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磁控管

仪器信息网磁控管专题为您提供2024年最新磁控管价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括磁控管参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的磁控管您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合磁控管相关的耗材配件、试剂标物,还有磁控管相关的最新资讯、资料,以及磁控管相关的解决方案。

磁控管相关的仪器

  • 磁控管 400-860-5168转4567
    美国Angstrom Sciences,ONYX® 磁控管,圆磁控管,高温圆磁控管高温圆磁控管对于需要衬底长时间暴露在高热暴露下的应用,Angstrom Sciences 的高温圆形磁控管采用陶瓷绝缘体和真空密封进行了优化,使阴极能够在高温条件下保持性能参数。高温设计可在 200、300 和 450 摄氏度下运行。描述高温圆形磁控管设计用于 10-9mTorr 系列,经过专门设计,可允许在整个热循环过程中可能发生的变化,而不会出现泄漏或薄膜质量偏差。
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  • 工业微波专用微波激励腔(磁控管座),非标定制,用于安装微波磁控管,磁控管型号:2M167B-M11,2M210M1,OM75P(11),OM75P(31))等
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  • 2KW磁控管激励腔 400-860-5168转1092
    波导接口BJ22法兰:FDP22材质:铜制镀镍适用:2000W,3000W磁控管激励腔
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  • 3KW磁控管微波激励腔 400-860-5168转1092
    可用于安装2000W,3000W微波磁控管。材料:铜制或铝制。波导接口:BJ22
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  • 定制各种型号及功率的微波激励腔及配套波导器件国标BJ26(EIA国际标准WR340) 标准波导,FDP26标准法兰国标BJ22(EIA国际标准WR430) 标准波导,FDP22标准法兰国标BJ32(EIA国际标准WR284) 标准波导,FDP22标准法兰国标BJ9(EIA国际标准WR975) 标准波导,FDP9标准法兰材料:铝制或铜制微波频率:2450MHz,915MHz 微波功率:900W,1000W,1500W,2000W,3000W,20KW适合安装各类微波磁控管
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  • WSPS-2450-10kW固态微波功率源是专业应用于ISM领域的固态微波能量设备,可提供高达10KW的连续波或脉冲功率。 输出功率50-10000W的调节 输出相位0-360度的调节 脉冲模式下占空比可调节 PLL锁相技术,频率稳定度高 功率放大器内置环形器和负载,适应多种驻波比的负载 拥有完善的保护电路,保证功率源的可靠运行更多信息请参加微波源沃特塞恩进入我司官网。
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  • 磁控溅射系统 400-860-5168转3855
    磁控溅射技术GSC-1000磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。GSC-1000带有10"派热克钟罩腔体,2个2"的磁控管,DC直流电源用于溅射金属,并带有膜厚监测仪(选配)。产品特点:不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔70l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能选配项:Thickness Monitor 膜厚监测应 用:SEM应用溅射金属,最大到6"的晶圆片
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  • 磁控溅射 400-860-5168转4567
    Angstrom Sciences HiPIMS – Magnetron Sputtering HiPIMS – 磁控溅射Angstrom Sciences HiPIMS – Magnetron Sputtering HiPIMS – 磁控溅射Angstrom Science 为其圆形和线性磁控管产品线开发了解决方案,允许磁场离散变化(通过可互换的磁铁组用于内部安装阴极)或连续变化(通过外部安装阴极上的磁铁组高度调整)。 HIPIMS 磁控管用于在涂层沉积和具有高微结构密度的薄膜沉积之前对基材进行预处理。
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  • NSC-1000 磁控溅射系统 400-860-5168转3569
    磁控溅射技术NSC-1000磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-1000带有10”派热克钟罩腔体,2个2”的磁控管,DC直流电源用于溅射金属,并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限,我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统,用于SEM应用,也可以用于溅射金属到最大6”的晶圆片。NSC-1000磁控溅射系统产品特点:不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔70l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能NSC-1000磁控溅射系统选配项:Thickness Monitor 膜厚监测NSC-1000磁控溅射系统应用:SEM应用溅射金属,最大到6"的晶圆片
