狭缝光谱仪

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狭缝光谱仪相关的厂商

  • 400-860-5168转5005
    创谱仪器基于数十年同步辐射线站光学及谱学设备设计、研发、交付的技术和经验积累,聚焦于X射线到真空紫外波段的核心器件、模组和分析测试系统,致力于为大科学装置、物理/化学/材料等前沿科学研究以及半导体与集成电路、新能源与储能技术、新材料、化学化工与生物医药等产业领域提供短波光学和短波光谱学解决方案。根植于科技前沿 - 我们的技术源于国家同步辐射实验室,具备提供全套Turnkey解决方案(设计-开发-调试-维护)的能力。已在合肥光源、上海光源、北京同步辐射等大科学装置运行使用,并通过用户及机构的专业验证。立足于中国制造 - 我们自主研发关键光学部件,可根据不同用户需求进行定制解决方案,已实现国内光子科学装置的全面覆盖,完成了包括同步辐射、自由电子激光、高能激光装置、磁约束等离子体装置等线站项目建设。放眼于世界水平 - 创谱仪器拥有专业全面的博士创新团队,专注于高端科学仪器“卡脖子”难题,与世界一流大学及科研机构合作,致力于先进科学仪器开发。产品板块短波光学定制解决方案:我们为大科学装置提供短波光学解决方案,包括弯晶光学系统、大型光束传输系统、科研级单色器/光谱仪以及系统的设计、安装调试、改造升级等。精密光学机械设备:为光学平台提供机械运动机构及相应设备如:静力水准仪、精密可调狭缝、精密位移台、光谱采集望远镜等。VUV/EUV谱仪:适用于EUV光刻、高次谐波系统、等离子体诊断等领域。桌面式X射线吸收精细结构(XAFS)谱仪:自主研发桌面式XAFS谱仪,其测量谱图与同步辐射高度一致,在实验室中即可完成元素结构、价态、配位情况、分子轨道、键长、能带结构等的测量表征。广泛用于化学催化领域、材料科学及新能源领域、环境科学领域、生物大分子研究等,助您实现“想测就测、随时可测”的XAFS自由。
  • 北京华夏谱创仪器有限公司(简称“华夏谱创”),以国家级高新技术企业的璀璨明珠,傲立于科学仪器行业的潮头,是集科学研究、智能制造、销售服务于一体的综合性科技领航者,作为中国仪器仪表行业协会的理事单位与中国分析测试协会的核心成员,携手业界精英,共谋行业发展新篇章。 秉承“诚信筑基,品质立命,创新致远”的核心理念,华夏谱创深耕科学仪器领域,致力于自主创新,旨在打破进口依赖,为国家科技自立自强注入强劲动力。我们的研发团队汇聚行业精英翘楚,凭借二十余年的深厚积累与不懈探索,持续推动产品迭代升级,引领行业技术革新。 产品应用领域广泛,覆盖生态环保、水务管理、水文海洋、石油化工、质检海关、公共卫生及科研教育等多个关键领域。凭借卓越的性能、可靠的质量以及优质的服务,我们赢得了国内外客户的广泛赞誉与信赖,彰显了华夏谱创品牌的强大实力与市场影响力。 作为国家级高新技术企业和创新型中小企业的双重典范,我们拥有丰富的核心专利与自主知识产权,并成功通过ISO质量、环境及职业健康安全管理体系的权威认证。我们始终将产品品质视为企业的生命源泉,坚持客户至上的原则,依托严谨的管理体系与严格的质量控制,确保每件产品均能达到卓越与稳定的双重标准,因此荣获国家AAA级重合同守信用企业殊荣。 浙江科谱仪器有限公司(科技型中小企业),作为华夏谱创的科学研究与智能制造核心基地,坐落于风景秀丽的浙江省长三角高层次人才创新园(嘉兴智慧产业创新园),依托其深厚的行业积淀与强大的科研智造能力,配备先进生产设备与智能化制造流程,为产品的卓越品质奠定坚实基础。 我们紧跟行业发展趋势,不断创新与完善产品线,以满足客户多样化的需求,坚持以科技创新引领企业发展,致力于打造中国智慧物联仪器仪表生态链,成功推出“水质监测分析仪器、油品化验分析仪器”两大系列,涵盖几十余种产品,销售网络遍布全国,并远销海外多个国家和地区,展现出强大的市场竞争力和品牌影响力。 展望未来,华夏谱创将继续秉承初心,聚焦客户需求,加大科研投入,加速技术创新。我们致力于提供更加先进、专业、高效的科学仪器整体解决方案。积极参与行业交流与科研合作,推动中国科学仪器行业的蓬勃发展。同时,积极履行社会责任,为实现中华民族的伟大复兴贡献智慧与力量。 华夏谱创诚邀全球合作伙伴携手并进,共创辉煌未来! 北京华夏谱创仪器有限公司浙江科谱仪器有限公司
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  • 400-860-5168转5104
    江苏雷博科学仪器有限公司2013年9月成立于江苏江阴,是一家初期以高档专业的实验室仪器开发为目标的海归创业企业。2020年8月,江苏雷博科仪通过资源整合,将雷博科仪中发展起来的的工业半导体设备业务分拆出来成立了江苏雷博微电子设备有限公司。两家公司使用同一品牌,独立经营不同系列产品。公司主营高档实验室仪器及半导体设备开发业务。公司技术力量雄厚,人才济济,凭借雄厚的技术实力不断进行新产品开发和创新实现,在纳米薄膜制备类仪器领域取得了显著的市场地位。公司生产的高精度高可靠性匀胶机荣获江苏省高新技术产品,是国内匀胶机全系列、多功能、定制 化服务的知名品牌供应商。 公司生产和销售不同领域的高档科研仪器和工业半导体设备:Schwan technology是我们的纳米薄膜制备类设备品牌,主要有匀胶机、显影机、烤胶机、提拉机、喷胶机、涂膜机、狭缝涂布机等相关产品;LEBO science是我们的工业半导体设备品牌,主要有匀胶机、显影机、蚀刻机、去胶机、清洗机等独立柜式机台及工业全自动机台。 公司产品被广泛应用于纳米薄膜制备需求的钙钛矿薄膜太阳能、有机光电、MEMS、声表、光通讯、化合物半导体及先进封装等领域,具有核心技术可靠、高性价比、定制化服务的竞争优势。
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狭缝光谱仪相关的仪器

