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半导体芯片失效分析实验室汇总随着半导体技术的发展,芯片已经成为现代电子产品中不可缺少的部分。然而,芯片在长时间运行后可能会出现失效或故障,这将导致电子产品无法正常使用。为了解决这个问题,半导体芯片失效分析实验室应运而生。半导体芯片失效分析实验室是一种专门用于分析芯片故障原因和找出解决方案的实验室。它主要由多种设备和技术组成,包括光学显微镜、扫描电子显微镜、离子注入系统、穿透电子显微镜、电子束刻蚀机等。半导体芯片失效分析实验室可以用于以下方面的分析:1.失效分析如果芯片出现了故障,失效分析可以用来找出导致问题的原因。分析的过程通常包括对芯片进行非常规测试,如X射线衍射、扫描探针显微镜和热分析等,以找出故障根源,如堆积缺陷、擦除缺陷、漏电等。2.质量控制半导体芯片失效分析实验室也可以用于质量控制,以确保每个芯片都符合准确的规格和标准。质量控制分析通常包括对芯片进行成品检验,如外观检查、电性能测量和可靠性测试等。半导体芯片失效分析实验室汇总1.北京软件产品质量检测检验中心芯片失效分析实验室(简称:北软检测)成立于2002 年7月。北软芯片失效分析实验室可以进行全流程的失效分析,可靠性测试,安全验证等。主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测(2D X-ray,3D X-ray)、超声波扫描显微就(SAT)、缺陷切割观察系统(FIB系统)、体式显微镜、金相显微镜、研磨台(定点研磨,非定点研磨,封装研磨)、激光黑胶层取出系统(自动decap,laser decap)、自动曲线追踪仪(IV)、切割制样模块、扫描电镜(SEM)、能谱成分分析(EDX)、交变温湿度试验箱、高温储存试验、低温存储试验、温湿度存储试验等。通讯地址:北京市海淀区东北旺西路8号中关村软件园3A楼联系人:赵工?2.南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室南京微电子技术研究所半导体芯片失效分析实验室是国内最早成立的芯片失效分析实验室之一。实验室配备有先进的设备和技术,可对芯片的物理结构、器件参数、芯片性能、线路连接等方面进行全面的分析和测试。3.上海半导体研究所失效分析实验室上海半导体研究所失效分析实验室成立于2005年,是一家具备IC生产能力的高新技术企业。实验室在芯片失效分析领域积累了丰富的经验和成果,并不断引入先进的设备和技术,为客户提供高水平的技术支持和服务。4.北京中科微电子有限公司失效分析实验室北京中科微电子有限公司是一家专业从事半导体封装测试与分析的公司。实验室配备有一批优秀的专业技术人员和一流的设备,能够为客户提供全面、高效的失效分析服务。5.惠州半导体失效分析中心惠州半导体失效分析中心是惠州市政府支持的创新创业平台,依托留学海归、国内外知名院校科研机构等优势资源,致力于半导体失效分析领域的研发和服务。6.中国电子科技集团公司第十四研究所该实验室成立于20世纪80年代,针对集成电路芯片的失效问题,建立了先进的实验室设备和完整的芯片失效分析技术流程。这些技术流程包括非常规样品处理、样品制备、分析测试和故障分析定位等。该实验室能够对各种类型的芯片进行失效分析,如DRAM、NOR FLASH、SRAM、Flip Chip等。7.中国电子科技集团公司第五十五研究所该实验室成立于20世纪90年代,主要研究领域是空间电子电路可靠性和失效分析。在芯片失效分析方面,该实验室研究了很多芯片失效的根本原因和解决办法。例如,该实验室率先提出了在高温下检测集成电路失效的方法,推出了系列失效分析和故障定位技术。8.中国航天科工集团有限公司第六十所该实验室成立于20世纪90年代初期,由中国第一位半导体芯片设计师胡启恒教授领导,主要研究集成电路的失效分析和检测。该实验室在失效分析方面的主要技术包括侵入式和非侵入式技术、信号分析、快速失效分析以及优化分析等。此外,该实验室还开创了集成电路失效分析的新技术领域。9.南京微米尺度材料分析与应用国家级实验室该实验室拥有完整的半导体芯片失效分析实验平台及技术团队,能够进行芯片性能评估、芯片分析、缺陷定位和失效机理研究等多方面的工作,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务。10.北京微电子所半导体芯片失效分析实验室该实验室依托于北京微电子所,能够利用所拥有的半导体芯片分析技术和完善的实验平台,提供专业的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。11.武汉微纳电子制造国家工程研究中心半导体芯片失效分析实验室武汉微纳电子制造国家工程研究中心依托于华中科技大学,其半导体芯片失效分析实验室拥有全套高端的半导体芯片失效分析仪器,为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,涉及芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。12.上海微电子设备有限公司半导体芯片失效分析实验室该实验室作为上海微电子设备有限公司的技术支持,结合上海微电子设备有限公司的芯片检测与分析设备,可为企业提供完整的半导体芯片失效分析服务,包括芯片失效原因分析、失效机理研究、失效模拟与验证等多方面的服务。以上仅是部分中国半导体芯片失效分析实验室,随着技术的不断更新和进步,相信未来将会涌现更多实验室,并且实验室之间也将进行更多的协作与交流,加速半导体芯片失效分析技术的发展和普及。国内较为知名的半导体芯片失效分析实验室还有中芯国际、台积电、联芯科技等。这些实验室拥有一流的实验设备和技术人才,可以开展多种类型的半导体芯片失效分析工作,并为客户提供专业的技术支持和服务。此外,在国际上也有多家著名的半导体芯片失效分析实验室,如SiliconExpert、IEEE Components Partitioning and Analysis Center等。这些实验室不仅具备高水平的技术装备和技术人才,还通过与多家知名公司合作,积累了丰富的经验和数据资源。同时,这些实验室还开展了大量的研究工作,不断推动半导体芯片失效分析领域的发展。总之,半导体芯片失效分析实验室在提高半导体芯片可靠性方面起着至关重要的作用。希望通过本文的介绍,可以帮助大家了解半导体芯片失效分析实验室的相关情况,为半导体芯片失效分析工作提供参考和支持。[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/05/202305240713065889_2888_3233403_3.png[/img]