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  • 磁控溅射技术NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-4000(A)带有14”立方形不锈钢腔体,4个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:不锈钢腔体260l/s或350l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能预真空锁以及自动晶圆片上/下载片NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统选配项:RF、DC溅射热蒸镀能力RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统应用:晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学以及ITO涂覆带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆带RF射频等离子放电的反应溅射
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  • 磁控溅射技术NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3000(A)带有14”立方形铝质腔体,3个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃70或250l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能预真空锁以及自动晶圆片上/下载片NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统选配项:不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统应用: 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学以及ITO涂覆带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆带RF射频等离子放电的反应溅射
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  • 磁控溅射技术NSC-3000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3000带有12”派热克钟罩腔体,2个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。 NSC-3000(M)磁控溅射系统产品特点:不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃70,250或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能NSC-3000(M)磁控溅射系统选配项:不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗预真空锁以及自动晶圆片上/下载片 NSC-3000(M)磁控溅射系统应用:晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学以及ITO涂覆带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆带RF射频等离子放电的反应溅射
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  • NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3000(A)带有14”立方形铝质腔体,3个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,260 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃70或250l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁功能预真空锁以及自动晶圆片上/下载片NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统选配项:不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统应用:晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆光学以及ITO涂覆带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆带RF射频等离子放电的反应溅射