  • 产品简介摄谱仪和单色仪功能具有最佳效率的光栅波长范围为1 ~ 200nm高精度波长设置紧凑、模块化设计得益于其无缝设计,maxLIGHT pro可提供同品类光谱仪中最大的集光量和最高的效率。经像差校正的平场波长范围可覆盖1nm至200nm的宽光谱带宽,比如,单个光栅可覆盖5-80nm。其模块化设计能够匹配不同的实验配置。它具有集成的狭缝支架和滤光片插入单元,以及电动光栅定位。灵活完善的探测器配置选项:nXUV CCD——高分辨高动态范围应用MCP/CMOS——宽光谱范围、门控或像增强探测需求可根据用户要求进行定制无狭缝设计HPS公司专有的光谱仪设计使用光源直接成像技术。 因此,不需要狭窄的入口狭缝,并且可以最大程度地收集入射光。 与传统的光谱仪架构相比,到达探测器的光强会高出20倍。 该结构还极大地提高了日常操作的稳定性。测量结果在使用阿秒XUV脉冲的符合光谱应用中,通过maxLIGHT XUV(左图)对HHG进行表征。高次谐波源自单光子跃迁(蓝色箭头),而XUV和IR光的双光子跃迁则呈现为光电子谱的边带(右图)。J. Vos et al, Orientation-dependent stereo Wigner time delayand electron localization in a small moleculeScience 360 1326-1330 (2018)通过maxLIGHT XUV测量的HHG光谱(右图)和25fs基频光脉冲在kagomé光子晶体光纤中宽化的光谱(左图)。随着泵浦能量的增加,孤子蓝移对HHG的影响清晰可见。F. Tani et al, Continuously wavelength-tunable high harmonic generation via soliton dynamicsOpt. Lett. 42 1768-1771 (2017)在相同的信号强度下,与标准光谱仪(虚线)相比,maxLIGHT pro光谱仪(实线)的分辨率明显更高。要获得等价的光谱分辨率,传统光谱仪技术需要设置窄狭缝,从而显著降低信号强度。C. Hauri et al, High-Harmonic Radiation for seeding theSwiss Free Electron LaserAndor Learning (2016)用maxLIGHT XUV获得的150kHz重频下截止区域内的HHG光谱。CEP的变化显示出在某些CEP设置下强度调制开始消失,表明了独立阿秒脉冲的存在。M. Krebs et al, Towards isolated attosecond pulses atmegahertz repetition ratesNature Photonics 7 555–559 (2013)参考光谱示例证明了maxLIGHT光谱仪的分辨能力。如图所示为飞秒激光脉冲和固体靶相互作用后,经滤光片过滤后的高次谐波谱。谐波产生过程中所固有的精细结构谱可以被maxLIGHT光谱仪清晰地分辨出来。图片上半部分:由 X 射线 CCD 相机记录的原始图像。 图片下半部分:通过列合并获得的谐波谱。L. Waldecker et al, Focusing of high order harmonics from solid density plasmasPlasma Phys. Control. Fusion 53 124021 (2011)技术参数Topology类型像差校正平场光谱仪和光束分析仪波长范围1-200nm光源距离可根据用户实际光路灵活调整探测器类型CCD or MCP/CMOS真空兼容度10-6mbar(UHV超高真空版可定制)无狭缝技术含入射狭缝可调光栅定位闭环电控台滤光片插入装置含控制接口USB 或 Ethernet软件Windows UI and Labview/VB/C/C++ SDK定制化可根据需求定制可选项非磁性,旋转几何,偏振测量等SXRXUVVUV波长范围1-20nm5-80nm40-200nm色散能力0.2-0.4nm/mm0.5-1.3nm/mm0.9-1.6nm/mm分辨率0.015nmat 10nm0.028nmat 40nm0.05nmat 120nm 应用高次谐波发生源阿秒科学激光与物质强烈的相互作用自由电子激光激光和放电产生的等离子体源x射线激光激光驱动二次源
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  • 同轴狭缝 OMXF12B 产品特点:材质:6061-T6 铝合金 产品介绍:OMTOOLS同轴狭缝 OMXF12B用于30 mm笼式系统,利用测微计精密调节狭缝宽度,狭缝由两个A2钢质叶片组成。该狭缝位于SM05螺纹通孔中心,且它的宽度可用内置的测微计调节。该机构的独特设计为精密测微计的调节和狭缝宽度上的相应变化提供了1对1的对应关系,实际狭缝宽度范围从完全关闭至6.0 mm宽,其中测微计每转提供0.5 mm的调节。在完全关闭的位置,两个叶片相接触。然而,叶片上的缺陷和叶片的平行度可能造成存在宽度最大25 μm的间距。调节狭缝宽度时,狭缝的敞开口位于SM05螺纹孔径中心。该狭缝安装在一个外壳内,外壳还有四个φ6通孔,φ6通孔侧面采用M3紧定螺丝固定,用来安装夹紧?6 mm同轴笼杆,兼容30mm笼式系统。底部带M4螺纹孔适用于安装光学接杆。 型号中心孔螺纹规格狭缝最大宽度调节精度OMXF12BSM05内螺纹6.0mm0.5mm/转