上传了硅材料中杂质元素的分析方法国家标准——《GB4298-84 半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法》,这是目前唯一能查到的与多晶硅体金属杂质分析相关的国标。[URL=http://www.instrument.com.cn/download/shtml/121679.shtml]GB 4298-84半导体硅材料中杂质元素的中子活化分析方法[/URL]
AI技术如何助力半导体失效分析? [b]来源:[color=#ff0000] 黄承梁 蔡司显微镜 2024年08月13日 08:01 江苏[/color][/b] 随着显微镜技术的发展,半导体用户对显微镜的需求已经不仅仅停留在微观结构的成像上,而是希望通过[b]硬件和软件方案的相结合,提高失效分析(FA)的效率、准确率,并尽可能的减少人工操作带来的不确定性。[/b] 为此,蔡司提供[b]客制化的软件解决方案[/b],利用AI技术,在分类(classification)、图像分割(segmentation)和图像处理(processing)三大应用方向上助力半导体失效分析。 [img=,690,354]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534025783_9117_2942222_3.jpg!w690x354.jpg[/img] [b]01 图像处理: 提升SEM短扫描时间图像的质量[/b] SEM成像的一大挑战是快速的扫描和高信噪比的图像的矛盾。有时候为了追求高效率的分析或者减少电子束对敏感样品的辐照,我们会减少电子束扫描时间,但这会由于信噪比降低而影响图像质量。[b]使用AI降噪技术,我们在不丢失图像细节的情况下提升了原始图片的信噪比,从而兼顾了高效率和高图像质量。 [img=,690,394]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534258081_4451_2942222_3.jpg!w690x394.jpg[/img]02 图像处理: 提高XRM大视野扫描的分辨率[/b] 在三维X射线无损分析中也面临着类似的难题。高分辨的成像意味着缩小成像视野,有没有方法可以实现高效的大视野高分辨成像呢?利用[b]基于深度学习的DeepScout功能[/b],我们使用局部的高分辨扫描作为训练模型,把大视野(LFOV)扫描的低分辨图像恢复成高分辨图像,从而实现了[b]大视野和高分辨兼得,把分析效率提升了数倍。 [img=,690,324]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061534476641_1527_2942222_3.jpg!w690x324.jpg[/img][/b] [i][font=等线]▲蔡司X射线显微镜三维成像的先进封装样品虚拟截面,左:大视野扫描的原始图片;右: [i]AI恢复处理的高分辨图片[/i] [b]03 图像分割和分类: 从SEM图片中提取缺陷并分类[/b] 在化合物半导体的衬底缺陷检测中,需要的对大量的SEM图片(如CL或ECCI图片)进行分析,区分并统计缺陷类型。[b]借助机器学习算法,我们能够准确地从ECCI图片的背景中提取出位错和表面颗粒物的分布,自动完成缺陷分类和缺陷密度的计算。 [img=,690,345]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061535038929_4618_2942222_3.jpg!w690x345.jpg[/img][/b] [i]▲蔡司场发射扫描电镜拍摄的GaN晶圆的电子通道衬度图像(ECCI),左:原始图片;右:AI图形识别和分割处理后,红点为表面颗粒物,黄点为位错分布[/i] [b]04 分类和定制化的自动工作流程: 自动寻找目标结构、拍图和识别异常[/b] 我们还可以把一种或多种AI的显微镜应用和自动化的显微镜操作结合,形成[b]全自动的完整分析流程[/b]。例如这一案例中用户需要对样品上特定区域的DRAM晶体管进行连续的大面积拍摄,然后识别并分析异常。我们提供了完整的自动化工作流程,使电镜能够在数毫米长宽的样品上自动寻找所有的目标结构,把目标结构居中,并自动调节倍率、对焦、亮度对比度,成像保存,然后移动到下一位置重复上述步骤,最后在所有的图片中识别出异常结构。 [img=,690,219]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2024/09/202409061536252137_1491_2942222_3.jpg!w690x219.jpg[/img] [i]▲使用可视化编程工具实现自动的DRAM样品拍摄和异常结构检测[/i] 可以看到[b]AI技术的快速发展为显微分析和失效分析带来了创新和便利[/b],把AI和显微镜结合在一些半导体失效分析场景可以[b]提高分析效率及减少人为错误,从繁琐的重复性工作中解放工程师的双手,从而极大地提高实验室的产出。[/b][/font][/i]