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  • PVD 产品公司生产各种高压和特高压磁控溅射靶枪,适用于各种靶材尺寸。泰坦磁控溅射源的直径范围从 1 英寸到 6 英寸不等。这些光源可以在磁铁就位的情况下烘烤到 200°C。我们靶枪的磁控管磁场设计可提供出色的薄膜均匀性和靶材利用率。这些靶枪基于模块化磁阵列,允许用户在几分钟内从平衡溅射模式切换到不平衡溅射模式。我们所有的磁控管都使用与水隔离且易于现场更换的钕铁硼磁体。钎焊组件将磁体与水隔离,因此没有水真空界面,从而消除了泄漏的可能性。工作范围为0.5 mTorr至1 Torr以上。它们标配直径为 0.75 英寸的 SS 轴,也可以完全兼容 UHV。提供多种源选项,例如定制安装法兰、带或不带计算机控制的手动倾斜或原位倾斜组件、百叶窗、烟囱、气体注入环等。目标不需要背板。我们还可以提供面对靶材溅射的来源。我们还提供全系列的电源。这些源可以运行射频、直流或脉冲直流模式,并可根据需要提供 N、HN 或 UHF 型连接。技术参数:我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪安装法兰口径:NW63CF,NW100CF真空腔体内长度范围:150-400mm真空腔体内端面直径:60-96靶材直径: 1", 2" and 3"靶材最大厚度:4-6mm冷却:水冷特点:100%超高真空(UHV)应用独有的放射性沉积模式在线Z轴驱动及倾斜水冷时不会存在水汽平衡靶和非平衡靶设计高强度磁体应用于磁性材料应用领域:PVD沉积金属涂层纳米结构薄膜多层镀层反应溅射射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射硬质涂层
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  • 磁控溅射靶材 400-860-5168转4567
    Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制 磁控溅射靶材Angstrom Sciences ONYX-Φlux Control ONYX-Φlux 控制Angstrom Sciences 为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉国际。我们现在已经开发出一种方法来控制穿过靶材表面的等离子体。ONYX-Φlux 控制,(通量控制)为平面和圆形磁控管开发,允许用户最大化均匀性或目标利用率。控制均匀度磁场在目标表面上特定点的可编程停留时间。提供对电场和磁场交叉点的精确控制,以聚焦腐蚀轮廓并调整均匀性。 控制材料利用率以恒定速率将等离子体扫过目标表面。在厚度高达 1.4 英寸(35 毫米)的平面目标上可以实现高达 65% 的目标利用率,从而实现极长的运行时间。用户友好的软件直观的用户界面三种用户模式 - 运行、编辑、手动触摸屏技术等离子体的输入位置和停留时间
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  • 磁控溅射仪 400-860-5168转6170
    磁控溅射仪 SSG-50M  为了使电子显微镜中的样品能够成像,它们需要有导电性,通过在样品上形成导电层的镀膜,用来抑制电荷,减少热损伤,并提高在SEM中定位检查所需的二次电子信号。测试原理:  在封闭腔室中,放置阳极靶材,充入气体,保持一定的真空度,在阳极和阴极之间加载高压,会发生辉光放电现象。电离的气体离子会轰击、侵蚀阳极靶材。靶材原子会因此向四周扩散,在磁力的束缚下在一定范围内沉积,最终在样品表面形成一个均匀的镀层。这个镀层可以抑制荷电,减小热损伤,提高二次电子产率,从而改善扫描电镜观察效果。平时使用时,最常见靶材的是金靶。正是这个原因,离子溅射仪也俗称“喷金仪”。然而,为了获得更细小的晶粒尺寸、更薄的连续镀层,有时候也会使用其他靶材(比如铬、铂金、铜)。产品概览 产品特点样品腔尺寸:圆柱形,直径150mm x高度120mm;样品腔真空度:极限真空度:<0.1Pa,工作真空度:0-10Pa,恒压控制;样品台:可以装载样品8-15个,高度可调范围为40mm;靶材:Au 靶为标配,Pt,Cu(选件)规格:直径57mm x 0.1mm厚;溅射电流:微处理器控制,安全互锁,可调,最大电流200mA,程序化数字控制;溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩;真空计:皮拉尼真空计,测量范围:0.01Pa-常压;真空泵:双级直连式高速真空泵,抽速:66L/min,真空度:10-2Pa;厚度监控:使用高分辨厚度监控仪,精确测定所镀膜的厚度;(选配)操作方式:触摸屏控制,手动和自动模式可选,操作简便;机箱设计:长宽高40*35*50cm,坚固防腐蚀的箱体,带有电源、电压、电流、真空度等显示。
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  • 格丹纳A2微波消解仪具有高效、实用、准确安全的前处理设备,是辅助AAS、AFS、ICP、ICP-MS元素分析和GC、HPLC、GCMS等分析前消解的好帮手,20分钟内完成大部样品的处理,如消解、萃取、蛋白水解、浓缩、干燥和有机合成等。技术规格型号A2批处理量10位内罐容积110mL微波源2450MHz,变频双磁控管高能微波场发射,非脉冲连续微波输出温度监控系统双高精度的非接触式红外温度传感器,直接测量内罐材质TFM外罐材质纤维增强型PEEK测温方式红外测温操作系统基于安卓系统的开放式操作平台仪器尺寸宽560mm*深630mm*高635mm仪器重量约75kg人机界面7寸彩色液晶触摸屏整机安装功率3600W电源220V士10%,50Hz, 16A工作环境温度0~40℃工作环境相对湿度15~ 80%RH优势特点■专业的全数字微波源采用专业的双磁控管微波控制技术,非脉冲连续微波输出,微波功率0-100%全程真正连续可调■垂直/水平双向波导设计三维输出,有效提升微波功率密度和均匀性,能量利用率更高,确保样品消解的一致性,加热更高效■非接触式红外测温系统全罐温度实时监控,可实时对每个消解罐内部样品溶液的温度非接触式直接测量并直观显示,控温更准确■全罐控压技术超压自密闭智能控压技术,正常工作状态下消解罐完全密闭无泄露,超压状态下自动安全泄压,释放多余反应气体(CO2 和氮氧化物)后瞬间密闭,保证后续实验顺利进行■大功率湍流排风冷却系统,安全快捷内置大功率离心风机,消解完成后自动原位快速冷却罐体,10min左右温 