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  • 狭缝涂布仪 400-860-5168转2856
    DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一,尤其是R2R工艺畅销; 现已推出R&D研发系列,实验室R2R小型试验线,Roll to Roll中试线,和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场,并得到行业著名客户长期的全球范围合作,如3M以及附属工厂,Samsung三星电子,三星化学及其合作的供应商,LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍:Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术,现阶段广泛应用于平板显示(LCD,OLED,QLED),柔性显示,触摸屏工艺,太阳能光伏,电池工艺,智能化玻璃,柔性印刷电子,纸张涂布,半导体封装等领域,均能实现不同功能材料高效,高均匀,高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印: R&D实验室研发系列:Lab Slot Die Coater:实验室级高精度 速度:1 ~ 50 mm/s 涂膜面积: 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度:1 ~ 50 mm/s 涂膜面积: 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater: 全自动多功能集成系统; 速度:0.01 ~ 200 mm/s; 涂膜面积: 180 x 250mm 和 370 x 470mm; 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统; 速度:0.01 ~ 200 mm/s; 涂膜面积: 180 x 250mm 和 370 x 470mm; 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater:实验室小型中试线;Slot Die或Micro Gravure功能集成; 涂膜宽度150到300mm可选;可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线;Slot Die或Micro Gravure功能集成; 涂膜宽度150到300mm可选;可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater: 多用途辊式涂布仪;模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变;优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列:Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印; 专利技术保证了优异的均匀一致性;图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统;全自动化高集成度;One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印; 专利技术保证了优异的均匀一致性;图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统;全自动化高集成度;Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印; 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚; 优良的柔性衬底张力控制;Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形;图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统;全自动化高集成度;Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺;图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统;集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮;Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长,这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能, 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点,DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。
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狭缝光谱仪相关的资讯

