定制开发 YSM-8107简介YSM-8107 OEM光谱模块，其设计是在YSM-8101系列微型光谱仪的基础上，采用了光电分离型结构，使其光机部分和电路部分不再完全地固定在一起，从而方便集成商用户对自有系统进行整合设计。OEM光谱模块采用了同类产品中一流品质的核心元件来保证模块的高品质，也支持元器件更替作成本优化，从而适应批量生产的成本要求。除此之外，YIXIST所有系列光谱仪均支持OEM集成和ODM定制开发。YIXIST拥有一支包含光学、机械、电子、软件、应用和项目管理工程师的专业光谱仪研发团队，团队成员拥有超过10年的光谱仪研发经验，能够快速协助您确定产品需求，提供有效的项目方案，以及高效的完成项目方案并保障产品的生产、售后服务和技术支持以及产品的升级迭代。为您的系统在研发、推广、生产和服务支持上保驾护航。硬件定制：探测器的选择及其电路的开发定制通讯方式的开发定制分辨率、光谱范围、光学系统尺寸的开发定制机械结构的开发定制支架、光源和其它采用附件的开发定制软件定制为用户定制专属界面软件功能的定制开发定制流程确定项目方案 根据您的应用需求，对技术参数、验收标准、生产标准、成本和时间节点等细节展开论证并确定项目方案。项目研发和原型机 根据项目方案的时间节点，展开详细设计、生产和检测原型机并提供原型机给您测试。样机/小批量生产阶段 解决原型机测试中发现的问题，生产完全满足实际使用要求的产品给您测试，同时制定生产标准和检验标准等批量生产的生产资料。批量生产为您批量生产满足性能指标和质量稳定的产品。各个阶段我们始终会与您建立并保持一个良好的沟通以及服务机制，确保您放心使用我们提供的产品和得到优质的服务。

1. 产品概述SENTECH SENDIRA 为红外 （FTIR） 而设计。这款紧凑的台式仪器包括吹扫椭偏仪光学元件、计算机控制的测角仪、水平样品平台、自动准直望远镜、商用 FTIR 和 DTGS 或 MCT 检测器。FTIR 在 400 cm-1 至 6,000 cm-1 （1.7 μm – 25 μm） 的光谱范围内提供出色的精度和高分辨率。2. 主要功能与优势测量灵活性SENTECH SENDIRA 椭圆偏振光谱仪可测量散装材料、单层和多层堆叠的薄膜厚度、折射率、消光系数和相关特性。该工具可用于覆盖在可见范围内不透明的层下方的层，使其可用于测量。可以分析材料的组成以及较大分子基团和链的取向。椭圆振动光谱利用红外光谱中分子振动模式的吸收带分析了薄层的组成。此外，载流子浓度可以用这种FTIR光谱椭偏仪测量。适用的傅里叶变换红外对于 Thermo Fisher Scientific 光谱仪的商用 FTIR iS50，安装了红外椭偏仪光学元件。它也可用于一般振动光谱法。精确的测量和准确的结果SENTECH SENDIRA注于薄层的振动光谱分析。应用范围从介电薄膜、TCO 和半导体到有机层。SENDIRA 由 SpectraRay/4 软件操作。另外还提供FTIR软件。

1. 产品概述SENTECH SENpro 椭圆偏振光谱仪具有操作简单、测量速度快、不同入射角椭偏振测量的组合数据分析等特点。它的测量光谱范围为 370 nm 至 1,050 nm。该工具的光谱范围与先进的软件 SpectraRay/4 相结合，可以轻松确定单片薄膜和复杂层叠的厚度和折射率。2. 主要功能与优势离散入射角SENTECH SENpro 光谱椭圆仪包括一个角测角仪，其入射角以 5° 步长 （40° – 90°） 进行，以优化椭圆测量。步进扫描分析仪原理SENpro具有的步进扫描分析仪原理。在数据采集过程中，偏振器和补偿器是固定的，以提供高精度的椭圆测量。速度和准确性该工具注于测量薄膜的速度和准确性，无论它们应用于何处。应用范围从 1 nm 的薄层到高达 15 μm 的厚层。 可重复且准确的结果经济高效的台式 SENTECH SENpro 包括 VIS-NIR 椭圆仪光学元件、5° 步进测角仪、样品平台、激光对准、光纤耦合稳定光源和检测单元。SENpro 配备光谱椭圆仪软件 SpectraRay/4，用于系统控制和数据分析，包括建模、模拟、拟合和数据呈现。即用型应用程序文件使操作变得非常容易，即使对于初学者也是如此。SpectraRay/4 支持计算机控制的均匀性测量映射。

METAFILM-PR50产品应用范围：1、PCB防水涂层检测2、电子元器件防水涂层监测3、医疗器械4、植入件涂层测量METAFILM-PR50性能特点：1：非接触式2、环境鲁棒性3、高可靠性4、在线测量5、可扩展多点6、长寿命7、完备的通讯接口METAFILM-PR50产品技术参数:应用环境：Parylene涂层测量膜厚范围：2-50um重复性：正负0.2um膜层层数：3层膜材料：有机/介质 等透明膜光斑尺寸：5um-5mm测量模式：反射式