度从200C降到安全温度,缩短降温降压时间■简易的程序设置内置详细方法库,存储量大,一键选择预置方法或者设置温度、爬升时间、保持时间,轻松做实验■实时更新温度运行曲线及温度柱形图实时更新温度运行曲线及所有消解罐温度柱形图,消解运行情况一目了然■防爆可视窗直接观察腔内异常情况,保证使用安全■机械式安全保护装置开门0.1秒瞬间物理断电停止微波,保护人体安全■SUS316全不锈钢微波腔体SUS316超厚不锈钢腔体,激光无缝焊接,喷涂多层防腐耐高温特氟隆涂层,有效防止强酸腐蚀,腔体5年防腐质保■高强度结构整机防腐外壳整机外壳由工程钣金材料,外壳防腐涂层组成,高强度结构和实验室防腐防锈性能■内置LED多彩灯光识别系统通过改变灯光色彩和强弱区别反应消微波解状态以及异常预警状态相关设备1、石墨消解仪G8 72位全自动石墨消解仪、G6 36位全自动石墨消解仪D6 60位智能石墨消解仪 D4 39位智能石墨消解仪 DS-360-42H高温石墨消解仪2、微波消解仪A8微波消解仪(40位)、A6微波消解仪(16位)、A2微波消解仪(10位)3、尿碘消解仪UI-720尿碘消解仪4、石墨赶酸仪OA-360石墨赶酸仪(36位、25位)5、实验电热板HT-400实验电热板(60个/50ml三角瓶)、HT-300陶瓷电热板(48个/50ml三角瓶)、HT-200玻璃陶瓷加热板(24个/50ml三角瓶)HT-250石墨电热板(48个/50ml三角瓶)6、索氏提取仪FT-600 6通道全自动索氏提取仪、FT-640 4通道索氏提取脂肪仪7、凯氏定氮仪N310免水凯氏定氮仪、N210自动凯氏定氮仪8、浓缩氮吹仪AN-12全自动浓缩氮吹仪(12位)、AN-21全自动浓缩氮吹仪(21位)、N-60多功能浓缩氮吹仪(63位)
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  • 磁控溅射系统:NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射特点:** 优化的14”立方电抛光不锈钢腔体10”圆柱形不锈钢腔体** 可以支持大尺寸基片或者批处理(腔体和靶枪均升级)** 涡轮分子泵组可达到5×10-7Torr的极限真空** 根据不同的靶尺寸可配套单个或多个靶枪** 可支持序列溅射或共溅射** 靶基距可调节** 1”-6”平面磁控管可选** 溅射源和基板挡板** 带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC** 带手动挡板的3英寸观察视窗** 晶振膜厚监控仪** 基片旋转功能** 全自动计算机控制,菜单驱动** LabVIEW友好用户界面** EMO和安全互锁选配:** 基板支持加热(最高可达800°C)或冷却** 支持旋转GLAD斜角入射沉积** 腔体尺寸可定制** 1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料** 倾斜磁控枪** 射频偏压样品台** 离子源用于基片预清洗** 离子辅助溅射** 增加RF电源和DC电源用于共溅射** 增加热蒸发源和电子束蒸发源** 形成梯度的组合溅射** 对基片无轰击的等离子辅助反应溅射涂覆** 增加MFC用于反应溅射** 单片自动上下片,以及Cassette-to-Cassette自动上下片** 大尺寸基片溅射以及批处理溅射** 其它包含冷泵等的各种真空泵选配应用:** 光学涂覆和ITO涂覆** 硬涂层** 保护涂层** 微电子图案** 形成梯度的组合溅射** 对基片无轰击的等离子辅助反应溅射涂覆** OLED应用中的TCO透明导电薄膜
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  • ZG型微波管式炉 400-860-5168转1374
    ZG型微波管式炉是标准化多功能微波管式实验工作站,适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。产品型号ZG型微波管式炉主要特点1、炉体与真空系统整体集成设计,结构简洁,安全可靠。2、采用工业级微波源,微波输出功率无级可调,确保设备连续稳定长时间运行。3、采用预抽真空方式置换气体,可大幅度节省置换气体时间。4、特制保温结构,节能高效。5、大幅度提高实验效率,物料加热速度快,均匀性好,烧结材料晶粒小,性能好。技术参数型号 ZG1512ZG3012电压220±10V 50Hz380±10V 50Hz额定功率4KW6KW微波输出功率0.01~1.40kW连续可调0.01~2.80kW连续可调微波频率2.45GHz2.45GHz工作温度1150℃1150℃加热空间Ф40×130mm(直径×宽)Ф60×130mm(直径×宽)测温方式及范围热电偶热电偶测温范围及精度0~1300℃;读数±0.1%0~1300℃;读数±0.1%控制方式PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)控制程序40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保静态极限真空度≤100Pa≤100Pa气氛要求快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等防微波泄漏微波泄露水平<0.05mW/cm2微波泄露水平<0.05mW/cm2磁控管报警超温报警、过流报警超温报警、过流报警炉门防护报警炉门关紧保护开关炉门关紧开关主体部分约530×430×380mm(长×宽×高)约530×430×380mm(长×宽×高)台架约900×500×700mm(长×宽×高)约900×500×700mm(长×宽×高)型号ZG1516ZG3016电压220±10V 50Hz380±10V 50Hz额定功率4KW6KW微波输出功率0.01~1.40kW连续可调0.01~2.80kW连续可调微波频率2.45GHz2.45GHz工作温度≤1600℃≤1600℃加热空间Ф40×130mm(直径×宽)Ф60×120mm(直径×宽)测温方式热电偶红外测温仪测温范围0~1650℃300~1800℃控温精度读数±0.1%读数±0.1%控制方式PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)控制程序40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保静态极限真空度≤100Pa≤100Pa气氛要求快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等防微波泄漏微波泄露水平<0.5mW/cm2微波泄露水平<0.5mW/cm2磁控管报警超温报警、过流报警超温报警、过流报警炉门防护报警炉门关紧开关炉门关紧开关主体部分约530×430×380mm(长×宽×高)约550×800×500mm(长×宽×高)台架约900×500×700mm(长×宽×高)约1000×600×800mm(长×宽×高)