  • 海洋光学可更换狭缝的光谱仪提供应用多样化
    海洋光学(Ocean Optics)准确的激光切割狭缝和光圈组件技术为其生产的Jaz、Torus和QE65 Pro微型光谱仪增添了灵活性。可更换的狭缝在光谱仪的设计上提供了更多自由度,用户只需通过替换一些螺丝就能轻松地从一个应用功能转换至另一个应用功能。 模块化的光谱学通过在各种配置中混搭光具座和其它组件来实现数千种应用功能。Jaz、Torus和QE65 Pro光谱仪利用现场可更换的狭缝为顾客提供了另一种灵活性。 光 谱仪器的设计标准是反复权衡各种利弊后的结果。光谱仪是否理想,取决于其应用。对于一些用户来说,最令人苦恼的权衡之一就是如何选择入口光圈(狭缝)。大 一点的狭缝会增加吞吐量,但是却以光学分辨率为代价。小一点的狭缝会提高光圈分辨率,但是会降低吞吐量。一般来说,要更改狭缝就要在制造商的设备上进行光 谱仪的返工。 有了可更换的狭缝,用户可以在现场直接更改光谱仪的性能。只需几分钟就可以完成狭缝的更改,并无需重新对齐。例如,QE65 Pro用户如果需要低光度应用下的高敏感性,比如荧光性,可以将大狭缝更改为小狭缝,避免了吸光度应用中的饱和。或者Torus用户可以将配置好的用于解 决一个应用中紧密对齐的发射峰的Torus进行调整,从而为另一个应用提供低光度水平的测量。 如想要了解更多信息,请登陆www.OceanOptics.com以及www.OceanOptics.cn网站;或拨打电话86(21)6295 6600、发邮件至asiasales@oceanoptics.com联系海洋光学应用工程师。
  • 关于光学仪器可调狭缝的误区解读
    在某些光学仪器产品指标里,经常看到关于光谱带宽或狭缝的类型写为&ldquo 连续可调&rdquo 式。其后仔细一问:其实就是几档固定狭缝式的,如下图:      这种狭缝一般分为若干固定宽度档,但不是可调的更不是连续的,仅仅是&ldquo 可选的&rdquo 。   真正的连续可调狭缝如下图。这种狭缝的两个刀口,一个为固定的,另一个可以左右移动从而来改变狭缝(带宽)的宽度。      固定可选狭缝的优点:带宽不会改变,重复性好。   固定可选狭缝的缺点:狭缝宽度限制死了,不能灵活使用 尤其是作为红外伺服式可变宽度狭缝则不能胜任。   连续可调式狭缝的优点:使用宽度灵活性好 可以作为伺服式场合应用。   连续可调式狭缝的缺点:同一狭缝宽度在重复设定时,其宽度的重复精度很难保证。要想保证带宽的精度,要先行设置到零点(onm)处,然后再调整到预设的宽度,较为繁琐。   之所以有些仪器厂家的产品指标将二者混淆而谈,一是概念不清,二是难免有故意有偷梁换柱之嫌。 作者:仪器信息网网友 夕阳
  • 全球首台狭缝分光拉曼样机投入生产试运行
    中石化石油工程技术服务公司《拉曼激光录井气体检测仪研制》项目,由西南石油工程公司地质录井分公司负责承担,继去年10月份成功研制出全球首台狭缝分光拉曼样机后,经过一年多的室内检测调试,在大量的实验数据基础上通过持续优化,解决了样机存在的诸多技术难题,已于近日投入生产试运行,目前样机运行正常。  该台样机所采用的很多技术在国内外均无先例,属于原创技术,需要一步一步摸索着干。像采用的“自适应聚焦算法”,很好地解决了多组分在线连续分析重组分相似拉曼特征谱的解谱难题,“分频技术”解决了分析范围和分析精度不能兼顾的问题,这些原创技术的提出,彰显了拉曼激光录井气体检测仪研制项目团队的创新精神,极大地促进了国内气体多组分在线连续分析技术和市场的发展,为中国在拉曼激光气体分析技术上增添了一道亮丽的风景。

