化硅气定仪

一氧化硅（SiO）支持膜一种是载网上附纯一氧化硅膜， 膜厚约15-30nm。销售信息：货号产品名称规格SF200-Cu200 mesh50/boxSF300-Cu300 mesh50/boxSF400-Cu400 mesh50/boxSF200-Ni200 mesh50/boxSF300-Ni300 mesh50/boxSF400-Ni400 mesh50/box 另一种是载网上先镀上方华膜，方华膜上再稳定一层极薄的一氧化硅膜，一氧化硅膜较碳膜具有更高的亲水性。FSF200-Cu200 mesh50/boxFSF300-Cu300 mesh50/boxFSF400-Cu400 mesh50/boxFSF200-Ni200 mesh50/boxFSF300-Ni300 mesh50/boxFSF400-Ni400 mesh50/box

网另一面含可去除的方华膜衬底。用溶液溶去方华膜时，保留下来的为纯一氧化硅膜。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯一氧化硅膜较含方华膜衬底的支持膜更为精细，制样时须更细心

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有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

产品介绍氧化硅磁珠在顺磁性磁核上完全均匀包覆氧化硅壳层，具有高磁响应性；单分散粒径纳米微球使氧化硅磁珠具有更为良好的悬浮性和更大比表面积，可用于核酸提取等过程。产品特性粒径:500nmpH稳定性:pH 4-12高磁响应性: 30emu/g单分散性：去掉磁场，磁珠即可均匀分散非特异性结合低

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

微栅支持膜，在方华膜上镀有一氧化硅

微栅支持膜，在方华膜上镀有一氧化硅

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

唐海红 13120400643 ET147350 CHECKIT 目视二氧化硅测定仪 Lovibond的CHECKIT系列目视离子浓度测定仪使用简捷，小巧轻便。特制比色盘可以补偿不同的光线对测量的影响；适用于野外各类环境下快速测量，也可在实验室中进行快速分析。 &bull 设计轻巧，操作简单，直观便捷，使用成本低 &bull 多样选购组合配置，特制比色盘，快速测量 &bull 优良多用途应用性，同时适用于实验室和现场使用 &bull 采用预制试剂，大大节约您的时间，测量快速准确 &bull 试剂的精确剂量保证了良好的重现性 ET147350 通用型比色器，ET517671试剂，ET146350比色盘，ET145501 比色皿x2个，中英文手册，携带箱' ET147351 通用型比色器，ET535700试剂，ET146351比色盘，ET145501 比色皿x2个，中英文手册，携带箱 ' Lovibond的CHECKIT系列目视离子浓度测定仪使用简捷，小巧轻便。特制比色盘可以补偿不同的光线对测量的影响；适用于野外各类环境下快速测量，也可在实验室中进行快速分析。 &bull 设计轻巧，操作简单，直观便捷，使用成本低 &bull 多样选购组合配置，特制比色盘，快速测量 &bull 优良多用途应用性，同时适用于实验室和现场使用 &bull 采用预制试剂，大大节约您的时间，测量快速准确 &bull 试剂的精确剂量保证了良好的重现性 型号 ET147350 量程 0.25 to 4.0 mg/L SiO2 色盘标值 0.25，0.5，0.75，1.0，1.25，1.5，1.75，2.0，2.5，3.0，3.5，4 精度 ± 5% F.S. 型号 ET147351 量程 0. to 100 mg/L SiO2 色盘标值 0，10，20，30，40，50，60，70，80，90，100 精度 ± 5% F.S.

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

浓硫酸涂覆的经活化的硅胶可用于吸附肼类化合物，涂覆的均一性会影响该类物质的解析效率。? 特点? ? 超低本底：最低检出限可1mg/m3@1.5L。? ? 高吸附效率：经改性的活化硅胶，穿透容量可0.6mg@500mg填充量? Use for? ? 工作场所空气有毒物质测定 脂肪族酮类化合物 GBZ/T 160.55-2007 双乙烯酮 克重：500mg 目数：20-40 外径×长度：6×120 包装：100支/盒

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒 150nm0.5×0.5mm10枚/盒 100nm0.5×0.5mm10枚/盒 200nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.25×0.25mm 10枚/盒 100nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.1×0.1mm10枚/盒 100nm0.1×0.1mm10枚/盒 200nm0.1×0.1mm10枚/盒