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  • LZG型微波高温管式炉 400-860-5168转1374
    LZG型微波高温管式炉是标准化多功能微波立式气氛管式炉,适用于各种气氛、真空条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究,尤其适用于各种气固相、气相反应、合成反应、分解反应等。产品型号LZG型微波高温管式炉主要特点1、l采用工业级微波源,微波输出功率无级可调,确保设备连续稳定长时间运行。2、炉体与真空系统整体集成设计,结构简洁,安全可靠。3、采用预抽真空方式置换气体,可大幅度节省置换气体时间。4、可在1600℃下进行各种反应的工艺研究。5、大幅度提高实验效率,物料加热速度快,均匀性好,烧结材料晶粒小,性能好。6、立式结构,可配置自动进出料装至,操作更方便。技术参数型号LZG1512LZG3012电压220±10V 50Hz380±10V 50Hz额定功率4KW6KW微波输出功率0.01~1.40kW连续可调0.01~2.80kW连续可调微波频率2.45GHz2.45GHz工作温度≤1200℃≤1200℃加热空间Ф40×130mm(直径×宽)Ф60×120mm(直径×宽)测温方式热电偶热电偶测温范围0~1300℃0~1300℃控温精度读数±0.1%读数±0.1%控制方式PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)控制程序40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保静态极限真空度≤100Pa≤100Pa气氛要求快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等防微波泄漏微波泄露水平<0.5mW/cm2微波泄露水平<0.5mW/cm2磁控管报警超温报警、过流报警超温报警、过流报警炉门防护报警炉门关紧开关炉门关紧开关型号LZG1516LZG3016电压220±10V 50Hz380±10V 50Hz额定功率4KW6KW微波输出功率0.01~1.40kW连续可调0.01~2.80kW连续可调微波频率2.45GHz2.45GHz工作温度≤1600℃≤1600℃加热空间Ф40×130mm(直径×宽)Ф60×120mm(直径×宽)测温方式热电偶热电偶测温范围0~1600℃0~1600℃控温精度读数±0.1%读数±0.1%控制方式PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)PLC(品牌:三菱) 触摸屏(品牌:施耐德)控制程序40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保40段可设工艺参数,带数据存储,导出实验数据;可手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示;动态数据屏保静态极限真空度≤100Pa≤100Pa气氛要求快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等快速预抽真空,可充氧化性气体、惰性气体、弱还原性气体等防微波泄漏微波泄露水平<0.5mW/cm2微波泄露水平<0.5mW/cm2磁控管报警超温报警、过流报警超温报警、过流报警炉门防护报警炉门关紧开关炉门关紧开关主体部分约700*550*900mm( (长×宽×高)约800*600*1000mm(长×宽×高)
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  • 仪器简介: 该仪器采用微波功率0-1500W非脉冲连续线性可调与脉冲间歇控制双模式控制,工业级可编程逻辑控制器作为中心控制器件,顶部带回流孔,加装微波抑制器,安全可靠,可用于冷凝回流等实验操作,时间精确控制,温度自动控制等功能,机械与磁力搅拌两种搅拌方式可选,操作简便,性能可靠,经济实用。 用于工厂、实验室、科研机构、大专院校、研发中心、理化检测部门进行材料分析处理、化学实验以及物料的催化、萃取、合成、消解等用途,是理想的实验室微波反应仪器。技术参数: 1.微波频率:2450MHz± 50MHz。 2.微波功率0-1500W非脉冲连续线性可调, 实时改变腔体内的微波功率密度,工作点全功率范围内可任意设定。 3.微波功率双模式控制,即可工作于非脉冲连续可调工作模式,也可工作于可变脉冲控制模式,其脉冲周期和脉冲时间均可由用户在触摸屏上设定。 4.全中文真彩触摸屏人机界面。 5.工业级可编程逻辑控制器作为中心控制器件。 6.具有磁控管温度异常报警功能。 7.高精度高屏蔽接触式铂金电阻温度传感器实时监测控制反应温度,显示当前温度及设定的控温温度,抗腐蚀性探头。 8.温度控制方式:设定控温温度后,自动控温。 9.测温控温范围:0-300℃,精度± 1℃ 10.时间单独精确控制(精确到秒),定时范围0-900min,数字显示, 并带有微波累时功能。 11.顶部带回流孔,并加装微波抑制器,安全可靠,回流孔可用于冷凝、回流、分液、加水及机械搅拌等实验操作 12.反应容积:10~1000mL 13.设备配置机械搅拌器,搅拌速度连续可调 14.仪器具有磁力搅拌功能,搅拌速度连续可调 15.磁控管温度保护、门开关保护等多重安全连锁保护装置 16.微波泄漏优于国家标准,安全可靠主要特点: 该仪器采用微波功率0-1500W非脉冲连续线性可调与脉冲间歇控制双模式控制,工业级可编程逻辑控制器作为中心控制器件,顶部带回流孔,加装微波抑制器,安全可靠,可用于冷凝回流等实验操作,时间精确控制,温度自动控制等功能,机械与磁力搅拌两种搅拌方式可选,操作简便,性能可靠,经济实用。