狭缝光谱仪相关的方案

狭缝光谱仪相关的资料

狭缝光谱仪相关的试剂

狭缝光谱仪相关的论坛

  • 光谱仪出射狭缝结构

    电弧/火花直读等光谱仪分光系统中除射狭缝是装在罗兰圆上的,出射狭缝能聚焦成像以形成谱线。光电直读光谱仪中,用出射狭缝及光电倍增管组成的谱线接收器来工作。因此出射狭缝在仪器中有着重要的作用。每一个光道一个出射狭缝。因此,多道光电直读光谐仪上装有很多出射狭缝。  德国斯派克直读光谱仪早先光栅,出射狭缝片刻有190个预先安排好的常用光谱狭缝。190个元素分别被安排在10片不锈钢带上进行刻制。这样安排是为了出射狭缝调整方便。如果选用0.75m光栅,凹面光栅为2010刻线/mm。它的出射狭缝共214条刻在一条不锈钢带上。  出射狭缝和谱线的相对位置对分析结果是很重要的。为保证分析结果的准确,要求谱线中心位置的极大强度峰值位置与出射狭缝的几何中心位置重合。气温变化对出射狭缝影响最大。气温变化必将使光栅收缩或膨胀,引起光棚常数的改变,也导致仪器色散率的改变,由于色散率的改变,结果使谱线偏离出射狭缝。

  • 光谱仪出射狭缝结构

    [url=http://www.huaketiancheng.com/][b]ICP光谱仪[/b][/url]为您分析电弧/火花直读等光谱仪分光系统中除射狭缝是装在罗兰圆上的,出射狭缝能聚焦成像以形成谱线。光电直读光谱仪中,用出射狭缝及光电倍增管组成的谱线接收器来工作。因此出射狭缝在仪器中有着重要的作用。每一个光道一个出射狭缝。因此,多道光电直读光谐仪上装有很多出射狭缝。  德国斯派克直读光谱仪早先光栅,出射狭缝片刻有190个预先安排好的常用光谱狭缝。190个元素分别被安排在10片不锈钢带上进行刻制。这样安排是为了出射狭缝调整方便。如果选用0.75m光栅,凹面光栅为2010刻线/mm。它的出射狭缝共214条刻在一条不锈钢带上。  出射狭缝和谱线的相对位置对分析结果是很重要的。为保证分析结果的准确,要求谱线中心位置的极大强度峰值位置与出射狭缝的几何中心位置重合。气温变化对出射狭缝影响最大。气温变化必将使光栅收缩或膨胀,引起光棚常数的改变,也导致仪器色散率的改变,由于色散率的改变,结果使谱线偏离出射狭缝。

  • 光纤光谱仪狭缝问题

    光纤光谱仪狭缝问题,QE65000狭缝最宽多少?能不能不要狭缝,在降低光谱分辨率的前提下提高光能量的摄入,在需要提高分辨率时候用细光纤代替狭缝?

狭缝光谱仪相关的耗材

  • 赛诺普 无散射狭缝
    Xenocs无散射准直狭缝系统Scatterless Collimation,区别于传统的三片式狭缝,采用独有的专利技术,消除了传统狭缝刀片边缘的寄生散射,有效的避免了光强损失,打造了超纯净光路,提高了数据的分辨率。
  • 玻璃透光狭缝
    采用不透明的铬,真空镀膜在光学级别的玻璃圆片上,再进行光蚀刻,形成狭缝。此类产品应用在分光光度计等上面。详细信息请联系海德公司获取。 订购信息:货号产品名称规格04B01000Metal filter slit on glass,0.005mm×10.0mm个 04B01001Metal filter slit on glass,0.01mm×10.0mm个 04B01002Metal filter slit on glass,0.025mm×10.0mm个 价格仅供参考,详情请电询
  • 未安装狭缝
    狭缝宽度:5-200微米,狭缝高度:3-7.5毫米,狭缝圆箔的外径:10mm,黑色表面氧化处理。详细产品信息请联系海德公司获取。 订购信息:货号圆箔直径大小狭缝大小规格0098010mm0.005mm×3.0mm个0098110mm0.01mm×3.0mm个0098210mm0.025mm×5.0mm个0098310mm0.05mm×5.0mm个0098410mm0.1mm×7.5mm个0098510mm0.025mm×7.5mm个0098610mm0.5mm×7.5mm个0098710mm1.0mm×7.5mm个 价格仅供参考,详情请电询
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