便携式膜厚仪FR-pOrtable是一种独特的 USB 供电解决方案，用于对透明和半透明单层薄膜或薄膜叠层进行准确和精确的无损表征。FR-pOrtable 可以在 370-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量。FR-pOrtable 的紧凑设计保证了测量的高度准确和可重复性。FR-pOrtable，既可以安装在提供的平台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具，放置在被表征的区域上。通过这种方式，FR-pOrtable 是适用于现场应用的光学表征工具。可以测量反射率、透射率、吸收率和颜色参数FR-portable 便携式膜厚仪主要由以下系统组成：Α) 白炽-LED混合集成式光源系统，通过内嵌式微处理器控制，使用寿命超过20000小时。小型光谱仪，光谱范围370nm –1050nm,分辨精度可达3648像素， 16位级 A/D 分辨精度；配有USB通讯接口。Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统可精确计算如下参数：1）单一或堆积膜层的厚度； 2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。C) 参考样片：a) 经校准过的反射标准硅片；b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片；c) 经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片；D) 反射探针台和样片夹具可处理的样品尺寸达200mm, 包含不规则的尺寸等；手动调节可测量高度可达50mm；可针对更大尺寸订制样片夹具；Ε) 反射率测量的光学探针内嵌系统6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm；

美国 Filmetrics 美国Filmetrics公司出品的F20 膜厚测量仪,可快速简便的测量透光薄膜的光学参数(n,k值),可在几秒内测量并分析薄膜的表层和底层的反射光谱得到膜厚,折射率参数。软件以及USB接口可轻易的将仪器与Window系统的电脑连接。软件的数据库预存100种以上材料的基本信息，利用这些已存信息可以测量多层结构，用户还可以通过拟合测量将新材料的光学系数存入系统以备今后应用。测量条件：薄膜：平整，半透明，吸光薄膜。例如：SiO2 SiNX DLC、光刻胶、多晶硅无定形硅，硅片；基底层：平整，反射基底。如需测量光学系数，则需要平整镜面反射基底，如果基片是透光的，基片背面需要做反光处理。可用基底例如：硅片 玻璃 铝、GaAs 钢 聚碳酸脂、聚合物薄膜

由于Lambda Vision TFW-100分光膜厚仪是非接触式和非破坏性的，因此可以在不损坏样品的情况下快速方便地进行测量。广泛用于研发和在线质量控制中的薄膜厚度测量。高精度、高稳定性Lambda Vision TFW-100分光膜厚仪特点可以非接触、非破坏性方式测量薄膜厚度厚度范围从 10 nm 到 1000 μm，多可测量三层不仅能测量薄膜厚度，还能测量光学乘数（n、k）(多达 3 个总参数）支持微小点测量还可测量滤光片颜料膜厚Lambda Vision TFW-100分光膜厚仪测量原理假设在折射率为 n2 的基底上有一层厚度为 d、折射率为 n1 的薄膜，如图所示。 考虑从空气（折射率 n0）入射到薄膜上的光线。 光在美丽的路径上被反射，在穿过薄膜并反射到基底表面的成分中，还有一个成分从薄膜中射出，可以作为反射光被捕获。 由于光是一种波，这些反射成分会相互干涉。 考虑到入射光垂直于基底入射，这种干涉的减弱和加强取决于光学膜厚度 n d（即绝对膜厚度 n 乘以厚度 d）和波长。Lambda Vision TFW-100分光膜厚仪技术规格型号TFW-100(1)TFW-100(2)TFW-100(3)用途ITO薄膜厚度一般膜厚用滤光片膜厚膜厚范围10nm～500nm(C/F)150nm～1.5μm(C/F)500nm～10μm(C/F)500nm～15μm(FFT)1.5μm～60μm(FFT)测量重现性0.2%～1%(取决于膜材质)波长范围300nm～1000nm400nm～700nm900nm～1600nm光源Lambda Vision TFW-100分光膜厚仪12V-100W 卤素灯测量软件TF-Lab (曲线拟合法/ FFT法)

产品特点： ? 薄膜到厚膜的测量范围、UV～NIR光谱分析。? 高性能的低价光学薄膜测量仪。? 藉由绝对反射率光谱分析膜厚。? 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。? 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手。? 非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型样品尺寸最大8寸晶圆（厚度5mm）膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--测量时间0.1s～10s以内测量口径约Φ3mm光源卤素灯UV用D2灯卤素灯卤素灯通讯界面USB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，约24kg软件功能标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 应用范围： ? 半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)? 光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)应用范例： ? PET基板上的DLC膜? Si基板上的SiNx

产品特点： ? 薄膜到厚膜的测量范围、UV～NIR光谱分析。? 高性能的低价光学薄膜测量仪。? 藉由绝对反射率光谱分析膜厚。? 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。? 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手。? 非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型样品尺寸最大8寸晶圆（厚度5mm）膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--测量时间0.1s～10s以内测量口径约Φ3mm光源卤素灯UV用D2灯卤素灯卤素灯通讯界面USB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，约24kg软件功能标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 应用范围： ? 半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)? 光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)应用范例： ? PET基板上的DLC膜? Si基板上的SiNx