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  • 真空镀膜 400-860-5168转4567
    Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche DST1-300 Turbo-Pumped Sputter Coater DST1-300具有最小的台式机占地面积之一,可为高分辨率SEM和TEM样品制备提供直流和射频溅射。 DST1-300系列提供以下版本,以满足大多数实验室应用。DST1-300单磁控管,直流,射频,样品偏置,样品加热,样品旋转DST2-A两个磁控管倾斜中心焦点,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转。 DST2-TA两个磁控管成角度的中心焦点,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转,用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-S两个磁控管,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转,用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-TS两个磁控管,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转,用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-A三个磁控管倾斜中心焦点,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转。DST3-TA三个磁控管倾斜中心焦点,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转,用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-S三个磁控管,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转。DST3-TS三个磁控管,直流,射频样品偏置,样品加热,样品旋转,碳、电线或船的单次热蒸发。也可选择4〃磁控管。
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  • 微波材料学工作站--真空气氛微波马弗炉/管式炉(立式大口径)主要用途:高校、科研院所、工矿企业做真空烧结、熔解、淬火、退火、各种热处理、结晶、质量检测之用 产品特点:★新型结构:高纯石英封装体及上法兰快接封装结构*防腐蚀、密封性好★多功能:一台仪器可实现三种加热方式:纯微波加热、传统电加热、混合加热;适应包括金属与合金在内非易燃的任何样品的热处理★独家开发的微波场专用传感器,精准控温★安全:独家采用防止泄漏的四级联锁的保护屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔体设计,多重防泄漏保护*标配装有专业微波抑制器*内置微波泄漏传感器★节能:使用寿命长:磁控管微波加热,避免和解决了传统的加热丝、硅碳棒、硅钼棒等加热元件容易损坏的问题,也避免了因加热元件损坏而造成的时间、实验进度、维修费用等各种损失★采用无级可调、高稳定度寿命长、连续波微波源,确保设备能够连续稳定长时间运行★嵌入式微机一体化温度控制系统;实现稳定性控温★无须烘炉过程:微波能量直达物料,节省传统漫长烘炉时间★微波能量即开即有,无热惯性,易于控制温度★各种独创专用坩埚可供选择,保温结构模块化,对物料无污染★配有万向轮调节底脚,方便移动和固定★可选配微波材料学工作站的全部功能模块 选配功能:1.高温机械搅拌装置,型号后加J◆搅拌速率:0-200 转/min 可调◆微波场专用高温-透波-抗热震搅拌器、或碳化硅搅拌器、高温合金搅拌器◆搅拌棒及叶片可升降(配置升降系统)2.宏量热重分析仪模块(可用于充惰性气体、但不能抽真空),型号后面加HZ◆称重质量 500 克,分析精度:0.01 克。其余称重量程可选。刚玉托盘、顶杆及连接件 1 套◆触摸屏控制系统及软件3.微波等离子模块;型号后加DL◆机械泵机组&数显真空计:1Pa 量级◆ 路气体&控制阀◆双向微波能抑制器 技术参数:型号/modelWBMZL-2WBMZL-4可加热材料非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热、传统电加热、混合加热最大功率/ KW(连续、可调)24最高工作温度/℃1600长期工作温度/℃≤1500温度测试元件微波场专用传感器温度分辨率/℃0.1控温精度/℃ 1200℃以下±1;1200℃以上±2℃温度偏差/℃温度稳定波动度/℃磁控管冷却方式风冷加热腔(材质)高纯石英加热腔有效尺寸/mmΦ100′120mm′3个Φ115′120mm′3个升温速率(标配)0~80℃/min任意设定,可编程、分段加热0~250℃/min任意设定,可编程、分段加热温度控制方式10段可设工艺参数,7寸触摸屏操作,带数据存储功能;提供手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示电源电压(V)220微波泄漏量/mW/㎝2≤0.4外型尺寸(长′宽′高)/mm750′650′8001000′750′850 真空系统选配:●简单机械泵抽真空&不锈钢法兰●10-1Pa量级:高档机械泵+真空计●10-2Pa量级,高档机械泵+扩散泵+真空计●10-3Pa量级,高档机械泵+分子泵+真空计 质量流量控制系统:●简易流量控制器●美国Alicat质量流量&控制器●七星华创质量流量&控制器●气路&气柜&各类阀门●可配套计算机自动控制系统及软件
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  • 微波波导激励腔JL95A 400-860-5168转1092