产品特点：二氧化硅漫射滤光片 备件110674800密封在三角荧光池中的浓玫瑰精B 溶液6610021700订购信息：标准品和参比材料说明部件号密封充满水的荧光池用于拉曼水荧光带的信噪比测量6610021800 二氧化硅漫射滤光片，备件1106748001.5 Abs中密度衰减器，备件110677500PMMA 中的罗丹明 B6610021900PMMA 中的铕6610022200密封在三角荧光池中的罗丹明 B 溶液三角荧光池中的饱和玫瑰精 B 溶液用于收集激发校正因子6610021700 密封在石英荧光池中的 4% 高氯酸钬的高氯酸溶液密封荧光池用于在发射单色仪上精确测量波长。要求使用池支架，部件号110678600。包括可追溯的证书和性能证书6610022100 高氯酸钬荧光池支架特殊池支架用于在标准池支架前方安装一个比色池。这个附件用于安装高氯酸钬荧光池支架以获得准确的波长测试，这允许将漫射滤光片安装在标准池支架且高氯酸池定位在这个池支架上，从而可使用高氯酸钬溶液测试 Cary Eclipse 的精确波长110678600 荧光样品，PMMA 中含有六种烃类化合物其中四种在 300-700 纳米波长范围内有宽荧光带，另两种有窄发射荧光带，用于波长校正和带通检测；包括 Anthracence/Napthalene，Ovalene，p-三联苯，四苯基丁二烯，化合物 610 和 PMMA 中的Rhodamine B6610010300 荧光演示工具包包括 PMMA 中的铕，PMMA 中的卵苯，一个密封充水的荧光池和一个 10 x 10 毫米的荧光池9910101900

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

磨削失效测试:将砂纸安装在磨抛机支持盘上,每磨2分钟后对样品称重,在样品水磨后连续三次质量差值不变则认为打磨失效。抗翘曲性测试:将砂纸安装在磨抛机支持盘上,水磨5分钟后取下,测量砂纸自然放置时卷曲最高点和最低点的距离。抗翘曲系数=干砂纸厚度/翘曲后厚度×1002分钟打磨效率测试:将砂纸安安裝在磨抛机支持盘上,等压强水磨2分钟后对同尺寸样品称重,测量样品在水磨前后的质量差值。2分钟打磨效率=（水磨前质量-水磨后质量）/样品原质量×100%对于常见的有色金属等易磨样品是不需要用到专用砂纸的，普通的碳化硅水砂纸也可以完成粗磨和中磨的过程，只是在细磨和精磨过程控制中由于对样品表面平整度的要求较高才会用到金相专用砂纸。金相专用砂纸通常会裁剪成与磨抛盘相同的尺寸，目的是减少由于卡箍尺寸不同导致卷曲造成不平整砂纸表面的机会，当然如果有条件使用背胶或者带胶支持盘则可避免这类问题。 *产品名称*品牌*产品规格金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P80，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P120，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P240，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P320，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P400，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P600，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P1200，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P2500，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P4000，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P80，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P120，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P240，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P320，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P400，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P600，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P1200，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P2500，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P4000，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P80，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P120，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P240，300mm100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P320，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P400，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P600，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P1200，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P2500，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎P4000，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P80，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P120，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P240，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P320，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P400，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P600，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P1200，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P2500，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P4000，200mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P80，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P120，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P240，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P320，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P400，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P600，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P1200，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P2500，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P4000，250mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P80，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P120，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P240，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P320，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P400，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P600，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P1200，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P2500，300mm 100片/盒金相制样专用碳化硅砂纸德国古莎自粘型，P4000，300mm 100片/盒 金相制样专用砂纸是指对于相对难磨的样品材料而言需要的特殊设计的碳化硅砂纸，专用砂纸的特点是依靠复合植砂技术，磨料粒径控制和纸基抗卷曲技术来控制磨抛时样品表面的平整度。

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数： 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层 表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

1400℃碳化硅耐火涂料634-SIC能够降低组件的氧化，提供一个坚硬的表面和耐热循环性能。 产品型号1400℃碳化硅耐火涂料634-SIC技术参数1、湿膜覆盖：850ft22、固化温度：200°F-800°F3、工作温度：1400℃

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

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