    工业微波专用微波激励腔(磁控管座),非标定制,用于安装微波磁控管,磁控管品牌型号:松下、三星、LG、威特、大宇等品牌,2M167B-M11,2M210M1,OM75P(11),OM75P(31))等800W,900W,1000W,1500W磁控管
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  • 产品介绍WX-6000温压双控密闭微波消解仪,拥有简单实用的操作功能和高性能的微波消解罐,满足用户多类型的样品消解需求,可广泛应用于食品、药品、环境等领域。产品性能1、大功率微波磁控管非脉冲连续微波输出,实现小功率输出和小体积谐振腔体的微波连续可调 2、温度和压力双重测控系统,实时监测消解罐内部的温度和压力变化情况,精确度高,稳定性好 3、5.6时彩色液晶显示屏结合电磁式触控面板操作,操作便捷、舒适 4、双重安全防护门,一体式钢制外层防爆门结构和自锁结构,能更好的抵抗横向冲击,提高了仪器的安全性能 5、可同时处理6个KJ-180型高压消解罐,单个消解罐容积可达100mL,提高批次消解量 6、消解罐采用安全膜和裙边双重保护设计以及垂直释压设计,保证消解过程安全可靠 7、能量密封设计,确保样品和挥发性元素无损失,提高结果准确性。产品参数1、液晶显示屏:5.6时彩色液晶显示屏2、微波频率:2450MHz3、微波发射方式:非脉冲连续微波输出4、微波控制方式:高频闭环反馈(PID)控制5、转盘:可同时处理6位超高压消解罐6、温压双重测控系统,实时显示温度和压力7、炉腔排风系统:腐蚀变频离心式风机
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  • 新芝scientz微波萃取设备SCIENTZ-IIDM产品说明新芝scientz微波萃取设备SCIENTZ-IIDM(微波光波超声波萃取仪)是一款综合的实验室仪器,可任意选择微波、超声波、光波、紫外线、磁力搅拌多种组合方式,真正实现一机多用。是研究化学反应、化学合成、材料制备、分析化学样品前处理等方法和机制的最佳选择,被广泛用于各大高校和科研单位。工作原理超声波发生器(电源)是将单相电通过变频器件变为交变电能、并以适当的阻抗与功率匹配来推动换能器,作纵向机械振动,振动波通过浸入在样品溶液中的钛合金变幅杆对被破碎的各类细胞产生空化效应,从而达到破碎之目的。微波电源发射控制器是将单相电通过升压磁控管形成微波能量再通过导波管将微波辐射到腔内的样品上,而达到加热目的。光波控制器是将单相电通过红外光波管发出大量红外线来作用在样品上。可编程逻辑控制器通过人工设置的各种数据,来综合控制超声波,微波,和光波的输出能量和时间等参数,达到实验效果。应用领域无机、有机、材料制备和生物分析等样品前处理化学反应、有机合成、样品消解或萃取方法等方面研究产品特点大容量:最高可达1000mL,有效提高了分析灵敏度参数灵活:时间、温度、功率、转速可调应用范围广:可广泛用无机、有机和生物分析等样品前处理 安全可靠:微波泄漏量符合国家标准;用户、管理员二级密码;具有超温和传感器异常保护模式可选:可任意选择微波、超声波、光波、紫外线、磁力搅拌多种组合方式过程直观:设有反映监视器,一体屏带实时视频窗口监控样品反应状态智能存储:可预设200组程序,电脑储存,可直接设置、修改和调用高效率:超声波振荡能量直接作用于容器内样品,声振效率高、能耗低、效果样品举例具体参数详情请参考新芝生物官网www.scienz.com
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  • 微波材料学工作站-真空&气氛微波管式炉、马弗炉一体机 用途: 适用于各种气氛下作化学分析、物理测定;已广泛应用于粉末冶金、陶瓷金属化、荧光粉、电池材料、电子、陶瓷、化工原料、纳米材料等产品的研究及小批量生产。真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用 产品特点:★多功能:*一台仪器可实现两种加热方式:纯微波加热、传统电加热、混合加热;适应包括金属与合金在内非易燃的任何样品的热处理*一台仪器可实现真空气氛、管式炉、马弗炉★安全易操作:*304不锈钢炉腔与微波抑制器封装结构,上翻盖锁紧炉盖:防爆、防泄漏、防腐蚀、高密封、易操作*多级联锁的保护屏蔽措施安全可靠*标配装有专业微波抑制器*内置微波泄漏传感器★节能:使用寿命长:磁控管微波加热,避免和解决了传统的加热丝、硅碳棒、硅钼棒等加热元件容易损坏的问题,也避免了因加热元件损坏而造成的时间、实验进度、维修费用等各种损失。★采用无级可调、高稳定度长寿命、连续波微波源,确保设备能够连续稳定长时间运行;★嵌入式微机一体化温度控制系统,实现稳定性控温;★无须烘炉过程:微波能量直达物料,节省传统漫长烘炉时间★微波能量即开即有,无热惯性,易于控制温度 技术参数:型号/model:WBZGM-4微波频率:2.45GHZ±50MHz*可加热材料:非易燃易爆的任何材料加热方式:纯微波加热、传统电加热、混合加热最大功率/ KW(连续、可调):4最高工作温度/℃:1600长期工作温度/℃:≤1500温度分辨率/℃:0.1控温精度/℃:1200℃以下±1;1200℃以上±2℃ ;加热腔标配有效尺寸/mm:Φ100 x 120mm 3个升温速率(标配):0~200℃/min 任意设定,可编程、分段加热*可实现慢速降温速率可控制:1-10℃/小时温度控制方式:10段可设工艺参数,7寸触摸屏操作,带数据存储功能;提供手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示电源电压(V):220*微波泄漏量/mW/㎝2:≤0.4外型尺寸(长宽高)/mm:700 x 700 x 950 选配功能:(选配功能另外收费)超高温加热模块:温度可达1700℃,具有1800℃的功能 真空系统选配:●简单机械泵抽真空&不锈钢法兰●10-1Pa量级:高档机械泵+真空计●10-2Pa量级,高档机械泵+扩散泵+真空计●10-3Pa量级,高档机械泵+分子泵+真空计 质量流量控制系统选配:●简易流量控制器●美国Alicat质量流量&控制器●七星华创质量流量&控制器●气路&气柜&各类阀门●可配套计算机自动控制系统及软件
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  • 系统简介  水资源实时远程监控管理系统是应用在国家水务部门的一套智能化管理系统,它通过对用水单位的实时监测与控制,有效的保护水资源、合理利用水资源、加强用水单位的节水意识,是一套在国内水务行业中的最佳解决方案。  系统组成  中心接收部分:中心服务器、固定外网IP、水资源管理系统软件;  传输网络:移动或电信网络、窄带物联网络、计算机以太网、自组建短距离通信网络wifi等;  采集控制终端:水文水资源遥测终端RTU;  仪表部分:流量计/积算仪、水位计、压力变送器、控制柜/电动阀门;  供电方式:市电、太阳能供电、电池供电 系统功能  实时监测用户用水量;  实时监测水位、压力、泵/阀门的工作状态;  通过IC卡实现预付费管理;  实现远程对水泵或者阀门的控制;  遥测测终端内嵌多种厂家表具协议;  提供标准Modbus-RTU协议,方便和组态软件通讯;  提供国家水利部(SL323-2011)实时雨水情数据库写库软件,方便与其它系统软件对接;  遥测终端通过了国家水利部门水资源监测数据传输规约(SZY206-2012)监测;  数据上报体制采用自报、遥测、报警相结合的体制;  数据采集和信息查询功能;  生产各种数据统计报表、历史曲线报表、导出和打印功能。 现场图片
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  • 微波材料科学工作站---微波管式炉(经济型)用途: 适用于各种气氛下作化学分析、物理测定;已广泛应用于粉末冶金、陶瓷金属化、荧光粉、电池材料、电子、陶瓷、化工原料、纳米材料等产品的研究及小批量生产。真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用 产品特点:★操作便捷:气路连接方式采用了KF快速连接法兰结构,使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作,取消了复杂的法兰安装过程,减少了安装造成的损坏★多功能:一台仪器可实现两种加热方式:纯微波加热、混合加热;适应包括金属与合金在内非易燃的任何样品的热处理★独家开发的微波场专用传感器,精准控温★安全:独家采用防止泄漏的四级联锁的保护屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔体设计,多重防泄漏保护*电磁锁保护*行程开关(炉门打开时,自动切断微波发生器)*标配装有专业微波抑制器*内置微波泄漏传感器★节能:使用寿命长:磁控管微波加热,避免和解决了传统的加热丝、硅碳棒、硅钼棒等加热元件容易损坏的问题,也避免了因加热元件损坏而造成的时间、实验进度、维修费用等各种损失★采用无级可调、高稳定度长寿命、连续波微波源,确保设备能够连续稳定长时间运行★无须烘炉过程:微波能量直达物料,节省传统漫长烘炉时间★微波能量即开即有,无热惯性,易于控制温度★配有万向轮调节底脚,方便移动和固定 技术参数:型号/modelWBZG-2-Ⅱ可加热材料非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热、混合加热最大功率/KW(分档可调)2 温度测试元件微波场专用传感器控温精度/℃1200℃以下±1;1200℃以上±2℃加热管材质石英管高温合金管刚玉管加热管加热最高温度/℃110012001600管径(外径X长度)/mmΦ45mm/Φ30mm X1000升温速率及控制方式≦200 ℃/min0~1000℃/min≦50 ℃/min控制范围内任意设定,多段编程,分段控制升降温曲线恒温区长度(标配)100mm气路数量一路系统连接方式采用KF快速连接卡箍电源电压(V)220外型尺寸/mm750′650′800微波泄漏/mW/㎝2≤0.4 真空系统选配:●简单机械泵抽真空&不锈钢法兰●10-1Pa量级:高档机械泵+真空计●10-2Pa量级,高档机械泵+扩散泵+真空计●10-3Pa量级,高档机械泵+分子泵+真空计 质量流量控制系统:●简易流量控制器●美国Alicat质量流量&控制器●七星华创质量流量&控制器●气路&气柜&各类阀门●可配套计算机自动控制系统及软件
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  • 微波全系列波导器件 400-860-5168转1092
    1.磁控管激励腔(2450MHz,915MHz)-BJ22波导激励腔,BJ26波导激励腔,BJ-9波导激励腔 CK619微波磁控管激励腔,CK611微波磁控管激励腔,3KW微波磁控管激励腔, 2.环行器(2450MHz,915MHz)-1~2KW(干式),5KW、10KW、20KW(水冷) 3.水负载(2450MHz,915MHz)-1~2KW,5KW,10KW,20KW 4.定向耦合器(2450MHz)-耦合度:50/55dB ,BJ-26波导,BJ-22波导 方向性:20dB以上,分双向耦合和单向耦合二种,双向耦合可分别接入射波和反射波, 耦合分支同轴负载内装。 主线为:波导 耦合线为:N型同轴线 5.调配器(2450MHz)-BJ-26波导,BJ-22波导,螺钉调配器;双T调配器 6.T形功率平分器-BJ-26波导,BJ-22波导 7.90° 弯波导-E面90° 弯波导,H面90° 弯波导 8.短路活塞-BJ-26波导,BJ-22波导 9.过渡波导-BJ-22~BJ-26波导,BJ-22~TE11园波导(ф122),BJ-26~TE11园波导(ф96.6) 10.大功率波导同轴转换- BJ-22 39/16同轴线;BJ-26 39/16同轴线;BJ-22 16/7同轴线;BJ-26 16/7同轴线 11.加热谐振腔应用器-矩形TE10n型,园柱形谐振腔应用器:TE11 n,TM010,TM01 n 12.角锥孔径天线-波导口辐器;扩展波导口辐器。
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